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Abstract
Description
本発明は、蒸気抜き機構を備える袋に関する。 The present invention relates to a bag provided with a steam release mechanism.
従来、調理済あるいは半調理済の液体、粘体あるいは液体と固体とが混在する内容物を、プラスチック製の積層体から構成された袋に充填密封したものが多く市場に出回っている。袋においては、積層体同士が接合されていない非シール部が、内容物が収容される収容部を構成している。また、積層体同士が接合されているシール部が、収容部を密封している。内容物は、例えば、カレー、シチュー、スープ等の調理済食品である。内容物は、袋に収容された状態で、電子レンジなどによって加熱される。 Conventionally, many cooked or semi-cooked liquids, viscous bodies, or contents in which liquid and solid are mixed are filled and sealed in bags made of plastic laminates. In the bag, the non-seal part to which the laminated bodies are not joined constitutes an accommodation part in which the contents are accommodated. Moreover, the sealing part to which the laminated bodies are joined has sealed the accommodating part. The contents are, for example, cooked foods such as curry, stew, and soup. The contents are heated by a microwave oven or the like while being contained in a bag.
ところで、密封された状態の袋に収容された内容物を、電子レンジを利用して加熱すると、加熱に伴って内容物に含まれる水分が蒸発して収容部の圧力が高まっていく。袋の収容部の圧力が高まると、袋が破裂して内容物が飛散し電子レンジ内を汚してしまうおそれがある。このような課題を考慮し、例えば特許文献１〜３は、収容部の圧力が高まると収容部と外部とを自動的に連通させて収容部内の蒸気を外部に逃がす蒸気抜き機構を設けることを提案している。 By the way, if the contents accommodated in the sealed bag are heated using a microwave oven, the moisture contained in the contents evaporates with the heating, and the pressure in the accommodating portion increases. When the pressure in the bag storage portion increases, the bag may rupture and the contents may be scattered to contaminate the inside of the microwave oven. In consideration of such a problem, for example, Patent Documents 1 to 3 provide a steam venting mechanism that automatically communicates the housing portion with the outside when the pressure of the housing portion increases and releases the steam in the housing portion to the outside. is suggesting.
袋を構成するための積層体には、先端が尖った鋭利な部材が袋に接触した場合にも袋が破けてしまうことを抑制する特性、いわゆる耐突き刺し性が求められる。このため、従来の積層体は、例えば特許文献１，２に開示されているように、高い耐突き刺し性を有するナイロンを含むフィルムを備える。一方、ナイロンは、水分を吸収し易く、且つ耐熱性に乏しい。例えば、特許文献３において課題として挙げられているように、ナイロンの層を中間に含む積層体によって構成された袋を電子レンジで加熱すると、ナイロンの層に穴が開いてしまうことがある。特許文献３は、このような課題を解決するため、表面の層及び中間の層をともにポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴとも記す）で構成することを提案している。しかしながら、ＰＥＴによっては十分な耐突き刺し性を実現することが困難であると考えられる。 The laminate for constituting the bag is required to have a characteristic that prevents the bag from being broken even when a sharp member with a sharp tip contacts the bag, so-called stab resistance. For this reason, the conventional laminated body is provided with the film containing nylon which has high puncture resistance property, for example, as disclosed in Patent Documents 1 and 2. On the other hand, nylon is easy to absorb moisture and has poor heat resistance. For example, as cited as a problem in Patent Document 3, when a bag made of a laminate including a nylon layer in the middle is heated in a microwave oven, a hole may be formed in the nylon layer. Patent Document 3 proposes that both the surface layer and the intermediate layer be composed of polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as PET) in order to solve such a problem. However, it is considered difficult to achieve sufficient puncture resistance depending on PET.
本発明は、このような課題を効果的に解決し得る袋を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the bag which can solve such a subject effectively.
本発明は、蒸気抜き機構を有する袋であって、前記袋を構成する積層体は、第１基材、第２基材及びシーラント層をこの順で少なくとも含み、前記第１基材と前記第２基材のうち、一方がポリエチレンテレフタレートを含み、他方が、ポリブチレンテレフタレートを含み、前記第１基材及び前記第２基材のうちの前記一方は、５１質量％以上のポリブチレンテレフタレートを含み、且つ１０層以上を含む多層構造部を有する、又は、単層構造からなり、且つ、ポリブチレテレフタレートのＩＶ値が１．１０ｄｌ／ｇ以上且つ１．３５ｄｌ／ｇ以下である、袋である。 The present invention is a bag having a vapor venting mechanism, wherein the laminate constituting the bag includes at least a first base material, a second base material, and a sealant layer in this order, and the first base material and the first base material Of the two substrates, one includes polyethylene terephthalate, the other includes polybutylene terephthalate, and the one of the first substrate and the second substrate includes 51% by mass or more of polybutylene terephthalate. And having a multilayer structure including 10 layers or more, or having a single-layer structure, and having a polybutylene terephthalate IV value of 1.10 dl / g or more and 1.35 dl / g or less. .
本発明による袋において、好ましくは、前記積層体の突き刺し強度が１３Ｎ以上である。 In the bag according to the present invention, the puncture strength of the laminate is preferably 13N or more.
本発明による袋において、前記積層体は、前記第１基材と前記第２基材との間において前記第１基材上又は前記第２基材上に設けられた透明蒸着層と、前記透明蒸着層上に設けられた透明ガスバリア性塗布膜と、を更に含んでいてもよい。この場合、前記透明蒸着層は、酸化アルミニウムを含み、前記第１基材又は前記第２基材と前記透明蒸着層との界面に、アルミニウム原子と炭素原子の共有結合が形成されていてもよい。 The bag by this invention WHEREIN: The said laminated body is a transparent vapor deposition layer provided on the said 1st base material or the said 2nd base material between the said 1st base material and the said 2nd base material, and the said transparent And a transparent gas barrier coating film provided on the vapor deposition layer. In this case, the transparent vapor deposition layer may contain aluminum oxide, and a covalent bond between an aluminum atom and a carbon atom may be formed at an interface between the first base material or the second base material and the transparent vapor deposition layer. .
本発明による袋において、前記積層体は、前記第１基材と前記第２基材との間に位置する印刷層を更に含んでいてもよい。 The bag by this invention WHEREIN: The said laminated body may further contain the printing layer located between the said 1st base material and the said 2nd base material.
本発明による袋において、前記第１基材が、ポリエチレンテレフタレートを含み、
前記第２基材が、ポリブチレンテレフタレートを含んでいてもよい。若しくは、前記第１基材が、ポリブチレンテレフタレートを含み、前記第２基材が、ポリエチレンテレフタレートを含んでいてもよい。
In the bag according to the present invention, the first base material includes polyethylene terephthalate,
The second base material may contain polybutylene terephthalate. Alternatively, the first base material may include polybutylene terephthalate, and the second base material may include polyethylene terephthalate.
本発明による袋において、前記シーラント層が、９０質量％以上のポリプロピレンを含んでいてもよい。 In the bag according to the present invention, the sealant layer may contain 90% by mass or more of polypropylene.
本発明による袋において、前記積層体は、前記第１基材と前記第２基材との間に位置し、ポリオール及び脂肪族系イソシアネート化合物の硬化物を含む第１接着剤層を更に備えていてもよい。 In the bag according to the present invention, the laminate further includes a first adhesive layer that is located between the first base material and the second base material and includes a cured product of a polyol and an aliphatic isocyanate compound. May be.
本発明による袋において、前記積層体は、前記第２基材と前記シーラント層との間に位置し、ポリオール及び脂肪族系イソシアネート化合物の硬化物を含む第２接着剤層を更に備えていてもよい。 In the bag according to the present invention, the laminate may further include a second adhesive layer that is located between the second base material and the sealant layer and includes a cured product of a polyol and an aliphatic isocyanate compound. Good.
本発明によれば、袋に耐突き刺し性及び耐熱性を持たせることができる。 According to the present invention, the bag can be provided with puncture resistance and heat resistance.
図１乃至図４を参照して、本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから適宜変更し誇張してある。 An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that, in the drawings attached to the present specification, for convenience of illustration and understanding, the scale and vertical / horizontal dimension ratios are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.
また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 In addition, as used in this specification, the shape and geometric conditions and the degree thereof are specified, for example, terms such as “parallel”, “orthogonal”, “identical”, length and angle values, etc. are strictly Without being bound by meaning, it should be interpreted including the extent to which similar functions can be expected.
図１は、本実施の形態による袋１０を示す正面図である。袋１０は、内容物を収容する収容部１７を備える。なお、図１においては、内容物が充填される前の状態の袋１０が示されている。本実施の形態による袋１０は、電子レンジによって内容物が加熱される電子レンジ用パウチとして好適に使用することができるよう構成されている。 FIG. 1 is a front view showing a bag 10 according to the present embodiment. The bag 10 includes a storage portion 17 that stores the contents. In addition, in FIG. 1, the bag 10 of the state before being filled with the content is shown. The bag 10 by this Embodiment is comprised so that it can be conveniently used as a pouch for microwave ovens in which the contents are heated with a microwave oven.
図１に示すように、本実施の形態による袋１０は、袋１０に収容された内容物を加熱する際に発生する蒸気を外部に逃がすための蒸気抜き機構２０を備える。蒸気抜き機構２０は、蒸気の圧力が所定値以上になったときに袋１０の内部と外部とを連通させて蒸気を逃がすとともに、蒸気抜き機構２０以外の箇所から蒸気抜きが生じることを抑制するよう、構成されている。以下、袋１０の構成について説明する。 As shown in FIG. 1, the bag 10 according to the present embodiment includes a steam release mechanism 20 for escaping steam generated when the contents contained in the bag 10 are heated to the outside. The steam release mechanism 20 causes the inside and the outside of the bag 10 to communicate with each other when the pressure of the steam reaches a predetermined value or more to release the steam, and suppresses the generation of steam from a place other than the steam release mechanism 20. It is configured as such. Hereinafter, the configuration of the bag 10 will be described.
袋
本実施の形態において、袋１０は、自立可能に構成されたガセット式の袋である。袋１０は、上部１１、下部１２及び側部１３を含み、正面図において略矩形状の輪郭を有する。なお、「上部」、「下部」及び「側部」などの名称、並びに、「上方」、「下方」などの用語は、ガセット部を下にして袋１０が自立している状態を基準として袋１０やその構成要素の位置や方向を相対的に表したものに過ぎない。袋１０の輸送時や使用時の姿勢などは、本明細書における名称や用語によっては限定されない。
In the present embodiment, the bag 10 is a gusseted bag configured to be able to stand on its own. The bag 10 includes an upper portion 11, a lower portion 12, and a side portion 13, and has a substantially rectangular outline in a front view. It should be noted that names such as “upper”, “lower” and “side”, and terms such as “upper” and “lower” refer to a bag based on the state in which the bag 10 is self-supporting with the gusset portion down. It is only a relative representation of the position and direction of 10 and its components. The attitude | position at the time of transport of the bag 10 or use is not limited by the name and terminology in this specification.
図１に示すように、袋１０は、表面を構成する表面フィルム１４、裏面を構成する裏面フィルム１５、及び、下部１２を構成する下部フィルム１６を備える。下部フィルム１６は、折り返し部１６ｆで折り返された状態で、表面フィルム１４と裏面フィルム１５との間に配置されている。 As shown in FIG. 1, the bag 10 includes a surface film 14 that constitutes the front surface, a back film 15 that constitutes the back surface, and a lower film 16 that constitutes the lower portion 12. The lower film 16 is disposed between the front film 14 and the back film 15 in a state where the lower film 16 is folded at the folded portion 16f.
なお、上述の「表面フィルム」、「裏面フィルム」及び「下部フィルム」という用語は、位置関係に応じて各フィルムを区画したものに過ぎず、袋１０を製造する際のフィルムの提供方法が、上述の用語によって限定されることはない。例えば、袋１０は、表面フィルム１４と裏面フィルム１５と下部フィルム１６が連設された１枚のフィルムを用いて製造されてもよく、表面フィルム１４と下部フィルム１６が連設された１枚のフィルムと１枚の裏面フィルム１５の計２枚のフィルムを用いて製造されてもよく、１枚の表面フィルム１４と１枚の裏面フィルム１５と１枚の下部フィルム１６の計３枚のフィルムを用いて製造されてもよい。 In addition, the term “surface film”, “back film” and “lower film” described above is merely a partition of each film according to the positional relationship, and the method of providing a film when manufacturing the bag 10 It is not limited by the above terms. For example, the bag 10 may be manufactured using one film in which the front film 14, the back film 15, and the lower film 16 are continuously provided, or one sheet in which the front film 14 and the lower film 16 are continuously provided. It may be manufactured using a total of two films, a film and one back film 15, and a total of three films, one surface film 14, one back film 15, and one lower film 16. May be used.
表面フィルム１４、裏面フィルム１５及び下部フィルム１６は、内面同士がシール部によって接合されている。図１などの袋１０の平面図においは、シール部にハッチングが施されている。 As for the surface film 14, the back film 15, and the lower film 16, inner surfaces are joined by the seal part. In the plan view of the bag 10 shown in FIG. 1 and the like, the seal portion is hatched.
図１に示すように、シール部は、袋１０の外縁に沿って延びる外縁シール部と、蒸気抜き機構２０を構成する蒸気抜きシール部２０ａと、を有する。外縁シール部は、下部１２に広がる下部シール部１２ａ、及び、一対の側部１３に沿って延びる一対の側部シール部１３ａを含む。なお、内容物が充填される前の状態の袋１０においては、図１に示すように、袋１０の上部１１は開口部１１ｂになっている。袋１０に内容物を収容した後、表面フィルム１４の内面と裏面フィルム１５の内面とを上部１１において接合することにより、上部シール部が形成されて袋１０が封止される。 As shown in FIG. 1, the seal portion includes an outer edge seal portion extending along the outer edge of the bag 10 and a steam vent seal portion 20 a constituting the steam vent mechanism 20. The outer edge seal portion includes a lower seal portion 12 a extending in the lower portion 12 and a pair of side seal portions 13 a extending along the pair of side portions 13. In addition, in the bag 10 in a state before being filled with the contents, as shown in FIG. 1, the upper portion 11 of the bag 10 is an opening 11b. After the contents are stored in the bag 10, the inner surface of the front film 14 and the inner surface of the back film 15 are joined at the upper portion 11, whereby an upper seal portion is formed and the bag 10 is sealed.
側部シール部１３ａ、蒸気抜きシール部２０ａ及び上部シール部は、表面フィルム１４の内面と裏面フィルム１５の内面とを接合することによって構成されるシール部である。一方、下部シール部１２ａは、表面フィルム１４の内面と下部フィルム１６の内面とを接合することによって構成されるシール部、及び、裏面フィルム１５の内面と下部フィルム１６の内面とを接合することによって構成されるシール部を含む。 The side seal portion 13a, the steam release seal portion 20a, and the upper seal portion are seal portions configured by joining the inner surface of the front film 14 and the inner surface of the back film 15. On the other hand, the lower seal portion 12a is formed by bonding the inner surface of the surface film 14 and the inner surface of the lower film 16, and by bonding the inner surface of the back film 15 and the inner surface of the lower film 16. Including a configured seal.
対向するフィルム同士を接合して袋１０を封止することができる限りにおいて、シール部を形成するための方法が特に限られることはない。例えば、加熱などによってフィルムの内面を溶融させ、内面同士を溶着させることによって、すなわちヒートシールによって、シール部を形成してもよい。若しくは、接着剤などを用いて対向するフィルムの内面同士を接着することによって、シール部を形成してもよい。 As long as the opposing films can be bonded to each other and the bag 10 can be sealed, the method for forming the seal portion is not particularly limited. For example, the sealing portion may be formed by melting the inner surfaces of the film by heating or the like and welding the inner surfaces, that is, by heat sealing. Or you may form a seal | sticker part by adhere | attaching the inner surfaces of the opposing film using an adhesive agent etc.
蒸気抜き機構
以下、蒸気抜き機構２０の構成について説明する。図２は、図１に示す袋１０の蒸気抜き機構２０をII−II線に沿って見た場合を示す断面図である。
Venting mechanism following describes the structure of venting mechanism 20. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a case where the vapor venting mechanism 20 of the bag 10 shown in FIG. 1 is viewed along the line II-II.
蒸気抜き機構２０の蒸気抜きシール部２０ａは、収容部１７の圧力の増加に伴って剥離され易い形状を有している。例えば、蒸気抜きシール部２０ａは、側部シール部１３ａから袋１０の内側に向かって突出した形状を有している。これにより、収容部１７の圧力が増加した際に蒸気抜きシール部２０ａに加わる力を、側部シール部１３ａに加わる力よりも大きくすることができる。また、蒸気抜きシール部２０ａの幅は、側部シール部１３ａの幅よりも小さくなっている。また、図１及び図２に示すように、蒸気抜きシール部２０ａと側部１３の外縁との間には非シール部２０ｂが形成されている。これにより、側部シール部１３ａに比べて蒸気抜きシール部２０ａにおいて、シール部の剥離に起因する収容部１７と外部との連通を生じ易くすることができる。 The steam release seal portion 20 a of the steam release mechanism 20 has a shape that is easily peeled off as the pressure in the housing portion 17 increases. For example, the steam release seal portion 20 a has a shape protruding from the side seal portion 13 a toward the inside of the bag 10. Thereby, when the pressure of the accommodating part 17 increases, the force added to the steam release seal part 20a can be made larger than the force applied to the side seal part 13a. Moreover, the width | variety of the steam release seal | sticker part 20a is smaller than the width | variety of the side part seal | sticker part 13a. As shown in FIGS. 1 and 2, a non-seal portion 20 b is formed between the steam release seal portion 20 a and the outer edge of the side portion 13. Thereby, compared with the side seal part 13a, in the steam release seal part 20a, it is possible to easily cause communication between the housing part 17 and the outside due to peeling of the seal part.
表面フィルム及び裏面フィルムの層構成
次に、表面フィルム１４及び裏面フィルム１５の層構成について説明する。図３は、表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を構成する積層体３０を示す断面図である。
Next, the layer structure of the front film 14 and the back film 15 will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the laminated body 30 constituting the front film 14 and the back film 15.
図３に示すように、積層体３０は、第１フィルム４０、第２フィルム５０及び第３フィルム６０をこの順で少なくとも含む。第１フィルム４０は、外面３０ｙ側に位置しており、第３フィルム６０は、外面３０ｙの反対側の内面３０ｘ側に位置している。内面３０ｘは、収容部１７側に位置する面である。 As shown in FIG. 3, the laminate 30 includes at least a first film 40, a second film 50, and a third film 60 in this order. The first film 40 is located on the outer surface 30y side, and the third film 60 is located on the inner surface 30x side opposite to the outer surface 30y. The inner surface 30x is a surface located on the accommodating portion 17 side.
第１フィルム４０は、第１基材４１を少なくとも含む。また、第１フィルム４０は、第１基材４１と第２基材５１の間に位置する印刷層４２を更に含んでいてもよい。例えば、第１フィルム４０は、第１基材４１に設けられた印刷層４２を更に含んでいてもよい。第２フィルム５０は、第２基材５１を少なくとも含む。第３フィルム６０は、シーラント層６１を少なくとも含む。また、第１フィルム４０と第２フィルム５０とは第１接着剤層４５によって接合されており、第２フィルム５０と第３フィルム６０とは第２接着剤層５５によって接合されている。従って、本実施の形態による積層体３０は、外面側から内面側へ順に
第１基材／印刷層／第１接着剤層／第２基材／第２接着剤層／シーラント層
を備えている、と言える。なお、「／」は層と層の境界を表している。
The first film 40 includes at least a first base material 41. The first film 40 may further include a print layer 42 positioned between the first base material 41 and the second base material 51. For example, the first film 40 may further include a printing layer 42 provided on the first base material 41. The second film 50 includes at least a second base material 51. The third film 60 includes at least a sealant layer 61. The first film 40 and the second film 50 are joined by a first adhesive layer 45, and the second film 50 and the third film 60 are joined by a second adhesive layer 55. Therefore, the laminate 30 according to the present embodiment includes the first base material / printing layer / first adhesive layer / second base material / second adhesive layer / sealant layer in order from the outer surface side to the inner surface side. It can be said. Note that “/” represents a boundary between layers.
以下、第１フィルム４０、第１接着剤層４５、第２フィルム５０、第２接着剤層５５及び第３フィルム６０についてそれぞれ詳細に説明する。 Hereinafter, the first film 40, the first adhesive layer 45, the second film 50, the second adhesive layer 55, and the third film 60 will be described in detail.
（第１フィルム）
図３に示す例において、第１フィルム４０は、積層体３０の外面３０ｙを構成する第１基材４１と、第１基材４１の内面３０ｘ側に設けられた印刷層４２と、を含む。印刷層４２は、袋１０に製品情報を示したり美感を付与したりするために第１基材４１に印刷された層である。印刷層４２は、文字、数字、記号、図形、絵柄などを表現する。印刷層４２を構成する材料としては、グラビア印刷用のインキやフレキソ印刷用のインキを用いることができる。グラビア印刷用のインキの具体例としては、ＤＩＣグラフィックス株式会社製のフィナートを挙げることができる。
(First film)
In the example shown in FIG. 3, the first film 40 includes a first base material 41 that forms the outer surface 30 y of the laminate 30, and a printed layer 42 that is provided on the inner surface 30 x side of the first base material 41. The printed layer 42 is a layer printed on the first base material 41 in order to show product information or impart aesthetics to the bag 10. The print layer 42 expresses characters, numbers, symbols, figures, patterns, and the like. As a material constituting the printing layer 42, an ink for gravure printing or an ink for flexographic printing can be used. As a specific example of the ink for gravure printing, FINAT manufactured by DIC Graphics Corporation can be given.
第１基材４１は、主成分としてポリブチレンテレフタレート（以下、ＰＢＴとも記す）を含む。例えば、第１基材４１は、５１質量％以上のＰＢＴを含む。以下、第１基材４１がＰＢＴを含むことの利点について説明する。 The first base material 41 includes polybutylene terephthalate (hereinafter also referred to as PBT) as a main component. For example, the first base material 41 includes 51% by mass or more of PBT. Hereinafter, advantages of the first base material 41 including PBT will be described.
ＰＢＴは、寸法安定性に優れており、従って印刷適性に優れる。このため、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴとも記す）の場合と同様に、ＰＢＴを含む第１基材４１上に印刷層４２を設けることができる。 PBT is excellent in dimensional stability, and therefore excellent in printability. For this reason, the printing layer 42 can be provided on the 1st base material 41 containing PBT similarly to the case of polyethylene terephthalate (henceforth PET).
また、ＰＢＴは、耐熱性に優れる。このため、袋１０にボイル処理やレトルト処理などの殺菌処理を施す際に第１基材４１が変形したり第１基材４１の強度が低下したりすることを抑制することができる。レトルト処理とは、内容物を袋１０に充填して袋１０を密封した後、蒸気又は加熱温水を利用して袋１０を加圧状態で加熱する処理である。レトルト処理の温度は、例えば１２０℃以上である。ボイル処理とは、内容物を袋１０に充填して袋１０を密封した後、袋１０を大気圧下で湯煎する処理である。ボイル処理の温度は、例えば９０℃以上且つ１００℃以下である。
また、ＰＢＴが耐熱性を有することにより、消費者が袋１０を加熱する際に収容部１７に生じる圧力によって第１基材４１が伸びてしまうことを抑制することができる。このことにより、収容部１７に生じる圧力を、蒸気抜き機構２０の蒸気抜きシール部２０ａを剥離させる力として効果的に利用することができる。このため、加熱時に蒸気抜き機構２０を介して収容部１７内の蒸気を外部に逃がすことができる。
Moreover, PBT is excellent in heat resistance. For this reason, it is possible to prevent the first base material 41 from being deformed or the strength of the first base material 41 from being reduced when the bag 10 is subjected to a sterilization process such as a boil process or a retort process. The retort process is a process of heating the bag 10 in a pressurized state using steam or heated hot water after filling the bag 10 with the contents and sealing the bag 10. The temperature of retort processing is 120 degreeC or more, for example. The boil process is a process of filling the bag 10 with the contents and sealing the bag 10 and then bathing the bag 10 under atmospheric pressure. The temperature of boil processing is 90 degreeC or more and 100 degrees C or less, for example.
Moreover, when PBT has heat resistance, it can suppress that the 1st base material 41 extends by the pressure which arises in the accommodating part 17 when a consumer heats the bag 10. FIG. Thereby, the pressure generated in the housing part 17 can be effectively used as a force for peeling off the steam release seal part 20a of the steam release mechanism 20. For this reason, the vapor | steam in the accommodating part 17 can be escaped outside via the vapor removal mechanism 20 at the time of a heating.
また、ＰＢＴは、高い強度を有する。このため、袋１０を構成する積層体がナイロンを含む場合と同様に、袋１０に耐突き刺し性を持たせることができる。 PBT has high strength. For this reason, the stab resistance can be given to the bag 10 similarly to the case where the laminated body which comprises the bag 10 contains nylon.
また、ＰＢＴは、ナイロンに比べて水分を吸収しにくいという特性を有する。このため、第１基材４１が水分を吸収して積層体３０のラミネート強度が低下してしまうことを抑制することができる。 PBT has a characteristic that it is less likely to absorb moisture than nylon. For this reason, it can suppress that the 1st base material 41 absorbs a water | moisture content and the laminate strength of the laminated body 30 falls.
以下、ＰＢＴを含む第１基材４１の構成について詳細に説明する。本実施の形態における、ＰＢＴを含む第１基材４１の構成としては、下記の第１の構成又は第２の構成のいずれを採用してもよい。 Hereinafter, the structure of the 1st base material 41 containing PBT is demonstrated in detail. In the present embodiment, as the configuration of the first base material 41 including PBT, any of the following first configuration or second configuration may be adopted.
〔第１基材の第１の構成〕
第１の構成に係る第１基材４１におけるＰＢＴの含有率は、５１質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、さらには７０質量％以上、特には７５質量％以上が好ましく、最も好ましくは８０質量％以上である。ＰＢＴの含有率を５１質量％以上にすることにより、第１フィルム４０に優れたインパクト強度および耐ピンホール性を持たせることができる。
[First Configuration of First Base Material]
The content of PBT in the first base material 41 according to the first configuration is preferably 51% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, further 70% by mass or more, and particularly preferably 75% by mass or more. Preferably it is 80 mass% or more. By setting the content of PBT to 51% by mass or more, the first film 40 can have excellent impact strength and pinhole resistance.
主たる構成成分として用いるＰＢＴは、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸が９０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは９５モル％以上であり、さらに好ましくは９８モル％以上であり、最も好ましくは１００モル％である。グリコール成分として１，４−ブタンジオールが９０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは９５モル％以上であり、さらに好ましくは９７モル％以上であり、最も好ましくは、重合時に１，４−ブタンジオールのエーテル結合により生成する副生物以外は含まれないことである。 PBT used as a main constituent component is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, still more preferably 98 mol% or more, most preferably 100 mol% or more of terephthalic acid as a dicarboxylic acid component. Mol%. 1,4-butanediol as the glycol component is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, still more preferably 97 mol% or more, and most preferably 1,4-butanediol during polymerization. It is not included except by-products generated by the ether bond of butanediol.
第１基材４１は、ＰＢＴ以外のポリエステル樹脂を含んでいてもよい。これにより、例えばフィルム状の第１基材４１を二軸延伸させる場合の成膜性や第１基材４１の力学特性を調整することができる。
ＰＢＴ以外のポリエステル樹脂としては、ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）、ポリプロピレンテレフタレート（ＰＰＴ）などのポリエステル樹脂のほか、イソフタル酸、オルソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸などのジカルボン酸が共重合されたＰＢＴ樹脂や、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカーボネートジオール等のジオール成分が共重合されたＰＢＴ樹脂を挙げることができる。
The first base material 41 may contain a polyester resin other than PBT. Thereby, for example, the film formability when the film-like first base material 41 is biaxially stretched and the dynamic characteristics of the first base material 41 can be adjusted.
Polyester resins other than PBT include polyester resins such as PET, polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene naphthalate (PBN), and polypropylene terephthalate (PPT), as well as isophthalic acid, orthophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and biphenyldicarboxylic acid. , Cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, azelaic acid, PBT resin copolymerized with dicarboxylic acid such as sebacic acid, ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, neopentyl glycol, 1,5 -Diols such as pentanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, cyclohexanediol, polyethylene glycol, polytetramethylene glycol, polycarbonate diol Min can be mentioned copolymerized PBT resin.
これらＰＢＴ以外のポリエステル樹脂の添加量は、４９質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。ＰＢＴ以外のポリエステル樹脂の添加量が４９質量％を超えると、ＰＢＴとしての力学特性が損なわれ、インパクト強度や耐ピンホール性、絞り成形性が不十分となることが考えられる。 The amount of the polyester resin other than PBT is preferably 49% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less. If the addition amount of the polyester resin other than PBT exceeds 49% by mass, the mechanical properties as PBT may be impaired, and impact strength, pinhole resistance, and drawability may be insufficient.
第１基材４１は、添加剤として、柔軟なポリエーテル成分、ポリカーボネート成分、ポリエステル成分の少なくともいずれかを共重合したポリエステル系およびポリアミド系エラストマーを含んでいてもよい。これにより、屈曲時の耐ピンホール性を改善することができる。添加剤の添加量は、例えば２０質量％である。添加剤の添加量が２０質量％を超えると、添加剤としての効果が飽和することや、第１基材４１の透明性が低下することなどが起こり得る。 The 1st base material 41 may contain the polyester-type and polyamide-type elastomer which copolymerized at least any one of the flexible polyether component, the polycarbonate component, and the polyester component as an additive. Thereby, the pinhole resistance at the time of bending can be improved. The additive amount of the additive is, for example, 20% by mass. When the additive amount exceeds 20% by mass, the effect as the additive may be saturated, or the transparency of the first base material 41 may be reduced.
第１の構成に係るフィルム状の第１基材４１を作製する方法の一例について説明する。ここでは、キャスト法によってフィルム状の第１基材４１を作製する方法について説明する。より具体的には、キャスト時に同一の組成の樹脂を多層化してキャストする方法について説明する。 An example of a method for producing the film-like first base material 41 according to the first configuration will be described. Here, a method for producing the film-like first base material 41 by a casting method will be described. More specifically, a method of casting a resin having the same composition in multiple layers during casting will be described.
ＰＢＴは結晶化速度が速いため、キャスト時にも結晶化が進行する。このとき、多層化せずに単層でキャストした場合には、結晶の成長を抑制しうるような障壁が存在しないために、結晶が大きなサイズに成長してしまい、得られた未延伸原反の降伏応力が高くなる。このため、未延伸原反を二軸延伸する際に破断しやすくなる。また、得られた二軸延伸フィルムの降伏応力が高くなり、二軸延伸フィルムの成形性が不十分になってしまうことが考えられる。
これに対して、キャスト時に同一の樹脂を多層化すれば、未延伸シートの延伸応力を低減することができる。このため、安定した二軸延伸が可能となり、また、得られた二軸延伸フィルムの降伏応力が低くなる。このことにより、柔軟かつ破断強度の高いフィルムを得ることができる。
Since PBT has a high crystallization speed, crystallization proceeds even during casting. At this time, when cast as a single layer without being multi-layered, there is no barrier that can suppress the growth of the crystal, so the crystal grows to a large size, and the resulting unstretched original fabric is obtained. The yield stress of becomes higher. For this reason, it becomes easy to fracture when the unstretched original fabric is biaxially stretched. Moreover, it is possible that the yield stress of the obtained biaxially stretched film becomes high and the moldability of the biaxially stretched film becomes insufficient.
On the other hand, if the same resin is multilayered at the time of casting, the stretching stress of the unstretched sheet can be reduced. For this reason, stable biaxial stretching is possible, and the yield stress of the obtained biaxially stretched film is reduced. Thereby, a flexible and high breaking strength film can be obtained.
図４は、第１フィルムの層構成の一例を示す断面図である。樹脂を多層化してキャストすることによって第１基材４１が作製される場合、図４に示すように、第１フィルム４０の第１基材４１は、複数の層４１ａを含む多層構造部からなる。複数の層４１ａはそれぞれ、主成分としてＰＢＴを含む。例えば、複数の層４１ａはそれぞれ、好ましくは５１質量％以上のＰＢＴを含み、より好ましくは６０質量％以上のＰＢＴを含む。なお、複数の層４１ａにおいては、ｎ番目の層４１ａの上にｎ＋１番目の層４１ａが直接積層されている。すなわち、複数の層４１ａの間には、接着剤層や接着層が介在されていない。 FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the layer configuration of the first film. When the first substrate 41 is produced by casting the resin in multiple layers, as shown in FIG. 4, the first substrate 41 of the first film 40 is composed of a multilayer structure including a plurality of layers 41a. . Each of the plurality of layers 41a includes PBT as a main component. For example, each of the plurality of layers 41a preferably includes 51% by mass or more of PBT, and more preferably includes 60% by mass or more of PBT. In the plurality of layers 41a, the (n + 1) th layer 41a is directly stacked on the nth layer 41a. That is, no adhesive layer or adhesive layer is interposed between the plurality of layers 41a.
多層化によりＰＢＴフィルムの特性が改善される原因については、下記のように推測する。樹脂を積層する場合、樹脂の組成が同一の場合であっても層の界面が存在し、その界面により結晶化が加速される。一方、層の厚みを越えた大きな結晶の成長は抑制される。このため、結晶（球晶）のサイズが小さくなるものと考えられる。 The reason why the characteristics of the PBT film are improved by the multilayering is estimated as follows. When the resins are laminated, even if the resin composition is the same, a layer interface exists, and crystallization is accelerated by the interface. On the other hand, the growth of large crystals beyond the layer thickness is suppressed. For this reason, it is considered that the size of the crystal (spherulite) becomes small.
多層化により球晶のサイズを小さくするための具体的な方法としては、一般的な多層化装置（多層フィードブロック、スタティックミキサー、多層マルチマニホールドなど）を用いることができる。例えば、例えば、二台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出された熱可塑性樹脂を、フィードブロックやスタティックミキサー、マルチマニホールドダイ等を用いて多層に積層する方法等を使用することができる。なお、同一の組成の樹脂を多層化する場合、一台の押出機のみを用いて、押出機からダイまでのメルトラインに上述の多層化装置を導入することも可能である。 As a specific method for reducing the size of spherulites by multilayering, a general multilayering apparatus (multilayer feedblock, static mixer, multilayer multimanifold, etc.) can be used. For example, for example, a method of laminating thermoplastic resins sent out from different flow paths using two or more extruders using a feed block, a static mixer, a multi-manifold die, or the like can be used. . In addition, when multilayering resin of the same composition, it is also possible to introduce the above multilayering apparatus into the melt line from the extruder to the die using only one extruder.
第１基材４１は、少なくとも１０層以上、好ましくは６０層以上、より好ましくは２５０層以上、更に好ましくは１０００層以上の層４１ａを含む多層構造部からなる。層数を多くすることにより、未延伸原反の状態のＰＢＴにおける球晶のサイズを小さくすることができ、その後の二軸延伸を安定に実施することができる。また、二軸延伸フィルムの状態のＰＢＴの降伏応力を小さくすることができる。好ましくは、未延伸原反のＰＢＴにおける球晶の直径は、５００ｎｍ以下である。 The first substrate 41 is composed of a multilayer structure including at least 10 layers, preferably 60 layers or more, more preferably 250 layers or more, and still more preferably 1000 layers or more. By increasing the number of layers, the size of spherulites in the unstretched raw PBT can be reduced, and the subsequent biaxial stretching can be carried out stably. Moreover, the yield stress of PBT in the state of a biaxially stretched film can be made small. Preferably, the diameter of the spherulite in the unstretched raw PBT is 500 nm or less.
ＰＢＴの未延伸原反を二軸延伸して二軸延伸フィルムを作製する際の、縦延伸方向（以下、ＭＤ）における延伸温度（以下、ＭＤ延伸温度とも記す）は、好ましくは４０℃以上であり、より好ましくは４５℃以上である。ＭＤ延伸温度を４０℃以上にすることにより、フィルムの破断が生じることを抑制することができる。また、ＭＤ延伸温度は、好ましくは１００℃以下であり、より好ましくは９５℃以下である。ＭＤ延伸温度を１００℃以下にすることにより、二軸延伸フィルムの配向が生じないという現象を抑制することができる。 The stretching temperature (hereinafter also referred to as MD stretching temperature) in the longitudinal stretching direction (hereinafter referred to as MD) when producing a biaxially stretched film by biaxially stretching the unstretched raw material of PBT is preferably 40 ° C. or higher. Yes, more preferably 45 ° C or higher. By setting the MD stretching temperature to 40 ° C. or higher, the film can be prevented from being broken. Moreover, MD extending | stretching temperature becomes like this. Preferably it is 100 degrees C or less, More preferably, it is 95 degrees C or less. The phenomenon that the orientation of the biaxially stretched film does not occur can be suppressed by setting the MD stretching temperature to 100 ° C. or lower.
ＭＤにおける延伸倍率（以下、ＭＤ延伸倍率とも記す）は、好ましくは２．５倍以上である。これにより、二軸延伸フィルムを配向させ、良好な力学特性や均一な厚みを実現することができる。ＭＤ延伸倍率は、例えば５倍以下である。 The draw ratio in MD (hereinafter also referred to as MD draw ratio) is preferably 2.5 times or more. Thereby, a biaxially stretched film can be oriented and a favorable mechanical characteristic and uniform thickness can be implement | achieved. MD stretch ratio is 5 times or less, for example.
横延伸方向（以下、ＴＤとも記す）における延伸温度（以下、ＴＤ延伸温度とも記す）は、好ましくは４０℃以上である。ＴＤ延伸温度を４０℃以上にすることにより、フィルムの破断が生じることを抑制することができる。また、ＴＤ延伸温度は、好ましくは１００℃以下である。ＴＤ延伸温度を１００℃以下にすることにより、二軸延伸フィルムの配向が生じないという現象を抑制することができる。 The stretching temperature (hereinafter also referred to as TD stretching temperature) in the transverse stretching direction (hereinafter also referred to as TD) is preferably 40 ° C. or higher. By setting the TD stretching temperature to 40 ° C. or higher, the film can be prevented from being broken. The TD stretching temperature is preferably 100 ° C. or lower. By setting the TD stretching temperature to 100 ° C. or lower, the phenomenon that the orientation of the biaxially stretched film does not occur can be suppressed.
ＴＤにおける延伸倍率（以下、ＴＤ延伸倍率とも記す）は、好ましくは２．５倍以上である。これにより、二軸延伸フィルムを配向させ、良好な力学特性や均一な厚みを実現することができる。ＭＤ延伸倍率は、例えば５倍以下である。 The draw ratio in TD (hereinafter also referred to as TD draw ratio) is preferably 2.5 times or more. Thereby, a biaxially stretched film can be oriented and a favorable mechanical characteristic and uniform thickness can be implement | achieved. MD stretch ratio is 5 times or less, for example.
ＴＤリラックス率は、好ましくは０．５％以上である。これにより、ＰＢＴの二軸延伸フィルムの熱固定時に破断が生じることを抑制することができる。また、ＴＤリラックス率は、好ましくは１０％以下である。これにより、ＰＢＴの二軸延伸フィルムにたるみなどが生じて厚みムラが発生することを抑制することができる。 The TD relaxation rate is preferably 0.5% or more. Thereby, it can suppress that a fracture | rupture arises at the time of heat setting of the biaxially stretched film of PBT. The TD relaxation rate is preferably 10% or less. Thereby, sagging etc. arise in a biaxially stretched film of PBT, and it can control that thickness unevenness generate | occur | produces.
図４に示す第１基材４１の層４１ａの厚みは、好ましくは３ｎｍ以上であり、より好ましくは１０ｎｍ以上である。また、層４１ａの厚みは、好ましくは２００ｎｍ以下であり、より好ましくは１００ｎｍ以下である。
また、第１基材４１の厚みは、好ましくは９μｍ以上であり、より好ましくは１２μｍ以上である。また、第１基材４１の厚みは、好ましくは２５μｍ以下であり、より好ましくは２０μｍ以下である。第１基材４１の厚みを９μｍ以上にすることにより、第１基材４１が十分な強度を有するようになる。また、第１基材４１の厚みを２５μｍ以下にすることにより、第１基材４１が優れた成形性を示すようになる。このため、第１基材４１を含む積層体３０を加工して袋１０を製造する工程を効率的に実施することができる。
The thickness of the layer 41a of the first base material 41 shown in FIG. 4 is preferably 3 nm or more, more preferably 10 nm or more. The thickness of the layer 41a is preferably 200 nm or less, and more preferably 100 nm or less.
Further, the thickness of the first base material 41 is preferably 9 μm or more, and more preferably 12 μm or more. Further, the thickness of the first base material 41 is preferably 25 μm or less, and more preferably 20 μm or less. By setting the thickness of the first base material 41 to 9 μm or more, the first base material 41 has sufficient strength. Moreover, the 1st base material 41 comes to show the moldability which was excellent by making the thickness of the 1st base material 41 into 25 micrometers or less. For this reason, the process which processes the laminated body 30 containing the 1st base material 41 and manufactures the bag 10 can be implemented efficiently.
〔第１基材の第２の構成〕
第２の構成に係る第１基材４１は、ブチレンテレフタレートを主たる繰返し単位とするポリエステルを含む単層フィルムからなる。例えば、第１基材４１は、グリコール成分としての１，４−ブタンジオール、又はそのエステル形成性誘導体と、二塩基酸成分としてのテレフタル酸、又はそのエステル形成性誘導体を主成分とし、それらを縮合して得られるホモ、またはコポリマータイプのポリエステルを含む。第２の構成に係る第１基材４１におけるＰＢＴの含有率は、５１質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上がさらに好ましく、さらには８０質量％以上が好ましく、最も好ましくは９０質量％以上である。また、第２の構成に係る第１基材４１は、ポリブチレンテレフタレートと添加剤のみで構成されていることが好ましい。
[Second Configuration of First Base Material]
The 1st base material 41 concerning the 2nd composition consists of a single layer film containing polyester which makes butylene terephthalate the main repeating unit. For example, the first base material 41 is mainly composed of 1,4-butanediol as a glycol component, or an ester-forming derivative thereof, and terephthalic acid as a dibasic acid component, or an ester-forming derivative thereof. Includes homo- or copolymer-type polyesters obtained by condensation. The content of PBT in the first base material 41 according to the second configuration is preferably 51% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, further preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more, Most preferably, it is 90 mass% or more. Moreover, it is preferable that the 1st base material 41 which concerns on a 2nd structure is comprised only with the polybutylene terephthalate and the additive.
第１基材４１に機械的強度を付与するためには、ＰＢＴのうち、融点が２００℃以上且つ２５０℃以下、ＩＶ値（固有粘度）が１．１０ｄｌ／ｇ以上且つ１．３５ｄｌ／ｇ以下のものが好ましい。さらには、融点が２１５℃以上且つ２２５℃以下、ＩＶ値が１．１５ｄｌ／ｇ以上且つ１．３０ｄｌ／ｇ以下のものが特に好ましい。これらのＩＶ値は、第１基材４１を構成する材料全体によって満たされていてもよい。ＩＶ値は、ＪＩＳ Ｋ ７３６７−５：２０００に基づいて算出され得る。 In order to impart mechanical strength to the first base material 41, the melting point of the PBT is 200 ° C. or more and 250 ° C. or less, and the IV value (intrinsic viscosity) is 1.10 dl / g or more and 1.35 dl / g or less. Are preferred. Furthermore, those having a melting point of 215 ° C. or more and 225 ° C. or less and an IV value of 1.15 dl / g or more and 1.30 dl / g or less are particularly preferable. These IV values may be satisfied by the entire material constituting the first base material 41. The IV value can be calculated based on JIS K 7367-5: 2000.
第２の構成に係る第１基材４１は、ＰＥＴなどＰＢＴ以外のポリエステル樹脂を３０質量％以下の範囲で含んでいてもよい。第１基材４１がＰＢＴに加えてＰＥＴを含むことにより、ＰＢＴ結晶化を抑制することができ、ＰＢＴフィルムの延伸加工性を向上させることができる。第１基材４１のＰＢＴに配合するＰＥＴとしては、エチレンテレフタレートを主たる繰返し単位とするポリエステルを用いることができる。例えば、グリコール成分としてのエチレングリコール、二塩基酸成分としてのテレフタル酸を主成分としたホモタイプを好ましく用いることができる。良好な機械的強度特性を付与するためには、ＰＥＴのうち、融点が２４０℃以上且つ２６５℃以下、ＩＶ値が０．５５ｄｌ／ｇ以上且つ０．９０ｄｌ／ｇ以下のものが好ましい。さらには、融点が２４５℃以上且つ２６０℃以下、ＩＶ値が０．６０ｄｌ／ｇ以上且つ０．８０ｄｌ／ｇ以下のものが特に好ましい。
ＰＥＴの配合量を３０質量％以下にすることにより、未延伸原反及び延伸フィルムの剛性が高くなり過ぎることを抑制することができる。これにより、延伸フィルムがもろくなり、延伸フィルムの耐圧強度、衝撃強度、突刺し強度などが低下してしまうことを抑制することができる。また、未延伸原反を延伸する際の延伸不調が発生することを抑制することができる。
The 1st base material 41 concerning the 2nd composition may contain polyester resins other than PBT, such as PET, in the range of 30 mass% or less. When the 1st base material 41 contains PET in addition to PBT, PBT crystallization can be suppressed and the extending | stretching workability of a PBT film can be improved. As PET mix | blended with PBT of the 1st base material 41, polyester which uses ethylene terephthalate as the main repeating unit can be used. For example, a homotype mainly composed of ethylene glycol as a glycol component and terephthalic acid as a dibasic acid component can be preferably used. In order to impart good mechanical strength characteristics, among PET, those having a melting point of 240 ° C. or more and 265 ° C. or less and an IV value of 0.55 dl / g or more and 0.90 dl / g or less are preferable. Furthermore, those having a melting point of 245 ° C. or more and 260 ° C. or less and an IV value of 0.60 dl / g or more and 0.80 dl / g or less are particularly preferable.
By setting the blending amount of PET to 30% by mass or less, it is possible to suppress the unstretched raw fabric and the stretched film from becoming too rigid. Thereby, a stretched film becomes brittle and it can suppress that the pressure resistance strength, impact strength, puncture strength, etc. of a stretched film fall. Moreover, it is possible to suppress the occurrence of stretching failure when the unstretched raw fabric is stretched.
第１基材４１は、必要に応じて、滑剤、アンチブロッキング剤、無機増量剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、可塑剤、着色剤、結晶化抑制剤、結晶化促進剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、第１基材４１の原料として用いるポリエステル系樹脂ペレットは、加熱溶融時の加水分解による粘度低下を避けるため、加熱溶融前に水分率が０．０５重量％以下、好ましくは０．０１重量％以下になるように十分予備乾燥を行った上で使用するのが好ましい。 The first base material 41 is made of a lubricant, an antiblocking agent, an inorganic extender, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a flame retardant, a plasticizer, a colorant, a crystallization inhibitor, and a crystallization as necessary. Additives such as accelerators may be included. Further, the polyester resin pellet used as a raw material of the first base material 41 has a moisture content of 0.05% by weight or less, preferably 0.01% by weight before heating and melting in order to avoid a decrease in viscosity due to hydrolysis during heating and melting. It is preferable to use after sufficiently pre-drying so as to be not more than%.
第２の構成に係るフィルム状の第１基材４１を作製する方法の一例について説明する。 An example of a method for producing the film-like first base material 41 according to the second configuration will be described.
上述の構成の第１基材４１のフィルムを安定的に作製するためには、未延伸原反の状態における結晶の成長を抑制することが重要になる。具体的には、押出されたＰＢＴ系溶融体を冷却して成膜する際、該ポリマーの結晶化温度領域をある速度以上で冷却する、すなわち原反冷却速度が重要な因子となる。原反冷却速度は、例えば２００℃／秒以上、好ましくは２５０℃／秒以上、特に好ましくは３５０℃／秒以上である。高い冷却速度で成膜された未延伸原反は、低い結晶状態を保っているため、延伸時のバブルの安定性が向上する。さらには高速での成膜も可能になるので、フィルムの生産性も向上する。冷却速度が２００℃／秒未満である場合、得られた未延伸原反の結晶性が高くなり延伸性が低下することが考えられる。また、極端な場合には、延伸バブルが破裂し、延伸が継続しないことも考えられる。 In order to stably produce the film of the first base material 41 having the above-described configuration, it is important to suppress the crystal growth in the unstretched raw fabric state. Specifically, when forming the film by cooling the extruded PBT melt, the crystallization temperature region of the polymer is cooled at a certain rate or more, that is, the raw fabric cooling rate is an important factor. The raw fabric cooling rate is, for example, 200 ° C./second or more, preferably 250 ° C./second or more, particularly preferably 350 ° C./second or more. Since the unstretched original film formed at a high cooling rate maintains a low crystalline state, the stability of the bubbles during stretching is improved. Furthermore, since film formation at high speed is possible, film productivity is also improved. When the cooling rate is less than 200 ° C./sec, it is considered that the crystallinity of the obtained unstretched original fabric is increased and the stretchability is lowered. In extreme cases, the stretching bubble may burst and stretching may not continue.
ＰＢＴを主成分として含む未延伸原反は、雰囲気温度を２５℃以下、好ましくは２０℃以下に保ちながら、二軸延伸を行う空間まで搬送されることが好ましい。これにより、滞留時間が長くなった場合であっても、成膜直後の未延伸原反の結晶性を維持することができる。 The unstretched original fabric containing PBT as a main component is preferably transported to a space where biaxial stretching is performed while maintaining the atmospheric temperature at 25 ° C. or lower, preferably 20 ° C. or lower. Thereby, even if it is a case where residence time becomes long, the crystallinity of the unstretched original fabric immediately after film-forming can be maintained.
未延伸原反を延伸させて延伸フィルムを得るための二軸延伸法は、特には限定されない。例えば、チューブラー法又はテンター法により、縦方向及び横方向を同時に延伸してもよく、若しくは、縦方向及び横方向を逐次延伸してもよい。このうち、チューブラー法は、周方向の物性バランスが良好な延伸フィルムを得ることができ、特に好ましく採用される。 The biaxial stretching method for obtaining a stretched film by stretching an unstretched raw fabric is not particularly limited. For example, the longitudinal direction and the lateral direction may be simultaneously stretched by the tubular method or the tenter method, or the longitudinal direction and the lateral direction may be sequentially stretched. Among these, the tubular method can obtain a stretched film having a good balance of physical properties in the circumferential direction, and is particularly preferably employed.
チューブラー法において、延伸空間に導かれた未延伸原反は、一対の低速ニップロール間に挿通された後、中に空気を圧入しながら延伸用ヒーターで加熱される。延伸終了後、延伸フィルムには、冷却ショルダーエアーリングによりエアーが吹き付けられる。延伸倍率は、延伸安定性や延伸フィルムの強度物性、透明性、および厚み均一性を考慮すると、ＭＤ、およびＴＤそれぞれ２．７倍以上且つ４．５倍以下であることが好ましい。延伸倍率を２．７倍以上にすることにより、延伸フィルムの引張弾性率や衝撃強度を十分に確保することができる。また、延伸倍率を４．５倍以下にすることにより、延伸により過度な分子鎖のひずみが発生することを抑制し、延伸加工時に破断やパンクが発生することを抑制できるので、延伸フィルムを安定に作製することができる。 In the tubular method, the unstretched raw material guided to the stretching space is inserted between a pair of low-speed nip rolls, and then heated by a stretching heater while air is pressed into the unstretched raw fabric. After stretching, air is blown onto the stretched film by a cooling shoulder air ring. The stretching ratio is preferably 2.7 times or more and 4.5 times or less for MD and TD, respectively, in consideration of stretching stability, strength physical properties of the stretched film, transparency, and thickness uniformity. By setting the draw ratio to 2.7 times or more, it is possible to sufficiently ensure the tensile elastic modulus and impact strength of the stretched film. In addition, by setting the draw ratio to 4.5 times or less, it is possible to suppress the occurrence of excessive molecular chain distortion due to stretching, and to suppress the occurrence of breakage and puncture during the stretching process, so that the stretched film can be stabilized. Can be produced.
延伸温度は、４０℃以上且つ８０℃以下が好ましく、特に好ましくは４５℃以上且つ６５℃以下である。上述の高い冷却速度で製造した未延伸原反は、結晶性が低いため、延伸温度が比較的に低温の場合であっても、安定して未延伸原反を延伸することができる。また、延伸温度を８０℃以下にすることにより、延伸バブルの揺れを抑制し、厚み精度の良好な延伸フィルムを得ることができる。また、延伸温度を４０℃以上にすることにより、低温延伸による過度な延伸配向結晶化が発生することを抑制して、フィルムの白化等を防ぐことができる。 The stretching temperature is preferably 40 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, and particularly preferably 45 ° C. or higher and 65 ° C. or lower. Since the unstretched original fabric produced at the above-described high cooling rate has low crystallinity, the unstretched original fabric can be stably stretched even when the stretching temperature is relatively low. Further, by setting the stretching temperature to 80 ° C. or less, it is possible to suppress stretching bubble shaking and obtain a stretched film with good thickness accuracy. In addition, by setting the stretching temperature to 40 ° C. or higher, it is possible to suppress the occurrence of excessive stretch-oriented crystallization due to low-temperature stretching, thereby preventing whitening of the film.
上述のようにして作製される第１基材４１は、例えば、ブチレンテレフタレートを主たる繰返し単位とするポリエステルを含む単一の層によって構成されている。上述の作製方法によれば、高い冷却速度で未延伸原反を成膜するので、未延伸原反が単一の層によって構成される場合であっても、低い結晶状態を保つことができ、このため、安定して未延伸原反を延伸することができる。 The 1st base material 41 produced as mentioned above is comprised by the single layer containing polyester which makes butylene terephthalate the main repeating unit, for example. According to the above-described production method, since the unstretched raw film is formed at a high cooling rate, even when the unstretched raw fabric is constituted by a single layer, a low crystalline state can be maintained, For this reason, an unstretched original fabric can be extended | stretched stably.
（第１接着剤層）
第１接着剤層４５は、第１フィルム４０と第２フィルム５０とを接着するための第１接着剤を含む。第１接着剤の例としては、エーテル系の二液反応型接着剤、エステル系の二液反応型接着剤などを挙げることができる。
(First adhesive layer)
The first adhesive layer 45 includes a first adhesive for bonding the first film 40 and the second film 50. Examples of the first adhesive include ether-based two-component reactive adhesives and ester-based two-component reactive adhesives.
エーテル系の二液反応型接着剤としては、例えば、ポリエーテルポリウレタンなどを挙げることができる。ポリエーテルポリウレタンは、主剤としてのポリエーテルポリオールと、硬化剤としてのイソシアネート化合物とが反応することにより生成される硬化物である。イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）などの芳香族系イソシアネート化合物、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などの脂肪族系イソシアネート化合物、あるいは、上記各種イソシアネート化合物の付加体または多量体を用いることができる。 Examples of the ether-based two-component reactive adhesive include polyether polyurethane. The polyether polyurethane is a cured product produced by a reaction between a polyether polyol as a main agent and an isocyanate compound as a curing agent. As isocyanate compounds, aromatic isocyanate compounds such as tolylene diisocyanate (TDI), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), xylylene diisocyanate (XDI), hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), etc. Aliphatic isocyanate compounds, or adducts or multimers of the above-mentioned various isocyanate compounds can be used.
エステル系の二液反応型接着剤としては、例えば、ポリエステルポリウレタンやポリエステルなどが挙げられる。ポリエステルポリウレタンは、主剤としてのポリエステルポリオールと、硬化剤としてのイソシアネート化合物とが反応することにより生成される硬化物である。イソシアネート化合物の例は、上述のエーテル系の二液反応型接着剤の場合と同様である。 Examples of the ester-based two-component reactive adhesive include polyester polyurethane and polyester. Polyester polyurethane is a cured product produced by a reaction between a polyester polyol as a main agent and an isocyanate compound as a curing agent. Examples of the isocyanate compound are the same as in the case of the ether-based two-component reactive adhesive described above.
（第２フィルム）
第２フィルム５０は、第２基材５１を少なくとも含む。第２基材５１は、主成分としてＰＥＴを含む。例えば、第２基材５１は、５１質量％以上のＰＥＴを含む。第２基材５１がＰＥＴを含むことにより、第２基材５１が耐熱性を有することができる。例えば、第２基材５１がナイロンを含む場合に比べて、第２基材５１の融点が高くなり、また、第２基材５１の吸湿性が低くなる。これにより、袋１０を電子レンジで加熱するとき、過熱された水などに起因して第２基材５１に穴が開いてしまうことを抑制することができる。また、ＰＥＴの耐熱性は、ＰＢＴの耐熱性よりも高い。このため、本実施の形態によれば、第２基材５１がＰＢＴからなる場合に比べても、積層体３０の耐熱性を高めることができる。これにより、例えば、袋１０を電子レンジで加熱して内容物の温度が高くなった時に積層体３０がダメージを受けて積層体３０の性能が低下することを抑制することができる。
(Second film)
The second film 50 includes at least a second base material 51. The 2nd base material 51 contains PET as a main component. For example, the 2nd base material 51 contains 51 mass% or more of PET. The 2nd base material 51 can have heat resistance because the 2nd base material 51 contains PET. For example, compared with the case where the 2nd base material 51 contains nylon, melting | fusing point of the 2nd base material 51 becomes high, and the hygroscopic property of the 2nd base material 51 becomes low. Thereby, when heating the bag 10 with a microwave oven, it can suppress that a hole opens in the 2nd base material 51 resulting from the overheated water. Moreover, the heat resistance of PET is higher than the heat resistance of PBT. For this reason, according to this Embodiment, compared with the case where the 2nd base material 51 consists of PBT, the heat resistance of the laminated body 30 can be improved. Thereby, for example, when the bag 10 is heated with a microwave oven and the temperature of the contents becomes high, it is possible to prevent the laminated body 30 from being damaged and the performance of the laminated body 30 from being deteriorated.
第２基材５１の厚みは、好ましくは９μｍ以上であり、より好ましくは１２μｍ以上である。また、第２基材５１の厚みは、好ましくは２５μｍ以下であり、より好ましくは２０μｍ以下である。第２基材５１の厚みを９μｍ以上にすることにより、第２基材５１が十分な強度を有するようになる。また、第２基材５１の厚みを２５μｍ以下にすることにより、第２基材５１が優れた成形性を示すようになる。このため、積層体３０を加工して袋１０を製造する工程を効率的に実施することができる。 The thickness of the second substrate 51 is preferably 9 μm or more, and more preferably 12 μm or more. The thickness of the second substrate 51 is preferably 25 μm or less, more preferably 20 μm or less. By setting the thickness of the second base material 51 to 9 μm or more, the second base material 51 has sufficient strength. Moreover, the 2nd base material 51 comes to show the outstanding moldability by the thickness of the 2nd base material 51 being 25 micrometers or less. For this reason, the process which processes the laminated body 30 and manufactures the bag 10 can be implemented efficiently.
（第２接着剤層）
第２接着剤層５５は、第２フィルム５０と第３フィルム６０とを接着するための第２接着剤を含む。第２接着剤の例としては、エーテル系の二液反応型接着剤を挙げることができる。エーテル系の二液反応型接着剤としては、第１接着剤の場合と同様に、ポリウレタンなどを挙げることができる。ポリウレタンは、主剤としてのポリオールと、硬化剤としてのイソシアネート化合物とが反応することにより生成される硬化物である。なお、ポリオールとしては、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールを用いることができるが、ポリエステルポリオールを用いることが好ましい。
(Second adhesive layer)
The second adhesive layer 55 includes a second adhesive for bonding the second film 50 and the third film 60. Examples of the second adhesive include ether-based two-component reaction type adhesives. Examples of the ether-based two-component reaction type adhesive include polyurethane as in the case of the first adhesive. Polyurethane is a cured product produced by a reaction between a polyol as a main agent and an isocyanate compound as a curing agent. In addition, although polyether polyol and polyester polyol can be used as polyol, it is preferable to use polyester polyol.
イソシアネート化合物としては、上述のように、芳香族系イソシアネート化合物及び脂肪族系イソシアネート化合物が存在する。このうち芳香族系イソシアネート化合物は、加熱殺菌などの高温環境下において、食品用途で使用できない成分が溶出する。ところで、第２接着剤層５５は、図３に示すように、第３フィルム６０に接している。このため、第２接着剤層５５が芳香族系イソシアネート化合物を含む場合、芳香族系イソシアネート化合物から溶出された成分が、積層体３０によって構成された袋１０の内容物に付着することがある。 As described above, aromatic isocyanate compounds and aliphatic isocyanate compounds exist as isocyanate compounds. Among these, aromatic isocyanate compounds elute components that cannot be used in food applications under high-temperature environments such as heat sterilization. By the way, the 2nd adhesive bond layer 55 is in contact with the 3rd film 60, as shown in FIG. For this reason, when the 2nd adhesive bond layer 55 contains an aromatic isocyanate compound, the component eluted from the aromatic isocyanate compound may adhere to the content of the bag 10 comprised by the laminated body 30. FIG.
このような課題を考慮し、第２接着剤層５５を構成する第２接着剤として、主剤としてのポリオールと、硬化剤としての脂肪族系イソシアネート化合物とが反応することにより生成される硬化物を用いることを提案する。これにより、第２接着剤層５５に起因する食品用途で使用できない成分が内容物に付着することを防止することができる。 In consideration of such problems, as a second adhesive constituting the second adhesive layer 55, a cured product generated by a reaction between a polyol as a main agent and an aliphatic isocyanate compound as a curing agent is used. Suggest to use. Thereby, it can prevent that the component which cannot be used for the food use resulting from the 2nd adhesive bond layer 55 adheres to the content.
なお、第２フィルム５０がガスバリア性などのバリア性を有さない場合であって、且つ上述の第１接着剤層４５が芳香族系イソシアネート化合物を含む場合、芳香族系イソシアネート化合物から溶出された成分が内容物に付着することも考えられる。この場合、第２接着剤層５５の場合と同様に、第１接着剤層４５を構成する第１接着剤として、主剤としてのポリオールと、硬化剤としての脂肪族系イソシアネート化合物とが反応することにより生成される硬化物を用いることが好ましい。 In the case where the second film 50 does not have a barrier property such as a gas barrier property, and the first adhesive layer 45 includes an aromatic isocyanate compound, it was eluted from the aromatic isocyanate compound. It is also conceivable that components adhere to the contents. In this case, as in the case of the second adhesive layer 55, the polyol as the main agent and the aliphatic isocyanate compound as the curing agent react as the first adhesive constituting the first adhesive layer 45. It is preferable to use a cured product produced by the above.
（第３フィルム）
第３フィルム６０は、積層体３０の内面３０ｘを構成するシーラント層６１を少なくとも含む。シーラント層６１を構成する材料としては、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンなどのポリエチレン、ポリプロピレンから選択される１種または２種以上の樹脂を用いることができる。シーラント層６１は、単層であってもよく、多層であってもよい。また、シーラント層６１は、好ましくは未延伸のフィルムからなる。なお「未延伸」とは、全く延伸されていないフィルムだけでなく、製膜の際に加えられる張力に起因してわずかに延伸されているフィルムも含む概念である。
(Third film)
The third film 60 includes at least a sealant layer 61 that constitutes the inner surface 30 x of the laminate 30. As a material constituting the sealant layer 61, one or two or more resins selected from polyethylene such as low density polyethylene and linear low density polyethylene, and polypropylene can be used. The sealant layer 61 may be a single layer or a multilayer. The sealant layer 61 is preferably made of an unstretched film. “Unstretched” is a concept that includes not only a film that is not stretched at all, but also a film that is slightly stretched due to the tension applied during film formation.
上述のように、積層体３０から構成された袋１０には、ボイル処理やレトルト処理などの殺菌処理が高温で施される。従って、シーラント層６１は、これらの高温での処理に耐える耐熱性を有するものが用いられる。 As described above, the bag 10 composed of the laminate 30 is subjected to sterilization treatment such as boil treatment and retort treatment at a high temperature. Therefore, as the sealant layer 61, a layer having heat resistance that can withstand processing at these high temperatures is used.
シーラント層６１を構成する材料の融点は、１５０℃以上であることが好ましく、１６０℃以上であることがより好ましい。シーラント層６１の融点を高くすることにより、袋１０のレトルト処理を高温で実施することが可能になり、このため、レトルト処理に要する時間を短くすることができる。なお、シーラント層６１を構成する材料の融点は、第１基材４１を構成する樹脂の融点、及び第２基材５１を構成する樹脂の融点より低い。 The melting point of the material constituting the sealant layer 61 is preferably 150 ° C. or higher, and more preferably 160 ° C. or higher. By increasing the melting point of the sealant layer 61, the bag 10 can be retorted at a high temperature, and the time required for the retort process can be shortened. The melting point of the material constituting the sealant layer 61 is lower than the melting point of the resin constituting the first base member 41 and the melting point of the resin constituting the second base member 51.
レトルト処理の観点で考える場合、シーラント層６１を構成する材料として、プロピレンを主成分とする材料を用いることができる。ここで、プロピレンを「主成分とする」材料とは、プロピレンの含有率が９０質量％以上である材料を意味する。プロピレンを主成分とする材料としては、具体的には、プロピレン・エチレンブロック共重合体、プロピレン・エチレンランダム共重合体、ホモポリプロピレンなどのポリプロピレン、又はポリプロピレンとポリエチレンとを混合したものなどを挙げることができる。ここで、「プロピレン・エチレンブロック共重合体」とは、下記の式（Ｉ）に示される構造式を有する材料を意味する。また、「プロピレン・エチレンランダム共重合体」とは、下記の式（ＩＩ）に示される構造式を有する材料を意味する。また、「ホモポリプロピレン」とは、下記の式（ＩＩＩ）に示される構造式を有する材料を意味する。 When considering from the viewpoint of retort processing, a material mainly composed of propylene can be used as the material constituting the sealant layer 61. Here, the material having “propylene as a main component” means a material having a propylene content of 90% by mass or more. Specific examples of the material mainly composed of propylene include propylene / ethylene block copolymer, propylene / ethylene random copolymer, polypropylene such as homopolypropylene, or a mixture of polypropylene and polyethylene. Can do. Here, the “propylene / ethylene block copolymer” means a material having a structural formula represented by the following formula (I). The “propylene / ethylene random copolymer” means a material having a structural formula represented by the following formula (II). “Homopolypropylene” means a material having the structural formula shown by the following formula (III).
プロピレンを主成分とする材料として、ポリプロピレンとポリエチレンとを混合したものを用いる場合には、材料は、海島構造を有していてもよい。ここで、「海島構造」とは、ポリプロピレンが連続する領域の内に、ポリエチレンが不連続に分散している構造をいう。 When a material containing propylene as a main component and a mixture of polypropylene and polyethylene is used, the material may have a sea-island structure. Here, the “sea-island structure” means a structure in which polyethylene is discontinuously dispersed in a region where polypropylene is continuous.
ボイル処理の観点で考える場合、シーラント層６１を構成する材料の例として、ポリエチレン、ポリプロピレン又はこれらの組み合わせなどを挙げることができる。ポリエチレンとしては、中密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン又はこれらの組み合わせなどを挙げることができる。例えば、上述のレトルト処理の観点からシーラント層を構成する材料として挙げた材料を用いることも可能である。シーラント層を構成する材料は、例えば１００℃以上、より好ましくは１０５℃以上、更に好ましくは１１０℃以上の融点を有する。シーラント層を構成する材料としてポリエチレンを用いる場合、１００℃以上の融点は、例えば、ポリエチレンの密度が０．９２０ｇ／ｃｍ３以上である場合に実現され得る。また、１００℃以上の融点を有するシーラント層を構成するためのシーラントフィルムの具体例としては、三井化学東セロ製ＴＵＸ−ＨＣ、東洋紡製Ｌ６１０１、出光ユニテック製ＬＳ７００Ｃ等を挙げることができる。１０５℃以上の融点を有するシーラント層を構成するためのシーラントフィルムの具体例としては、タマポリ製ＮＢ−１等を挙げることができる。１１０℃以上の融点を有するシーラント層を構成するためのシーラントフィルムの具体例としては、出光ユニテック製ＬＳ７６０Ｃ、三井化学東セロ製ＴＵＸ−ＨＺ等を挙げることができる。 When considered from the viewpoint of boil processing, examples of the material constituting the sealant layer 61 include polyethylene, polypropylene, or a combination thereof. Examples of polyethylene include medium density polyethylene, linear low density polyethylene, and combinations thereof. For example, it is also possible to use the materials mentioned as the material constituting the sealant layer from the viewpoint of the above retort processing. The material constituting the sealant layer has a melting point of, for example, 100 ° C. or higher, more preferably 105 ° C. or higher, and still more preferably 110 ° C. or higher. When polyethylene is used as the material constituting the sealant layer, a melting point of 100 ° C. or higher can be realized, for example, when the density of polyethylene is 0.920 g / cm 3 or higher. Specific examples of the sealant film for forming a sealant layer having a melting point of 100 ° C. or higher include TUX-HC manufactured by Mitsui Chemicals Tosero, L6101 manufactured by Toyobo, and LS700C manufactured by Idemitsu Unitech. As a specific example of the sealant film for constituting a sealant layer having a melting point of 105 ° C. or higher, NB-1 manufactured by Tamapoli can be cited. Specific examples of the sealant film for forming a sealant layer having a melting point of 110 ° C. or higher include LS760C manufactured by Idemitsu Unitech, TUX-HZ manufactured by Mitsui Chemicals Tosero, and the like.
好ましくは、シーラント層６１は、プロピレン・エチレンブロック共重合体を含む。例えば、シーラント層６１を含む第３フィルム６０は、プロピレン・エチレンブロック共重合体を主成分とする未延伸フィルムである。プロピレン・エチレンブロック共重合体を用いることにより、第３フィルム６０の耐衝撃性を高めることができ、これにより、落下時の衝撃により袋１０が破袋してしまうことを抑制することができる。また、積層体３０の耐突き刺し性を高めることができる。 Preferably, the sealant layer 61 includes a propylene / ethylene block copolymer. For example, the third film 60 including the sealant layer 61 is an unstretched film containing a propylene / ethylene block copolymer as a main component. By using the propylene / ethylene block copolymer, the impact resistance of the third film 60 can be increased, and thereby the bag 10 can be prevented from being broken due to the impact at the time of dropping. Moreover, the puncture resistance of the laminated body 30 can be improved.
また、シーラント層６１は、熱可塑性エラストマーを更に含んでいてもよい。熱可塑性エラストマーを用いることにより、第３フィルム６０の耐衝撃性や耐突き刺し性を更に高めることができる。 The sealant layer 61 may further contain a thermoplastic elastomer. By using the thermoplastic elastomer, the impact resistance and puncture resistance of the third film 60 can be further improved.
熱可塑性エラストマーは、例えば水添スチレン系熱可塑性エラストマーである。水添スチレン系熱可塑性エラストマーは、少なくとも１個のビニル芳香族化合物を主体とする重合体ブロックＡと少なくとも１個の水素添加された共役ジエン化合物を主体とする重合体ブロックＢからなる構造を有する。また、熱可塑性エラストマーは、エチレン・α−オレフィンエラストマーであってもよい。エチレン・α−オレフィンエラストマーは、低結晶性もしくは非晶性の共重合体エラストマーであり、主成分としての５０〜９０質量％のエチレンと共重合モノマーとしてのα−オレフィンとのランダム共重合体である。 The thermoplastic elastomer is, for example, a hydrogenated styrene thermoplastic elastomer. The hydrogenated styrene-based thermoplastic elastomer has a structure comprising a polymer block A mainly composed of at least one vinyl aromatic compound and a polymer block B mainly composed of at least one hydrogenated conjugated diene compound. . The thermoplastic elastomer may be an ethylene / α-olefin elastomer. The ethylene / α-olefin elastomer is a low crystalline or amorphous copolymer elastomer, and is a random copolymer of 50 to 90% by mass of ethylene as a main component and α-olefin as a copolymerization monomer. is there.
シーラント層６１におけるプロピレン・エチレンブロック共重合体の含有率は、例えば８０質量％以上であり、好ましくは９０質量％以上である。 The content of the propylene / ethylene block copolymer in the sealant layer 61 is, for example, 80% by mass or more, and preferably 90% by mass or more.
プロピレン・エチレンブロック共重合体の製造方法としては、触媒を用いて原料であるプロピレンやエチレンなどを重合させる方法が挙げられる。触媒としては、チーグラー・ナッタ型やメタロセン触媒などを用いることができる。 Examples of the method for producing a propylene / ethylene block copolymer include a method of polymerizing propylene, ethylene, and the like as raw materials using a catalyst. As the catalyst, Ziegler-Natta type or metallocene catalyst can be used.
シーラント層６１の厚みは、好ましくは３０μｍ以上であり、より好ましくは４０μｍ以上である。また、シーラント層６１の厚みは、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは８０μｍ以下である。 The thickness of the sealant layer 61 is preferably 30 μm or more, more preferably 40 μm or more. Moreover, the thickness of the sealant layer 61 is preferably 100 μm or less, and more preferably 80 μm or less.
下部フィルムの層構成
次に、下部フィルム１６の層構成について説明する。
Next, the layer structure of the lower film 16 will be described.
表面フィルム１４の内面及び裏面フィルム１５の内面と接合可能な内面を有する限りにおいて、下部フィルム１６の層構成は任意である。例えば、表面フィルム１４及び裏面フィルム１５と同様に、下部フィルム１６として上述の積層体３０を用いてもよい。若しくは、内面がシーラント層によって構成され、且つ積層体３０とは異なる構成のフィルムを、下部フィルム１６として用いてもよい。 As long as it has the inner surface which can be joined with the inner surface of the surface film 14 and the inner surface of the back surface film 15, the layer structure of the lower film 16 is arbitrary. For example, similar to the front film 14 and the back film 15, the above-described laminate 30 may be used as the lower film 16. Alternatively, a film having an inner surface constituted by a sealant layer and a configuration different from that of the laminate 30 may be used as the lower film 16.
第１フィルムの製造方法
次に、第１フィルム４０の製造方法の一例について説明する。
Method for Manufacturing First Film Next, an example of a method for manufacturing the first film 40 will be described.
まず、主成分としてＰＢＴを含む樹脂材料を準備する。続いて、キャスト法やチューブラー法などの溶融押出法で樹脂材料を押し出すことにより、フィルム状の第１基材４１を作製する。続いて、第１基材４１上に印刷層４２を形成する。このようにして、第１基材４１と、印刷層４２とを備える第１フィルム４０を得ることができる。 First, a resin material containing PBT as a main component is prepared. Then, the film-form 1st base material 41 is produced by extruding resin material by melt extrusion methods, such as a cast method and a tubular method. Subsequently, the print layer 42 is formed on the first base material 41. Thus, the 1st film 40 provided with the 1st base material 41 and the printing layer 42 can be obtained.
積層体の製造方法
次に、積層体３０の製造方法の一例について説明する。
Method for producing a laminate Next, an example of a method for producing a laminate 30.
まず、上述の第１フィルム４０、及び第２フィルム５０を準備する。続いて、ドライラミネート法により、第１フィルム４０と第２フィルム５０とを、第１接着剤層４５を介して積層する。その後、ドライラミネート法により、第１フィルム４０及び第２フィルム５０を含む積層体と、第３フィルム６０とを、第２接着剤層５５を介して積層する。これによって、第１フィルム４０、第２フィルム５０及び第３フィルム６０を備える積層体３０を得ることができる。 First, the first film 40 and the second film 50 described above are prepared. Subsequently, the first film 40 and the second film 50 are laminated via the first adhesive layer 45 by a dry laminating method. Thereafter, the laminate including the first film 40 and the second film 50 and the third film 60 are laminated via the second adhesive layer 55 by a dry laminating method. Thereby, the laminated body 30 provided with the 1st film 40, the 2nd film 50, and the 3rd film 60 can be obtained.
若しくは、まず第２フィルム５０と第３フィルム６０とを第２接着剤層５５を介して積層し、その後、第１フィルム４０と、第２フィルム５０及び第３フィルム６０を含む積層体とを第１接着剤層４５を介して積層することにより、積層体３０を製造してもよい。 Alternatively, first, the second film 50 and the third film 60 are laminated via the second adhesive layer 55, and then the first film 40 and the laminate including the second film 50 and the third film 60 are first laminated. The laminated body 30 may be manufactured by laminating via one adhesive layer 45.
袋の製造方法
上述の積層体３０からなる表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を準備する。また、表面フィルム１４と裏面フィルム１５との間に、折り返した状態の下部フィルム１６を挿入する。続いて、各フィルムの内面同士をヒートシールして、下部シール部１２ａ、側部シール部１３ａなどのシール部を形成する。また、ヒートシールによって互いに接合されたフィルムを適切な形状に切断して、図１に示す袋１０を得る。続いて、上部１１の開口部１１ｂを介して内容物１８を袋１０に充填する。内容物１８は、例えば、カレー、シチュー、スープ等の、水分を含む調理済食品である。また食品以外にも、湯煎等によって加熱され得るものを内容物として袋１０に収容することができる。その後、上部１１をヒートシールして上部シール部を形成する。このようにして、内容物１８が収容され封止された袋１０を得ることができる。
Manufacturing method of bag The front film 14 and the back film 15 which consist of the above-mentioned laminated body 30 are prepared. In addition, the lower film 16 in a folded state is inserted between the front film 14 and the back film 15. Subsequently, the inner surfaces of the films are heat-sealed to form seal portions such as the lower seal portion 12a and the side seal portion 13a. Further, the films bonded to each other by heat sealing are cut into an appropriate shape to obtain a bag 10 shown in FIG. Subsequently, the contents 18 are filled into the bag 10 through the opening 11 b of the upper portion 11. The contents 18 are cooked foods containing moisture, such as curry, stew, and soup. In addition to food, items that can be heated by hot water can be stored in the bag 10 as contents. Thereafter, the upper part 11 is heat-sealed to form an upper seal part. Thus, the bag 10 in which the contents 18 are accommodated and sealed can be obtained.
内容物の加熱方法
次に、袋１０に収容された内容物１８の加熱方法の一例について説明する。
Heating method of the contents Next, an example of a method for heating the contents 18 contained in the bag 10.
まず、下部１２を下にして袋１０を自立させた状態で、袋１０を電子レンジの内部に載置する。次に、電子レンジを利用して内容物を加熱する。これによって、内容物１８の温度が高くなり、これに伴って、内容物１８に含まれる水分が蒸発して収容部１７の圧力が高まる。収容部１７の圧力が高くなると、収容部１７から受ける力によって表面フィルム１４及び裏面フィルム１５が外側に膨らむ。ここで本実施の形態においては、表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を構成する積層体３０が、ＰＢＴを主成分とする第１基材４１を含む。このため、第１基材４１の剛性が高くなっており、この結果、表面フィルム１４及び裏面フィルム１５が力を受けた場合に表面フィルム１４及び裏面フィルム１５における第１基材４１が伸びることを抑制することができる。これにより、収容部１７に生じる圧力に起因して生じる力を、表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を伸ばすための力ではなく、蒸気抜きシール部２０ａを剥離させるための力として主に利用することができる。このため、蒸気抜きシール部２０ａに加わる力を大きくすることができる。このことにより、加熱時に蒸気抜きシール部２０ａが剥離し易くなり、蒸気抜き機構２０を介して収容部１７の蒸気を外部に逃がすことができる。 First, the bag 10 is placed inside the microwave oven in a state where the bag 10 is self-supporting with the lower portion 12 facing down. Next, the contents are heated using a microwave oven. As a result, the temperature of the contents 18 increases, and accordingly, the water contained in the contents 18 evaporates and the pressure in the accommodating portion 17 increases. When the pressure in the housing part 17 increases, the surface film 14 and the back film 15 bulge outward by the force received from the housing part 17. Here, in this Embodiment, the laminated body 30 which comprises the surface film 14 and the back film 15 contains the 1st base material 41 which has PBT as a main component. For this reason, the rigidity of the first base material 41 is high, and as a result, when the front film 14 and the back film 15 receive force, the first base material 41 in the front film 14 and the back film 15 extends. Can be suppressed. Thereby, the force generated due to the pressure generated in the housing portion 17 can be mainly used as a force for peeling off the steam release seal portion 20a, not a force for extending the front film 14 and the back film 15. it can. For this reason, the force added to the steam release seal | sticker part 20a can be enlarged. Thus, the steam release seal portion 20a is easily peeled off during heating, and the steam in the housing portion 17 can be released to the outside via the steam release mechanism 20.
その他にも、袋１０の表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を構成する積層体３０が、ＰＢＴを主成分とする第１基材４１を含むことにより、下記の効果を奏することができる。
まず、ＰＢＴは、印刷適性に優れる。このため、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴとも記す）の場合と同様に、ＰＢＴを含む第１基材４１上に印刷層４２を設けることができる。
また、ＰＢＴは、耐熱性に優れる。このため、袋１０にボイル処理やレトルト処理を施す際に第１基材４１が変形したり第１基材４１の強度が低下したりすることを抑制することができる。
また、ＰＢＴは、高い強度を有する。このため、袋１０を構成する積層体がナイロンを含む場合と同様に、積層体３０及び袋１０の突き刺し強度を高めることができる。積層体３０の突き刺し強度は、１３Ｎ以上であることが好ましく、１５Ｎ以上であることがより好ましく、１７Ｎ以上であることがさらに好ましい。突き刺し強度の測定方法については、後述する実施例１において説明する
また、ＰＢＴは、ナイロンに比べて水分を吸収しにくいという特性を有する。このため、ＰＢＴを含む第１基材４１を積層体３０の外面３０ｙに配置した場合であっても、第１基材４１が水分を吸収して積層体３０のラミネート強度が低下してしまうことを抑制することができる。
In addition, the laminated body 30 which comprises the surface film 14 and the back surface film 15 of the bag 10 contains the 1st base material 41 which has PBT as a main component, and there can exist the following effect.
First, PBT is excellent in printability. For this reason, the printing layer 42 can be provided on the 1st base material 41 containing PBT similarly to the case of polyethylene terephthalate (henceforth PET).
Moreover, PBT is excellent in heat resistance. For this reason, when performing the boil process and the retort process to the bag 10, it can suppress that the 1st base material 41 deform | transforms or the intensity | strength of the 1st base material 41 falls.
PBT has high strength. For this reason, the puncture strength of the laminated body 30 and the bag 10 can be increased similarly to the case where the laminated body constituting the bag 10 includes nylon. The puncture strength of the laminate 30 is preferably 13N or more, more preferably 15N or more, and further preferably 17N or more. A method for measuring the piercing strength will be described in Example 1 to be described later. Further, PBT has a characteristic that it is less likely to absorb moisture than nylon. For this reason, even if it is a case where the 1st substrate 41 containing PBT is arranged on the outer surface 30y of layered product 30, the first substrate 41 will absorb moisture and the laminate strength of layered product 30 will fall. Can be suppressed.
また、袋１０の表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を構成する積層体３０が、ＰＥＴを主成分とする第２基材５１を含むことにより、第２基材５１がＰＢＴからなる場合に比べて、積層体３０の耐熱性を高めることができる。これにより、例えば、袋１０を電子レンジで加熱して内容物の温度が高くなった時に表面フィルム１４及び裏面フィルム１５がダメージを受けて表面フィルム１４及び裏面フィルム１５の性能が低下することを抑制することができる。 Moreover, the laminated body 30 which comprises the surface film 14 and the back surface film 15 of the bag 10 contains the 2nd base material 51 which has PET as a main component, compared with the case where the 2nd base material 51 consists of PBT, The heat resistance of the laminate 30 can be increased. Thereby, for example, when the bag 10 is heated in a microwave oven and the temperature of the contents is increased, the surface film 14 and the back film 15 are prevented from being damaged and the performance of the surface film 14 and the back film 15 is reduced. can do.
また、本実施の形態によれば、袋１０の表面フィルム１４及び裏面フィルム１５を構成する積層体３０のシーラント層６１が、プロピレン・エチレンブロック共重合体を含む。このため、袋１０の耐衝撃性や耐突き刺し性を高めることができる。 Moreover, according to this Embodiment, the sealant layer 61 of the laminated body 30 which comprises the surface film 14 and the back film 15 of the bag 10 contains a propylene and ethylene block copolymer. For this reason, the impact resistance and puncture resistance of the bag 10 can be enhanced.
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 Note that various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, modified examples will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted. In addition, when it is clear that the operational effects obtained in the above-described embodiment can be obtained in the modified example, the description thereof may be omitted.
（層構成の変形例）
上述の本実施の形態においては、第１基材４１が５１質量％以上のＰＢＴを含み、第２基材５１が５１質量％以上のＰＥＴを含むことによって積層体３０の耐突き刺し性及び耐熱性を高める例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１基材４１が５１質量％以上のＰＥＴを含み、第２基材５１が５１質量％以上のＰＢＴを含むことによって積層体３０の耐突き刺し性及び耐熱性を高めてもよい。第２基材５１のＰＢＴとしては、上述の第１基材４１で説明した第１の構成に係るＰＢＴ又は第２の構成に係るＰＢＴを用いることができる。
(Modification of layer structure)
In the present embodiment described above, the first base material 41 includes 51% by mass or more of PBT, and the second base material 51 includes 51% by mass or more of PET, whereby the stab resistance and heat resistance of the stacked body 30. The example which raises is shown. However, the present invention is not limited to this, and the first substrate 41 includes 51% by mass or more of PET, and the second substrate 51 includes 51% by mass or more of PBT. You may increase the nature. As the PBT of the second base material 51, the PBT according to the first configuration described in the first base material 41 or the PBT according to the second configuration can be used.
第２基材５１が５１質量％以上のＰＢＴを含み、第１基材４１が５１質量％以上のＰＥＴを含むことは、積層体３０の寸法安定性、印刷適性の向上にも寄与する。 The fact that the second base material 51 contains 51% by mass or more of PBT and the first base material 41 contains 51% by mass or more of PET contributes to the improvement of the dimensional stability and printability of the laminate 30.
また、第１基材４１及び第２基材５１の両方が、５１質量％以上のＰＢＴを含んでいてもよい。この場合のＰＢＴとしても、上述の第１基材４１で説明した第１の構成に係るＰＢＴ又は第２の構成に係るＰＢＴを用いることができる。 Moreover, both the 1st base material 41 and the 2nd base material 51 may contain 51 mass% or more of PBT. Also as PBT in this case, PBT which concerns on the 1st structure demonstrated with the above-mentioned 1st base material 41, or PBT which concerns on a 2nd structure can be used.
第１基材４１及び第２基材５１を構成する材料の組み合わせの例をまとめて表１に示す。なお、表１において、「ＰＢＴ」という表記は、第１基材４１又は第２基材５１のフィルムを構成する樹脂中に５１質量％以上のＰＢＴが含まれることを意味する。また、表１において、「ＰＥＴ」という表記は、第１基材４１又は第２基材５１のフィルムを構成する樹脂中に５１質量％以上のＰＥＴが含まれることを意味する。
また、上述の本実施の形態においては、第１基材４１の内面３０ｘ側に印刷層４２が設けられる例を示したが、これに限られることはなく、第１基材４１の外面３０ｙ側に印刷層４２が設けられていてもよい。また、第１基材４１に印刷層４２が設けられていなくてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the example in which the printing layer 42 is provided on the inner surface 30x side of the first base material 41 is shown, but the present invention is not limited to this, and the outer surface 30y side of the first base material 41 is provided. The printing layer 42 may be provided on the surface. Further, the print layer 42 may not be provided on the first base material 41.
また、第１基材４１と第２基材５１との間の位置において、第１基材４１又は／及び第２基材５１に、透明性を有する無機材料からなる透明蒸着層３６が設けられていてもよい。透明蒸着層３６は、図７に示すように、第１基材４１の内面３０ｘ側の面に設けられていてもよく、図８に示すように、第２基材５１の外面３０ｙ側の面に設けられていてもよい。また、透明蒸着層３６の上に、透明性を有する透明ガスバリア性塗布膜３７が設けられていてもよい。 Moreover, the transparent vapor deposition layer 36 which consists of an inorganic material which has transparency in the position between the 1st base material 41 and the 2nd base material 51 is provided in the 1st base material 41 or / and the 2nd base material 51. It may be. The transparent vapor deposition layer 36 may be provided on the surface on the inner surface 30x side of the first base material 41 as shown in FIG. 7, and the surface on the outer surface 30y side of the second base material 51 as shown in FIG. May be provided. A transparent gas barrier coating film 37 having transparency may be provided on the transparent vapor deposition layer 36.
透明蒸着層３６は、酸素ガスおよび水蒸気などの透過を阻止するガスバリア性の機能を有する層として機能する。なお、透明蒸着層３６は二層以上設けられてもよい。透明蒸着層３６を二層以上有する場合、それぞれが、同一の組成であってもよいし、異なる組成であってもよい。透明蒸着層３６の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびイオンプレ−ティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、および光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を挙げることができる。具体的には、ローラー式蒸着膜成膜装置を用いて、成膜ローラー上において蒸着層を形成することができる。 The transparent vapor deposition layer 36 functions as a layer having a gas barrier function that prevents permeation of oxygen gas and water vapor. Two or more transparent vapor deposition layers 36 may be provided. When it has two or more transparent vapor deposition layers 36, each may have the same composition or different compositions. As a method for forming the transparent vapor deposition layer 36, for example, a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method, The chemical vapor deposition method (Chemical Vapor Deposition method, CVD method) etc., such as a thermal chemical vapor deposition method and a photochemical vapor deposition method, can be mentioned. Specifically, a vapor deposition layer can be formed on a film formation roller using a roller-type vapor deposition film forming apparatus.
透明蒸着層３６は、アルミニウム酸化物（酸化アルミニウム）、珪素酸化物などの、透明性を有する無機物で形成されている。透明蒸着層３６としては、酸化アルミニウムの非結晶性の薄膜を使用することが好ましい。具体的には、透明蒸着層３６は、式ＡｌＯＸ（式中、Ｘは、０．５〜１．５の範囲の数を表す。）で表される酸化アルミニウムの非結晶性の薄膜である。透明蒸着層３６は、膜表面から内面に向かう深さ方向に向かってＸの値が減少している酸化アルミニウムの非結晶性の薄膜を使用することができる。酸化アルミニウムの非結晶性の薄膜は、式ＡｌＯＸ（式中、Ｘは、０．５〜１．５の範囲の数を表す。）で表され、その薄膜表面から内面に向かう深さ方向に向かってＸの値が増加していることが好ましい。なお、上記の式中のＸの値としては、基本的には、Ｘ＝０．５以上のものを使用することができるが、Ｘ＝１．０未満になると、着色が激しく、かつ、透明性に劣ることから、Ｘ＝１．０以上のものを使用することが好ましい。また、Ｘ＝１．５のものは、Ａｌと酸素とが完全に酸化した状態のものであることから、上限としては、Ｘ＝１．５までのものを使用することができる。なお、上記の式中のＸの値が０の場合、完全な無機単体（純物質）であり、透明ではない。 The transparent vapor deposition layer 36 is formed of an inorganic material having transparency, such as aluminum oxide (aluminum oxide) and silicon oxide. As the transparent vapor deposition layer 36, it is preferable to use an amorphous thin film of aluminum oxide. Specifically, the transparent vapor deposition layer 36 is an amorphous thin film of aluminum oxide represented by the formula AlOX (wherein X represents a number in the range of 0.5 to 1.5). As the transparent vapor-deposited layer 36, an amorphous thin film of aluminum oxide in which the value of X decreases in the depth direction from the film surface toward the inner surface can be used. The amorphous thin film of aluminum oxide is represented by the formula AlOX (wherein X represents a number in the range of 0.5 to 1.5), and proceeds in the depth direction from the thin film surface toward the inner surface. It is preferable that the value of X increases. In addition, as a value of X in the above formula, a value of X = 0.5 or more can be basically used. However, when X is less than 1.0, coloring is intense and transparent. Since it is inferior in property, it is preferable to use the thing of X = 1.0 or more. Moreover, since the thing of X = 1.5 is a thing in which Al and oxygen were completely oxidized, the thing to X = 1.5 can be used as an upper limit. In addition, when the value of X in said formula is 0, it is a perfect inorganic simple substance (pure substance), and is not transparent.
なお、Ｘの値の減少割合は、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Xray Photoelectron Spectroscopy：ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Secondary Ion Mass Spectroscopy：ＳＩＭＳ）などの表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングするなどして分析する方法を利用して、透明蒸着層３６の元素分析を行うことより確認することができる。 Note that the rate of decrease in the value of X is determined by using a surface analyzer such as an X-ray photoelectron spectrometer (XPS) or a secondary ion mass spectrometer (SIMS) in the depth direction. This can be confirmed by performing an elemental analysis of the transparent vapor deposition layer 36 using a method of analyzing by ion etching or the like.
透明蒸着層３６は、アルミニウム原子と炭素原子の共有結合を含む無機化合物の混合物からなる層であってもよい。この場合において、透明蒸着層３６は、Ｘ線光電子分光装置（測定条件：Ｘ線源ＡｌＫα、Ｘ線出力１２０Ｗ）を用い、深さ方向にイオンエッチングにより測定したピークにアルミニウム原子と炭素原子の共有結合の存在を示し、また、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等の透過を妨げるガスバリア性を有してもよい。 The transparent vapor deposition layer 36 may be a layer made of a mixture of inorganic compounds containing a covalent bond between an aluminum atom and a carbon atom. In this case, the transparent vapor deposition layer 36 uses an X-ray photoelectron spectrometer (measuring conditions: X-ray source AlKα, X-ray output 120 W) and shares aluminum atoms and carbon atoms at the peak measured by ion etching in the depth direction. It may have a gas barrier property that indicates the presence of a bond and has transparency and prevents permeation of oxygen, water vapor, and the like.
透明蒸着層３６と第１基材４１又は第２基材５１との界面には、金属原子と炭素原子の共有結合が形成されていてもよい。例えば、透明蒸着層３６が酸化アルミニウムを含む場合、第１基材４１又は第２基材５１と透明蒸着層３６との界面には、アルミニウム原子と炭素原子の共有結合が形成されているものとすることができる。共有結合は、Ｘ線光電子分光法による測定（以下、略して「ＸＰＳ測定」という）によって検出され得る。 A covalent bond between a metal atom and a carbon atom may be formed at the interface between the transparent vapor deposition layer 36 and the first base material 41 or the second base material 51. For example, when the transparent vapor deposition layer 36 contains aluminum oxide, a covalent bond between an aluminum atom and a carbon atom is formed at the interface between the first base material 41 or the second base material 51 and the transparent vapor deposition layer 36. can do. The covalent bond can be detected by measurement by X-ray photoelectron spectroscopy (hereinafter referred to as “XPS measurement” for short).
また、透明蒸着層３６においては、アルミニウム原子と炭素原子の共有結合の存在比率が、ＸＰＳ測定により透明蒸着層３６と第１基材４１又は第２基材５１との界面を測定した場合に観察される炭素原子を含む全結合のうちの０.３％以上且つ３０％以下の範囲内であることが好ましい。これにより、透明蒸着層３６と第１基材４１又は第２基材５１との密着性が強化され、透明性も優れ、ガスバリア性の蒸着フィルムとしてバランスのよい性能のものが得られる。 Further, in the transparent vapor deposition layer 36, the existence ratio of the covalent bond between the aluminum atom and the carbon atom is observed when the interface between the transparent vapor deposition layer 36 and the first base material 41 or the second base material 51 is measured by XPS measurement. It is preferable that it is within the range of 0.3% or more and 30% or less of all the bonds containing carbon atoms. Thereby, the adhesiveness of the transparent vapor deposition layer 36 and the 1st base material 41 or the 2nd base material 51 is strengthened, transparency is excellent, and the thing of the performance with the balance as a gas barrier property vapor deposition film is obtained.
アルミニウム原子と炭素原子の共有結合の存在比率が０.３％未満であると、透明蒸着層３６の密着性の改善が不十分であり、バリア性を安定して維持することが困難になる。 If the abundance ratio of the covalent bond between the aluminum atom and the carbon atom is less than 0.3%, the adhesion of the transparent vapor-deposited layer 36 is not sufficiently improved, and it is difficult to stably maintain the barrier property.
さらに、酸化アルミニウムを主成分とする透明蒸着層３６の、ＡＬ（アルミニウム）／Ｏ（酸素）比が、第１基材４１又は第２基材５１と透明蒸着層３６との界面から、第１基材４１又は第２基材５１とは反対側の透明蒸着層３６の表面に向かって３ｎｍまでの範囲内において、１.０以下であることが好ましい。
透明蒸着層３６と第１基材４１又は第２基材５１との界面から、第１基材４１又は第２基材５１とは反対側の透明蒸着層３６の表面に向かう範囲内において、ＡＬ／Ｏの比が１.０を超えると、第１基材４１又は第２基材５１と透明蒸着層３６との間の密着性が不十分となり、かつアルミニウムの割合が高まり、透明蒸着層３６の透明性が低下する。
Further, the AL (aluminum) / O (oxygen) ratio of the transparent vapor-deposited layer 36 mainly composed of aluminum oxide is such that the first substrate 41 or the second substrate 51 and the transparent vapor-deposited layer 36 are In the range up to 3 nm toward the surface of the transparent vapor deposition layer 36 on the side opposite to the base 41 or the second base 51, it is preferably 1.0 or less.
In the range from the interface between the transparent vapor deposition layer 36 and the first base material 41 or the second base material 51 toward the surface of the transparent vapor deposition layer 36 on the side opposite to the first base material 41 or the second base material 51, AL When the ratio of / O exceeds 1.0, the adhesion between the first base material 41 or the second base material 51 and the transparent vapor deposition layer 36 becomes insufficient, and the ratio of aluminum increases, so that the transparent vapor deposition layer 36 The transparency of the is reduced.
透明蒸着層３６の厚みは、例えば３０Å以上且つ１５０Åである。３０Å未満であると、透明ガスバリア性塗布膜３７を併用した場合であってもガスバリア性が不十分となる場合がある。一方、１５０Åを超えると、積層体３０のガスバリア性能を維持できない場合がある。この理由は定かではないが、透明蒸着層３６の厚みが１５０Åを超えると積層体３０の屈曲性が低下し、積層体３０を袋１０に使用した場合に透明蒸着層３６の一部に亀裂ないしピンホールが発生してガスバリア性が低下するものと考えられる。透明蒸着層３６の厚みは、好ましくは、４０Å以上且つ１３０Å以下、より好ましくは、５０Å以上且つ１２０Å以下である。なお、透明蒸着層３６の厚みは、例えば、蛍光Ｘ線分析装置（商品名：ＲＩＸ２０００型、株式会社理学製）を用いて、ファンダメンタルパラメーター法で測定することができる。また、透明蒸着層３６の厚みを変更する手段としては、透明蒸着層３６の堆積速度を変更する方法、蒸着する速度を変更する方法などによって行うことができる。 The thickness of the transparent vapor deposition layer 36 is, for example, 30 mm or more and 150 mm. If it is less than 30 mm, the gas barrier property may be insufficient even when the transparent gas barrier coating film 37 is used in combination. On the other hand, if it exceeds 150 mm, the gas barrier performance of the laminate 30 may not be maintained. The reason for this is not clear, but if the thickness of the transparent vapor deposition layer 36 exceeds 150 mm, the flexibility of the laminate 30 is reduced, and when the laminate 30 is used in the bag 10, a part of the transparent vapor deposition layer 36 is not cracked. It is considered that pinholes are generated and gas barrier properties are lowered. The thickness of the transparent vapor deposition layer 36 is preferably 40 mm or more and 130 mm or less, more preferably 50 mm or more and 120 mm or less. The thickness of the transparent vapor-deposited layer 36 can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (trade name: RIX2000 type, manufactured by Rigaku Corporation). Moreover, as a means to change the thickness of the transparent vapor deposition layer 36, it can carry out by the method of changing the deposition rate of the transparent vapor deposition layer 36, the method of changing the vapor deposition rate, etc.
第１基材４１又は第２基材５１に透明蒸着層３６を形成する場合、第１基材４１又は第２基材５１の面に予めコロナ放電処理、フレーム処理、プラズマ処理などの前処理を施しておいてもよい。特に、透明蒸着層３６と第１基材４１又は第２基材５１との界面に、金属原子と炭素原子の共有結合を形成する場合には、透明蒸着層３６を形成しようとする第１基材４１又は第２基材５１の面に対し前処理を施すことが好ましい。前処理がプラズマ処理である場合、前処理装置により、０．１Ｐａ以上１００Ｐａ以下の減圧環境下において、第１基材４１又は第２基材５１の面に対してプラズマを供給する。プラズマは、アルゴン等の不活性ガス単独又は酸素、窒素、炭酸ガス及びそれらの１種以上のガスとの混合ガスをプラズマ原料ガスとして用い、高周波電圧等による電位差によって、プラズマ原料ガスを励起状態にすることにより、発生させることができる。 When forming the transparent vapor deposition layer 36 on the 1st base material 41 or the 2nd base material 51, pre-processes, such as a corona discharge process, a flame process, a plasma process, are previously carried out on the surface of the 1st base material 41 or the 2nd base material 51. You may give it. In particular, when a covalent bond between a metal atom and a carbon atom is formed at the interface between the transparent vapor deposition layer 36 and the first base material 41 or the second base material 51, the first group on which the transparent vapor deposition layer 36 is to be formed. Pretreatment is preferably performed on the surface of the material 41 or the second base material 51. When the pretreatment is plasma treatment, plasma is supplied to the surface of the first base material 41 or the second base material 51 by a pretreatment device in a reduced pressure environment of 0.1 Pa or more and 100 Pa or less. Plasma uses an inert gas such as argon alone or a mixed gas of oxygen, nitrogen, carbon dioxide and one or more of them as a plasma source gas, and the plasma source gas is excited by a potential difference due to a high-frequency voltage or the like. By doing so, it can be generated.
前処理により、第１基材４１又は第２基材５１の表面近傍にプラズマを閉じ込めることができる。これにより、第１基材４１又は第２基材５１の表面の形状や、化学的な結合状態や官能基を変化させ、第１基材４１又は第２基材５１の表面の化学的性状を変化させることができる。このことにより、第１基材４１又は第２基材５１と透明蒸着層３６との密着性を向上させることが可能となる。 By the pretreatment, the plasma can be confined in the vicinity of the surface of the first base material 41 or the second base material 51. Thereby, the shape of the surface of the 1st substrate 41 or the 2nd substrate 51, a chemical bond state, and a functional group are changed, and the chemical property of the surface of the 1st substrate 41 or the 2nd substrate 51 is changed. Can be changed. This makes it possible to improve the adhesion between the first base material 41 or the second base material 51 and the transparent vapor deposition layer 36.
透明ガスバリア性塗布膜３７は、酸素ガスおよび水蒸気などの透過を抑制する層として機能する層である。透明ガスバリア性塗布膜３７は、一般式Ｒ１ ｎＭ（ＯＲ２）ｍ（ただし、式中、Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも一種以上のアルコキシドと、上記のようなポリビニルアルコ−ル系樹脂および／またはエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、さらに、ゾルゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾルゲル法によって重縮合する透明ガスバリア性組成物により得られる。 The transparent gas barrier coating film 37 is a layer that functions as a layer that suppresses permeation of oxygen gas, water vapor, and the like. The transparent gas barrier coating film 37 has a general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, and M represents a metal atom). , N represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M), and a polyvinyl alcohol as described above A transparent gas barrier composition containing a benzene-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and further polycondensed by a sol-gel method in the presence of a sol-gel method catalyst, acid, water, and an organic solvent. can get.
上記の一般式Ｒ１ ｎＭ（ＯＲ２）ｍで表されるアルコキシドとしては、アルコキシドの部分加水分解物、アルコキシドの加水分解の縮合物の少なくとも一種以上を使用することができる。また、上記のアルコキシドの部分加水分解物としては、アルコキシ基のすべてが加水分解されている必要はなく、１個以上が加水分解されているもの、および、その混合物であってもよい。アルコキシドの加水分解の縮合物としては、部分加水分解アルコキシドの２量体以上のもの、具体的には、２〜６量体のものを使用される。 As the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , at least one kind of a partial hydrolyzate of alkoxide and a condensate of hydrolysis of alkoxide can be used. Moreover, as a partial hydrolyzate of said alkoxide, all the alkoxy groups do not need to be hydrolyzed, The thing by which 1 or more was hydrolyzed, and its mixture may be sufficient. As a condensate of hydrolysis of alkoxide, a dimer or more of partially hydrolyzed alkoxide, specifically, a 2 to 6 mer is used.
上記の一般式Ｒ１ ｎＭ（ＯＲ２）ｍで表されるアルコキシドにおいて、Ｍで表される金属原子としては、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、その他などを使用することができる。好ましい金属としては、例えば、ケイ素、チタンなどを挙げることができる。また、本発明において、アルコキシドの用い方としては、単独または二種以上の異なる金属原子のアルコキシドを同一溶液中に混合して使うこともできる。 In the alkoxide represented by the above general formula R 1 n M (OR 2 ) m , as the metal atom represented by M, silicon, zirconium, titanium, aluminum, and the like can be used. Examples of preferable metals include silicon and titanium. In the present invention, alkoxides may be used alone or in combination of two or more different metal atom alkoxides in the same solution.
また、上記の一般式Ｒ１ ｎＭ（ＯＲ２）ｍで表されるアルコキシドにおいて、Ｒ１で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、その他などのアルキル基を挙げることができる。また、上記の一般式Ｒ１ ｎＭ（ＯＲ２）ｍで表されるアルコキシドにおいて、Ｒ２で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、その他などを挙げることができる。なお、同一分子中にこれらのアルキル基は同一であっても、異なってもよい。 In the alkoxide represented by the above general formula R 1 n M (OR 2 ) m , specific examples of the organic group represented by R 1 include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, i Examples thereof include alkyl groups such as -propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, n-octyl group and others. In the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , specific examples of the organic group represented by R 2 include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, i -Propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, and the like. These alkyl groups in the same molecule may be the same or different.
上記の透明ガスバリア性組成物を調製する際、例えば、シランカップリング剤などを添加してもよい。上記のシランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができる。特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好適に用いられ、具体的には、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、または、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどを使用することができる。上記のようなシランカップリング剤は、一種または二種以上を混合して用いてもよい。 When preparing said transparent gas barrier composition, you may add a silane coupling agent etc., for example. As said silane coupling agent, known organic reactive group containing organoalkoxysilane can be used. In particular, an organoalkoxysilane having an epoxy group is preferably used. Specifically, for example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, or β- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like can be used. The above silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
（袋の変形例）
上述の本実施の形態においては、袋１０がガセット式の袋である例を示したが、袋１０の具体的な構成が特に限定されることはない。例えば、袋１０は、１枚の積層体が筒状になるように背貼りシール部を形成することによって作製される、いわゆるピロー袋であってもよい。また、袋１０は、四方シール袋や三方シール袋であってもよい。
(Bag variant)
In the above-described embodiment, an example in which the bag 10 is a gusset type bag has been shown, but the specific configuration of the bag 10 is not particularly limited. For example, the bag 10 may be a so-called pillow bag produced by forming a back-sealed seal portion so that a single laminate is formed into a cylindrical shape. The bag 10 may be a four-side sealed bag or a three-side sealed bag.
また、上述の本実施の形態においては、蒸気抜き機構２０が、側部シール部１３ａから袋１０の内側に向かって突出した形状を有する蒸気抜きシール部２０ａによって構成される例を示した。しかしながら、収容部１７の蒸気を適切に外部に排出することができる限りにおいて、蒸気抜き機構２０の具体的な構成は特には限られない。例えば、袋１０がピロー袋である場合、蒸気抜き機構２０が、上述の特許文献１の場合と同様に、背貼りシール部の一部によって構成されていてもよい。 Further, in the above-described embodiment, an example in which the steam release mechanism 20 is configured by the steam release seal portion 20a having a shape protruding from the side seal portion 13a toward the inside of the bag 10 has been described. However, the specific configuration of the steam release mechanism 20 is not particularly limited as long as the steam in the housing portion 17 can be appropriately discharged to the outside. For example, when the bag 10 is a pillow bag, the steam release mechanism 20 may be configured by a part of the back-sealed seal portion as in the case of Patent Document 1 described above.
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to description of a following example, unless the summary is exceeded.
（実施例１）
上述の第１の構成で説明した、複数の層４１ａを含み、キャスト法で作製されたフィルム状の第１基材４１を準備した。各層４１ａにおけるＰＢＴの含有率は８０％であり、層４１ａの層数は１０２４であり、第１基材４１の厚みは１５μｍであった。続いて、フィルム状の第１基材４１上に、ＤＩＣグラフィックス株式会社製のフィナートを用いて印刷層４２を形成した。
Example 1
A film-like first base material 41 including a plurality of layers 41a described in the first configuration and manufactured by a casting method was prepared. The content of PBT in each layer 41a was 80%, the number of layers 41a was 1024, and the thickness of the first base material 41 was 15 μm. Subsequently, the print layer 42 was formed on the film-like first base material 41 using a finart manufactured by DIC Graphics Corporation.
また、第２基材５１を含むフィルム状の第２フィルム５０を準備した。第２基材５１としては、１００質量％のＰＥＴを含むものを用いた。第２基材５１の厚みは１２μｍであった。 Moreover, the film-like 2nd film 50 containing the 2nd base material 51 was prepared. As the 2nd base material 51, what contains 100 mass% PET was used. The thickness of the second substrate 51 was 12 μm.
また、シーラント層６１を含むフィルム状の第３フィルム６０を準備した。シーラント層６１としては、東レフィルム加工株式会社製の未延伸ポリプロピレンフィルム ＺＫ２０７を用いた。シーラント層６１の厚みは６０μｍであった。 A film-like third film 60 including the sealant layer 61 was prepared. As the sealant layer 61, an unstretched polypropylene film ZK207 manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd. was used. The thickness of the sealant layer 61 was 60 μm.
次に、第１接着剤層４５を介して第１フィルム４０と第２フィルム５０とをドライラミネート法により積層した。第１接着剤層４５としては、ロックペイント株式会社製の２液型ポリウレタン系接着剤（主剤：ＲＵ−４０、硬化剤：Ｈ−４）を用いた。ＲＵ−４０は、ポリエステルポリオールを含む。Ｈ−４は、脂肪族系イソシアネート化合物を含む。第１接着剤層４５の厚みは、３μｍであった。 Next, the first film 40 and the second film 50 were laminated by the dry laminating method through the first adhesive layer 45. As the first adhesive layer 45, a two-component polyurethane adhesive (main agent: RU-40, curing agent: H-4) manufactured by Rock Paint Co., Ltd. was used. RU-40 contains a polyester polyol. H-4 contains an aliphatic isocyanate compound. The thickness of the first adhesive layer 45 was 3 μm.
次に、第１フィルム４０及び第２フィルム５０の積層体と、第３フィルム６０とをドライラミネート法により積層し、積層体３０を得た。第２接着剤層５５としては、第１接着剤層４５と同様に、ロックペイント株式会社製の２液型ポリウレタン系接着剤（主剤：ＲＵ−４０、硬化剤：Ｈ−４）を用いた。第２接着剤層５５の厚みは、３μｍであった。 Next, the laminated body of the 1st film 40 and the 2nd film 50, and the 3rd film 60 were laminated | stacked by the dry lamination method, and the laminated body 30 was obtained. As the second adhesive layer 55, similarly to the first adhesive layer 45, a two-component polyurethane adhesive (main agent: RU-40, curing agent: H-4) manufactured by Rock Paint Co., Ltd. was used. The thickness of the second adhesive layer 55 was 3 μm.
続いて、積層体３０の突き刺し強度を、ＪＩＳ Ｚ１７０７ ７．４に準拠して測定した。測定器としては、Ａ＆Ｄ製のテンシロン万能材料試験機ＲＴＣ−１３１０を用いた。具体的には、図５に示すように、固定されている状態の積層体３０の試験片に対して、外面３０ｙ側から、直径１．０ｍｍ、先端形状半径０．５ｍｍの半円形の針７０を、５０ｍｍ／分（１分あたり５０ｍｍ）の速度で突き刺し、針７０が積層体３０を貫通するまでの応力の最大値を測定した。５個以上の試験片について、応力の最大値を測定し、その平均値を積層体３０の突き刺し強度とした。測定時の環境は、温度２３℃、相対湿度５０％とした。結果、突き刺し強度は１７Ｎであった。 Subsequently, the piercing strength of the laminate 30 was measured in accordance with JIS Z1707 7.4. As a measuring device, Tensilon universal material testing machine RTC-1310 manufactured by A & D was used. Specifically, as shown in FIG. 5, a semicircular needle 70 having a diameter of 1.0 mm and a tip shape radius of 0.5 mm from the outer surface 30y side with respect to the test piece of the laminated body 30 in a fixed state. Was stabbed at a speed of 50 mm / min (50 mm per minute), and the maximum value of the stress until the needle 70 penetrated the laminate 30 was measured. About five or more test pieces, the maximum value of stress was measured, and the average value was defined as the piercing strength of the laminate 30. The environment during the measurement was a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. As a result, the piercing strength was 17N.
続いて、積層体３０を用いて、袋１０を作製し、袋１０の蒸通性を評価した。具体的には、まず、積層体３０を用いて図１に示す袋１０を作製した。袋１０の長さＳ１は１４５ｍｍ、長さＳ２は１４０ｍｍとした。その後、水１００ｇを袋１０の内部に充填し、上部１１をヒートシールして上部シール部を形成した。続いて、出力が１６００Ｗの電子レンジを用いて１分間にわたって内容物を加熱し、積層体３０に穴が開くか否か、及び、蒸気抜き機構２０の蒸気抜きシール部２０ａが適切に剥離するか否かを確認した。結果、積層体３０に穴は形成されなかった。また、蒸気抜きシール部２０ａが剥離し、収容部１７内の蒸気を外部に逃がすことができた。すなわち、耐熱性及び蒸通性のいずれの評価結果も良好（good）であった。 Then, the bag 10 was produced using the laminated body 30, and the vapor permeability of the bag 10 was evaluated. Specifically, first, the bag 10 shown in FIG. The length S1 of the bag 10 was 145 mm, and the length S2 was 140 mm. Thereafter, 100 g of water was filled into the bag 10 and the upper part 11 was heat-sealed to form an upper seal part. Subsequently, the contents are heated for 1 minute using a microwave oven with an output of 1600 W, whether or not a hole is opened in the laminated body 30, and whether or not the steam vent seal portion 20a of the steam vent mechanism 20 is appropriately peeled off. I confirmed it. As a result, no hole was formed in the laminate 30. Moreover, the steam release seal part 20a peeled off, and the steam in the storage part 17 was able to escape to the outside. That is, the evaluation results of both heat resistance and steamability were good.
（実施例２）
第１フィルム４０の第１基材４１として、上述の第２の構成で説明した、１００質量％のＰＢＴを含み、ＰＢＴの融点が２２４℃、ＩＶ値が１．２６ｄｌ／ｇであり、チューブラー法で作製された単層フィルムを用いたこと以外は、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を作製した。第１基材４１はＰＢＴ及び添加剤のみで構成される単層のフィルムであり、第１基材４１の厚みは１５μｍであった。
(Example 2)
As the first base material 41 of the first film 40, the PBT containing 100% by mass described in the second configuration is included, the melting point of the PBT is 224 ° C., the IV value is 1.26 dl / g, and the tubular A laminate 30 was produced in the same manner as in Example 1 except that the single-layer film produced by the method was used. The first substrate 41 was a single layer film composed only of PBT and additives, and the thickness of the first substrate 41 was 15 μm.
続いて、実施例１の場合と同様にして、積層体３０の突き刺し強度を測定した。結果、突き刺し強度は１７Ｎであった。また、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を用いて作製した袋１０の耐熱性及び蒸通性を評価した。結果、耐熱性及び蒸通性のいずれの評価結果も良好（good）であった。 Subsequently, the puncture strength of the laminate 30 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the piercing strength was 17N. Further, in the same manner as in Example 1, the heat resistance and vapor permeability of the bag 10 produced using the laminate 30 were evaluated. As a result, both evaluation results of heat resistance and steamability were good.
（実施例３）
実施例１の第１基材４１を構成するＰＢＴを第２基材５１として用い、実施例１の第２基材５１を構成するＰＥＴを第１基材４１として用いたこと以外は、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を作製した。
(Example 3)
Example 1 except that PBT constituting the first base material 41 of Example 1 was used as the second base material 51 and PET constituting the second base material 51 of Example 1 was used as the first base material 41 The laminated body 30 was produced like the case of 1. FIG.
続いて、実施例１の場合と同様にして、積層体３０の突き刺し強度を測定した。結果、突き刺し強度は１７Ｎであった。また、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を用いて作製した袋１０の耐熱性及び蒸通性を評価した。結果、耐熱性及び蒸通性のいずれの評価結果も良好（good）であった。 Subsequently, the puncture strength of the laminate 30 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the piercing strength was 17N. Further, in the same manner as in Example 1, the heat resistance and vapor permeability of the bag 10 produced using the laminate 30 were evaluated. As a result, both evaluation results of heat resistance and steamability were good.
（実施例４）
実施例２の第１基材４１を構成するＰＢＴを第２基材５１として用い、実施例２の第２基材５１を構成するＰＥＴを第１基材４１として用いたこと以外は、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を作製した。
Example 4
Example except that PBT constituting the first base material 41 of Example 2 was used as the second base material 51 and PET constituting the second base material 51 of Example 2 was used as the first base material 41 The laminated body 30 was produced like the case of 1. FIG.
続いて、実施例１の場合と同様にして、積層体３０の突き刺し強度を測定した。結果、突き刺し強度は１７Ｎであった。また、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を用いて作製した袋１０の耐熱性及び蒸通性を評価した。結果、耐熱性及び蒸通性のいずれの評価結果も良好（good）であった。 Subsequently, the puncture strength of the laminate 30 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the piercing strength was 17N. Further, in the same manner as in Example 1, the heat resistance and vapor permeability of the bag 10 produced using the laminate 30 were evaluated. As a result, both evaluation results of heat resistance and steamability were good.
（比較例１）
第１フィルム４０の第１基材４１として、１００質量％のＰＥＴを含む基材を用いたこと以外は、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を作製した。第１基材４１の厚みは１２μｍであった。
(Comparative Example 1)
The laminated body 30 was produced like the case of Example 1 except having used the base material containing 100 mass% PET as the 1st base material 41 of the 1st film 40. FIG. The thickness of the first base material 41 was 12 μm.
続いて、実施例１の場合と同様にして、積層体３０の突き刺し強度を測定した。結果、突き刺し強度は１２Ｎであった。また、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を用いて作製した袋１０の耐熱性及び蒸通性を評価した。結果、耐熱性及び蒸通性のいずれの評価結果も良好（good）であった。 Subsequently, the puncture strength of the laminate 30 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the piercing strength was 12N. Further, in the same manner as in Example 1, the heat resistance and vapor permeability of the bag 10 produced using the laminate 30 were evaluated. As a result, both evaluation results of heat resistance and steamability were good.
（比較例２）
第２フィルム５０の第２基材５１として、厚み１５μｍのナイロンフィルム（興人ホールディングス株式会社製 ボニールＷ）を用いたこと以外は、比較例１の場合と同様にして、積層体３０を作製した。
(Comparative Example 2)
The laminated body 30 was produced like the case of the comparative example 1 except having used the 15-micrometer-thick nylon film (Konjin Holdings Co., Ltd. Bonile W) as the 2nd base material 51 of the 2nd film 50. .
続いて、実施例１の場合と同様にして、積層体３０の突き刺し強度を測定した。結果、突き刺し強度は１７Ｎであった。また、実施例１の場合と同様にして、積層体３０を用いて作製した袋１０の耐熱性及び蒸通性を評価した。結果、積層体３０に穴が形成された。また、蒸気抜き機構の蒸気抜きシール部を剥離させることができなかった。すなわち、耐熱性及び蒸通性のいずれの評価結果も不良（bad）であった。 Subsequently, the puncture strength of the laminate 30 was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the piercing strength was 17N. Further, in the same manner as in Example 1, the heat resistance and vapor permeability of the bag 10 produced using the laminate 30 were evaluated. As a result, holes were formed in the laminate 30. Moreover, the steam vent seal part of the steam vent mechanism could not be peeled off. That is, both evaluation results of heat resistance and steamability were bad.
実施例１〜４及び比較例１，２の積層体の層構成及び評価結果を、図６にまとめて示す。図６において、「層構成」の欄には、接着剤層を除く積層体の構成要素を、外面側の層から順に上から記載している。実施例１〜４と比較例１の比較から分かるように、第１基材４１又は第２基材５１がＰＢＴを含むことにより、第１基材４１及び第２基材５１の両方がＰＥＴを含む場合に比べて、高い突き刺し強度を実現することができた。また、実施例１〜４と比較例２の比較から分かるように、第２基材５１としてナイロン以外の材料、具体的にはＰＢＴ又はＰＥＴを用いることにより、第２基材５１がナイロンを含む場合に比べて、良好な耐熱性及び蒸通性を実現することができた。 The layer structure and evaluation result of the laminated body of Examples 1-4 and Comparative Examples 1 and 2 are collectively shown in FIG. In FIG. 6, in the “layer configuration” column, the components of the laminate excluding the adhesive layer are described from the top in order from the outer surface side layer. As can be seen from the comparison between Examples 1 to 4 and Comparative Example 1, when the first base material 41 or the second base material 51 contains PBT, both the first base material 41 and the second base material 51 are made of PET. Compared to the case of inclusion, a high piercing strength could be realized. Moreover, as can be seen from the comparison between Examples 1 to 4 and Comparative Example 2, the second substrate 51 contains nylon by using a material other than nylon, specifically PBT or PET, as the second substrate 51. Compared to the case, it was possible to achieve better heat resistance and steamability.
１０ 袋
１１ 上部
１１ａ 上部シール部
１２ 下部
１２ａ 下部シール部
１３ 側部
１３ａ 側部シール部
１４ 表面フィルム
１５ 裏面フィルム
１６ 下部フィルム
１７ 収容部
１８ 内容物
２０ 蒸気抜き機構
２０ａ 蒸気抜きシール部
２０ｂ 非シール部
３０ 積層体
４０ 第１フィルム
４１ 第１基材
４１ａ 層
４２ 印刷層
４５ 第１接着剤層
５０ 第２フィルム
５１ 第２基材
５５ 第２接着剤層
６０ 第３フィルム
６１ シーラント層
７０ 針
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Bag 11 Upper part 11a Upper seal part 12 Lower part 12a Lower seal part 13 Side part 13a Side part seal part 14 Surface film 15 Back surface film 16 Lower film 17 Storage part 18 Contents 20 Steam release mechanism 20a Steam release seal part 20b Non-seal part 30 Laminate 40 First film 41 First substrate 41a Layer 42 Print layer 45 First adhesive layer 50 Second film 51 Second substrate 55 Second adhesive layer 60 Third film 61 Sealant layer 70 Needle
Claims (10)
前記袋を構成する積層体は、第１基材、第２基材及びシーラント層をこの順で少なくとも含み、
前記第１基材と前記第２基材のうち、一方がポリエチレンテレフタレートを含み、他方が、５１質量％以上のポリブチレンテレフタレートを含み、
前記第１基材及び前記第２基材のうちポリブチレテレフタレートを含む方の基材は、１０層以上を含む多層構造部を有する、又は、単層構造からなり、且つ、ポリブチレテレフタレートのＩＶ値が１．１０ｄｌ／ｇ以上且つ１．３５ｄｌ／ｇ以下である、袋。 A bag having a steam release mechanism,
The laminate constituting the bag includes at least a first base material, a second base material, and a sealant layer in this order,
Of the first base material and the second base material, one includes polyethylene terephthalate, and the other includes 51% by mass or more of polybutylene terephthalate,
Of the first base material and the second base material, the base material containing polybutylene terephthalate has a multilayer structure part including 10 layers or more, or has a single-layer structure, and is polybutylene terephthalate. The IV value of the bag is 1.10 dl / g or more and 1.35 dl / g or less.
前記第１基材又は前記第２基材と前記透明蒸着層との界面に、アルミニウム原子と炭素原子の共有結合が形成されている、請求項３に記載の袋。 The transparent vapor deposition layer includes aluminum oxide,
The bag according to claim 3, wherein a covalent bond of an aluminum atom and a carbon atom is formed at an interface between the first base material or the second base material and the transparent vapor deposition layer.
前記第２基材が、ポリブチレンテレフタレートを含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の袋。 The first substrate comprises polyethylene terephthalate;
The bag according to any one of claims 1 to 5, wherein the second base material contains polybutylene terephthalate.
前記第２基材が、ポリエチレンテレフタレートを含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の袋。 The first substrate comprises polybutylene terephthalate;
The bag according to any one of claims 1 to 5, wherein the second base material includes polyethylene terephthalate.
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