JP2018162949A - Vapor chamber, vapor chamber mounting substrate, and metal sheet for vapor chamber - Google Patents

Vapor chamber, vapor chamber mounting substrate, and metal sheet for vapor chamber Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor chamber which enables improvement of heat transport efficiency.SOLUTION: A vapor chamber 1 of the invention includes a chamber body 5 and a heat conduction part 6. The chamber body 5 has a sealing space 3, and an attachment surface 10c attached to a surface 102a of a cooled device 102 which is opposite to a surface 102b mounted on a substrate 101. The chamber body 5 receives heat of the cooled device 102. The heat conduction part 6 conducts the heat of the chamber body 5 to the substrate 101.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、作動液が密封された密封空間を有するベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ搭載基板およびベーパーチャンバ用金属シートに関する。   The present invention relates to a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed, a vapor chamber mounting substrate, and a metal sheet for a vapor chamber.

携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイスの冷却のために、ベーパーチャンバ(ヒートパイプとも言う)が使用されている(例えば、特許文献1参照)。ベーパーチャンバ内には、作動液が封入されており、この作動液がデバイスの熱を吸収して外部に放出することで、デバイスの冷却を行っている。   A vapor chamber (also referred to as a heat pipe) is used for cooling devices that generate heat, such as a central processing unit (CPU) used in mobile terminals such as mobile terminals and tablet terminals (for example, Patent Documents). 1). A working fluid is sealed in the vapor chamber, and the working fluid absorbs the heat of the device and releases it to the outside, thereby cooling the device.

より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動液は、デバイスに近接した部分(蒸発部)でデバイスから熱を受けて蒸発して蒸気になり、その後蒸気が、蒸発部から離れた位置に移動して冷却され、凝縮して液状になる。液状になった作動液は、ベーパーチャンバ内の流路を通過して蒸発部に輸送され、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流することによりデバイスの熱を移動させ、熱輸送効率を高めている。   More specifically, the working fluid in the vapor chamber receives heat from the device at a portion close to the device (evaporation unit) and evaporates into vapor, and then the vapor moves to a position away from the evaporation unit. Cooled and condensed into a liquid state. The liquid working fluid that has become liquid passes through the flow path in the vapor chamber and is transported to the evaporating unit, where it again receives heat and evaporates. In this way, the working fluid recirculates in the vapor chamber while repeating phase change, that is, evaporation and condensation, thereby moving the heat of the device and improving the heat transport efficiency.

特開2007−315745号公報JP 2007-315745 A

ところで、ベーパーチャンバにおいては、デバイスが取り付けられる面とは反対側の面に、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材が取り付けられる。そして、ベーパーチャンバを構成する金属シートが受け取る熱は、このハウジング部材を介して外気に放出される。このため、金属シートの冷却が制限されてしまい、ベーパーチャンバの熱輸送効率の向上が困難になっている。   By the way, in the vapor chamber, a housing member constituting a part of a housing such as a mobile terminal is attached to a surface opposite to a surface to which a device is attached. And the heat which the metal sheet which comprises a vapor chamber receives is discharge | released to external air through this housing member. For this reason, the cooling of the metal sheet is limited, and it is difficult to improve the heat transport efficiency of the vapor chamber.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、熱輸送効率を向上させることができるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ搭載基板およびベーパーチャンバ用金属シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object thereof is to provide a vapor chamber, a vapor chamber mounting substrate, and a metal sheet for a vapor chamber that can improve heat transport efficiency.

本発明は、
基板に実装された被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、
作動液が封入された密封空間と、前記被冷却装置の前記基板に実装される面とは反対側の面に取り付けられる取付面と、を有し、前記被冷却装置の熱を受けるチャンバ本体と、
前記チャンバ本体の熱を前記基板に伝導させる熱伝導部と、を備えた、ベーパーチャンバ、
を提供する。
The present invention
A vapor chamber for cooling a device to be cooled mounted on a substrate,
A chamber body having a sealed space in which a working fluid is sealed, and a mounting surface attached to a surface opposite to a surface mounted on the substrate of the cooled device, and receiving heat of the cooled device; ,
A vapor chamber comprising: a heat conduction part for conducting heat of the chamber body to the substrate;
I will provide a.

なお、上述したベーパーチャンバにおいて、前記熱伝導部は、前記チャンバ本体とは別体に形成されている、ようにしてもよい。   In the vapor chamber described above, the heat conducting portion may be formed separately from the chamber body.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記熱伝導部は、前記チャンバ本体と一体に形成されている、ようにしてもよい。   In the above-described vapor chamber, the heat conducting portion may be formed integrally with the chamber body.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記熱伝導部は、前記取付面の周囲に枠状に形成されている、ようにしてもよい。   In the above-described vapor chamber, the heat conducting portion may be formed in a frame shape around the mounting surface.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、前記熱伝導部は、平面視で前記チャンバ本体の外側に設けられ、前記熱伝導部と前記チャンバ本体との間に屈曲部が介在されている、ようにしてもよい。   In the above-described vapor chamber, the heat conducting portion is provided outside the chamber main body in a plan view, and a bent portion is interposed between the heat conducting portion and the chamber main body. Good.

また、本発明は、
上述したベーパーチャンバと、
前記基板と、
前記基板に実装された前記被冷却装置と、を備えた、ベーパーチャンバ搭載基板、
を提供する。
The present invention also provides:
The vapor chamber described above;
The substrate;
A substrate mounted with a vapor chamber, the apparatus to be cooled mounted on the substrate,
I will provide a.

また、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有し、基板に実装された被冷却装置を冷却するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記被冷却装置の前記基板に実装される面とは反対側の面に取り付けられる取付面を有し、前記被冷却装置の熱を受けるシート本体と、
前記シート本体の熱を前記基板に伝導させる熱伝導部と、を備えた、ベーパーチャンバ用金属シート、
を提供する。
The present invention also provides:
A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed and cooling a device to be cooled mounted on a substrate,
A sheet main body that has a mounting surface that is attached to a surface opposite to a surface mounted on the substrate of the cooled device, and that receives heat of the cooled device;
A metal sheet for a vapor chamber, comprising: a heat conducting part for conducting heat of the sheet main body to the substrate;
I will provide a.

本発明によれば、熱輸送効率を向上させることができる。   According to the present invention, heat transport efficiency can be improved.

図1は、本発明の第1の実施の形態によるベーパーチャンバ搭載基板を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a vapor chamber mounting substrate according to a first embodiment of the present invention. 図2は、図1のベーパーチャンバを示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing the vapor chamber of FIG. 図3は、図2のA−A線断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図4は、図2のB−B線断面図である。4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 図5は、図2のC−C線断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 図6は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、下側金属シートの準備工程を説明するための図である。FIG. 6 is a view for explaining a preparation process of the lower metal sheet in the method of manufacturing the vapor chamber of FIG. 図7は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、下側金属シートのハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 7 is a view for explaining a half etching process of the lower metal sheet in the method for manufacturing the vapor chamber of FIG. 2. 図8は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、ウィック取付工程を説明するための図である。FIG. 8 is a view for explaining a wick mounting step in the method of manufacturing the vapor chamber of FIG. 図9は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、仮止め工程を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a temporary fixing step in the method of manufacturing the vapor chamber of FIG. 図10は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、拡散接合工程を説明するための図である。FIG. 10 is a view for explaining a diffusion bonding step in the method of manufacturing the vapor chamber of FIG. 図11は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、作動液の封入工程を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a hydraulic fluid sealing step in the vapor chamber manufacturing method of FIG. 2. 図12は、図2のベーパーチャンバの製造方法において、熱伝導部取付工程を説明するための図である。FIG. 12 is a view for explaining a heat conduction portion attaching step in the method of manufacturing the vapor chamber of FIG. 図13は、図2のベーパーチャンバを基板へ搭載する搭載工程を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a mounting process for mounting the vapor chamber of FIG. 2 on a substrate. 図14は、図2のベーパーチャンバの下側金属シートの変形例を示す上面図である。FIG. 14 is a top view showing a modification of the lower metal sheet of the vapor chamber of FIG. 図15は、図2のベーパーチャンバの上側金属シートの変形例を示す下面図である。FIG. 15 is a bottom view showing a modification of the upper metal sheet of the vapor chamber of FIG. 図16は、図14の下側金属シートと図15の上側金属シートとを接合したベーパーチャンバの断面図である。16 is a cross-sectional view of a vapor chamber in which the lower metal sheet of FIG. 14 and the upper metal sheet of FIG. 15 are joined. 図17は、本発明の第2の実施の形態によるベーパーチャンバ搭載基板を示す断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view showing a vapor chamber mounting substrate according to the second embodiment of the present invention. 図18は、本発明の第3の実施の形態によるベーパーチャンバ搭載基板を示す断面図である。FIG. 18 is a sectional view showing a vapor chamber mounting substrate according to the third embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale and the vertical / horizontal dimensional ratio are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

(第1の実施の形態)
図1乃至図16を用いて、本発明の第1の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ搭載基板およびベーパーチャンバ用金属シートについて説明する。ここで、本実施の形態によるベーパーチャンバ搭載基板は、基板に実装された被冷却装置を冷却するためのベーパーチャンバが搭載された基板を意味する。このうち被冷却装置は、ベーパーチャンバの冷却対象物であり、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴う装置を意味する。ベーパーチャンバは、作動液が封入された密封空間を有しており、密封空間内の作動液が相変化を繰り返すことにより、被冷却装置を冷却するための装置である。ベーパーチャンバは、概略的に薄い平板状に形成されている。
(First embodiment)
The vapor chamber, the vapor chamber mounting substrate, and the vapor chamber metal sheet according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, the vapor chamber mounting substrate according to the present embodiment means a substrate on which a vapor chamber for cooling an apparatus to be cooled mounted on the substrate is mounted. Among them, the cooled device is an object to be cooled in the vapor chamber, and means a device with heat generation such as a central processing unit (CPU) used in a mobile terminal such as a portable terminal or a tablet terminal. The vapor chamber has a sealed space in which a working fluid is enclosed, and the working fluid in the sealed space is a device for cooling the apparatus to be cooled by repeating the phase change. The vapor chamber is generally formed in a thin flat plate shape.

まず、図1を用いて、第1の実施の形態によるベーパーチャンバ搭載基板100について説明する。   First, the vapor chamber mounting substrate 100 according to the first embodiment will be described with reference to FIG.

図1に示すように、ベーパーチャンバ搭載基板100は、基板101と、基板101に実装されたデバイス102(被冷却装置)と、デバイス102上に取り付けられ、デバイス102を冷却するベーパーチャンバ1と、を備えている。   As shown in FIG. 1, a vapor chamber mounting substrate 100 includes a substrate 101, a device 102 (cooled apparatus) mounted on the substrate 101, a vapor chamber 1 attached on the device 102 and cooling the device 102, It has.

デバイス102とベーパーチャンバ1との間には、熱伝導シート103が介在されている。この熱伝導シート103は、デバイス102およびベーパーチャンバ1に密着して、デバイス102とベーパーチャンバ1との間の熱抵抗を低減させるためのものである。この熱伝導シート103を設けることにより、デバイス102で発生した熱が、ベーパーチャンバ1に効率良く伝導されるようになっている。なお、熱伝導シート103は、熱伝導性の良好な材料をシート状に形成したものである。この熱伝導シート103の代わりに、熱伝導性の良好なサーマルグリスを用いることもできる。   A heat conductive sheet 103 is interposed between the device 102 and the vapor chamber 1. The heat conductive sheet 103 is in close contact with the device 102 and the vapor chamber 1 to reduce the thermal resistance between the device 102 and the vapor chamber 1. By providing the heat conductive sheet 103, the heat generated in the device 102 is efficiently conducted to the vapor chamber 1. The heat conductive sheet 103 is formed by forming a material with good heat conductivity into a sheet shape. Instead of the thermal conductive sheet 103, thermal grease having good thermal conductivity can be used.

図1および図2に示すように、本実施の形態によるベーパーチャンバ1は、作動液2が封入された密封空間3を有するチャンバ本体5と、チャンバ本体5の熱を基板101に伝導させる熱伝導部6と、を備えている。このうちチャンバ本体5は、後述する下側金属シート10の少なくとも一部を構成する下側シート本体10Xと、後述する上側金属シートの少なくとも一部を構成する上側シート本体20Xと、によって構成されている。本実施の形態では、下側シート本体10Xは、下側金属シート10の全体を構成し、上側シート本体20Xは、上側金属シート20の全体を構成している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the vapor chamber 1 according to the present embodiment includes a chamber body 5 having a sealed space 3 in which a working fluid 2 is sealed, and heat conduction for conducting heat of the chamber body 5 to a substrate 101. Part 6. Among these, the chamber main body 5 is configured by a lower sheet main body 10X constituting at least a part of a lower metal sheet 10 described later and an upper sheet main body 20X constituting at least a part of an upper metal sheet described later. Yes. In the present embodiment, the lower sheet body 10 </ b> X constitutes the entire lower metal sheet 10, and the upper sheet body 20 </ b> X constitutes the entire upper metal sheet 20.

チャンバ本体5の下側シート本体10X(本実施の形態では下側金属シート10に相当)は、デバイス102が取り付けられる取付面10c(後述)を有している。この取付面10cは、密封空間3よりも基板101の側(図1における下側)に設けられている。取付面10cには、デバイス102の上面102a(基板101に実装される面102bとは反対側の面)が、熱伝導シート103を介して取り付けられている。この取付面10cを介して、チャンバ本体5は、デバイス102の熱を受けるようになっている。   The lower sheet main body 10X (corresponding to the lower metal sheet 10 in the present embodiment) of the chamber main body 5 has an attachment surface 10c (described later) to which the device 102 is attached. The mounting surface 10c is provided on the substrate 101 side (lower side in FIG. 1) with respect to the sealed space 3. The upper surface 102 a of the device 102 (the surface opposite to the surface 102 b mounted on the substrate 101) is attached to the attachment surface 10 c via the heat conductive sheet 103. The chamber body 5 receives the heat of the device 102 through the mounting surface 10c.

熱伝導部6は、この取付面10cの周囲に設けられている。熱伝導部6によって、取付面10cに取り付けられたデバイス102を収容する装置収容部7が形成されている。   The heat conducting portion 6 is provided around the mounting surface 10c. A device accommodating portion 7 that accommodates the device 102 attached to the attachment surface 10 c is formed by the heat conducting portion 6.

本実施の形態による熱伝導部6についてより具体的に説明する。   The heat conduction part 6 according to the present embodiment will be described more specifically.

本実施の形態では、熱伝導部6は、チャンバ本体5とは別体に形成されており、チャンバ本体5の下側シート本体10Xに接合されている。また、熱伝導部6は、下側シート本体10Xの基板101の側の面(すなわち、下面10b)から、基板101の側に延びている。そして、熱伝導部6は、デバイス102上にベーパーチャンバ1が取り付けられた場合に、基板101に接することができる厚さ(図1における上下方向寸法)を有している。すなわち、熱伝導部6の厚さは、デバイス102の厚さと熱伝導シート103の厚さとの合計厚さにほぼ等しくなっている。このことにより、ベーパーチャンバ1が基板101に搭載された状態では、熱伝導部6の下端(すなわち、後述する熱伝導面6a)は、基板101の受熱部101a(後述)に接して、チャンバ本体5の熱を受熱部101aに放出可能になっている。   In the present embodiment, the heat conducting unit 6 is formed separately from the chamber body 5 and is joined to the lower sheet body 10 </ b> X of the chamber body 5. Further, the heat conducting unit 6 extends from the surface of the lower sheet body 10X on the substrate 101 side (that is, the lower surface 10b) to the substrate 101 side. The heat conducting section 6 has a thickness (vertical dimension in FIG. 1) that can contact the substrate 101 when the vapor chamber 1 is mounted on the device 102. That is, the thickness of the heat conducting unit 6 is substantially equal to the total thickness of the device 102 and the heat conducting sheet 103. Thus, in a state where the vapor chamber 1 is mounted on the substrate 101, the lower end of the heat conducting unit 6 (that is, a heat conducting surface 6 a described later) is in contact with the heat receiving unit 101 a (described later) of the substrate 101, and the chamber body 5 heat can be released to the heat receiving portion 101a.

また、熱伝導部6は、図1および図2に示すように、平面視(後述)で、下側シート本体10Xの取付面10cの周囲、すなわち装置収容部7の周囲に枠状に形成されている。ここでは、熱伝導部6は、装置収容部7の周囲に全周にわたって連続状に形成されており、装置収容部7を囲むように矩形枠状に形成されている。このことにより、熱伝導部6における熱の主要な移動方向(図1における上下方向)に垂直な断面の面積を確保している。なお、図2においては、熱伝導部6が、後述するアライメント孔15、24に平面視で重なる位置に配置されている例が示されているが、平面視における熱伝導部6の位置は、装置収容部7を形成することができれば、これに限られることはない。また、熱伝導部6の平面形状は、装置収容部7を形成することができれば、矩形枠状に限られることはなく、任意の形状で枠状に形成されていてもよい。また、熱伝導部6は、平面視で、円柱状もしくは角柱状などに形成されて、デバイス102の周囲に複数設けられるようにしてもよい。この場合、隣り合う熱伝導部6の間に間隙が形成されて、熱伝導部6が全体として断続的に形成されるようにしてもよい。   Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the heat conducting portion 6 is formed in a frame shape around the mounting surface 10 c of the lower sheet main body 10 </ b> X, that is, around the device housing portion 7 in a plan view (described later). ing. Here, the heat conducting portion 6 is formed continuously around the entire circumference of the device housing portion 7, and is formed in a rectangular frame shape so as to surround the device housing portion 7. This ensures a cross-sectional area perpendicular to the main heat moving direction (up and down direction in FIG. 1) in the heat conducting section 6. In FIG. 2, an example is shown in which the heat conducting unit 6 is arranged at a position overlapping with alignment holes 15 and 24 described later in plan view. However, the position of the heat conducting unit 6 in plan view is as follows. If the apparatus accommodating part 7 can be formed, it will not be restricted to this. Further, the planar shape of the heat conducting portion 6 is not limited to the rectangular frame shape as long as the device housing portion 7 can be formed, and may be formed in a frame shape with an arbitrary shape. Further, the heat conducting section 6 may be formed in a columnar shape or a prismatic shape in a plan view, and may be provided around the device 102. In this case, a gap may be formed between the adjacent heat conducting portions 6 so that the heat conducting portions 6 are formed intermittently as a whole.

熱伝導部6を形成する材料は、熱伝導性が良好な材料であれば特に限られることはなく任意とすることができるが、例えば、ステンレスやニッケル、銅、銅合金等の金属材料を用いることが好適である。このように、熱伝導部6は、熱伝導性を確保することができれば、チャンバ本体5とは異なる材料で形成されていてもよく、あるいはチャンバ本体5と同一の材料で形成されていてもよい。   The material for forming the heat conducting portion 6 is not particularly limited as long as the material has good heat conductivity, and may be any material, but for example, a metal material such as stainless steel, nickel, copper, or copper alloy is used. Is preferred. As described above, the heat conducting unit 6 may be formed of a material different from that of the chamber body 5 or may be formed of the same material as that of the chamber body 5 as long as heat conductivity can be ensured. .

熱伝導部6は、チャンバ本体5の熱を基板101に伝導させる熱伝導面6aを有している。この熱伝導面6aは、熱伝導部6のうち基板101の側の面(図1に示す下面)に設けられている。熱伝導面6aは、接着剤、銀ペースト、ろう付け、はんだ付け、拡散接合、レーザ溶接等によって基板101に接合されている。しかしながら、このことに限られることはなく、熱伝導面6aは、基板101にかしめ等の結合部材(図示せず)によって、機械的に結合されていてもよい。なお、基板101が、熱伝導性が良好な材料(例えば、金属材料等)から形成された受熱部101aを有し、この受熱部101aに、熱伝導面6aが接合または結合されていることが好適である。この場合、熱伝導部6からの熱を、効率良く基板101に逃がすことができる。   The heat conducting unit 6 has a heat conducting surface 6 a that conducts the heat of the chamber body 5 to the substrate 101. The heat conducting surface 6a is provided on the surface of the heat conducting portion 6 on the substrate 101 side (the lower surface shown in FIG. 1). The heat conductive surface 6a is bonded to the substrate 101 by an adhesive, silver paste, brazing, soldering, diffusion bonding, laser welding, or the like. However, the present invention is not limited to this, and the heat conducting surface 6a may be mechanically coupled to the substrate 101 by a coupling member (not shown) such as caulking. Note that the substrate 101 has a heat receiving portion 101a formed from a material having good thermal conductivity (for example, a metal material), and the heat conducting surface 6a is bonded or coupled to the heat receiving portion 101a. Is preferred. In this case, the heat from the heat conducting unit 6 can be efficiently released to the substrate 101.

また、熱伝導部6は、チャンバ本体5の下側シート本体10Xの下面10bに接合されている。例えば、熱伝導部6は、この下面10bに、接着剤、銀ペースト、ろう付け、はんだ付け、拡散接合、レーザ溶接等によって接合されていてもよい。   The heat conducting unit 6 is joined to the lower surface 10 b of the lower sheet main body 10 </ b> X of the chamber main body 5. For example, the heat conducting unit 6 may be bonded to the lower surface 10b by an adhesive, silver paste, brazing, soldering, diffusion bonding, laser welding, or the like.

なお、熱伝導部6を、装置収容部7の周囲に全周にわたって連続状に形成し、グランド電極と電気的に接続して接地電位を持たせることにより、熱伝導部6に、磁気シールドとしての機能を付与することもできる。   The heat conducting portion 6 is formed continuously around the entire circumference of the device housing portion 7 and is electrically connected to the ground electrode so as to have a ground potential, thereby providing the heat conducting portion 6 with a magnetic shield. It is also possible to give this function.

次に、本実施の形態によるベーパーチャンバ1のチャンバ本体5について、図2乃至図5を用いて説明する。   Next, the chamber body 5 of the vapor chamber 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図2乃至図5に示すように、ベーパーチャンバ1のチャンバ本体5は、上述したように、下側シート本体10Xと、下側シート本体10X上に設けられた上側シート本体20Xと、を備えている。本実施の形態では、下側シート本体10Xが、下側金属シート10の全体を構成し、上側シート本体20Xが、上側金属シート20の全体を構成している。すなわち、本実施の形態によるチャンバ本体5は、下側金属シート10と、下側金属シート10上に設けられた上側金属シート20と、によって構成されている。そこで、以下では、下側シート本体10Xの代わりに下側金属シート10を用い、上側シート本体20Xの代わりに上側金属シート20を用いて説明する。なお、下側金属シート10および上側金属シート20が、ベーパーチャンバ用金属シートにそれぞれ相当する。   As shown in FIGS. 2 to 5, the chamber body 5 of the vapor chamber 1 includes the lower sheet body 10X and the upper sheet body 20X provided on the lower sheet body 10X as described above. Yes. In the present embodiment, the lower sheet main body 10 </ b> X constitutes the entire lower metal sheet 10, and the upper sheet main body 20 </ b> X constitutes the entire upper metal sheet 20. That is, the chamber body 5 according to the present embodiment is configured by the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 provided on the lower metal sheet 10. Therefore, in the following description, the lower metal sheet 10 is used instead of the lower sheet body 10X, and the upper metal sheet 20 is used instead of the upper sheet body 20X. The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 correspond to vapor chamber metal sheets, respectively.

下側金属シート10の下面10bのうち取付面10c(後述する蒸発部11の下面)に、装置収容部7に収容されたデバイス102が取り付けられる。取付面10cは、下側金属シート10の下面10bの一部であり、本実施の形態では、平面視でベーパーチャンバ1の中央部に形成されている。   The device 102 accommodated in the apparatus accommodating portion 7 is attached to the attachment surface 10c (the lower surface of the evaporation portion 11 described later) of the lower surface 10b of the lower metal sheet 10. The attachment surface 10c is a part of the lower surface 10b of the lower metal sheet 10, and is formed in the central portion of the vapor chamber 1 in plan view in the present embodiment.

下側金属シート10と上側金属シート20との間には、作動液2が封入された密封空間3が形成されている。作動液2の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン等が挙げられる。   Between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20, a sealed space 3 in which the hydraulic fluid 2 is enclosed is formed. Examples of the working fluid 2 include pure water, ethanol, methanol, acetone and the like.

下側金属シート10と上側金属シート20とは、後述する拡散接合によって接合されている。図2に示す形態では、下側金属シート10および上側金属シート20は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ1がデバイス102から熱を受ける面(下側金属シート10の下面10b、とりわけ取付面10c)、および受けた熱を放出する面(上側金属シート20の上面20b)に直交する方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバ1を上方から見た状態(図2参照)、または下方から見た状態に相当している。   The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are bonded by diffusion bonding described later. In the form shown in FIG. 2, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are both formed in a rectangular shape in plan view, but are not limited thereto. Here, the plan view means that the vapor chamber 1 receives heat from the device 102 (the lower surface 10b of the lower metal sheet 10, especially the mounting surface 10c), and the surface that releases the received heat (the upper surface 20b of the upper metal sheet 20). For example, a state in which the vapor chamber 1 is viewed from above (see FIG. 2) or a state viewed from below.

なお、ベーパーチャンバ1がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、下側金属シート10と上側金属シート20との上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、デバイス102から熱を受ける液相側の金属シートを下側金属シート10と称し、受けた熱を放出する気相側の金属シートを上側金属シート20と称して、下側金属シート10が下側に配置され、上側金属シート20が上側に配置された状態で説明する。   When the vapor chamber 1 is installed in the mobile terminal, the vertical relationship between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be broken depending on the attitude of the mobile terminal. However, in the present embodiment, the liquid-phase side metal sheet that receives heat from the device 102 is referred to as the lower metal sheet 10, and the vapor-phase side metal sheet that releases the received heat is referred to as the upper metal sheet 20, The lower metal sheet 10 is disposed on the lower side, and the upper metal sheet 20 is disposed on the upper side.

図2乃至図5に示すように、下側金属シート10は、作動液2が蒸発して蒸気を生成する蒸発部11と、上面10a(上側金属シート20の側の面)に設けられ、平面視で矩形状に形成された下側流路凹部12と、を有している。このうち下側流路凹部12は、上述した密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気から凝縮した作動液2(図3乃至図5参照)を蒸発部11に輸送するように構成されている。この蒸発部11は、下側金属シート10の取付面10cに取り付けられるデバイス102から熱を受けて、密封空間3内の作動液2が蒸発する部分である。このため、蒸発部11という用語は、デバイス102に重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイス102に重なっていなくても作動液2が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。ここで蒸発部11は、下側金属シート10の任意の場所に設けることができるが、図2においては、下側金属シート10の中央部に設けられている例が示されている。この場合、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢が、ベーパーチャンバ1の動作の安定化に影響を及ぼすことを抑制できる。   As shown in FIGS. 2 to 5, the lower metal sheet 10 is provided on the evaporation unit 11 where the working fluid 2 evaporates to generate steam and the upper surface 10 a (the surface on the upper metal sheet 20 side). And a lower channel recess 12 formed in a rectangular shape as viewed. Of these, the lower channel recess 12 constitutes a part of the above-described sealed space 3, and mainly evaporates the working fluid 2 (see FIGS. 3 to 5) condensed from the vapor generated in the evaporation unit 11. It is configured to be transported to the part 11. The evaporation unit 11 is a part that receives heat from the device 102 attached to the attachment surface 10 c of the lower metal sheet 10 and evaporates the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3. For this reason, the term “evaporating section 11” is not limited to a portion that overlaps the device 102, but is also used as a concept that includes a portion that allows the working fluid 2 to evaporate without overlapping the device 102. Here, the evaporating part 11 can be provided at an arbitrary position of the lower metal sheet 10, but FIG. 2 shows an example provided at the central part of the lower metal sheet 10. In this case, the attitude of the mobile terminal in which the vapor chamber 1 is installed can be prevented from affecting the stabilization of the operation of the vapor chamber 1.

本実施の形態では、図2、図3および図5に示すように、下側金属シート10の下側流路凹部12内に、下側流路凹部12の底面12a(後述)から上方(底面12aに垂直な方向)に突出する複数の下側流路突出部13が設けられている。本実施の形態では、下側流路突出部13は、円柱状のボスとして形成されている例が示されており、上面13aと側面とを含んでいる。また、各下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図2における左右方向)に沿って、等間隔に離間して配置されている。また、下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の横断方向(長手方向に直交する横方向、図2における上下方向)にも沿って配置されている。このようにして配置された下側流路突出部13の周囲には、下側流路凹部12の底面12aが形成されている。このようにして、下側流路突出部13の周囲を作動液2の蒸気が流れるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、下側流路突出部13は、上側金属シート20の対応する上側流路突出部22(後述)に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 2, 3, and 5, the lower metal sheet 10 has a lower channel recess 12 that is located above (bottom surface) from a bottom surface 12 a (described later) of the lower channel recess 12. A plurality of lower channel protrusions 13 projecting in a direction perpendicular to 12a) are provided. In the present embodiment, an example in which the lower channel protrusion 13 is formed as a cylindrical boss is shown, and includes an upper surface 13a and side surfaces. In addition, the lower flow path protrusions 13 are arranged at regular intervals along the longitudinal direction of the vapor chamber 1 (left and right direction in FIG. 2). Further, the lower flow path protruding portion 13 is also disposed along the transverse direction of the vapor chamber 1 (a lateral direction orthogonal to the longitudinal direction, the vertical direction in FIG. 2). A bottom surface 12a of the lower flow path recess 12 is formed around the lower flow path protrusion 13 arranged in this manner. Thus, it is comprised so that the vapor | steam of the working fluid 2 may flow the circumference | surroundings of the lower side flow-path protrusion part 13, and it suppresses that the flow of a vapor | steam is prevented. Further, the lower flow path protrusion 13 is disposed so as to overlap with a corresponding upper flow path protrusion 22 (described later) of the upper metal sheet 20 in plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. ing.

図3乃至図5に示すように、下側流路凹部12には、ウィックWが設けられている。ここで、ウィックとは、例えば銅線を不定形状に圧接した金属メッシュや、多孔質焼結体により形成され、毛細管作用を発揮する部材である。このウィックWは、毛細管作用を発揮することにより、下側流路凹部12内の作動液2に、蒸発部11に向かう推進力を与えることができるように構成されている。このようにして、蒸気から凝縮した下側流路凹部12内の作動液2が、蒸発部11に向かってスムースに輸送されるようになっている。なお、図3乃至図5に示すように、ウィックWは、下側流路凹部12の底面12aの全領域に設けられていてもよい。底面12aのうち蒸発部11に設けられたウィックWは、液状の作動液2とデバイス102から受けた熱との熱交換面積を増大させ、熱効率向上をさせることに寄与し得る。一方、底面12aのうち蒸発部11の周囲に設けられたウィックWは、液状の作動液2を、蒸発部11に効果的に輸送することに寄与し得る。なお、ウィックWは、下側流路凹部12のうち下側流路突出部13の間の領域に嵌められるように取り付けられており、ベーパーチャンバ1の姿勢によってウィックWが移動することを防止している。また、ウィックWの高さは、蒸発部11における熱交換面積を増大させることや、毛細管作用によって蒸発部11に向かう作動液2の流量を確保することができれば任意とすることができる。   As shown in FIGS. 3 to 5, a wick W is provided in the lower flow path recess 12. Here, the wick is a member that is formed of, for example, a metal mesh pressed with an indefinite shape of a copper wire or a porous sintered body and exhibits a capillary action. The wick W is configured to exert a propulsive force toward the evaporation unit 11 to the hydraulic fluid 2 in the lower flow path recess 12 by exerting a capillary action. Thus, the working fluid 2 in the lower flow path recess 12 condensed from the vapor is smoothly transported toward the evaporation section 11. As shown in FIGS. 3 to 5, the wick W may be provided in the entire region of the bottom surface 12 a of the lower flow path recess 12. The wick W provided in the evaporation unit 11 in the bottom surface 12 a can contribute to increasing the heat exchange area between the liquid working fluid 2 and the heat received from the device 102 and improving the thermal efficiency. On the other hand, the wick W provided around the evaporation unit 11 in the bottom surface 12 a can contribute to the effective transportation of the liquid working fluid 2 to the evaporation unit 11. The wick W is attached so as to be fitted in a region between the lower flow path protrusions 13 in the lower flow path recess 12 and prevents the wick W from moving depending on the attitude of the vapor chamber 1. ing. The height of the wick W can be set arbitrarily as long as the heat exchange area in the evaporation unit 11 is increased or the flow rate of the working fluid 2 toward the evaporation unit 11 can be secured by capillary action.

図2乃至図5に示すように、下側金属シート10の周縁部には、下側周縁壁14が設けられている。下側周縁壁14は、密封空間3、とりわけ下側流路凹部12を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、図2に示すように、平面視で下側周縁壁14の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための下側アライメント孔15がそれぞれ設けられている。   As shown in FIGS. 2 to 5, a lower peripheral wall 14 is provided at the peripheral portion of the lower metal sheet 10. The lower peripheral wall 14 is formed so as to surround the sealed space 3, particularly the lower flow path recess 12, and defines the sealed space 3. As shown in FIG. 2, lower alignment holes 15 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are provided at the four corners of the lower peripheral wall 14 in plan view.

本実施の形態では、上側金属シート20は、下側金属シート10と同一の構造を有している。すなわち、本実施の形態によるベーパーチャンバ1は、下側金属シート10を上下反転させると上側金属シート20になるように構成されており、下側金属シート10と同一構造の金属シートを2枚作製して、一方を上下反転させて互いに接合した構成になっている。以下に、上側金属シート20の構成についてより詳細に説明する。   In the present embodiment, the upper metal sheet 20 has the same structure as the lower metal sheet 10. That is, the vapor chamber 1 according to the present embodiment is configured such that when the lower metal sheet 10 is turned upside down, the upper metal sheet 20 is formed, and two metal sheets having the same structure as the lower metal sheet 10 are produced. Thus, one of the two is turned upside down and joined together. Hereinafter, the configuration of the upper metal sheet 20 will be described in more detail.

図2乃至図5に示すように、上側金属シート20は、下面20a(下側金属シート10の側の面)に設けられた上側流路凹部21を有している。この上側流路凹部21は、密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気を拡散して冷却するように構成されている。より具体的には、上側流路凹部21内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。また、図3および図4に示すように、上側金属シート20の上面20bには、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材Hが配置される。このことにより、上側流路凹部21内の蒸気は、上側金属シート20およびハウジング部材Hを介して外気によって冷却される。   As shown in FIGS. 2 to 5, the upper metal sheet 20 has an upper flow path recess 21 provided on the lower surface 20 a (surface on the lower metal sheet 10 side). The upper channel recess 21 constitutes a part of the sealed space 3 and is mainly configured to diffuse and cool the steam generated in the evaporation unit 11. More specifically, the vapor in the upper flow path recess 21 diffuses in a direction away from the evaporation unit 11, and most of the vapor is transported to the peripheral portion having a relatively low temperature. As shown in FIGS. 3 and 4, a housing member H constituting a part of the housing of the mobile terminal or the like is disposed on the upper surface 20 b of the upper metal sheet 20. Thereby, the steam in the upper flow path recess 21 is cooled by the outside air via the upper metal sheet 20 and the housing member H.

本実施の形態では、図2に示すように、上側金属シート20の上側流路凹部21内に、上側流路凹部21の天井面21a(上側金属シート20を上下反転させた場合には上側流路凹部21の底面に相当する)から下方(天井面21aに垂直な方向)に突出する複数の上側流路突出部22が設けられている。本実施の形態では、上側流路突出部22は、円柱状のボスとして形成されている例が示されており、下面22aと側面とを含んでいる。また、各上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の長手方向に沿って延び、等間隔に離間して配置されている。また、上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の横断方向にも沿って配置されている。このようにして配置された上側流路突出部22の周囲には、上側流路凹部21の天井面21a(下側流路凹部12の底面12aに相当する面)が形成されている。このようにして、上側流路突出部22の周囲を作動液2の蒸気が流れるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、上側流路突出部22は、下側金属シート10の対応する下側流路突出部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the ceiling surface 21 a of the upper flow path recess 21 (in the case where the upper metal sheet 20 is turned upside down, in the upper flow path recess 21 of the upper metal sheet 20, A plurality of upper flow path protrusions 22 that protrude downward (corresponding to the bottom surface of the road recess 21) downward (in a direction perpendicular to the ceiling surface 21a) are provided. In the present embodiment, an example in which the upper channel protrusion 22 is formed as a cylindrical boss is shown, and includes a lower surface 22a and side surfaces. Moreover, each upper flow path protrusion part 22 is extended along the longitudinal direction of the vapor chamber 1, and is spaced apart at equal intervals. Further, the upper flow path protrusion 22 is disposed along the transverse direction of the vapor chamber 1. A ceiling surface 21 a of the upper channel recess 21 (a surface corresponding to the bottom surface 12 a of the lower channel recess 12) is formed around the upper channel protrusion 22 arranged in this manner. Thus, it is comprised so that the vapor | steam of the working fluid 2 may flow around the upper side flow-path protrusion part 22, and it suppresses that the flow of a vapor | steam is prevented. Further, the upper channel protrusions 22 are arranged so as to overlap the corresponding lower channel protrusions 13 of the lower metal sheet 10 in plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. .

図2乃至図5に示すように、上側金属シート20の周縁部には、上側周縁壁23が設けられている。上側周縁壁23は、密封空間3、とりわけ上側流路凹部21を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、図2に示すように、平面視で上側周縁壁23の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための上側アライメント孔24がそれぞれ設けられている。すなわち、各上側アライメント孔24は、後述する仮止め時に、上述した各下側アライメント孔15に重なるように配置され、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めが可能に構成されている。   As shown in FIGS. 2 to 5, an upper peripheral wall 23 is provided at the peripheral portion of the upper metal sheet 20. The upper peripheral wall 23 is formed so as to surround the sealed space 3, particularly the upper flow path recess 21, and defines the sealed space 3. Further, as shown in FIG. 2, upper alignment holes 24 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are respectively provided at the four corners of the upper peripheral wall 23 in plan view. That is, each upper alignment hole 24 is disposed so as to overlap each lower alignment hole 15 described above during temporary fixing, which will be described later, and is configured such that the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 can be positioned. .

このような下側金属シート10と上側金属シート20とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、図3乃至図5に示すように、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと、上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが当接し、下側周縁壁14と上側周縁壁23とが互いに接合されている。このことにより、下側金属シート10と上側金属シート20との間に、作動液2を密封した密封空間3が形成されている。また、下側金属シート10の下側流路突出部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路突出部22の下面22aとが当接し、各下側流路突出部13と対応する上側流路突出部22とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させている。とりわけ、本実施の形態による下側流路突出部13および上側流路突出部22は等間隔に配置されているため、ベーパーチャンバ1の各位置における機械的強度を均等化させることができる。なお下側金属シート10と上側金属シート20とは、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。   Such lower metal sheet 10 and upper metal sheet 20 are preferably permanently joined to each other by diffusion bonding. More specifically, as shown in FIGS. 3 to 5, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are in contact with each other, and The side peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 are joined to each other. Thus, a sealed space 3 in which the hydraulic fluid 2 is sealed is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. Further, the upper surface 13 a of the lower channel protrusion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22 a of the upper channel protrusion 22 of the upper metal sheet 20 come into contact with each other and correspond to each lower channel protrusion 13. The upper flow path protrusion 22 is joined to each other. Thereby, the mechanical strength of the vapor chamber 1 is improved. In particular, since the lower flow path protrusion 13 and the upper flow path protrusion 22 according to the present embodiment are arranged at equal intervals, the mechanical strength at each position of the vapor chamber 1 can be equalized. The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be joined by other methods such as brazing as long as they can be permanently joined instead of diffusion joining.

また、図2および図4に示すように、ベーパーチャンバ1は、長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間3に作動液2を注入する注入部4を更に備えている。この注入部4は、下側金属シート10の端面から突出する下側注入突出部16と、上側金属シート20の端面から突出する上側注入突出部25と、を有している。このうち下側注入突出部16の上面に下側注入流路凹部17が形成され、上側注入突出部25の下面に上側注入流路凹部26が形成されている。下側注入流路凹部17は、下側流路凹部12に連通しており、上側注入流路凹部26は、上側流路凹部21に連通している。下側注入流路凹部17および上側注入流路凹部26は、下側金属シート10と上側金属シート20とが接合された際、作動液2の注入流路を形成する。当該注入流路を通過して作動液2は密封空間3に注入される。なお、本実施の形態では、注入部4は、ベーパーチャンバ1の長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に設けられている例が示されているが、これに限られることはない。   As shown in FIGS. 2 and 4, the vapor chamber 1 further includes an injection portion 4 that injects the working fluid 2 into the sealed space 3 at one end portion of the pair of end portions in the longitudinal direction. Yes. The injection portion 4 includes a lower injection protrusion 16 that protrudes from the end surface of the lower metal sheet 10, and an upper injection protrusion 25 that protrudes from the end surface of the upper metal sheet 20. Among these, the lower injection channel recess 17 is formed on the upper surface of the lower injection projection 16, and the upper injection channel recess 26 is formed on the lower surface of the upper injection projection 25. The lower injection channel recess 17 communicates with the lower channel recess 12, and the upper injection channel recess 26 communicates with the upper channel recess 21. The lower injection channel recess 17 and the upper injection channel recess 26 form an injection channel for the working fluid 2 when the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are joined. The hydraulic fluid 2 is injected into the sealed space 3 through the injection channel. In the present embodiment, an example in which the injection portion 4 is provided at one end portion of the pair of end portions in the longitudinal direction of the vapor chamber 1 is shown, but the present invention is not limited to this. Absent.

ところで、下側金属シート10および上側金属シート20に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10および上側金属シート20は、銅または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を高めることができる。また、ベーパーチャンバ1のチャンバ本体5の厚さT0は、0.1mm〜1.0mmである。下側金属シート10の厚さT1および上側金属シート20の厚さT2は、ハンドリングを良好にするために、ベーパーチャンバ1の厚さの半分にし、T1とT2を等しくすることが好適である。   By the way, the material used for the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 is not particularly limited as long as the material has good thermal conductivity. For example, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are made of copper. Alternatively, it is preferably formed of a copper alloy. Thereby, the thermal conductivity of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 can be increased. For this reason, the heat transport efficiency of the vapor chamber 1 can be improved. The thickness T0 of the chamber body 5 of the vapor chamber 1 is 0.1 mm to 1.0 mm. The thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet 20 are preferably half the thickness of the vapor chamber 1 in order to improve handling, and T1 and T2 are preferably equal.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、まず、ベーパーチャンバ1の製造方法について、図6乃至図12を用いて説明するが、上側金属シート20のハーフエッチング工程の説明は簡略化する。なお、図6乃至図12では、図5の横断面と同様の横断面を示している。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, although the manufacturing method of the vapor chamber 1 is demonstrated using FIG. 6 thru | or FIG. 12, description of the half etching process of the upper side metal sheet 20 is simplified. 6 to 12 show a cross section similar to the cross section of FIG.

まず、本体作製工程として、ベーパーチャンバ1のチャンバ本体5が作製される。   First, as a main body manufacturing process, the chamber main body 5 of the vapor chamber 1 is manufactured.

本体作製工程においては、まず、準備工程として、図6に示すように、平板状の金属材料シートMを準備する。   In the main body manufacturing step, first, as a preparation step, a flat metal material sheet M is prepared as shown in FIG.

続いて、ハーフエッチング工程として、図7に示すように、金属材料シートMがハーフエッチングされて、密封空間3の一部を構成する下側流路凹部12を有する下側金属シート10が形成される。この場合、まず、金属材料シートMの上面Maに図示しないレジスト膜が、フォトリソグラフィー技術によって、複数の下側流路突出部13および下側周縁壁14に対応するパターン状に形成される。続いて、ハーフエッチング工程として、金属材料シートMの上面Maがハーフエッチングされる。このことにより、金属材料シートMの上面Maのうちレジスト膜の開口(図示せず)に対応する部分がハーフエッチングされて、図7に示すような下側流路凹部12、下側流路突出部13および下側周縁壁14が形成される。この際、図2に示す下側注入流路凹部17も同時に形成され、また、図2に示すような外形輪郭形状を有するように金属材料シートMが上面Maおよび下面からエッチングされて、所定の外形輪郭形状が得られる。ハーフエッチング工程の後、レジスト膜が除去される。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、下側金属シート10の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。   Subsequently, as a half-etching step, as shown in FIG. 7, the metal material sheet M is half-etched to form a lower metal sheet 10 having a lower flow path recess 12 constituting a part of the sealed space 3. The In this case, first, a resist film (not shown) is formed on the upper surface Ma of the metal material sheet M in a pattern corresponding to the plurality of lower channel protrusions 13 and the lower peripheral wall 14 by photolithography. Subsequently, as a half-etching process, the upper surface Ma of the metal material sheet M is half-etched. As a result, a portion of the upper surface Ma of the metal material sheet M corresponding to the opening (not shown) of the resist film is half-etched, so that the lower flow path recess 12 and the lower flow path protrusion as shown in FIG. A portion 13 and a lower peripheral wall 14 are formed. At this time, the lower injection channel recess 17 shown in FIG. 2 is also formed at the same time, and the metal material sheet M is etched from the upper surface Ma and the lower surface so as to have an outer contour shape as shown in FIG. An outer contour shape is obtained. After the half etching process, the resist film is removed. Note that half-etching means etching for forming a recess that does not penetrate the material. For this reason, the depth of the recess formed by half etching is not limited to being half the thickness of the lower metal sheet 10. As the etchant, for example, an iron chloride-based etchant such as a ferric chloride aqueous solution or a copper chloride-based etchant such as a copper chloride aqueous solution can be used.

一方、下側金属シート10と同様にして、上側金属シート20用の金属材料シート(図示せず)が下面からハーフエッチングされて、上側流路凹部21、上側流路突出部22および上側周縁壁23が形成される。このようにして、上述した上側金属シート20が得られる。   On the other hand, in the same manner as the lower metal sheet 10, a metal material sheet (not shown) for the upper metal sheet 20 is half-etched from the lower surface, and the upper channel recess 21, the upper channel protrusion 22, and the upper peripheral wall. 23 is formed. In this way, the above-described upper metal sheet 20 is obtained.

次に、ウィック取付工程として、図8に示すように、下側流路凹部12の下側流路突出部13の間にウィックWが挿入されて嵌められる。   Next, as shown in FIG. 8, the wick W is inserted and fitted between the lower channel protrusions 13 of the lower channel recess 12 as a wick attachment process.

次に、仮止工程として、図9に示すように、下側流路凹部12を有する下側金属シート10と、上側流路凹部21を有する上側金属シート20とが仮止めされる。この場合、まず、下側金属シート10の下側アライメント孔15(図2参照)と上側金属シート20の上側アライメント孔24(図2参照)とを利用して、下側金属シート10と上側金属シート20とが位置決めされる。続いて、下側金属シート10と上側金属シート20とが固定される。固定の方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10と上側金属シート20とに対して抵抗溶接を行うことによって下側金属シート10と上側金属シート20とを固定してもよい。この場合、図9に示すように、電極棒40を用いてスポット的に抵抗溶接を行うことが好適である。抵抗溶接の代わりにレーザ溶接を行ってもよい。このようにして、下側金属シート10と上側金属シート20とが、位置決めされた状態で固定される。   Next, as a temporary fixing step, as shown in FIG. 9, the lower metal sheet 10 having the lower flow path recess 12 and the upper metal sheet 20 having the upper flow path recess 21 are temporarily fixed. In this case, first, the lower metal sheet 10 and the upper metal are utilized by using the lower alignment hole 15 (see FIG. 2) of the lower metal sheet 10 and the upper alignment hole 24 (see FIG. 2) of the upper metal sheet 20. The sheet 20 is positioned. Subsequently, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed. The fixing method is not particularly limited. For example, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed by performing resistance welding on the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. May be. In this case, as shown in FIG. 9, it is preferable to perform resistance welding in a spot manner using the electrode rod 40. Laser welding may be performed instead of resistance welding. Thus, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed in a positioned state.

仮止工程の後、拡散接合工程として、図10に示すように、下側金属シート10と上側金属シート20とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側金属シート10と上側金属シート20とを密着させ、減圧雰囲気中で、各金属シート10、20を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側金属シート10および上側金属シート20の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各金属シート10、20が溶融して変形することを回避できる。より具体的には、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが、接合面となって拡散接合される。このことにより、下側周縁壁14と上側周縁壁23とによって、下側金属シート10と上側金属シート20との間に密封空間3が形成される。また、下側注入流路凹部17(図2参照)と上側注入流路凹部26(図2参照)とによって、密封空間3に連通する作動液2の注入流路が形成される。さらに、下側金属シート10の下側流路突出部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路突出部22の下面22aとが、接合面となって拡散接合され、ベーパーチャンバ1の機械的強度が向上する。   After the temporary fixing step, as a diffusion bonding step, as shown in FIG. 10, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are permanently bonded by diffusion bonding. In diffusion bonding, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 to be bonded are brought into close contact with each other, and in a reduced pressure atmosphere, the metal sheets 10 and 20 are pressed and heated in the direction in which the metal sheets 10 and 20 are brought into close contact with each other. It is the method of joining using the diffusion of. In diffusion bonding, the materials of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are heated to a temperature close to the melting point. However, since the temperature is lower than the melting point, the metal sheets 10 and 20 can be prevented from melting and deforming. More specifically, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are diffusion bonded. Thus, the sealed space 3 is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 by the lower peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23. Also, the lower injection channel recess 17 (see FIG. 2) and the upper injection channel recess 26 (see FIG. 2) form an injection channel for the working fluid 2 communicating with the sealed space 3. Furthermore, the upper surface 13a of the lower flow path protrusion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper flow path protrusion 22 of the upper metal sheet 20 are diffusion-bonded as a bonding surface. Mechanical strength is improved.

このようにして、本実施の形態によるチャンバ本体5が作製される。   In this way, the chamber body 5 according to the present embodiment is manufactured.

本体作製工程の後、封入工程として、図11に示すように、注入部4(図2参照)から密封空間3に作動液2が注入される。この際、まず、密封空間3が真空引きされて減圧され、その後に、作動液2が密封空間3に注入される。注入時、作動液2は、下側注入流路凹部17と上側注入流路凹部26とにより形成された注入流路を通過する。   After the main body manufacturing process, as a sealing process, as shown in FIG. 11, the working fluid 2 is injected into the sealed space 3 from the injection section 4 (see FIG. 2). At this time, first, the sealed space 3 is evacuated and decompressed, and then the working fluid 2 is injected into the sealed space 3. At the time of injection, the working fluid 2 passes through an injection channel formed by the lower injection channel recess 17 and the upper injection channel recess 26.

作動液2の注入の後、上述した注入流路が封止される。例えば、注入部4にレーザを照射し、注入部4を部分的に溶融させて注入流路を封止することが好適である。このことにより、密封空間3と外気との連通が遮断され、作動液2が密封空間3に封入される。このようにして、密封空間3内の作動液2が外部に漏洩することが防止される。   After the injection of the working fluid 2, the above-described injection flow path is sealed. For example, it is preferable to irradiate the injection part 4 with a laser and partially melt the injection part 4 to seal the injection flow path. As a result, the communication between the sealed space 3 and the outside air is blocked, and the hydraulic fluid 2 is sealed in the sealed space 3. In this way, the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 is prevented from leaking outside.

封入工程の後、熱伝導部取付工程として、図12に示すように、チャンバ本体5の下側金属シート10の下面10bに熱伝導部6が取り付けられる。この場合、例えば、下側金属シート10と熱伝導部6とが、接着剤、ろう付け、はんだ付け、拡散接合、レーザ溶接等によって接合される。上述した封入工程においてベーパーチャンバ1が加熱される場合があることから、熱伝導部取付工程は、特に接着剤やはんだ付けで熱伝導部6を下側金属シート10に接合する場合には、接着剤やはんだに熱が加えられることを回避するために封入工程の後に行うことが好適である。なお、熱伝導部6は、予めチャンバ本体5とは別体に形成される。熱伝導部6は、エッチング等の方法で、矩形枠状に形成することができるが、形成方法は任意である。例えば、熱伝導部6は、下側金属シート10の下面10bに、めっきによって形成されてもよい。   As shown in FIG. 12, the heat conduction part 6 is attached to the lower surface 10 b of the lower metal sheet 10 of the chamber body 5 as a heat conduction part attachment process after the encapsulation process. In this case, for example, the lower metal sheet 10 and the heat conducting portion 6 are joined by an adhesive, brazing, soldering, diffusion bonding, laser welding, or the like. Since the vapor chamber 1 may be heated in the sealing process described above, the heat conduction part mounting step is an adhesion particularly when the heat conduction part 6 is joined to the lower metal sheet 10 by an adhesive or soldering. In order to avoid heat being applied to the agent or the solder, it is preferable to carry out after the encapsulation step. The heat conducting unit 6 is formed separately from the chamber body 5 in advance. The heat conduction part 6 can be formed in a rectangular frame shape by a method such as etching, but the formation method is arbitrary. For example, the heat conducting unit 6 may be formed on the lower surface 10b of the lower metal sheet 10 by plating.

以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ1が得られる。   As described above, the vapor chamber 1 according to the present embodiment is obtained.

上述のようにして得られたベーパーチャンバ1は、搭載工程として、図13に示すように、デバイス102が実装された基板101に搭載される。   The vapor chamber 1 obtained as described above is mounted on a substrate 101 on which a device 102 is mounted, as shown in FIG. 13, as a mounting process.

この場合、まず、基板101に実装されたデバイス102上に熱伝導シート103が載置される。また、例えば、ベーパーチャンバ1の熱伝導部6の熱伝導面6aおよび基板101の受熱部101aのうちの少なくとも一方に、接着剤が塗布される。   In this case, first, the heat conductive sheet 103 is placed on the device 102 mounted on the substrate 101. Further, for example, an adhesive is applied to at least one of the heat conducting surface 6 a of the heat conducting unit 6 of the vapor chamber 1 and the heat receiving unit 101 a of the substrate 101.

続いて、ベーパーチャンバ1が、デバイス102が実装された基板101に搭載される。このことにより、図1に示すように、デバイス102が、ベーパーチャンバ1の装置収容部7に収容されて、チャンバ本体5の下側金属シート10の取付面10cに、熱伝導シート103を介して取り付けられる。また、熱伝導部6の熱伝導面6aが、基板101の受熱部101aに接着剤によって接合される。このようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ搭載基板100が得られる。   Subsequently, the vapor chamber 1 is mounted on the substrate 101 on which the device 102 is mounted. As a result, as shown in FIG. 1, the device 102 is accommodated in the apparatus accommodating portion 7 of the vapor chamber 1, and is attached to the attachment surface 10 c of the lower metal sheet 10 of the chamber body 5 via the heat conductive sheet 103. It is attached. Further, the heat conducting surface 6a of the heat conducting unit 6 is bonded to the heat receiving unit 101a of the substrate 101 with an adhesive. Thus, the vapor chamber mounting substrate 100 according to the present embodiment is obtained.

上述のようにして得られたベーパーチャンバ搭載基板は、モバイル端末等のハウジング内に設置される。   The vapor chamber mounting substrate obtained as described above is installed in a housing of a mobile terminal or the like.

次に、ベーパーチャンバ1の作動方法、すなわち、デバイス102の冷却方法について説明する。   Next, a method for operating the vapor chamber 1, that is, a method for cooling the device 102 will be described.

下側金属シート10が鉛直下方に配置され、上側金属シート20が鉛直上方に配置される場合には、密封空間3に封入された作動液2の多くは、重力の影響を受けて、下側金属シート10の下側流路凹部12に滞留する。   When the lower metal sheet 10 is disposed vertically downward and the upper metal sheet 20 is disposed vertically upward, most of the hydraulic fluid 2 sealed in the sealed space 3 is affected by gravity, The metal sheet 10 stays in the lower channel recess 12.

この状態でデバイス102が発熱すると、下側流路凹部12のうち蒸発部11に存在する作動液2が、デバイス102から熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液2が蒸発(気化)し、作動液2の蒸気が生成される。生成された蒸気の多くは、密封空間3内を上昇して上側流路凹部21内に拡散する。生成された蒸気の一部は、下側金属シート10の下側流路凹部12内でも拡散する。上側流路凹部21内および下側流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れ、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される(図4の実線矢印参照)。拡散した蒸気は、チャンバ本体5の下側金属シート10および上側金属シート20に放熱して冷却される。下側金属シート10および上側金属シート20が蒸気から受けた熱の一部は、ハウジング部材H(図3および図4参照)を介して外気に伝達される。   When the device 102 generates heat in this state, the hydraulic fluid 2 present in the evaporation unit 11 in the lower channel recess 12 receives heat from the device 102. The received heat is absorbed as latent heat, the working fluid 2 evaporates (vaporizes), and the vapor of the working fluid 2 is generated. Most of the generated steam rises in the sealed space 3 and diffuses into the upper flow path recess 21. A part of the generated vapor is diffused also in the lower channel recess 12 of the lower metal sheet 10. The steam in the upper flow path recess 21 and the lower flow path recess 12 is separated from the evaporation section 11, and most of the steam is transported to the peripheral portion having a relatively low temperature (see solid arrows in FIG. 4). The diffused vapor dissipates heat to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 of the chamber body 5 and is cooled. Part of the heat received from the steam by the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 is transmitted to the outside air through the housing member H (see FIGS. 3 and 4).

チャンバ本体5の下側金属シート10および上側金属シート20が作動液2の蒸気から受けた熱の一部は、熱伝導部6を介して、デバイス102が実装された基板101にも伝導され、各金属シート10、20の熱を基板101に逃がすことができる。このように、チャンバ本体5の熱が、ハウジング部材Hだけでなく、熱伝導部6および基板101を介して放出されるため、チャンバ本体5の放熱経路を増やすことができる。このことにより、各金属シート10、20を効率良く冷却することができ、これにより、密封空間3の下側流路凹部12内および上側流路凹部21内の作動液2の蒸気を効率良く冷却することができる。このため、密封空間3内の蒸気の凝縮速度を高めることができ、作動液2の相変化を促進することができる。   Part of the heat received from the vapor of the hydraulic fluid 2 by the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 of the chamber body 5 is also conducted to the substrate 101 on which the device 102 is mounted, via the heat conducting unit 6. The heat of each metal sheet 10, 20 can be released to the substrate 101. Thus, since the heat of the chamber body 5 is released not only through the housing member H but also through the heat conducting unit 6 and the substrate 101, the heat dissipation path of the chamber body 5 can be increased. Accordingly, the metal sheets 10 and 20 can be efficiently cooled, and thereby the steam of the working fluid 2 in the lower flow path recess 12 and the upper flow path recess 21 in the sealed space 3 can be efficiently cooled. can do. For this reason, the condensation rate of the vapor | steam in the sealed space 3 can be raised, and the phase change of the hydraulic fluid 2 can be accelerated | stimulated.

蒸気は、下側金属シート10および上側金属シート20に放熱することにより、蒸発部11において吸収した潜熱を失って凝縮する。上側流路凹部21内において液状になった作動液2は、上側流路凹部21内を下降して、下側流路凹部12に達する。蒸発部11では作動液2が蒸発し続けているため、下側流路凹部12のうち蒸発部11以外の部分における作動液2は、蒸発部11に向かって輸送される(図4の破線矢印参照)。この際、下側流路凹部12には、毛細管作用を発揮することができるウィックWが設けられている。このため、ウィックWの毛細管作用により、作動液2は、蒸発部11に向かう推進力を得て、蒸発部11に向かってスムースに輸送される。   The steam loses the latent heat absorbed in the evaporation section 11 by being dissipated to the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 and condenses. The hydraulic fluid 2 that has become liquid in the upper flow path recess 21 descends in the upper flow path recess 21 and reaches the lower flow path recess 12. Since the working fluid 2 continues to evaporate in the evaporation section 11, the working fluid 2 in portions other than the evaporation section 11 in the lower flow path recess 12 is transported toward the evaporation section 11 (broken arrows in FIG. 4). reference). At this time, the lower flow path recess 12 is provided with a wick W that can exhibit a capillary action. For this reason, the hydraulic fluid 2 obtains a driving force toward the evaporation unit 11 by the capillary action of the wick W, and is smoothly transported toward the evaporation unit 11.

蒸発部11に達した作動液2は、デバイス102から再び熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液2が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ1内を還流してデバイス102の熱を移動させて放出する。この結果、デバイス102が冷却される。   The hydraulic fluid 2 that has reached the evaporation unit 11 receives heat from the device 102 again and evaporates. In this way, the working fluid 2 recirculates in the vapor chamber 1 while repeating phase change, that is, evaporation and condensation, and moves and releases the heat of the device 102. As a result, the device 102 is cooled.

このように本実施の形態によれば、チャンバ本体5の熱が、熱伝導部6によって基板101に伝導される。このことにより、チャンバ本体5の熱を基板101に逃がすことができ、密封空間3内の作動液2を効率良く凝縮させることができる。このため、作動液2の相変化を促進させることができ、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the heat of the chamber body 5 is conducted to the substrate 101 by the heat conducting unit 6. Thereby, the heat of the chamber body 5 can be released to the substrate 101, and the working fluid 2 in the sealed space 3 can be efficiently condensed. For this reason, the phase change of the working fluid 2 can be promoted, and the heat transport efficiency of the vapor chamber 1 can be improved.

また、本実施の形態によれば、熱伝導部6は、チャンバ本体5とは別体に形成されている。この場合、装置収容部7を形成するためのエッチング工程を不要にすることができる。このことにより、ベーパーチャンバ1を形成するために準備するエッチング前の金属材料シートM(図6参照)の材料の使用量を低減することができる。   Further, according to the present embodiment, the heat conducting unit 6 is formed separately from the chamber body 5. In this case, the etching process for forming the apparatus accommodating part 7 can be made unnecessary. Thereby, the usage-amount of the material of the metal material sheet M (refer FIG. 6) before the etching prepared in order to form the vapor chamber 1 can be reduced.

さらに、本実施の形態によれば、熱伝導部6は、下側金属シート10の取付面10cの周囲に枠状に形成されている。このことにより、熱伝導部6がデバイス102に干渉することを回避しながら、熱伝導部6における熱の主要な移動方向に垂直な断面の面積を確保することができる。このため、熱伝導部6により、チャンバ本体5の下側金属シート10および上側金属シート20の熱を、基板101の受熱部101aに効率良く逃がすことができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the heat conducting portion 6 is formed in a frame shape around the mounting surface 10 c of the lower metal sheet 10. Accordingly, it is possible to ensure an area of a cross section perpendicular to the main movement direction of heat in the heat conduction unit 6 while avoiding the heat conduction unit 6 from interfering with the device 102. For this reason, heat of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 of the chamber body 5 can be efficiently released to the heat receiving part 101 a of the substrate 101 by the heat conducting part 6.

なお、上述した本実施の形態においては、密封空間3が、蒸発部11で生成された蒸気が主として上側流路凹部21内を拡散するように構成され、蒸気から凝縮した液状の作動液2が、下側流路凹部12内に設けられたウィックWによって蒸発部11に輸送される例について説明した。しかしながら、密封空間3の構成は、これに限られることはない。例えば、下側流路凹部12にウィックWが設けられることなく、蒸発部11で生成された蒸気が主として下側流路凹部12および上側流路凹部21内を拡散するように密封空間3が構成され、蒸気から凝縮した液状の作動液2が、下側流路凹部12および上側流路凹部21とは異なる液流路凹部30によって蒸発部11に輸送されるようにしてもよい。この場合のベーパーチャンバ1のチャンバ本体5の構成の一例について、図14乃至図16を用いて説明する。   In the above-described embodiment, the sealed space 3 is configured such that the vapor generated in the evaporation unit 11 mainly diffuses in the upper flow path recess 21, and the liquid working fluid 2 condensed from the vapor is generated. The example in which the wick W provided in the lower flow path recess 12 is transported to the evaporation unit 11 has been described. However, the configuration of the sealed space 3 is not limited to this. For example, the sealed space 3 is configured such that the vapor generated in the evaporation unit 11 mainly diffuses in the lower channel recess 12 and the upper channel recess 21 without providing the wick W in the lower channel recess 12. Then, the liquid working fluid 2 condensed from the vapor may be transported to the evaporation unit 11 by the liquid channel recess 30 different from the lower channel recess 12 and the upper channel recess 21. An example of the configuration of the chamber body 5 of the vapor chamber 1 in this case will be described with reference to FIGS.

図14に示す形態では、下側金属シート10の下側流路突出部13は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図14における左右方向)に沿って細長状に延びている。各下側流路突出部13は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各下側流路突出部13の周囲を作動液2の蒸気が流れて、下側流路凹部12の周縁部に蒸気が輸送される(図14に示す実線矢印参照)ように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。   In the form shown in FIG. 14, the lower channel protrusion 13 of the lower metal sheet 10 extends in an elongated shape along the longitudinal direction of the vapor chamber 1 (left and right direction in FIG. 14). The lower flow path protrusions 13 are arranged in parallel to each other at regular intervals. In this way, the vapor of the working fluid 2 flows around each of the lower flow path protrusions 13 so that the vapor is transported to the peripheral edge of the lower flow path recess 12 (see the solid line arrow shown in FIG. 14). This prevents the steam flow from being hindered.

図15に示すように、上側金属シート20の上側流路突出部22は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図15における左右方向)に沿って細長状に延びている。各上側流路突出部22は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各上側流路突出部22の周囲を作動液2の蒸気が流れて、上側流路凹部21の周縁部に蒸気が輸送される(図15に示す実線矢印参照)ように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。上側流路突出部22は、下側金属シート10の対応する下側流路突出部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。   As shown in FIG. 15, the upper channel protrusion 22 of the upper metal sheet 20 extends in an elongated shape along the longitudinal direction of the vapor chamber 1 (the left-right direction in FIG. 15). Each upper flow path protrusion part 22 is spaced apart at equal intervals and arranged in parallel to each other. In this way, the vapor of the working fluid 2 flows around each upper flow path protrusion 22 and is transported to the peripheral edge of the upper flow path recess 21 (see the solid arrow shown in FIG. 15). This prevents the steam flow from being hindered. The upper flow path protrusions 22 are disposed so as to overlap the corresponding lower flow path protrusions 13 of the lower metal sheet 10 in plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1.

下側流路突出部13の上面13aおよび上側流路突出部22の下面22aのうちの少なくとも一方に、上述した液流路凹部30が設けられている。ここでは、図14および図16に示すように、下側流路突出部13の上面13aに、液流路凹部30が設けられている例について説明する。   The liquid channel recess 30 described above is provided on at least one of the upper surface 13 a of the lower channel protrusion 13 and the lower surface 22 a of the upper channel protrusion 22. Here, as shown in FIGS. 14 and 16, an example in which a liquid channel recess 30 is provided on the upper surface 13 a of the lower channel protrusion 13 will be described.

液流路凹部30は、図14に示すように、下側流路突出部13の長手方向(図14における左右方向)に沿って、細長状に延びている例が示されており、下側流路突出部13の長手方向における一端から他端まで延びている。図16に示すように、液流路凹部30の幅は、下側流路突出部13の幅よりも小さく、互いに隣り合う下側流路突出部13同士の間隔よりも小さくなっている。このようにして、液流路凹部30は、下側流路凹部12の周縁部および上側流路凹部21の周縁部において凝縮した液状の作動液2を、毛細管作用によって蒸発部11に輸送するようになっている(図14に示す破線矢印参照)。1つの下側流路突出部13の上面13aには、複数の液流路凹部30が形成されており、各液流路凹部30は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。   As shown in FIG. 14, the liquid channel recess 30 is illustrated as extending in an elongated shape along the longitudinal direction (left and right direction in FIG. 14) of the lower channel protrusion 13. The flow path protrusion 13 extends from one end to the other end in the longitudinal direction. As shown in FIG. 16, the width of the liquid flow path recess 30 is smaller than the width of the lower flow path projection 13 and smaller than the interval between the adjacent lower flow path projections 13. Thus, the liquid flow path recess 30 transports the liquid working fluid 2 condensed at the peripheral edge of the lower flow path recess 12 and the peripheral edge of the upper flow path recess 21 to the evaporation section 11 by capillary action. (Refer to broken line arrows shown in FIG. 14). A plurality of liquid flow path recesses 30 are formed on the upper surface 13a of one lower flow path protrusion 13, and the liquid flow path recesses 30 are spaced apart at equal intervals and arranged in parallel to each other. .

なお、下側流路突出部13の一端から他端にわたって、各液流路凹部30は、図示しない複数の連絡凹部によって、下側流路凹部12に連通している。このことにより、蒸発部11においては、液流路凹部30内の液状の作動液2が蒸発すると、流路断面積が大きい下側流路凹部12および上側流路凹部21に拡散され、蒸気から凝縮した液状の作動液2が、下側流路凹部12および上側流路凹部21から、液流路凹部30内に入り込むようになっている。   In addition, each liquid flow path recessed part 30 is connected to the lower flow path recessed part 12 by the some communication recessed part which is not illustrated ranging from the one end of the lower flow path protrusion part 13 to the other end. As a result, in the evaporation section 11, when the liquid working fluid 2 in the liquid flow path recess 30 evaporates, it is diffused into the lower flow path recess 12 and the upper flow path recess 21 having a large flow path cross-sectional area, and from the vapor The condensed liquid working fluid 2 enters the liquid channel recess 30 from the lower channel recess 12 and the upper channel recess 21.

(第2の実施の形態)
次に、図17を用いて、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ搭載基板およびベーパーチャンバ用金属シートについて説明する。
(Second Embodiment)
Next, a vapor chamber, a vapor chamber mounting substrate, and a vapor chamber metal sheet according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図17に示す第2の実施の形態においては、熱伝導部が、チャンバ本体と一体に形成されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図16に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図17において、図1乃至図16に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The second embodiment shown in FIG. 17 is mainly different in that the heat conducting portion is formed integrally with the chamber body, and the other configurations are the same as those in the first embodiment shown in FIGS. It is almost the same as the form. In FIG. 17, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 16 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図17に示すように、本実施の形態においては、熱伝導部6は、チャンバ本体5の下側シート本体10Xと一体に形成されている。すなわち、本実施の形態では、下側シート本体10Xは、下側金属シート10の一部を構成しており、下側金属シート10は、この下側シート本体10Xと熱伝導部6とによって構成されている。この下側金属シート10が、本実施の形態によるベーパーチャンバ用金属シートに相当する。なお、下側シート本体10Xは、主として、蒸発部11、下側流路凹部12、下側流路突出部13および下側周縁壁14によって構成されている部分に相当する。   As shown in FIG. 17, in the present embodiment, the heat conducting portion 6 is formed integrally with the lower sheet main body 10 </ b> X of the chamber main body 5. That is, in the present embodiment, the lower sheet main body 10X constitutes a part of the lower metal sheet 10, and the lower metal sheet 10 is constituted by the lower sheet main body 10X and the heat conducting unit 6. Has been. The lower metal sheet 10 corresponds to the vapor chamber metal sheet according to the present embodiment. The lower sheet main body 10 </ b> X mainly corresponds to a portion configured by the evaporation section 11, the lower flow path recess 12, the lower flow path protrusion 13, and the lower peripheral wall 14.

本実施の形態においても、熱伝導部6は、下側シート本体10Xの取付面10c、すなわち装置収容部7の周囲に矩形枠状に形成されるとともに、チャンバ本体5の下側シート本体10Xの下面10bから、基板101の側に延びている。   Also in the present embodiment, the heat conducting portion 6 is formed in a rectangular frame shape around the mounting surface 10c of the lower sheet main body 10X, that is, around the device accommodating portion 7, and the lower sheet main body 10X of the chamber main body 5 is also formed. The bottom surface 10b extends to the substrate 101 side.

すなわち、本実施の形態による下側金属シート10は、チャンバ本体5の下側シート本体10Xと熱伝導部6とを形成可能な厚さを有する金属材料シート(図示せず)を準備し、この金属材料シートの下面に凹部を形成することにより得られる。この凹部が、上述した装置収容部7に相当する。このようにして、装置収容部7の周囲に矩形枠状に形成された熱伝導部6が、チャンバ本体5の下側シート本体10Xと一体化されている。なお、凹部は,ハーフエッチングにより形成することが好適であるが、これに限られることはない。ハーフエッチングで装置収容部7を形成する場合には、例えば、図10に示す拡散接合工程と図11に示す封入工程との間に、装置収容部7を形成するための第2のハーフエッチング工程を実施することが好適である。この場合には、拡散接合工程において、下側金属シート10の下面10bが残存しているため、下側金属シート10を均等に加圧することができ、拡散接合を好適に行うことができる。しかしながら、これに限られることはなく、工程の煩雑化を回避するという観点では、装置収容部7は、図7に示すハーフエッチング工程において、下側流路凹部12等と同時に形成するようにしてもよい。   That is, the lower metal sheet 10 according to the present embodiment prepares a metal material sheet (not shown) having a thickness capable of forming the lower sheet main body 10X of the chamber main body 5 and the heat conducting unit 6, and this It is obtained by forming a recess in the lower surface of the metal material sheet. This recessed portion corresponds to the above-described device accommodating portion 7. In this way, the heat conducting portion 6 formed in a rectangular frame shape around the device accommodating portion 7 is integrated with the lower sheet main body 10 </ b> X of the chamber main body 5. In addition, although it is suitable to form a recessed part by half etching, it is not restricted to this. In the case of forming the device housing portion 7 by half etching, for example, a second half etching step for forming the device housing portion 7 between the diffusion bonding step shown in FIG. 10 and the encapsulation step shown in FIG. It is preferable to implement. In this case, since the lower surface 10b of the lower metal sheet 10 remains in the diffusion bonding step, the lower metal sheet 10 can be evenly pressurized and diffusion bonding can be suitably performed. However, the present invention is not limited to this, and from the viewpoint of avoiding complication of the process, the apparatus accommodating portion 7 is formed at the same time as the lower channel recess 12 and the like in the half etching step shown in FIG. Also good.

ところで、図17に示すベーパーチャンバ1においては、下側シート本体10Xに密封空間3を構成する第2の下側流路凹部18が設けられている。この第2の下側流路凹部18は、下側シート本体10Xから熱伝導部6にわたって形成されている。また、上側シート本体20Xには、密封空間3を構成する第2の上側流路凹部27が設けられている。このように、熱伝導部6の領域を利用することにより、比較的大きな流路断面積を有する第2の下側流路凹部18および第2の上側流路凹部27を形成することができる。この場合、作動液2の蒸気をより一層拡散させやすくすることができ、蒸気の輸送効率を向上させることができる。なお、この第2の下側流路凹部18および第2の上側流路凹部27で構成される流路内には、凝縮して液状になった作動液2を蒸発部11に輸送させるために、図3等に示すウィックWが設けられていてもよい。   By the way, in the vapor chamber 1 shown in FIG. 17, a second lower flow path recess 18 constituting the sealed space 3 is provided in the lower sheet main body 10 </ b> X. The second lower channel recess 18 is formed from the lower sheet main body 10 </ b> X to the heat conducting unit 6. Further, the upper sheet main body 20 </ b> X is provided with a second upper flow path recess 27 that constitutes the sealed space 3. In this way, by using the region of the heat conducting section 6, the second lower channel recess 18 and the second upper channel recess 27 having a relatively large channel cross-sectional area can be formed. In this case, the vapor of the working fluid 2 can be more easily diffused, and the vapor transport efficiency can be improved. In addition, in order to transport the working fluid 2 that has been condensed into a liquid state to the evaporation section 11 in the flow path constituted by the second lower flow path recess 18 and the second upper flow path recess 27. A wick W shown in FIG. 3 or the like may be provided.

このように本実施の形態によれば、チャンバ本体5の熱が、熱伝導部6によって基板101に伝導される。このことにより、チャンバ本体5の熱を基板101に逃がすことができ、密封空間3内の作動液2を効率良く凝縮させることができる。このため、作動液2の相変化を促進させることができ、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the heat of the chamber body 5 is conducted to the substrate 101 by the heat conducting unit 6. Thereby, the heat of the chamber body 5 can be released to the substrate 101, and the working fluid 2 in the sealed space 3 can be efficiently condensed. For this reason, the phase change of the working fluid 2 can be promoted, and the heat transport efficiency of the vapor chamber 1 can be improved.

また、本実施の形態によれば、熱伝導部6は、チャンバ本体5の下側シート本体10Xと一体に形成されている。このことにより、下側シート本体10Xと熱伝導部6との間に熱抵抗が発生することを防止でき、チャンバ本体5の熱を、基板101の受熱部101aに効率良く逃がすことができる。また、熱伝導部6を備えるベーパーチャンバ1を形成するための部品点数が増大することを防止できるとともに、上述した図12に示す熱伝導部接合工程を不要にすることができる。   Further, according to the present embodiment, the heat conducting unit 6 is formed integrally with the lower sheet main body 10 </ b> X of the chamber main body 5. Thereby, it is possible to prevent thermal resistance from being generated between the lower sheet main body 10 </ b> X and the heat conducting unit 6, and the heat of the chamber main body 5 can be efficiently released to the heat receiving unit 101 a of the substrate 101. In addition, it is possible to prevent an increase in the number of components for forming the vapor chamber 1 including the heat conducting unit 6, and it is possible to eliminate the heat conducting unit joining step shown in FIG. 12 described above.

さらに、本実施の形態によれば、熱伝導部6は、下側シート本体10Xの取付面10cの周囲に枠状に形成されている。このことにより、熱伝導部6がデバイス102に干渉することを回避しながら、熱伝導部6は、熱伝導部6における熱の主要な移動方向(図1における上下方向)に垂直な断面の面積を確保することができる。このため、熱伝導部6により、チャンバ本体5の熱を、基板101の受熱部101aに効率良く逃がすことができる。とりわけ、本実施の形態によれば、下側シート本体10Xの下面をハーフエッチングすることにより装置収容部7とともに熱伝導部6を形成している。このことにより、熱伝導部6の平面面積を容易に増大させることができる。   Furthermore, according to this Embodiment, the heat conductive part 6 is formed in frame shape around the attachment surface 10c of the lower sheet | seat main body 10X. Thus, while avoiding that the heat conducting unit 6 interferes with the device 102, the heat conducting unit 6 has an area of a cross section perpendicular to the main movement direction of heat in the heat conducting unit 6 (vertical direction in FIG. 1). Can be secured. For this reason, the heat conduction section 6 can efficiently release the heat of the chamber body 5 to the heat receiving section 101 a of the substrate 101. In particular, according to the present embodiment, the heat conducting portion 6 is formed together with the device housing portion 7 by half-etching the lower surface of the lower sheet main body 10X. As a result, the planar area of the heat conducting unit 6 can be easily increased.

なお、上述した本実施の形態においては、上側シート本体20Xに、第2の上側流路凹部27が設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第2の上側流路凹部27は設けられていなくてもよい。この場合においても、第2の下側流路凹部18によって、作動液2の蒸気を拡散させるための流路断面積を確保することができ、作動液2の蒸気をより一層拡散させやすくすることができる。とりわけ、第2の上側流路凹部27が設けられていない場合には、上側流路凹部21は、主として液状の作動液2を蒸発部11に輸送するように構成されていてもよい。この場合には、例えば図16に示す液流路凹部30のように、上側流路凹部21の横断面形状を小さくすることができる。すなわち、上側金属シート20に、密封空間3の一部として形成される上側流路凹部21を、主として液状の作動液2を通すように構成する場合には、上側流路凹部21の深さを小さくすることができる。この場合、上側金属シート20の厚さを低減することができ、ベーパーチャンバ1のチャンバ本体5の薄型化に寄与し得る。   In the present embodiment described above, the example in which the second upper flow path recess 27 is provided in the upper sheet main body 20X has been described. However, the present invention is not limited to this, and the second upper flow path recess 27 may not be provided. Also in this case, the second lower flow path recess 18 can secure a flow path cross-sectional area for diffusing the vapor of the hydraulic fluid 2, and can further facilitate the diffusion of the vapor of the hydraulic fluid 2. Can do. In particular, when the second upper channel recess 27 is not provided, the upper channel recess 21 may be configured to mainly transport the liquid working fluid 2 to the evaporation unit 11. In this case, the cross-sectional shape of the upper channel recess 21 can be reduced, for example, like the liquid channel recess 30 shown in FIG. That is, when the upper channel recess 21 formed as a part of the sealed space 3 is configured to pass mainly the liquid working fluid 2 in the upper metal sheet 20, the depth of the upper channel recess 21 is set. Can be small. In this case, the thickness of the upper metal sheet 20 can be reduced, which can contribute to the thinning of the chamber body 5 of the vapor chamber 1.

(第3の実施の形態)
次に、図18を用いて、本発明の第3の実施の形態におけるベーパーチャンバ、ベーパーチャンバ搭載基板およびベーパーチャンバ用金属シートについて説明する。
(Third embodiment)
Next, a vapor chamber, a vapor chamber mounting substrate, and a vapor chamber metal sheet according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図18に示す第3の実施の形態においては、熱伝導部が、チャンバ本体と一体に形成されており、熱伝導部とチャンバ本体との間に屈曲部が介在されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図16に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図18において、図1乃至図16に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The third embodiment shown in FIG. 18 is mainly different in that the heat conducting portion is formed integrally with the chamber body, and a bent portion is interposed between the heat conducting portion and the chamber body. Other configurations are substantially the same as those of the first embodiment shown in FIGS. In FIG. 18, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 16 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図18に示すように、本実施の形態においては、装置収容部7の周囲に設けられた熱伝導部6は、下側シート本体10Xおよび上側シート本体20Xを含むチャンバ本体5と一体に形成されている。そして、熱伝導部6は、平面視でチャンバ本体5の外側に設けられており、熱伝導部6とチャンバ本体5との間に、屈曲部50が介在されている。この屈曲部50によって、熱伝導部6は、チャンバ本体5よりも基板101の側に配置されている。熱伝導部6および屈曲部50は、チャンバ本体5の周囲に全周にわたって連続状に形成されていることが好適であるが、周方向に断続的であってもよい。   As shown in FIG. 18, in the present embodiment, the heat conducting section 6 provided around the apparatus housing section 7 is formed integrally with the chamber body 5 including the lower sheet body 10X and the upper sheet body 20X. ing. The heat conducting unit 6 is provided outside the chamber body 5 in plan view, and a bent part 50 is interposed between the heat conducting unit 6 and the chamber body 5. Due to the bent portion 50, the heat conducting portion 6 is disposed closer to the substrate 101 than the chamber body 5. The heat conduction part 6 and the bent part 50 are preferably formed continuously around the entire circumference of the chamber body 5, but may be intermittent in the circumferential direction.

本実施の形態による熱伝導部6についてより具体的に説明する。   The heat conduction part 6 according to the present embodiment will be described more specifically.

本実施の形態では、チャンバ本体5の下側シート本体10Xは、下側金属シート10の一部を構成しており、下側金属シート10は、この下側シート本体10Xと下側熱伝導部51(後述)と下側屈曲部53(後述)とによって構成されている。このうち下側シート本体10Xは、主として、蒸発部11、下側流路凹部12、下側流路突出部13および下側周縁壁14によって構成されている部分に相当する。同様に、上側シート本体20Xは、上側金属シート20の一部を構成しており、上側金属シート20は、この上側シート本体20Xと上側熱伝導部52(後述)と上側屈曲部54(後述)とによって構成されている。このうち上側シート本体20Xは、主として、上側流路凹部21、上側流路突出部22および上側周縁壁23によって構成されている部分に相当する。   In the present embodiment, the lower sheet main body 10X of the chamber main body 5 constitutes a part of the lower metal sheet 10, and the lower metal sheet 10 includes the lower sheet main body 10X and the lower heat conducting portion. 51 (described later) and a lower bent portion 53 (described later). Of these, the lower sheet main body 10 </ b> X mainly corresponds to a portion constituted by the evaporation section 11, the lower flow path recess 12, the lower flow path protrusion 13, and the lower peripheral wall 14. Similarly, the upper sheet main body 20X constitutes a part of the upper metal sheet 20, and the upper metal sheet 20 includes the upper sheet main body 20X, an upper heat conducting portion 52 (described later), and an upper bent portion 54 (described later). And is composed of. Of these, the upper sheet main body 20 </ b> X mainly corresponds to a portion constituted by the upper flow path recess 21, the upper flow path protrusion 22, and the upper peripheral wall 23.

熱伝導部6は、下側金属シート10の下側シート本体10Xの下側周縁壁14に連結された下側熱伝導部51と、上側金属シート20の上側シート本体20Xの上側周縁壁23に連結された上側熱伝導部52と、を有している。このうち下側熱伝導部51と下側周縁壁14との間に下側屈曲部53が介在されており、上側熱伝導部52と上側周縁壁23との間に上側屈曲部54が介在されている。下側屈曲部53および上側屈曲部54は、上述した屈曲部50を構成している。下側熱伝導部51および下側屈曲部53は、下側周縁壁14に対して連続状に一体に形成されており、上側熱伝導部52および上側屈曲部54は、上側周縁壁23に対して連続状に一体に形成されている。下側熱伝導部51と上側熱伝導部52とが拡散接合されており、下側屈曲部53と上側屈曲部54とが拡散接合されている。   The heat conduction part 6 is connected to the lower heat conduction part 51 connected to the lower peripheral wall 14 of the lower sheet main body 10 </ b> X of the lower metal sheet 10 and the upper peripheral wall 23 of the upper sheet main body 20 </ b> X of the upper metal sheet 20. And an upper heat conduction portion 52 connected thereto. Among these, a lower bent portion 53 is interposed between the lower heat conducting portion 51 and the lower peripheral wall 14, and an upper bent portion 54 is interposed between the upper heat conductive portion 52 and the upper peripheral wall 23. ing. The lower bent portion 53 and the upper bent portion 54 constitute the bent portion 50 described above. The lower heat conducting portion 51 and the lower bent portion 53 are integrally formed continuously with the lower peripheral wall 14, and the upper heat conductive portion 52 and the upper bent portion 54 are formed with respect to the upper peripheral wall 23. Are integrally formed in a continuous manner. The lower heat conducting portion 51 and the upper heat conducting portion 52 are diffusion bonded, and the lower bent portion 53 and the upper bent portion 54 are diffusion bonded.

上述した屈曲部50が設けられていることにより、熱伝導部6の熱伝導面6aは、下側金属シート10の下面10bよりも基板101の側に変位されている。そして、熱伝導面6aは、基板101の受熱部101aに接し、チャンバ本体5の熱を基板101に伝導可能になっている。   By providing the bent portion 50 described above, the heat conduction surface 6 a of the heat conduction portion 6 is displaced to the substrate 101 side from the lower surface 10 b of the lower metal sheet 10. The heat conducting surface 6 a is in contact with the heat receiving portion 101 a of the substrate 101 so that the heat of the chamber body 5 can be conducted to the substrate 101.

本実施の形態によるベーパーチャンバ1を製造する場合には、下側シート本体10X、下側屈曲部53および下側熱伝導部51を形成するために、これらの部分を形成可能な大きさを有する金属材料シート(図示せず)を用いる。また、上側シート本体20X、上側屈曲部54および上側熱伝導部52を形成するために、これらの部分を形成可能な大きさを有する金属材料シート(図示せず)を用いる。   In the case of manufacturing the vapor chamber 1 according to the present embodiment, in order to form the lower sheet main body 10X, the lower bent portion 53, and the lower heat conducting portion 51, these portions can be formed. A metal material sheet (not shown) is used. Further, in order to form the upper sheet main body 20X, the upper bent portion 54, and the upper heat conducting portion 52, a metal material sheet (not shown) having a size capable of forming these portions is used.

図11に示す作動液2の封入工程の後、折曲工程が実施される。より具体的には、屈曲部50のうち下側周縁壁14および上側周縁壁23の側において、下側屈曲部53が内側になるように、下側金属シート10および上側金属シート20が折り曲げられる。また、屈曲部50のうち下側熱伝導部51および上側熱伝導部52の側において、上側屈曲部54が内側になるように、下側金属シート10および上側金属シート20が折り曲げられる。このようにして、図18に示す屈曲部50が形成され、熱伝導部6が、チャンバ本体5よりも基板101の側に変位され、基板101の受熱部101aに接する熱伝導面6aが得られる。   A bending process is implemented after the sealing process of the hydraulic fluid 2 shown in FIG. More specifically, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are bent so that the lower bent portion 53 is on the inner side of the bent portion 50 on the lower peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 side. . Further, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are bent so that the upper bent portion 54 is on the inner side of the bent portion 50 on the lower heat conducting portion 51 and the upper heat conducting portion 52 side. In this way, the bent portion 50 shown in FIG. 18 is formed, and the heat conducting portion 6 is displaced to the substrate 101 side with respect to the chamber body 5, and the heat conducting surface 6a in contact with the heat receiving portion 101a of the substrate 101 is obtained. .

その後、図13に示す搭載工程と同様にして、ベーパーチャンバ1が、デバイス102が実装された基板101に搭載され、図18に示すベーパーチャンバ搭載基板100を得ることができる。   Thereafter, in the same manner as the mounting process shown in FIG. 13, the vapor chamber 1 is mounted on the substrate 101 on which the device 102 is mounted, and the vapor chamber mounting substrate 100 shown in FIG. 18 can be obtained.

このように本実施の形態によれば、チャンバ本体5の熱が、熱伝導部6によって基板101に伝導される。このことにより、チャンバ本体5の熱を基板101に逃がすことができ、密封空間3内の作動液2を効率良く凝縮させることができる。このため、作動液2の相変化を促進させることができ、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the heat of the chamber body 5 is conducted to the substrate 101 by the heat conducting unit 6. Thereby, the heat of the chamber body 5 can be released to the substrate 101, and the working fluid 2 in the sealed space 3 can be efficiently condensed. For this reason, the phase change of the working fluid 2 can be promoted, and the heat transport efficiency of the vapor chamber 1 can be improved.

また、本実施の形態によれば、熱伝導部6は、チャンバ本体5とは一体に形成されている。このことにより、チャンバ本体5と熱伝導部6との間に熱抵抗が発生することを防止でき、チャンバ本体5の熱を、基板101の受熱部101aに効率良く逃がすことができる。また、熱伝導部6を備えるベーパーチャンバ1を形成するための部品点数が増大することを防止できるとともに、上述した図12に示す熱伝導部接合工程を不要にすることができる。   Further, according to the present embodiment, the heat conducting unit 6 is formed integrally with the chamber body 5. Accordingly, it is possible to prevent thermal resistance from being generated between the chamber main body 5 and the heat conducting unit 6, and the heat of the chamber main body 5 can be efficiently released to the heat receiving unit 101 a of the substrate 101. In addition, it is possible to prevent an increase in the number of components for forming the vapor chamber 1 including the heat conducting unit 6, and it is possible to eliminate the heat conducting unit joining step shown in FIG. 12 described above.

さらに、本実施の形態によれば、熱伝導部6とチャンバ本体5との間に屈曲部50が介在されている。このことにより、熱伝導部6がデバイス102に干渉することを回避しながら、熱伝導部6の熱伝導面6aが、基板101の受熱部101aに接することができる。このため、チャンバ本体5の熱を、基板101の受熱部101aに効率良く逃がすことができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the bent portion 50 is interposed between the heat conducting portion 6 and the chamber body 5. Accordingly, the heat conduction surface 6 a of the heat conduction unit 6 can be in contact with the heat receiving unit 101 a of the substrate 101 while avoiding the heat conduction unit 6 from interfering with the device 102. For this reason, the heat of the chamber body 5 can be efficiently released to the heat receiving portion 101 a of the substrate 101.

本発明は上記実施の形態および変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態および変形例にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications as they are, and can be embodied by modifying the components without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above-described embodiments and modifications. You may delete a some component from all the components shown by embodiment and a modification. Furthermore, constituent elements over different embodiments and modifications may be combined as appropriate.

例えば、上述した本実施の形態においては、下側シート本体10X(あるいは下側金属シート10)の下側流路凹部12内に、下側流路突出部13がボスとして設けられるとともに、上側シート本体20X(あるいは上側金属シート20)の上側流路凹部21内に、上側流路突出部22がボスとして設けられている例について説明した。しかしながら、下側流路突出部13および上側流路突出部22の形状や構成は、これに限られることはなく、任意である。   For example, in the present embodiment described above, the lower sheet protrusion 13 is provided as a boss in the lower channel recess 12 of the lower sheet body 10X (or the lower metal sheet 10), and the upper sheet The example in which the upper channel protrusion 22 is provided as a boss in the upper channel recess 21 of the main body 20X (or the upper metal sheet 20) has been described. However, the shape and configuration of the lower flow path protrusion 13 and the upper flow path protrusion 22 are not limited to this and are arbitrary.

1 ベーパーチャンバ
2 作動液
3 密封空間
5 チャンバ本体
6 熱伝導部
10 下側金属シート
10X 下側シート本体
10c 取付面
20 上側金属シート
50 屈曲部
100 ベーパーチャンバ搭載基板
101 基板
102 デバイス
102a 上面
102b 面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vapor chamber 2 Hydraulic fluid 3 Sealed space 5 Chamber main body 6 Heat conduction part 10 Lower metal sheet 10X Lower sheet main body 10c Mounting surface 20 Upper metal sheet 50 Bending part 100 Vapor chamber mounting substrate 101 Substrate 102 Device 102a Upper surface 102b Surface

Claims (7)

基板に実装された被冷却装置を冷却するベーパーチャンバであって、
作動液が封入された密封空間と、前記被冷却装置の前記基板に実装される面とは反対側の面に取り付けられる取付面と、を有し、前記被冷却装置の熱を受けるチャンバ本体と、
前記チャンバ本体の熱を前記基板に伝導させる熱伝導部と、を備えた、ベーパーチャンバ。
A vapor chamber for cooling a device to be cooled mounted on a substrate,
A chamber body having a sealed space in which a working fluid is sealed, and a mounting surface attached to a surface opposite to a surface mounted on the substrate of the cooled device, and receiving heat of the cooled device; ,
A vapor chamber, comprising: a heat conducting portion that conducts heat of the chamber body to the substrate.
前記熱伝導部は、前記チャンバ本体とは別体に形成されている、請求項1に記載のベーパーチャンバ。   The vapor chamber according to claim 1, wherein the heat conducting unit is formed separately from the chamber body. 前記熱伝導部は、前記チャンバ本体と一体に形成されている、請求項1に記載のベーパーチャンバ。   The vapor chamber according to claim 1, wherein the heat conducting unit is formed integrally with the chamber body. 前記熱伝導部は、前記取付面の周囲に枠状に形成されている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ。   The vapor chamber according to any one of claims 1 to 3, wherein the heat conducting portion is formed in a frame shape around the mounting surface. 前記熱伝導部は、平面視で前記チャンバ本体の外側に設けられ、
前記熱伝導部と前記チャンバ本体との間に屈曲部が介在されている、請求項3に記載のベーパーチャンバ。
The heat conducting portion is provided outside the chamber body in plan view,
The vapor chamber according to claim 3, wherein a bent portion is interposed between the heat conducting portion and the chamber body.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の前記ベーパーチャンバと、
前記基板と、
前記基板に実装された前記被冷却装置と、を備えた、ベーパーチャンバ搭載基板。
The vapor chamber according to any one of claims 1 to 5,
The substrate;
A vapor chamber mounting substrate comprising: the cooled device mounted on the substrate.
作動液が封入された密封空間を有し、基板に実装された被冷却装置を冷却するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記被冷却装置の前記基板に実装される面とは反対側の面に取り付けられる取付面を有し、前記被冷却装置の熱を受けるシート本体と、
前記シート本体の熱を前記基板に伝導させる熱伝導部と、を備えた、ベーパーチャンバ用金属シート。
A metal sheet for a vapor chamber for a vapor chamber having a sealed space in which a working fluid is sealed and cooling a device to be cooled mounted on a substrate,
A sheet main body that has a mounting surface that is attached to a surface opposite to a surface mounted on the substrate of the cooled device, and that receives heat of the cooled device;
A metal sheet for a vapor chamber, comprising: a heat conducting portion that conducts heat of the sheet main body to the substrate.
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