JP2018159645A - Physical quantity sensor, method for manufacturing physical quantity sensor, physical quantity sensor device, electronic apparatus, and mobile body - Google Patents

Physical quantity sensor, method for manufacturing physical quantity sensor, physical quantity sensor device, electronic apparatus, and mobile body Download PDF

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JP2018159645A JP2017057390A JP2017057390A JP2018159645A JP 2018159645 A JP2018159645 A JP 2018159645A JP 2017057390 A JP2017057390 A JP 2017057390A JP 2017057390 A JP2017057390 A JP 2017057390A JP 2018159645 A JP2018159645 A JP 2018159645A
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敦紀 成瀬
Atsunori Naruse
敦紀 成瀬
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a physical quantity sensor, a method for manufacturing a physical quantity sensor, a physical quantity sensor device, an electronic apparatus, and a mobile body which can exhibit excellent temperature characteristics.SOLUTION: The physical quantity sensor includes: an insulating base material containing movable ions; an element piece of the base material; a wiring of the base material, which is electrically connected to the element piece; and a first insulating layer between the base material and the wiring, in which the movable ions are contained in a smaller amount than in the base material. The physical quantity sensor has a second insulating layer covering the wiring, in which the movable ions are contained in a smaller amount than in the base material.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、物理量センサー、物理量センサーの製造方法、物理量センサーデバイス、電子機器および移動体に関するものである。   The present invention relates to a physical quantity sensor, a physical quantity sensor manufacturing method, a physical quantity sensor device, an electronic apparatus, and a moving object.

例えば、加速度を検出することのできる加速度センサーとして、特許文献1に記載の構成が知られている。特許文献1の加速度センサーは、アルカリ金属イオンを含むガラス基板と、ガラス基板に陽極接合された素子片と、ガラス基板に設けられ、素子片と電気的に接続された配線と、を有している。   For example, a configuration described in Patent Document 1 is known as an acceleration sensor that can detect acceleration. The acceleration sensor of Patent Document 1 includes a glass substrate containing alkali metal ions, an element piece anodically bonded to the glass substrate, and a wiring provided on the glass substrate and electrically connected to the element piece. Yes.

特開平6−347475号公報JP-A-6-347475

上述したように、特許文献1の加速度センサーでは、アルカリ金属イオンを含むガラス基板を用いているが、このガラス材料は、高温環境下で電気抵抗率が著しく低下する性質を有している。そのため、高温環境下では配線からガラス基板へ電荷が漏れてしまい、センサー特性が変動してしまう。このように、特許文献1の加速度センサーでは、温度特性が悪いという問題がある。   As described above, in the acceleration sensor of Patent Document 1, a glass substrate containing alkali metal ions is used, but this glass material has a property that the electrical resistivity is remarkably reduced in a high temperature environment. Therefore, electric charges leak from the wiring to the glass substrate in a high temperature environment, and the sensor characteristics change. Thus, the acceleration sensor of Patent Document 1 has a problem that the temperature characteristics are poor.

本発明の目的は、優れた温度特性を有する物理量センサー、物理量センサーの製造方法、物理量センサーデバイス、電子機器および移動体を提供することにある。   The objective of this invention is providing the physical quantity sensor which has the outstanding temperature characteristic, the manufacturing method of a physical quantity sensor, a physical quantity sensor device, an electronic device, and a moving body.

このような目的は、下記の本発明により達成される。   Such an object is achieved by the present invention described below.

本発明の物理量センサーは、可動イオンを含有する絶縁性の基体と、
前記基体に設けられた素子片と、
前記基体に設けられ、前記素子片と電気的に接続されている配線と、
前記基体と前記配線との間に設けられ、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第1絶縁層と、を有することを特徴とする。
これにより、低温、常温環境下ではもちろんのこと、特に、高温環境下における配線から基体への電荷の漏れ(リーク)を効果的に抑制することができる。そのため、環境温度に影響されることなく、配線から基体への電荷のリークを抑制することができ、環境温度によるセンサー特性の変化が小さく、優れた温度特性を発揮することができる物理量センサー1となる。
The physical quantity sensor of the present invention comprises an insulating substrate containing mobile ions,
An element piece provided on the substrate;
Wiring provided on the base body and electrically connected to the element piece;
And an insulating first insulating layer provided between the base and the wiring and having a content of movable ions less than that of the base.
As a result, it is possible to effectively suppress the leakage of charges from the wiring to the substrate in a high temperature environment as well as in a low temperature and normal temperature environment. Therefore, the physical quantity sensor 1 can suppress leakage of electric charges from the wiring to the base body without being affected by the environmental temperature, can hardly change the sensor characteristics due to the environmental temperature, and can exhibit excellent temperature characteristics. Become.

本発明の物理量センサーでは、前記配線を覆い、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第2絶縁層を有することが好ましい。
これにより、第1絶縁層と第2絶縁層とで配線を覆うことができ、配線と基体2との接触をより確実に抑制することができる。そのため、配線から基体への電荷のリークをより確実に抑制することができる。
In the physical quantity sensor of the present invention, it is preferable to have an insulating second insulating layer that covers the wiring and has a mobile ion content less than that of the base.
Thereby, wiring can be covered with a 1st insulating layer and a 2nd insulating layer, and a contact with wiring and the base | substrate 2 can be suppressed more reliably. Therefore, it is possible to more reliably suppress charge leakage from the wiring to the base.

本発明の物理量センサーでは、前記第1絶縁層および前記第2絶縁層は、互いに同じ材料を含むことが好ましい。
これにより、第1絶縁層と第2絶縁層との熱膨張係数差をより小さくすることができ、熱膨張係数の差に起因する応力の発生を効果的に抑制することができる。そのため、温度によって変化する応力歪が素子片に加わり難くなり、物理量センサーは、より優れた温度特性を発揮することができる。
In the physical quantity sensor of the present invention, it is preferable that the first insulating layer and the second insulating layer include the same material.
Thereby, the difference in thermal expansion coefficient between the first insulating layer and the second insulating layer can be further reduced, and the generation of stress due to the difference in thermal expansion coefficient can be effectively suppressed. Therefore, it becomes difficult to apply stress strain that changes with temperature to the element piece, and the physical quantity sensor can exhibit more excellent temperature characteristics.

本発明の物理量センサーでは、前記第2絶縁層は、低融点ガラスで構成されていることが好ましい。
これにより、第2絶縁層の構成が簡単なものとなる。
In the physical quantity sensor of the present invention, it is preferable that the second insulating layer is made of low melting point glass.
Thereby, the configuration of the second insulating layer is simplified.

本発明の物理量センサーでは、前記基体との間に前記素子片を収納するように前記基体に接合されている蓋部を有し、
前記蓋部および前記基体は、前記第2絶縁層を介して接合されていることが好ましい。
これにより、物理量センサーの製造工程の削減を図ることができると共に、装置構成が簡単なものとなる。
In the physical quantity sensor of the present invention, the physical quantity sensor has a lid portion joined to the base so as to store the element piece between the base and the base.
It is preferable that the lid portion and the base body are bonded via the second insulating layer.
Thereby, the manufacturing process of the physical quantity sensor can be reduced, and the apparatus configuration is simplified.

本発明の物理量センサーでは、前記基体は、凹部を有し、
前記凹部内に、前記配線および前記第1絶縁層が設けられていることが好ましい。
これにより、基体の主面からの配線の突出が防止され、基体と素子片とをより容易にかつ確実に接合することができる。
In the physical quantity sensor of the present invention, the base has a recess,
It is preferable that the wiring and the first insulating layer are provided in the recess.
Thereby, the protrusion of the wiring from the main surface of the base body is prevented, and the base body and the element piece can be joined more easily and reliably.

本発明の物理量センサーの製造方法は、可動イオンを含有する絶縁性の基体を準備する工程と、
前記基体上に、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層上に配線を形成する工程と、
前記基体上に、前記配線と電気的に接続されている素子片を配置する工程と、を有することを特徴とする。
これにより、低温、常温環境下ではもちろんのこと、特に、高温環境下における配線から基体への電荷の漏れ(リーク)を効果的に抑制することができる物理量センサーが得られる。そのため、環境温度に影響されることなく、配線から基体への電荷のリークを抑制することができ、環境温度によるセンサー特性の変化が小さく、優れた温度特性を発揮することができる物理量センサーとなる。
The method of manufacturing a physical quantity sensor of the present invention includes a step of preparing an insulating substrate containing mobile ions,
Forming an insulating first insulating layer on the substrate, the content of mobile ions being less than that of the substrate;
Forming a wiring on the first insulating layer;
And disposing an element piece electrically connected to the wiring on the base.
Thereby, it is possible to obtain a physical quantity sensor capable of effectively suppressing charge leakage from the wiring to the substrate in a high temperature environment as well as in a low temperature and normal temperature environment. Therefore, it is possible to suppress the leakage of electric charges from the wiring to the base body without being affected by the environmental temperature, and the physical quantity sensor can exhibit excellent temperature characteristics with little change in sensor characteristics due to the environmental temperature. .

本発明の物理量センサーの製造方法では、前記配線を形成する工程と前記素子片を配置する工程との間に、前記配線を覆い、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第2絶縁層を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、第1絶縁層と第2絶縁層とで配線を覆うことができ、配線と基体との接触をより確実に抑制することができる。そのため、配線から基体への電荷のリークをより確実に抑制することができる。
In the physical quantity sensor manufacturing method of the present invention, an insulating second material that covers the wiring between the step of forming the wiring and the step of disposing the element piece and has a smaller content of mobile ions than the substrate. It is preferable to include a step of forming an insulating layer.
Thereby, wiring can be covered with the 1st insulating layer and the 2nd insulating layer, and contact with wiring and a substrate can be controlled more certainly. Therefore, it is possible to more reliably suppress charge leakage from the wiring to the base.

本発明の物理量センサーの製造方法では、前記基体と前記素子片とは、陽極接合されていることが好ましい。
これにより、基体と素子片とをより強固に接合することができる。
In the physical quantity sensor manufacturing method of the present invention, it is preferable that the base and the element piece are anodically bonded.
Thereby, a base | substrate and an element piece can be joined more firmly.

本発明の物理量センサーデバイスは、本発明の物理量センサーを有することを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い物理量センサーデバイスが得られる。
The physical quantity sensor device of the present invention includes the physical quantity sensor of the present invention.
Thereby, the physical quantity sensor device of the present invention can be enjoyed, and a highly reliable physical quantity sensor device can be obtained.

本発明の電子機器は、本発明の物理量センサーを有することを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い電子機器が得られる。
The electronic device of the present invention includes the physical quantity sensor of the present invention.
Thereby, the effect of the physical quantity sensor of the present invention can be enjoyed, and a highly reliable electronic device can be obtained.

本発明の移動体は、本発明の物理量センサーを有することを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い移動体が得られる。
The moving body of the present invention has the physical quantity sensor of the present invention.
Thereby, the effect of the physical quantity sensor of this invention can be enjoyed and a reliable mobile body is obtained.

本発明の第1実施形態に係る物理量センサーを示す平面図である。It is a top view which shows the physical quantity sensor which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1中のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 図1に示す物理量センサーが有する配線の断面図である。It is sectional drawing of the wiring which the physical quantity sensor shown in FIG. 1 has. 図1に示す物理量センサーが有する素子片に印加する電圧を示す図である。It is a figure which shows the voltage applied to the element piece which the physical quantity sensor shown in FIG. 1 has. 図1に示す物理量センサーの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係る物理量センサーを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the physical quantity sensor which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る物理量センサーを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the physical quantity sensor which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る物理量センサーデバイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the physical quantity sensor device which concerns on 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device which concerns on 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device which concerns on 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device which concerns on 7th Embodiment of this invention. 本発明の第8実施形態に係る移動体を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mobile body which concerns on 8th Embodiment of this invention.

以下、本発明の物理量センサー、物理量センサーの製造方法、物理量センサーデバイス、電子機器および移動体を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, a physical quantity sensor, a method of manufacturing a physical quantity sensor, a physical quantity sensor device, an electronic apparatus, and a moving body of the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the accompanying drawings.

<第1実施形態>
まず、本発明の第1実施形態に係る物理量センサーについて説明する。
<First Embodiment>
First, the physical quantity sensor according to the first embodiment of the invention will be described.

図1は、本発明の第1実施形態に係る物理量センサーを示す平面図である。図2は、図1中のA−A線断面図である。図3は、図1に示す物理量センサーが有する配線の断面図である。図4は、図1に示す物理量センサーが有する素子片に印加する電圧を示す図である。図5は、図1に示す物理量センサーの製造工程を示すフローチャートである。図6ないし図14は、それぞれ、図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図1中の紙面手前側および図2、図3、図6ないし図14中の上側を「上」とも言い、図1中の紙面奥側および図2、図3、図6ないし図14中の下側を「下」とも言う。また、各図に示すように、互いに直交する3つの軸をX軸、Y軸およびZ軸とし、X軸に平行な方向を「X軸方向」、Y軸に平行な方向を「Y軸方向」、Z軸に平行な方向を「Z軸方向」とも言う。また、各軸の矢印方向先端側を「プラス側」とも言い、反対側を「マイナス側」とも言う。なお、図1では、説明の便宜上、第1、第2絶縁層の図示を省略している。   FIG. 1 is a plan view showing a physical quantity sensor according to the first embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the wiring of the physical quantity sensor shown in FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating voltages applied to the element pieces included in the physical quantity sensor illustrated in FIG. 1. FIG. 5 is a flowchart showing manufacturing steps of the physical quantity sensor shown in FIG. 6 to 14 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the physical quantity sensor shown in FIG. In the following, for convenience of explanation, the front side in FIG. 1 and the upper side in FIGS. 2, 3, 6 to 14 are also referred to as “up”, and the back side in FIG. 1 and FIGS. 3. The lower side in FIGS. 6 to 14 is also referred to as “lower”. Also, as shown in each figure, the three axes orthogonal to each other are the X axis, Y axis, and Z axis, the direction parallel to the X axis is “X axis direction”, and the direction parallel to the Y axis is “Y axis direction” The direction parallel to the Z axis is also referred to as the “Z axis direction”. Further, the tip end side of each axis in the arrow direction is also referred to as “plus side”, and the opposite side is also referred to as “minus side”. In FIG. 1, illustration of the first and second insulating layers is omitted for convenience of explanation.

図1に示す物理量センサー1は、X軸方向の加速度Axを検出することのできる加速度センサーである。このような物理量センサー1は、基体2と、基体2上に配置された素子片3と、素子片3を覆うように基体2に接合された蓋部8と、を有している。以下、これら各部について、順に詳細に説明する。   A physical quantity sensor 1 shown in FIG. 1 is an acceleration sensor that can detect an acceleration Ax in the X-axis direction. Such a physical quantity sensor 1 has a base 2, an element piece 3 disposed on the base 2, and a lid portion 8 joined to the base 2 so as to cover the element piece 3. Hereinafter, each of these units will be described in detail in order.

(基体)
図1に示すように、基体2は、矩形の平面視形状を有する板状をなしている。また、基体2は、上面側に開放する凹部21を有している。このような凹部21は、素子片3と基体2との接触を防止(抑制)するための逃げ部として機能する。また、基体2は、上面側に開放する3つの溝部22、23、24(凹部)を有している。
(Substrate)
As shown in FIG. 1, the base 2 has a plate shape having a rectangular plan view. Moreover, the base | substrate 2 has the recessed part 21 opened to the upper surface side. Such a recess 21 functions as an escape portion for preventing (suppressing) the contact between the element piece 3 and the base 2. The base body 2 has three groove portions 22, 23, and 24 (concave portions) that are open on the upper surface side.

このような基体2としては、例えば、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオン(可動イオン)を含有するガラス材料(例えば、テンパックスガラス(登録商標)、パイレックスガラス(登録商標)のような硼珪酸ガラス)で構成されたガラス基板を用いることができる。これにより、例えば、後述するように、シリコン基板から形成された素子片3を陽極接合法により基体2に接合することができる。そのため、素子片3を基体2に強固に接合することができる。また、光透過性を有する基体2を得ることもできる。そのため、物理量センサー1の外側から、基体2を介して素子片3の状態(例えば、素子片3が凹部21の底面に貼り付いてしまう現象である「スティッキング」の有無や配線の状態)を視認することができる。   Examples of such a substrate 2 include a glass material containing alkali metal ions (movable ions) such as sodium ions (for example, borosilicate glass such as Tempax glass (registered trademark) and Pyrex glass (registered trademark)). The glass substrate comprised by can be used. Thereby, for example, as will be described later, the element piece 3 formed from the silicon substrate can be bonded to the base 2 by the anodic bonding method. Therefore, the element piece 3 can be firmly bonded to the base 2. Moreover, the base | substrate 2 which has a light transmittance can also be obtained. Therefore, the state of the element piece 3 (for example, the presence or absence of “sticking” that is a phenomenon in which the element piece 3 sticks to the bottom surface of the recess 21 and the state of the wiring) are visually recognized from the outside of the physical quantity sensor 1 through the base 2. can do.

また、図1に示すように、溝部22、23、24には素子片3と電気的に接続された配線72、73、74が設けられている。また、配線72、73、74の一端部は、それぞれ、蓋部8の外側に露出しており、外部装置(例えば、後述する回路素子1020)との電気的な接続を行う電極パッドPとして機能する。   Further, as shown in FIG. 1, wirings 72, 73, and 74 that are electrically connected to the element pieces 3 are provided in the groove portions 22, 23, and 24. In addition, one end portions of the wirings 72, 73, and 74 are exposed to the outside of the lid portion 8, and function as electrode pads P that are electrically connected to an external device (for example, a circuit element 1020 described later). To do.

配線72、73、74の構成材料としては、特に限定されず、例えば、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、Ti(チタン)、タングステン(W)等の金属材料、これら金属材料を含む合金、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ZnO、IGZO等の酸化物系の透明導電性材料が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば2層以上の積層体として)用いることができる。   The constituent material of the wiring 72, 73, 74 is not particularly limited. For example, gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), palladium (Pd), iridium (Ir), copper (Cu), aluminum Metal materials such as (Al), nickel (Ni), Ti (titanium) and tungsten (W), alloys containing these metal materials, oxidation of ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ZnO, IGZO, etc. Examples thereof include physical transparent conductive materials, and one or more of them can be used in combination (for example, as a laminate of two or more layers).

より具体的には、例えば、配線72、73、74は、図3に示すように、チタン(Ti)で構成された下地層7aと、下地層7a上に積層され、白金(Pt)で構成された電極層7bと、電極層7b上に積層され、チタン−タングステン合金(TiW)で構成された被覆層7cと、からなる構成とすることができる。この場合、例えば、下地層7aの厚さを150nm以上250nm以下とし、電極層7bの厚さを50nm以上60nm以下とし、被覆層7cの厚さを80nm以上120nm以下とすることができる。なお、これら3つの層のうち、下地層7aは、後述する第1絶縁層91と配線72、73、74との密着性を向上させる機能を有しており、被覆層7cは、後述する第2絶縁層92と配線72、73、74との密着性を向上させる機能を有している。これにより、基体2からの配線72、73、74や第2絶縁層92の剥離を効果的に抑制することができる。   More specifically, for example, as shown in FIG. 3, the wirings 72, 73, and 74 are composed of a base layer 7a made of titanium (Ti) and laminated on the base layer 7a and made of platinum (Pt). The electrode layer 7b formed on the electrode layer 7b and the coating layer 7c laminated on the electrode layer 7b and made of a titanium-tungsten alloy (TiW) can be used. In this case, for example, the thickness of the base layer 7a can be set to 150 nm to 250 nm, the thickness of the electrode layer 7b can be set to 50 nm to 60 nm, and the thickness of the covering layer 7c can be set to 80 nm to 120 nm. Of these three layers, the base layer 7a has a function of improving the adhesion between the first insulating layer 91 to be described later and the wirings 72, 73, and 74, and the covering layer 7c is a first layer to be described later. 2 has a function of improving the adhesion between the insulating layer 92 and the wirings 72, 73 and 74. Thereby, peeling of wiring 72, 73, 74 and the 2nd insulating layer 92 from the base | substrate 2 can be suppressed effectively.

(蓋部)
図1に示すように、蓋部8は、矩形の平面視形状を有する板状をなしている。また、図2に示すように、蓋部8は、下面側(基体2側)に開放する凹部81を有している。このような蓋部8は、凹部81内に素子片3を収納するようにして、基体2の上面に接合されている。そして、蓋部8および基体2によって、その内側に素子片3を収納する収納空間Sが形成されている。
(Cover)
As shown in FIG. 1, the lid portion 8 has a plate shape having a rectangular plan view shape. Moreover, as shown in FIG. 2, the cover part 8 has the recessed part 81 opened to the lower surface side (base | substrate 2 side). Such a lid 8 is joined to the upper surface of the base 2 so as to accommodate the element piece 3 in the recess 81. A storage space S for storing the element piece 3 is formed inside the cover portion 8 and the base body 2.

また、図2に示すように、蓋部8は、収納空間Sの内外を連通する連通孔82を有している。この連通孔82を介して、収納空間Sを所望の雰囲気に置換することができる。また、連通孔82内には封止部材83が配置され、封止部材83によって連通孔82が気密封止されている。   Further, as shown in FIG. 2, the lid 8 has a communication hole 82 that communicates the inside and outside of the storage space S. The storage space S can be replaced with a desired atmosphere through the communication hole 82. A sealing member 83 is disposed in the communication hole 82, and the communication hole 82 is hermetically sealed by the sealing member 83.

封止部材83としては、連通孔82を封止できれば、特に限定されず、例えば、金(Au)/錫(Sn)系合金、金(Au)/ゲルマニウム(Ge)系合金、金(Au)/アルミニウム(Al)系合金等の各種合金、低融点ガラス等のガラス材料等を用いることができる。   The sealing member 83 is not particularly limited as long as the communication hole 82 can be sealed. For example, gold (Au) / tin (Sn) alloy, gold (Au) / germanium (Ge) alloy, gold (Au) / Various alloys such as aluminum (Al) alloys, glass materials such as low melting point glass, etc. can be used.

収納空間Sは、気密空間である。また、収納空間Sは、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが封入されて、使用温度(−40℃〜120℃程度)で、ほぼ大気圧となっていることが好ましい。収納空間Sを大気圧とすることで、粘性抵抗が増してダンピング効果が発揮され、素子片3(後述する可動部323)の振動を速やかに収束させることができる。そのため、物理量センサー1の加速度Axの検出精度が向上する。   The storage space S is an airtight space. The storage space S is preferably filled with an inert gas such as nitrogen, helium, or argon and is at atmospheric pressure at the operating temperature (about −40 ° C. to 120 ° C.). By setting the storage space S to atmospheric pressure, the viscous resistance is increased and the damping effect is exhibited, so that the vibration of the element piece 3 (movable portion 323 described later) can be quickly converged. Therefore, the detection accuracy of the acceleration Ax of the physical quantity sensor 1 is improved.

このような蓋部8としては、例えば、シリコン基板を用いることができる。ただし、蓋部8としては、特に限定されず、例えば、ガラス基板やセラミックス基板を用いてもよい。また、基体2と蓋部8との接合方法としては、特に限定されず、基体2や蓋部8の材料によって適宜選択すればよいが、例えば、陽極接合、プラズマ照射によって活性化させた接合面同士を接合させる活性化接合、ガラスフリット等の接合材による接合、基体2の上面および蓋部8の下面に成膜した金属膜同士を接合する拡散接合等が挙げられる。   As such a cover part 8, a silicon substrate can be used, for example. However, the lid 8 is not particularly limited, and for example, a glass substrate or a ceramic substrate may be used. Moreover, it does not specifically limit as a joining method of the base | substrate 2 and the cover part 8, What is necessary is just to select suitably by the material of the base | substrate 2 and the cover part 8, For example, the joining surface activated by anodic bonding and plasma irradiation Examples include activation bonding for bonding together, bonding with a bonding material such as glass frit, diffusion bonding for bonding metal films formed on the upper surface of the substrate 2 and the lower surface of the lid 8, and the like.

本実施形態では、図2に示すように、接合材の一例である低融点ガラス89(ガラスフリット)を介して基体2と蓋部8とが接合されている。基体2と蓋部8とを重ね合わせた状態では、溝部22、23、24を介して収納空間Sの内外が連通してしまうが、低融点ガラス89を用いることで、基体2と蓋部8とを接合すると共に、溝部22、23、24を封止することができる。そのため、より容易に、収納空間Sを気密封止することができる。なお、基体2と蓋部8とを陽極接合等(溝部22、23、24を封止できない接合方法)で接合した場合には、例えば、TEOS(テトラエトキシシラン)を用いたCVD法等で形成されたSiO膜によって溝部22、23、24を塞ぐことができる。 In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the base 2 and the lid 8 are bonded via a low melting point glass 89 (glass frit) which is an example of a bonding material. In the state where the base 2 and the lid 8 are overlapped, the inside and outside of the storage space S communicate with each other through the grooves 22, 23, and 24, but by using the low melting point glass 89, the base 2 and the lid 8 are used. And the grooves 22, 23, and 24 can be sealed. Therefore, the storage space S can be hermetically sealed more easily. When the base 2 and the lid 8 are joined by anodic bonding or the like (joining method in which the grooves 22, 23, and 24 cannot be sealed), for example, formed by a CVD method using TEOS (tetraethoxysilane) or the like. The groove portions 22, 23, and 24 can be closed by the formed SiO 2 film.

(素子片)
図1に示すように、素子片3は、基体2に固定されている固定電極部31と、基体2に対して変位可能な可動電極部32と、を有している。
(Element piece)
As shown in FIG. 1, the element piece 3 includes a fixed electrode portion 31 fixed to the base 2 and a movable electrode portion 32 that can be displaced with respect to the base 2.

このような素子片3は、例えば、リン(P)、ボロン(B)等の不純物がドープされたシリコン基板をパターニングすることで形成することができる。また、素子片3は、陽極接合法によって基体2の上面に接合されている。ただし、素子片3の材料や、素子片3と基体2との接合方法は、特に限定されない。   Such an element piece 3 can be formed, for example, by patterning a silicon substrate doped with impurities such as phosphorus (P) and boron (B). The element piece 3 is bonded to the upper surface of the substrate 2 by an anodic bonding method. However, the material of the element piece 3 and the bonding method between the element piece 3 and the base 2 are not particularly limited.

可動電極部32は、一対の支持部321、322と、可動部323と、一対の連結部324、325と、可動電極指326と、を備えている。支持部321、322は、凹部21を介してX軸方向に対向するように配置されており、それぞれ、基体2の上面に接合(固定)されている。そして、支持部322が導電性バンプB1(導電性部材)を介して配線72と電気的に接続されている。なお、導電性バンプB1を省略し、支持部322と配線72とが直接接触することで、これらが電気的に接続されていてもよい。このことは、後述する導電性バンプB2、B3についても同様である。   The movable electrode portion 32 includes a pair of support portions 321 and 322, a movable portion 323, a pair of connecting portions 324 and 325, and a movable electrode finger 326. The support portions 321 and 322 are disposed so as to face each other in the X-axis direction via the recess 21, and are bonded (fixed) to the upper surface of the base 2. The support portion 322 is electrically connected to the wiring 72 via the conductive bump B1 (conductive member). Note that the conductive bump B1 may be omitted, and the support portion 322 and the wiring 72 may be in direct contact so that they are electrically connected. The same applies to conductive bumps B2 and B3 described later.

そして、これら支持部321、322の間に可動部323が位置している。また、可動部323は、X軸方向プラス側の端部において、連結部324を介して支持部321に連結され、X軸方向マイナス側の端部において、連結部325を介して支持部322に連結されている。連結部324、325は、それぞれ、X軸方向に弾性変形可能であり、加速度Axが加わると、可動部323は、連結部324、325を弾性変形させつつ、支持部321、322に対してX軸方向に変位する。そして、可動部323には、Y軸方向両側に延出し、かつ、X軸方向に間欠的に並設された複数の可動電極指326が設けられている。   A movable part 323 is located between the support parts 321 and 322. The movable portion 323 is connected to the support portion 321 via the connecting portion 324 at the end portion on the X axis direction plus side, and is connected to the support portion 322 via the connecting portion 325 at the end portion on the minus side in the X axis direction. It is connected. Each of the connecting portions 324 and 325 can be elastically deformed in the X-axis direction, and when the acceleration Ax is applied, the movable portion 323 elastically deforms the connecting portions 324 and 325, and the X against the support portions 321 and 322. Displace in the axial direction. The movable portion 323 is provided with a plurality of movable electrode fingers 326 extending on both sides in the Y-axis direction and intermittently arranged in parallel in the X-axis direction.

また、固定電極部31は、複数の第1固定電極指311と、複数の第2固定電極指312と、を有している。   In addition, the fixed electrode portion 31 includes a plurality of first fixed electrode fingers 311 and a plurality of second fixed electrode fingers 312.

複数の第1固定電極指311は、各可動電極指326のX軸方向プラス側に配置されており、対応する可動電極指326に対して間隔を隔てて噛み合う櫛歯状をなすように並んでいる。一方、複数の第2固定電極指312は、各可動電極指326のX軸方向マイナス側に配置されており、対応する可動電極指326に対して間隔を隔てて噛み合う櫛歯状をなすように並んでいる。このような第1固定電極指311および第2固定電極指312は、それぞれ、その基端部において、基体2の上面に接合(固定)されている。   The plurality of first fixed electrode fingers 311 are arranged on the plus side in the X-axis direction of each movable electrode finger 326, and are arranged in a comb-like shape that meshes with the corresponding movable electrode finger 326 at an interval. Yes. On the other hand, the plurality of second fixed electrode fingers 312 are arranged on the minus side in the X-axis direction of each movable electrode finger 326 so as to form a comb-teeth shape that meshes with the corresponding movable electrode finger 326 at an interval. Are lined up. Each of the first fixed electrode finger 311 and the second fixed electrode finger 312 is bonded (fixed) to the upper surface of the base 2 at the base end portion.

また、各第1固定電極指311は、導電性バンプB2(導電性部材)を介して配線73と電気的に接続されている。また、各第2固定電極指312は、導電性バンプB3(導電性部材)を介して配線74と電気的に接続されている。   Further, each first fixed electrode finger 311 is electrically connected to the wiring 73 via a conductive bump B2 (conductive member). Each of the second fixed electrode fingers 312 is electrically connected to the wiring 74 via a conductive bump B3 (conductive member).

次に、物理量センサー1の作動について説明する。物理量センサー1の作動時には、例えば、図4中の電圧V1が可動電極部32(可動電極指326)に印加され、電圧V2が第1固定電極指311および第2固定電極指312に印加される。そして、物理量センサー1にX軸方向の加速度Axが加わると、その加速度Axの大きさに基づいて、可動部323が連結部324、325を弾性変形させながらX軸方向に変位する。このような変位に伴って、可動電極指326と第1固定電極指311とのギャップおよび可動電極指326と第2固定電極指312とのギャップがそれぞれ変化し、その変化量に応じて、可動電極指326と第1固定電極指311との間の静電容量および可動電極指326と第2固定電極指312との間の静電容量の大きさがそれぞれ変化する。そのため、これら静電容量の変化に基づいて加速度Axを検出することができる。   Next, the operation of the physical quantity sensor 1 will be described. When the physical quantity sensor 1 operates, for example, the voltage V1 in FIG. 4 is applied to the movable electrode portion 32 (movable electrode finger 326), and the voltage V2 is applied to the first fixed electrode finger 311 and the second fixed electrode finger 312. . When the acceleration Ax in the X-axis direction is applied to the physical quantity sensor 1, the movable portion 323 is displaced in the X-axis direction while elastically deforming the connecting portions 324 and 325 based on the magnitude of the acceleration Ax. Along with such a displacement, the gap between the movable electrode finger 326 and the first fixed electrode finger 311 and the gap between the movable electrode finger 326 and the second fixed electrode finger 312 change, respectively. The capacitance between the electrode finger 326 and the first fixed electrode finger 311 and the capacitance between the movable electrode finger 326 and the second fixed electrode finger 312 change. Therefore, the acceleration Ax can be detected based on these changes in capacitance.

以上、物理量センサー1の構成について簡単に説明した。次に、物理量センサー1の配線72、73、74の周囲の構成について、より詳細に説明する。なお、配線72、73、74の周囲の構成は、それぞれ、同じである。そのため、以下では、配線72の周囲の構成について代表して説明し、配線73、74の周囲の構成については、その説明を省略する。   The configuration of the physical quantity sensor 1 has been briefly described above. Next, the configuration around the wirings 72, 73, 74 of the physical quantity sensor 1 will be described in more detail. The configuration around the wirings 72, 73, and 74 is the same. Therefore, in the following, the configuration around the wiring 72 will be described as a representative, and description of the configuration around the wiring 73 and 74 will be omitted.

図3に示すように、物理量センサー1は、基体2と配線72との間に設けられ、可動イオン(アルカリ金属イオン)の含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第1絶縁層91を有している。より具体的には、溝部22の底面には、可動イオンの含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第1絶縁層91が配置されており、第1絶縁層91の上面には、配線72が配置されている。   As shown in FIG. 3, the physical quantity sensor 1 includes a first insulating layer 91 that is provided between the base 2 and the wiring 72 and has a lower content of movable ions (alkali metal ions) than the base 2. doing. More specifically, an insulating first insulating layer 91 having a mobile ion content lower than that of the base 2 is disposed on the bottom surface of the groove portion 22. A wiring 72 is disposed on the top surface of the first insulating layer 91. Is arranged.

可動イオン(アルカリ金属イオン)を含む基体2は、常温では十分に高い電気抵抗率を有しているが、高温環境下では電気抵抗率が小さくなる性質を有している。そのため、例えば、従来のように、溝部22の底面に直接配線72を配置した構成では、常温では、配線72から基体2への電荷の漏れが十分に抑制されているのに対して、高温では、配線72から基体2へ電荷が漏れてしまう。これにより、温度によって物理量センサー1のセンサー特性が変化してしまう。このような温度特性の悪さ(特に、高温環境下での信頼性の低さ)から、高温環境下での使用が制限され、例えば、温度が100℃以上に上昇することが想定される車載用としては好適に使用することができない。   The substrate 2 containing mobile ions (alkali metal ions) has a sufficiently high electrical resistivity at room temperature, but has a property that the electrical resistivity is reduced in a high temperature environment. Therefore, for example, in the configuration in which the wiring 72 is directly arranged on the bottom surface of the groove portion 22 as in the prior art, leakage of charges from the wiring 72 to the base 2 is sufficiently suppressed at room temperature, whereas at a high temperature. The electric charge leaks from the wiring 72 to the base 2. Thereby, the sensor characteristic of the physical quantity sensor 1 changes with temperature. Due to such poor temperature characteristics (particularly, low reliability in high temperature environments), use in high temperature environments is limited, and for example, for vehicles where the temperature is assumed to rise to 100 ° C. or higher. Cannot be used suitably.

そこで、物理量センサー1では、基体2と配線72との間に第1絶縁層91を配置している。前述したように、第1絶縁層91は、基体2よりも可動イオンの含有量が少ないため、基体2と比べて高温時でも電気抵抗率が低下し難い(十分に高い電気抵抗率を維持することができる)。そのため、基体2の電気抵抗率が低下する高温環境下において、従来構成と比較して、配線72から基体2への電荷の漏れ(リーク)を抑制することができる。また、配線72、73、74間での短絡についても効果的に抑制することができる。このような構成によれば、環境温度に影響されることなく、配線72から基体2への電荷のリークを抑制することができるため、環境温度による物理量センサー1のセンサー特性の変化が小さく、優れた温度特性を発揮することができる。   Therefore, in the physical quantity sensor 1, the first insulating layer 91 is disposed between the base 2 and the wiring 72. As described above, since the first insulating layer 91 has a lower content of mobile ions than the base 2, the electrical resistivity is less likely to decrease even at a higher temperature than the base 2 (maintains a sufficiently high electrical resistivity). be able to). Therefore, in a high temperature environment where the electrical resistivity of the base 2 is lowered, charge leakage from the wiring 72 to the base 2 can be suppressed as compared with the conventional configuration. Further, a short circuit between the wirings 72, 73, and 74 can be effectively suppressed. According to such a configuration, charge leakage from the wiring 72 to the base body 2 can be suppressed without being affected by the environmental temperature, so that the change in sensor characteristics of the physical quantity sensor 1 due to the environmental temperature is small and excellent. Temperature characteristics can be exhibited.

なお、第1絶縁層91の可動イオンの含有量をN1[原子%]とし、第1絶縁層91の可動イオンの含有量をN2[原子%]としたとき、N1とN2の比率は、特に限定されないが、N1/N2≦0.5であることが好ましく、N1/N2≦0.3であることがより好ましく、N1/N2≦0.1であることがさらに好ましい。また、N1=0[原子%]、すなわち、第1絶縁層91が可動イオンを含んでいないことがますます好ましい。これにより、第1絶縁層91の高温環境下における電気抵抗率の低下をより効果的に抑制することができ、物理量センサー1は、より優れた温度特性を発揮することができる。なお、前記では、N1、N2を原子%で議論したが、重量%で議論しても同様である。   When the content of mobile ions in the first insulating layer 91 is N1 [atomic%] and the content of mobile ions in the first insulating layer 91 is N2 [atomic%], the ratio of N1 and N2 is particularly Although not limited, N1 / N2 ≦ 0.5 is preferable, N1 / N2 ≦ 0.3 is more preferable, and N1 / N2 ≦ 0.1 is still more preferable. Further, it is more preferable that N1 = 0 [atomic%], that is, the first insulating layer 91 does not contain mobile ions. Thereby, the fall of the electrical resistivity in the high temperature environment of the 1st insulating layer 91 can be suppressed more effectively, and the physical quantity sensor 1 can exhibit the more excellent temperature characteristic. In the above description, N1 and N2 are discussed in terms of atomic percent, but the same applies when discussed in terms of weight percent.

本実施形態では、第1絶縁層91は、酸化シリコン(SiO)で構成されている。これにより、可動イオンを実質的に含まず、低温、常温、高温(例えば、動作保証温度である−40℃以上120℃以下)の全域において十分に高い電気抵抗率を有する第1絶縁層91となる。そのため、環境温度に関わらず、第1絶縁層91によって、配線72から基体2への電荷のリークをより効果的に抑制することができる。また、後述する製造方法でも説明するように、第1絶縁層91の形成が容易となる。ただし、第1絶縁層91の構成材料としては、酸化シリコンに限定されず、例えば、窒化シリコン(SiN)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化アルミニウム(Al)等を用いてもよい。 In the present embodiment, the first insulating layer 91 is made of silicon oxide (SiO 2 ). Thus, the first insulating layer 91 substantially free of mobile ions and having a sufficiently high electrical resistivity in the entire region of low temperature, normal temperature, and high temperature (for example, −40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, which is an operation guarantee temperature) Become. Therefore, the first insulating layer 91 can more effectively suppress charge leakage from the wiring 72 to the base 2 regardless of the environmental temperature. Further, as will be described later in the manufacturing method, the formation of the first insulating layer 91 is facilitated. However, the constituent material of the first insulating layer 91 is not limited to silicon oxide, and for example, silicon nitride (SiN x ), aluminum nitride (AlN), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), or the like may be used.

また、第1絶縁層91の厚さとしては、特に限定されないが、例えば、100nm以上300nm以下であることが好ましい。これにより、第1絶縁層91の過剰な厚肉化を防止しつつ、第1絶縁層91にピンホールが形成されてしまうことを抑制することができる。そのため、第1絶縁層91によって、配線72から基体2への電荷のリークをより効果的に抑制することができる。   Further, the thickness of the first insulating layer 91 is not particularly limited, but is preferably 100 nm or more and 300 nm or less, for example. Thereby, pinholes can be prevented from being formed in the first insulating layer 91 while preventing the first insulating layer 91 from being excessively thickened. Therefore, the first insulating layer 91 can more effectively suppress charge leakage from the wiring 72 to the base 2.

また、第1絶縁層91の幅W1(Z軸方向から見た平面視で、延在方向に直交する方向の長さ)は、配線72の幅W2(Z軸方向から見た平面視で、延在方向に直交する方向の長さ)よりも大きくなっている。そして、Z軸方向から見た平面視で、第1絶縁層91の幅方向の両端部が配線72から露出している。これにより、より確実に、配線72と基体2との間に第1絶縁層91を位置させることができ、配線72から基体2への電荷のリークをより効果的に抑制することができる。また、製造時において、第1絶縁層91に対する配線72の位置ずれを許容することができ、より確実に、配線72を第1絶縁層91上に形成することができる。すなわち、配線72が基体2上に直接形成されてしまうことを効果的に抑制することができる。そのため、物理量センサー1の製造の歩留まりが向上する。   Further, the width W1 of the first insulating layer 91 (the length in the direction orthogonal to the extending direction in the plan view as viewed from the Z-axis direction) is the width W2 of the wiring 72 (in the plan view as viewed from the Z-axis direction). The length in the direction perpendicular to the extending direction) is larger. Then, both ends in the width direction of the first insulating layer 91 are exposed from the wiring 72 in a plan view as viewed from the Z-axis direction. Thereby, the 1st insulating layer 91 can be located more reliably between the wiring 72 and the base | substrate 2, and the leak of the electric charge from the wiring 72 to the base | substrate 2 can be suppressed more effectively. Further, it is possible to allow a positional shift of the wiring 72 with respect to the first insulating layer 91 during manufacturing, and the wiring 72 can be formed on the first insulating layer 91 more reliably. That is, it is possible to effectively prevent the wiring 72 from being directly formed on the substrate 2. Therefore, the manufacturing yield of the physical quantity sensor 1 is improved.

また、図3に示すように、物理量センサー1は、配線72上に配置され、配線72を覆うように配置された第2絶縁層92を有している。第2絶縁層92は、配線72の上面および側面を覆っており、第1絶縁層91上(配線72から露出している部分)に広がって設けられている。これにより、第1絶縁層91と第2絶縁層92とで配線72の全周を覆うことができ、配線72と基体2との接触をより確実に抑制することができる。そのため、配線72から基体2への電荷のリークをより確実に抑制することができる。   As illustrated in FIG. 3, the physical quantity sensor 1 includes a second insulating layer 92 that is disposed on the wiring 72 and is disposed so as to cover the wiring 72. The second insulating layer 92 covers the upper surface and side surfaces of the wiring 72, and is provided on the first insulating layer 91 (a portion exposed from the wiring 72). Accordingly, the entire circumference of the wiring 72 can be covered with the first insulating layer 91 and the second insulating layer 92, and the contact between the wiring 72 and the substrate 2 can be more reliably suppressed. Therefore, it is possible to more reliably suppress charge leakage from the wiring 72 to the base 2.

本実施形態では、第2絶縁層92は、酸化シリコン(SiO)で構成されている。これにより、可動イオンを実質的に含まず、低温、常温、高温(例えば、作動保証温度である−40℃以上120℃以下)の全域において十分に高い電気抵抗率を有する第2絶縁層92となる。そのため、環境温度に関わらず、第2絶縁層92によって、配線72から基体2への電荷のリークをより効果的に抑制することができる。また、後述する製造方法でも説明するように、第2絶縁層92の形成が容易となる。ただし、第2絶縁層92の構成材料としては、酸化シリコンに限定されず、例えば、窒化シリコン(SiN)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化アルミニウム(Al)等を用いてもよい。 In the present embodiment, the second insulating layer 92 is made of silicon oxide (SiO 2 ). Thereby, the second insulating layer 92 substantially free of mobile ions and having a sufficiently high electrical resistivity in the entire region of low temperature, normal temperature, and high temperature (for example, −40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower which is the guaranteed operating temperature) Become. Therefore, charge leakage from the wiring 72 to the substrate 2 can be more effectively suppressed by the second insulating layer 92 regardless of the environmental temperature. Further, as will be described later in the manufacturing method, the formation of the second insulating layer 92 is facilitated. However, the constituent material of the second insulating layer 92 is not limited to silicon oxide, and for example, silicon nitride (SiN x ), aluminum nitride (AlN), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), or the like may be used.

ここで、本実施形態のように、第2絶縁層92は、第1絶縁層91と同じ材料で構成されていることが好ましい。つまり、第1絶縁層91および第2絶縁層92は、互いに同じ材料を含んでいることが好ましい。これにより、第1絶縁層91と第2絶縁層92の親和性が高まり、これらの接合強度を高めることができる。また、第1絶縁層91と第2絶縁層92との熱膨張係数差をより小さくすることができ、熱膨張係数の差に起因する応力の発生を抑制することができる。そのため、環境温度によって変化し得る応力歪が素子片3に加わり難くなり、物理量センサー1は、より優れた温度特性を発揮することができる。ただし、第1絶縁層91および第2絶縁層92が異なる材料で構成されていてもよい。この場合は、互いの熱膨張係数がなるべく近い材料を選択することが好ましい。   Here, as in the present embodiment, the second insulating layer 92 is preferably made of the same material as the first insulating layer 91. That is, it is preferable that the first insulating layer 91 and the second insulating layer 92 include the same material. Thereby, the affinity of the 1st insulating layer 91 and the 2nd insulating layer 92 increases, and these joint strengths can be raised. In addition, the difference in thermal expansion coefficient between the first insulating layer 91 and the second insulating layer 92 can be further reduced, and the generation of stress due to the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed. Therefore, stress strain that can change depending on the environmental temperature is hardly applied to the element piece 3, and the physical quantity sensor 1 can exhibit more excellent temperature characteristics. However, the first insulating layer 91 and the second insulating layer 92 may be made of different materials. In this case, it is preferable to select materials whose thermal expansion coefficients are as close as possible.

また、第2絶縁層92の厚さとしては、特に限定されないが、例えば、100nm以上300nm以下であることが好ましい。これにより、第2絶縁層92の過剰な厚肉化を防止しつつ、第2絶縁層92にピンホールが形成されてしまうことを抑制することができる。そのため、第2絶縁層92によって、配線72から基体2への電荷のリークをより効果的に抑制することができる。   Further, the thickness of the second insulating layer 92 is not particularly limited, but is preferably, for example, 100 nm or more and 300 nm or less. Thereby, it is possible to suppress the formation of pin holes in the second insulating layer 92 while preventing the second insulating layer 92 from being excessively thickened. Therefore, the second insulating layer 92 can more effectively suppress charge leakage from the wiring 72 to the base 2.

また、第2絶縁層92の上面は、溝部22内に位置している。すなわち、第2絶縁層92の上面と溝部22の底面との離間距離D1は、溝部22の深さD2よりも小さい。このように、第2絶縁層92を溝部22から突出しないように形成することで、後述する製造方法でも説明するように、基体2と素子片3との接合をより確実に行うことができる。   Further, the upper surface of the second insulating layer 92 is located in the groove 22. That is, the separation distance D1 between the upper surface of the second insulating layer 92 and the bottom surface of the groove 22 is smaller than the depth D2 of the groove 22. As described above, by forming the second insulating layer 92 so as not to protrude from the groove portion 22, the base 2 and the element piece 3 can be more reliably bonded as described in the manufacturing method described later.

以上、物理量センサー1について説明した。このような物理量センサー1は、前述したように、可動イオンを含有する絶縁性の基体2と、基体2に設けられた素子片3と、基体2に設けられ、素子片3と電気的に接続されている配線72(73、74)と、基体2と配線72(73、74)との間に設けられ、可動イオンの含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第1絶縁層91と、を有している。これにより、低温、常温環境下ではもちろんのこと、特に、高温環境下における配線72、73、74から基体2への電荷の漏れ(リーク)を効果的に抑制することができる。そのため、環境温度に影響されることなく、配線72、73、74から基体2への電荷のリークを抑制することができ、環境温度によるセンサー特性の変化が小さく、優れた温度特性を発揮することができる物理量センサー1となる。特に、本実施形態の物理量センサー1は、微小な電荷を取り扱う静電容量型のセンサーであるため、前述の効果は、物理量センサー1により大きなメリットをもたらすものである。また、比較的厳しい環境下(−40℃以上120℃以下の環境下)での使用が想定される車載用等としてもより好適に用いることのできる物理量センサー1となる。   The physical quantity sensor 1 has been described above. As described above, the physical quantity sensor 1 includes the insulating base 2 containing movable ions, the element piece 3 provided on the base 2, and the base piece 2 that is electrically connected to the element piece 3. An insulating first insulating layer 91 provided between the wiring 72 (73, 74), the base 2 and the wiring 72 (73, 74), and having a content of movable ions less than that of the base 2; have. As a result, it is possible to effectively suppress the leakage of electric charges (leakage) from the wirings 72, 73, 74 to the base 2 in a high temperature environment as well as in a low temperature and normal temperature environment. Therefore, leakage of electric charges from the wirings 72, 73, 74 to the base 2 can be suppressed without being affected by the environmental temperature, and the change in sensor characteristics due to the environmental temperature is small, and excellent temperature characteristics are exhibited. This is a physical quantity sensor 1 capable of In particular, since the physical quantity sensor 1 of the present embodiment is a capacitance type sensor that handles minute electric charges, the above-described effects bring a great merit to the physical quantity sensor 1. Moreover, it becomes the physical quantity sensor 1 which can be used more suitably also for the vehicle-mounted etc. which are assumed to be used in a comparatively severe environment (under -40 degreeC or more and 120 degrees C or less environment).

また、前述したように、物理量センサー1は、各配線72、73、74を覆い、可動イオンの含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第2絶縁層92を有している。これにより、第1絶縁層91と第2絶縁層92とで各配線72、73、74を覆うことができ、各配線72、73、74と基体2との接触をより確実に抑制することができる。そのため、各配線72、73、74から基体2への電荷のリークをより確実に抑制することができる。なお、第2絶縁層92は、省略してもよい。   In addition, as described above, the physical quantity sensor 1 includes the insulating second insulating layer 92 that covers the wirings 72, 73, and 74 and has a smaller content of movable ions than the base 2. Thereby, each wiring 72, 73, 74 can be covered with the 1st insulating layer 91 and the 2nd insulating layer 92, and contact with each wiring 72, 73, 74 and the base | substrate 2 is suppressed more reliably. it can. Therefore, it is possible to more reliably suppress charge leakage from the wirings 72, 73, 74 to the base 2. Note that the second insulating layer 92 may be omitted.

また、前述したように、物理量センサー1では、第1絶縁層91および第2絶縁層92は、互いに同じ材料を含んでいる。これにより、第1絶縁層91と第2絶縁層92との熱膨張係数差をより小さくすることができ、熱膨張係数の差に起因する応力の発生を効果的に抑制することができる。そのため、温度によって変化する応力歪が素子片3に加わり難くなり、物理量センサー1は、より優れた温度特性を発揮することができる。   Further, as described above, in the physical quantity sensor 1, the first insulating layer 91 and the second insulating layer 92 include the same material. Thereby, the difference in thermal expansion coefficient between the first insulating layer 91 and the second insulating layer 92 can be further reduced, and the generation of stress due to the difference in thermal expansion coefficient can be effectively suppressed. Therefore, it becomes difficult to apply stress strain that varies with temperature to the element piece 3, and the physical quantity sensor 1 can exhibit more excellent temperature characteristics.

また、前述したように、物理量センサー1では、基体2は、凹部としての溝部22、23、24を有し、溝部22内に、配線72および第1絶縁層91が設けられ、溝部23内に、配線73および第1絶縁層91が設けられ、溝部24内に、配線74および第1絶縁層91が設けられている。これにより、基体2の上面からの各配線72、73、74の突出が防止され、後述する製造方法でも説明するように、基体2と素子片3とをより容易にかつ確実に接合することができる。なお、溝部22、23、24は、省略してもよい。この場合、第1絶縁層91は、基体2の上面に配置することができる。   Further, as described above, in the physical quantity sensor 1, the base 2 has the groove portions 22, 23, and 24 as concave portions, and the wiring 72 and the first insulating layer 91 are provided in the groove portion 22. The wiring 73 and the first insulating layer 91 are provided, and the wiring 74 and the first insulating layer 91 are provided in the groove 24. This prevents the wirings 72, 73, 74 from protruding from the upper surface of the base 2, and the base 2 and the element piece 3 can be more easily and reliably joined as will be described later in the manufacturing method. it can. Note that the groove portions 22, 23, and 24 may be omitted. In this case, the first insulating layer 91 can be disposed on the upper surface of the base 2.

次に、物理量センサー1の製造方法について説明する。図5に示すように、物理量センサー1の製造方法は、可動イオンを含有する絶縁性の基体2を準備する準備工程と、基体2上に、可動イオンの含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第1絶縁層91を形成する第1絶縁層形成工程と、第1絶縁層91上に配線72、73、74を形成する配線形成工程と、配線72、73、74を覆うように第2絶縁層92を形成する第2絶縁層形成工程と、基体2上に、配線72、73、74と電気的に接続されている素子片3を配置する素子片配置工程と、基体2に蓋部8を接合する蓋部接合工程と、を有している。以下、このような製造方法について詳細に説明する。   Next, a method for manufacturing the physical quantity sensor 1 will be described. As shown in FIG. 5, the manufacturing method of the physical quantity sensor 1 includes a preparation step of preparing an insulating base 2 containing mobile ions, and an insulating property in which the content of mobile ions is lower than that of the base 2 on the base 2. A first insulating layer forming step for forming the first insulating layer 91, a wiring forming step for forming the wirings 72, 73, 74 on the first insulating layer 91, and a second so as to cover the wirings 72, 73, 74. A second insulating layer forming step for forming the insulating layer 92, an element piece arranging step for arranging the element piece 3 electrically connected to the wirings 72, 73, 74 on the base body 2, and a lid portion on the base body 2 And a lid portion joining step for joining 8. Hereinafter, such a manufacturing method will be described in detail.

(準備工程)
まず、図6に示すように、例えば、硼珪酸ガラスで構成されたガラス基板からなる基体2を準備し、フォトリソグラフィー技法とウェットエッチング技法とを用いて、基体2の上面に開口する凹部21および溝部22、23、24を形成する。なお、本実施形態では、凹部21を形成する工程と、溝部22、23、24を形成する工程とを別々に行い、凹部21の深さを溝部22、23、24の深さよりも深くしている。ただし、凹部21の深さと溝部22、23、24の深さの関係は、特に限定されない。
(Preparation process)
First, as shown in FIG. 6, for example, a base 2 made of a glass substrate made of borosilicate glass is prepared, and a recess 21 opened on the upper surface of the base 2 is formed using a photolithography technique and a wet etching technique. Groove portions 22, 23, and 24 are formed. In this embodiment, the step of forming the concave portion 21 and the step of forming the groove portions 22, 23, 24 are performed separately, and the depth of the concave portion 21 is made deeper than the depth of the groove portions 22, 23, 24. Yes. However, the relationship between the depth of the recess 21 and the depth of the groove portions 22, 23, 24 is not particularly limited.

(第1絶縁層形成工程)
次に、図7に示すように、溝部22、23、24の底面に第1絶縁層91を成膜(形成)する。第1絶縁層91の形成方法としては、特に限定されず、例えば、スパッタリング、蒸着等によって絶縁層(シリコン酸化膜)を成膜し、その後、この絶縁層をフォトリソグラフィー技法とウェットエッチング技法とを用いてパターニングする方法が挙げられる。
(First insulating layer forming step)
Next, as shown in FIG. 7, a first insulating layer 91 is formed (formed) on the bottom surfaces of the grooves 22, 23, and 24. A method for forming the first insulating layer 91 is not particularly limited. For example, an insulating layer (silicon oxide film) is formed by sputtering, vapor deposition, or the like, and then the insulating layer is subjected to a photolithography technique and a wet etching technique. The method of patterning using it is mentioned.

(配線形成工程)
次に、図8に示すように、溝部22の第1絶縁層91上に配線72を形成し、溝部23の第1絶縁層91上に配線73を形成し、溝部24の第1絶縁層91上に配線74を形成する。配線72、73、74の形成方法としては、特に限定されず、例えば、スパッタリング、蒸着等によって配線層を成膜し、その後、フォトリソグラフィー技法とウェットエッチング技法とを用いてパターニングする方法が挙げられる。
(Wiring formation process)
Next, as shown in FIG. 8, the wiring 72 is formed on the first insulating layer 91 of the groove portion 22, the wiring 73 is formed on the first insulating layer 91 of the groove portion 23, and the first insulating layer 91 of the groove portion 24. A wiring 74 is formed thereon. The method for forming the wirings 72, 73, 74 is not particularly limited, and examples thereof include a method of forming a wiring layer by sputtering, vapor deposition, etc., and then patterning using a photolithography technique and a wet etching technique. .

(第2絶縁層形成工程)
次に、図9に示すように、各配線72、73、74上に第2絶縁層92を形成し、第2絶縁層92で各配線72、73、74を覆う。第2絶縁層92の形成方法としては、特に限定されず、例えば、スパッタリング、蒸着等によって絶縁層(シリコン酸化膜)を成膜し、その後、この絶縁層をフォトリソグラフィー技法とウェットエッチング技法とを用いてパターニングする方法が挙げられる。
(Second insulating layer forming step)
Next, as shown in FIG. 9, the second insulating layer 92 is formed on the wirings 72, 73, 74, and the wirings 72, 73, 74 are covered with the second insulating layer 92. The method for forming the second insulating layer 92 is not particularly limited. For example, an insulating layer (silicon oxide film) is formed by sputtering, vapor deposition, or the like, and then the insulating layer is subjected to a photolithography technique and a wet etching technique. The method of patterning using it is mentioned.

次に、図10に示すように、導電性バンプB1を配置する箇所において、第2絶縁層92を除去し、除去した部分に導電性バンプB1を配置する。これにより、配線72と電気的に接続された導電性バンプB1が得られる。図示しないが、導電性バンプB2、B3についても同様にして配線73、74上に配置する。なお、導電性バンプB1、B2、B3は、溝部22、23、24の開口から突出していることが好ましい。これにより、次の素子片配置工程において、導電性バンプB1、B2、B3と基板30とをより確実に接触させることができる。   Next, as shown in FIG. 10, the second insulating layer 92 is removed at the place where the conductive bump B1 is to be disposed, and the conductive bump B1 is disposed at the removed portion. As a result, the conductive bump B1 electrically connected to the wiring 72 is obtained. Although not shown, the conductive bumps B2 and B3 are also arranged on the wirings 73 and 74 in the same manner. The conductive bumps B1, B2, and B3 preferably protrude from the openings of the groove portions 22, 23, and 24. Thereby, in the next element piece arrangement | positioning process, electroconductive bump B1, B2, B3 and the board | substrate 30 can be contacted more reliably.

(素子片配置工程)
次に、図11に示すように、素子片3の母材であり、シリコン基板からなる基板30を準備し、この基板30を陽極接合法により基体2の上面に接合する。ここで、前述したように、溝部22、23、24の開口からはみ出ないように、第1絶縁層91、配線72、73、74および第2絶縁層92が形成されているため、基板30の下面をより確実に基体2の上面に接触させることができる。そのため、陽極接合をより確実に行うことができる。
(Element piece placement process)
Next, as shown in FIG. 11, a substrate 30 which is a base material of the element piece 3 and is made of a silicon substrate is prepared, and this substrate 30 is bonded to the upper surface of the base 2 by an anodic bonding method. Here, as described above, the first insulating layer 91, the wirings 72, 73, 74, and the second insulating layer 92 are formed so as not to protrude from the openings of the groove portions 22, 23, 24. The lower surface can be more reliably brought into contact with the upper surface of the base 2. Therefore, anodic bonding can be performed more reliably.

次に、必要に応じてCMP(化学機械研磨)を用いて基板30を薄肉化した後、基板30にリン、ボロン等の不純物をドープ(拡散)して導電性を付与する。次に、基板30をエッチング(好ましくは、RIE(反応性イオンエッチング)等のドライエッチング)によってパターニングする。これにより、図12に示すように、素子片3が得られる。   Next, after thinning the substrate 30 using CMP (Chemical Mechanical Polishing) as necessary, the substrate 30 is doped (diffused) with impurities such as phosphorus and boron to impart conductivity. Next, the substrate 30 is patterned by etching (preferably, dry etching such as RIE (reactive ion etching)). Thereby, as shown in FIG. 12, the element piece 3 is obtained.

(蓋部接合工程)
次に、図13に示すように、蓋部8を準備し、低融点ガラス89を用いて蓋部8を基体2に接合する。これにより、収納空間Sが形成されると共に、収納空間Sに素子片3が収納される。次に、蓋部8の連通孔82内に球状の封止部材83を配置し、連通孔82と封止部材83との隙間を介して収納空間Sを所望の雰囲気に置換する。次に、封止部材83にレーザーを照射して、封止部材83を溶融させることで連通孔82を封止する。これにより、所望の雰囲気に置換された状態で、収納空間Sが封止される。以上により、図14に示すように、物理量センサー1が得られる。
(Lid joining process)
Next, as shown in FIG. 13, the lid portion 8 is prepared, and the lid portion 8 is bonded to the base 2 using a low melting point glass 89. Thereby, the storage space S is formed and the element piece 3 is stored in the storage space S. Next, a spherical sealing member 83 is disposed in the communication hole 82 of the lid portion 8, and the storage space S is replaced with a desired atmosphere through a gap between the communication hole 82 and the sealing member 83. Next, the communication hole 82 is sealed by irradiating the sealing member 83 with a laser to melt the sealing member 83. Thereby, the storage space S is sealed in a state where the atmosphere is replaced with a desired atmosphere. Thus, the physical quantity sensor 1 is obtained as shown in FIG.

このような物理量センサー1の製造方法は、前述したように、可動イオンを含有する絶縁性の基体2を準備する工程(基体準備工程)と、基体2上に、可動イオンの含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第1絶縁層91を形成する工程(第1絶縁層形成工程)と、第1絶縁層91上に配線72、73、74を形成する工程(配線形成工程)と、基体2上に、配線72、73、74と電気的に接続されている素子片を配置する工程(素子片配置工程)と、を有している。このような製造方法によれば、低温、常温環境下ではもちろんのこと、特に、高温環境下における配線72、73、74から基体2への電荷の漏れ(リーク)を効果的に抑制することができる物理量センサー1が得られる。そのため、環境温度に影響されることなく、配線72から基体2への電荷のリークを抑制することができ、環境温度によるセンサー特性の変化が小さく、優れた温度特性を発揮することができる物理量センサー1となる。   As described above, the method of manufacturing the physical quantity sensor 1 includes the step of preparing the insulating base 2 containing the movable ions (base preparation step), and the content of the mobile ions on the base 2 is the base 2. Forming a first insulating layer 91 having a lower insulating property (first insulating layer forming step), forming a wiring 72, 73, 74 on the first insulating layer 91 (wiring forming step), and substrate 2, a step of arranging element pieces electrically connected to the wirings 72, 73, 74 (element piece arrangement step). According to such a manufacturing method, it is possible to effectively suppress charge leakage (leakage) from the wirings 72, 73, 74 to the base body 2 in a high temperature environment as well as in a low temperature and normal temperature environment. A physical quantity sensor 1 that can be obtained is obtained. Therefore, a physical quantity sensor that can suppress the leakage of electric charges from the wiring 72 to the base 2 without being affected by the environmental temperature, has a small change in sensor characteristics due to the environmental temperature, and can exhibit excellent temperature characteristics. 1

また、前述したように、物理量センサー1の製造方法は、配線72、73、74を形成する工程(配線形成工程)と素子片3を配置する工程(素子片配置工程)との間に、配線72、73、74を覆い、可動イオンの含有量が基体2よりも少ない絶縁性の第2絶縁層92を形成する工程を有している。これにより、第1絶縁層91と第2絶縁層92とで各配線72、73、74を覆うことができ、各配線72、73、74と基体2との接触をより確実に抑制することができる。そのため、各配線72、73、74から基体2への電荷のリークをより確実に抑制することができる。   Further, as described above, the manufacturing method of the physical quantity sensor 1 includes the wiring between the process of forming the wirings 72, 73, 74 (wiring forming process) and the process of arranging the element pieces 3 (element piece arranging process). 72, 73 and 74, and a step of forming an insulating second insulating layer 92 having a mobile ion content lower than that of the substrate 2 is formed. Thereby, each wiring 72, 73, 74 can be covered with the 1st insulating layer 91 and the 2nd insulating layer 92, and contact with each wiring 72, 73, 74 and the base | substrate 2 is suppressed more reliably. it can. Therefore, it is possible to more reliably suppress charge leakage from the wirings 72, 73, 74 to the base 2.

また、前述したように、物理量センサー1の製造方法は、基体2と素子片3とは、陽極接合されている。これにより、基体2と素子片3とをより強固に接合することができる。   As described above, in the method of manufacturing the physical quantity sensor 1, the base 2 and the element piece 3 are anodically bonded. Thereby, the base | substrate 2 and the element piece 3 can be joined more firmly.

<第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態に係る物理量センサーについて説明する。
Second Embodiment
Next, a physical quantity sensor according to a second embodiment of the invention will be described.

図15は、本発明の第2実施形態に係る物理量センサーを示す断面図である。なお、図15は、図1中のB−B線断面図に対応する断面図である。   FIG. 15 is a cross-sectional view showing a physical quantity sensor according to the second embodiment of the present invention. 15 is a cross-sectional view corresponding to the cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

本実施形態に係る物理量センサー1は、主に、第2絶縁層92の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態の物理量センサー1と同様である。   The physical quantity sensor 1 according to the present embodiment is the same as the physical quantity sensor 1 of the first embodiment described above except that the configuration of the second insulating layer 92 is mainly different.

なお、以下の説明では、第2実施形態の物理量センサー1に関し、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図15では、前述した第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。   In the following description, the physical quantity sensor 1 of the second embodiment will be described with a focus on the differences from the first embodiment described above, and description of similar matters will be omitted. In FIG. 15, the same reference numerals are given to the same configurations as those of the first embodiment described above.

図15に示すように、本実施形態の物理量センサー1では、第2絶縁層92が低融点ガラスで構成されている。これにより、第2絶縁層92の構成が簡単となる。なお、低融点ガラスとは、特に限定されないが、例えば、軟化点が600℃以下であり、比較的低温度で軟化するガラス材料のことを言う。また、第2絶縁層92を構成する低融点ガラス中には、他の材料(例えば、製造中に不可避的に混入する材料)が含有されていてもよい。   As shown in FIG. 15, in the physical quantity sensor 1 of the present embodiment, the second insulating layer 92 is made of low-melting glass. Thereby, the configuration of the second insulating layer 92 is simplified. The low melting point glass is not particularly limited, but refers to a glass material having a softening point of 600 ° C. or lower and softening at a relatively low temperature. Further, the low-melting glass constituting the second insulating layer 92 may contain other materials (for example, materials inevitably mixed during manufacture).

また、第2絶縁層92は、基体2と蓋部8とを接合する低融点ガラス89を兼ねており、配線72、73、74を覆う機能を有すると共に、基体2と蓋部8とを接合する機能を有している。すなわち、物理量センサー1は、基体2との間に素子片3を収納するように基体2に接合されている蓋部8を有し、蓋部8および基体2は、第2絶縁層92を介して接合されている。このように、第2絶縁層92が低融点ガラス89を兼ねることで、物理量センサー1の製造工程の削減を図ることができると共に、装置構成が簡単なものとなる。   The second insulating layer 92 also serves as a low-melting glass 89 that joins the base 2 and the lid 8, and has a function of covering the wirings 72, 73, and 74, and joins the base 2 and the lid 8. It has a function to do. That is, the physical quantity sensor 1 has a lid portion 8 joined to the base body 2 so as to house the element piece 3 between the base body 2 and the lid portion 8 and the base body 2 via the second insulating layer 92. Are joined. As described above, the second insulating layer 92 also serves as the low melting point glass 89, so that the manufacturing process of the physical quantity sensor 1 can be reduced and the apparatus configuration is simplified.

このような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   Also according to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

<第3実施形態>
次に、本発明の第3実施形態に係る物理量センサーについて説明する。
<Third Embodiment>
Next, a physical quantity sensor according to a third embodiment of the invention will be described.

図16は、本発明の第3実施形態に係る物理量センサーを示す断面図である。なお、図16は、図1中のB−B線断面図に対応する断面図である。   FIG. 16 is a cross-sectional view showing a physical quantity sensor according to the third embodiment of the present invention. 16 is a cross-sectional view corresponding to the cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

本実施形態に係る物理量センサー1は、主に、第1絶縁層91および基体2の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態の物理量センサー1と同様である。   The physical quantity sensor 1 according to the present embodiment is mainly the same as the physical quantity sensor 1 of the first embodiment described above except that the configurations of the first insulating layer 91 and the base 2 are different.

なお、以下の説明では、第3実施形態の物理量センサー1に関し、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図16では、前述した第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。   In the following description, the physical quantity sensor 1 according to the third embodiment will be described with a focus on differences from the first embodiment described above, and description of similar matters will be omitted. Moreover, in FIG. 16, the same code | symbol is attached | subjected about the structure similar to 1st Embodiment mentioned above.

図16に示すように、本実施形態の物理量センサー1では、第1絶縁層91が基板状となっており、基体2の下面に接合されている。また、基体2には、基体2を厚さ方向(Z軸方向)に貫通する貫通孔220、230、240が形成されており、これら貫通孔220、230、240の下側開口が第1絶縁層91の上面で塞がれることで、溝部22、23、24が形成されている。そして、溝部22、23、24の底面(すなわち、第1絶縁層91の上面)に配線72、73、74が配置されている。   As shown in FIG. 16, in the physical quantity sensor 1 of the present embodiment, the first insulating layer 91 has a substrate shape and is bonded to the lower surface of the base 2. The base body 2 is formed with through holes 220, 230, and 240 that pass through the base body 2 in the thickness direction (Z-axis direction), and the lower openings of these through holes 220, 230, and 240 are first insulated. The groove portions 22, 23, and 24 are formed by being blocked by the upper surface of the layer 91. Wirings 72, 73, and 74 are disposed on the bottom surfaces of the groove portions 22, 23, and 24 (that is, the upper surface of the first insulating layer 91).

このような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   Also according to the third embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be exhibited.

<第4実施形態>
次に、本発明の第4実施形態に係る物理量センサーデバイスについて説明する。
<Fourth embodiment>
Next, a physical quantity sensor device according to a fourth embodiment of the invention will be described.

図17は、本発明の第4実施形態に係る物理量センサーデバイスを示す断面図である。
図17に示すように、物理量センサーデバイス1000は、ベース基板1010と、ベース基板1010上に設けられた物理量センサー1と、物理量センサー1上に設けられた回路素子1020(IC)と、物理量センサー1と回路素子1020とを電気的に接続するボンディングワイヤーBW1と、ベース基板1010と回路素子1020とを電気的に接続するボンディングワイヤーBW2と、物理量センサー1および回路素子1020をモールドするモールド部1030と、を有している。ここで、物理量センサー1としては、例えば、前述した各実施形態のいずれかのものを用いることができる。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a physical quantity sensor device according to the fourth embodiment of the present invention.
As illustrated in FIG. 17, the physical quantity sensor device 1000 includes a base substrate 1010, a physical quantity sensor 1 provided on the base substrate 1010, a circuit element 1020 (IC) provided on the physical quantity sensor 1, and a physical quantity sensor 1. A bonding wire BW1 that electrically connects the circuit element 1020 and the circuit board 1010; a bonding wire BW2 that electrically connects the base substrate 1010 and the circuit element 1020; and a molding unit 1030 that molds the physical quantity sensor 1 and the circuit element 1020; have. Here, as the physical quantity sensor 1, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

ベース基板1010は、物理量センサー1を支持する基板であり、例えば、インターポーザー基板である。このようなベース基板1010の上面には複数の接続端子1011が配置されており、下面には複数の実装端子1012が配置されている。また、ベース基板1010内には、図示しない内部配線が配置されており、この内部配線を介して、各接続端子1011が、対応する実装端子1012と電気的に接続されている。このようなベース基板1010としては、特に限定されず、例えば、シリコン基板、セラミック基板、樹脂基板、ガラス基板、ガラスエポキシ基板等を用いることができる。   The base substrate 1010 is a substrate that supports the physical quantity sensor 1, and is, for example, an interposer substrate. A plurality of connection terminals 1011 are arranged on the upper surface of the base substrate 1010 and a plurality of mounting terminals 1012 are arranged on the lower surface. In addition, an internal wiring (not shown) is disposed in the base substrate 1010, and each connection terminal 1011 is electrically connected to the corresponding mounting terminal 1012 through the internal wiring. Such a base substrate 1010 is not particularly limited, and for example, a silicon substrate, a ceramic substrate, a resin substrate, a glass substrate, a glass epoxy substrate, or the like can be used.

また、物理量センサー1は、基体2を下側(ベース基板1010側)に向けてベース基板1010上に配置されている。そして、物理量センサー1は、接合部材を介してベース基板1010に接合されている。   Further, the physical quantity sensor 1 is disposed on the base substrate 1010 with the base 2 facing downward (base substrate 1010 side). The physical quantity sensor 1 is bonded to the base substrate 1010 via a bonding member.

また、回路素子1020は、物理量センサー1上に配置されている。そして、回路素子1020は、接合部材を介して物理量センサー1の蓋部8に接合されている。また、回路素子1020は、ボンディングワイヤーBW1を介して物理量センサー1の各電極パッドPと電気的に接続され、ボンディングワイヤーBW2を介してベース基板1010の接続端子1011と電気的に接続されている。このような回路素子1020には、物理量センサー1を駆動する駆動回路や、物理量センサー1からの出力信号に基づいて加速度を検出する検出回路や、検出回路からの信号を所定の信号に変換して出力する出力回路等が、必要に応じて含まれている。   The circuit element 1020 is disposed on the physical quantity sensor 1. The circuit element 1020 is bonded to the lid portion 8 of the physical quantity sensor 1 via a bonding member. The circuit element 1020 is electrically connected to each electrode pad P of the physical quantity sensor 1 through the bonding wire BW1, and is electrically connected to the connection terminal 1011 of the base substrate 1010 through the bonding wire BW2. Such a circuit element 1020 includes a drive circuit that drives the physical quantity sensor 1, a detection circuit that detects acceleration based on an output signal from the physical quantity sensor 1, and a signal from the detection circuit that is converted into a predetermined signal. An output circuit or the like for output is included as necessary.

また、モールド部1030は、物理量センサー1および回路素子1020をモールドしている。これにより、物理量センサー1や回路素子1020を水分、埃、衝撃等から保護することができる。モールド部1030としては、特に限定されないが、例えば、熱硬化型のエポキシ樹脂を用いることができ、例えば、トランスファーモールド法によってモールドすることができる。   The mold unit 1030 molds the physical quantity sensor 1 and the circuit element 1020. Thereby, the physical quantity sensor 1 and the circuit element 1020 can be protected from moisture, dust, impact, and the like. Although it does not specifically limit as the mold part 1030, For example, a thermosetting epoxy resin can be used, For example, it can mold by the transfer mold method.

以上のような物理量センサーデバイス1000は、物理量センサー1を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、信頼性の高い物理量センサーデバイス1000が得られる。   The physical quantity sensor device 1000 as described above includes the physical quantity sensor 1. Therefore, the effect of the physical quantity sensor 1 described above can be enjoyed, and a highly reliable physical quantity sensor device 1000 can be obtained.

なお、物理量センサーデバイス1000の構成としては、上記の構成に限定されず、例えば、物理量センサー1がセラミックパッケージに収納された構成となっていてもよい。   Note that the configuration of the physical quantity sensor device 1000 is not limited to the above configuration, and for example, the physical quantity sensor 1 may be configured to be housed in a ceramic package.

<第5実施形態>
次に、本発明の第5実施形態に係る電子機器について説明する。
<Fifth Embodiment>
Next, an electronic apparatus according to a fifth embodiment of the invention will be described.

図18は、本発明の第5実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
図18に示すモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューター1100は、本発明の物理量センサーを備える電子機器を適用したものである。この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター1100には、加速度センサーとして機能する物理量センサー1が内蔵されている。ここで、物理量センサー1としては、例えば、前述した各実施形態のいずれかのものを用いることができる。
FIG. 18 is a perspective view showing an electronic apparatus according to the fifth embodiment of the present invention.
A mobile type (or notebook type) personal computer 1100 shown in FIG. 18 applies an electronic device including the physical quantity sensor of the present invention. In this figure, a personal computer 1100 includes a main body portion 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display portion 1108. The display unit 1106 is rotated with respect to the main body portion 1104 via a hinge structure portion. It is supported movably. Such a personal computer 1100 incorporates a physical quantity sensor 1 that functions as an acceleration sensor. Here, as the physical quantity sensor 1, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

このようなパーソナルコンピューター1100(電子機器)は、物理量センサー1を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such a personal computer 1100 (electronic device) has a physical quantity sensor 1. Therefore, the effect of the physical quantity sensor 1 described above can be enjoyed and high reliability can be exhibited.

<第6実施形態>
次に、本発明の第6実施形態に係る電子機器について説明する。
<Sixth Embodiment>
Next, an electronic apparatus according to a sixth embodiment of the invention will be described.

図19は、本発明の第6実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
図19に示す携帯電話機1200(PHSも含む)は、本発明の物理量センサーを備える電子機器を適用したものである。この図において、携帯電話機1200は、アンテナ(図示せず)、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。このような携帯電話機1200には、加速度センサーとして機能する物理量センサー1が内蔵されている。ここで、物理量センサー1としては、例えば、前述した各実施形態のいずれかのものを用いることができる。
FIG. 19 is a perspective view showing an electronic apparatus according to the sixth embodiment of the present invention.
A cellular phone 1200 (including PHS) illustrated in FIG. 19 is an application of an electronic device including the physical quantity sensor of the present invention. In this figure, a cellular phone 1200 includes an antenna (not shown), a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206, and a display unit 1208 is provided between the operation buttons 1202 and the earpiece 1204. Has been placed. Such a cellular phone 1200 incorporates a physical quantity sensor 1 that functions as an acceleration sensor. Here, as the physical quantity sensor 1, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

このような携帯電話機1200(電子機器)は、物理量センサー1を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such a cellular phone 1200 (electronic device) has a physical quantity sensor 1. Therefore, the effect of the physical quantity sensor 1 described above can be enjoyed and high reliability can be exhibited.

<第7実施形態>
次に、本発明の第7実施形態に係る電子機器について説明する。
<Seventh embodiment>
Next, an electronic apparatus according to a seventh embodiment of the invention will be described.

図20は、本発明の第7実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
図20に示すデジタルスチールカメラ1300は、本発明の物理量センサーを備える電子機器を適用したものである。この図において、ケース(ボディー)1302の背面には表示部1310が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1310は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。そして、撮影者が表示部1310に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押すと、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。このようなデジタルスチールカメラ1300には、加速度センサーとして機能する物理量センサー1が内蔵されている。ここで、物理量センサー1としては、例えば、前述した各実施形態のいずれかを用いることができる。
FIG. 20 is a perspective view showing an electronic apparatus according to the seventh embodiment of the present invention.
A digital still camera 1300 shown in FIG. 20 is an application of an electronic device including the physical quantity sensor of the present invention. In this figure, a display unit 1310 is provided on the back of a case (body) 1302, and is configured to display based on an image pickup signal by a CCD. The display unit 1310 is a finder that displays an object as an electronic image. Function. A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the drawing) of the case 1302. When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit 1310 and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory 1308. Such a digital still camera 1300 incorporates a physical quantity sensor 1 that functions as an acceleration sensor. Here, as the physical quantity sensor 1, for example, any of the above-described embodiments can be used.

このようなデジタルスチールカメラ1300(電子機器)は、物理量センサー1を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such a digital still camera 1300 (electronic device) has a physical quantity sensor 1. Therefore, the effect of the physical quantity sensor 1 described above can be enjoyed and high reliability can be exhibited.

なお、本発明の電子機器は、前述した実施形態のパーソナルコンピューターおよび携帯電話機、本実施形態のデジタルスチールカメラの他にも、例えば、スマートフォン、タブレット端末、時計(スマートウォッチを含む)、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンタ)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、HMD(ヘッドマウントディスプレイ)等のウェアラブル端末、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、移動体端末基地局用機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター、ネットワークサーバー等に適用することができる。   The electronic device of the present invention includes, for example, a smart phone, a tablet terminal, a watch (including a smart watch), an ink jet discharge, in addition to the personal computer and mobile phone of the above-described embodiment and the digital still camera of the present embodiment. Wearable terminals such as devices (for example, inkjet printers), laptop personal computers, televisions, HMDs (head-mounted displays), video cameras, video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks (including those with communication functions), electronic Dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, video phone, security TV monitor, electronic binoculars, POS terminal, medical device (eg electronic thermometer, blood pressure monitor, blood glucose meter, electrocardiogram measuring device, ultrasound diagnosis Device, electronic endoscope), fish finder, various measuring equipment, mobile terminal base station equipment, instruments (eg, vehicles, aircraft, ship instruments), flight simulator, network server, etc. it can.

<第8実施形態>
次に、本発明の第8実施形態に係る移動体について説明する。
<Eighth Embodiment>
Next, a moving object according to an eighth embodiment of the invention will be described.

図21は、本発明の第8実施形態に係る移動体を示す斜視図である。
図21に示す自動車1500は、本発明の物理量センサーを備える移動体を適用した自動車である。この図において、自動車1500には、加速度センサーとして機能する物理量センサー1が内蔵されており、物理量センサー1によって車体1501の姿勢を検出することができる。物理量センサー1の検出信号は、車体姿勢制御装置1502に供給され、車体姿勢制御装置1502は、その信号に基づいて車体1501の姿勢を検出し、検出結果に応じてサスペンションの硬軟を制御したり、個々の車輪1503のブレーキを制御したりすることができる。ここで、物理量センサー1としては、例えば、前述した各実施形態のいずれかのものを用いることができる。
FIG. 21 is a perspective view showing a moving body according to the eighth embodiment of the present invention.
An automobile 1500 shown in FIG. 21 is an automobile to which a moving body including the physical quantity sensor of the present invention is applied. In this figure, an automobile 1500 has a built-in physical quantity sensor 1 that functions as an acceleration sensor, and the physical quantity sensor 1 can detect the posture of the vehicle body 1501. The detection signal of the physical quantity sensor 1 is supplied to the vehicle body posture control device 1502, and the vehicle body posture control device 1502 detects the posture of the vehicle body 1501 based on the signal, and controls the stiffness of the suspension according to the detection result. The brakes of the individual wheels 1503 can be controlled. Here, as the physical quantity sensor 1, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

このような自動車1500(移動体)は、物理量センサー1を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such an automobile 1500 (moving body) has a physical quantity sensor 1. Therefore, the effect of the physical quantity sensor 1 described above can be enjoyed and high reliability can be exhibited.

なお、物理量センサー1は、他にも、カーナビゲーションシステム、カーエアコン、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、エンジンコントロール、ハイブリッド自動車や電気自動車の電池モニター等の電子制御ユニット(ECU:electronic control unit)に広く適用できる。   In addition, the physical quantity sensor 1 includes a car navigation system, a car air conditioner, an anti-lock brake system (ABS), an air bag, a tire pressure monitoring system (TPMS), an engine control, and a hybrid vehicle. It can be widely applied to electronic control units (ECU) such as battery monitors for electric vehicles and electric vehicles.

また、移動体としては、自動車1500に限定されず、例えば、飛行機、ロケット、人工衛星、船舶、AGV(無人搬送車)、二足歩行ロボット、ドローン等の無人飛行機等にも適用することができる。   Further, the moving body is not limited to the automobile 1500, and can be applied to, for example, an unmanned airplane such as an airplane, a rocket, an artificial satellite, a ship, an AGV (automated guided vehicle), a bipedal walking robot, and a drone. .

以上、本発明の物理量センサー、物理量センサーの製造方法、物理量センサーデバイス、電子機器および移動体を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、前述した実施形態を適宜組み合わせてもよい。   The physical quantity sensor, the physical quantity sensor manufacturing method, the physical quantity sensor device, the electronic apparatus, and the moving body of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited to this, and the configuration of each part Can be replaced with any structure having a similar function. In addition, any other component may be added to the present invention. Moreover, you may combine embodiment mentioned above suitably.

また、前述した実施形態では、素子片がX軸方向の加速度を検出することのできる構成について説明したが、素子片の構成としては、これに限定されず、例えば、Y軸方向の加速度を検出することのできる構成であってもよいし、Z軸方向の加速度を検出することのできる構成であってもよい。また、前述した実施形態では、物理量センサーが1つの素子片を有する構成について説明したが、素子片の数としては、特に限定されず、2つ以上であってもよい。2つ以上の場合は、例えば、異なる軸方向の加速度を検出することのできる素子片を有することが好ましい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the element piece can detect the acceleration in the X-axis direction has been described. However, the configuration of the element piece is not limited thereto, and for example, the acceleration in the Y-axis direction is detected. The structure which can be performed may be sufficient, and the structure which can detect the acceleration of a Z-axis direction may be sufficient. In the above-described embodiment, the configuration in which the physical quantity sensor has one element piece has been described. However, the number of element pieces is not particularly limited, and may be two or more. In the case of two or more, for example, it is preferable to have element pieces that can detect accelerations in different axial directions.

また、前述した実施形態では、素子片が加速度を検出することのできる構成について説明したが、素子片が検出する物理量としては、加速度に限定されず、例えば、角速度であってもよい。この場合、素子片としては、例えば、X軸まわりの角速度を検出することができる構成、Y軸まわりの角速度を検出することができる構成、Z軸まわりの角速度を検出することができる構成のいずれかとすることができる。また、これらから選択した2つ以上の素子片を有していてもよい。もちろん、上述した加速度を検出することのできる素子片と組み合わせてもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the element piece can detect the acceleration has been described. However, the physical quantity detected by the element piece is not limited to the acceleration, and may be an angular velocity, for example. In this case, as the element piece, for example, any of a configuration capable of detecting an angular velocity around the X axis, a configuration capable of detecting an angular velocity around the Y axis, and a configuration capable of detecting the angular velocity around the Z axis. It can be. Moreover, you may have two or more element pieces selected from these. Of course, you may combine with the element piece which can detect the acceleration mentioned above.

1…物理量センサー、2…基体、21…凹部、22、23、24…溝部、220、230、240…貫通孔、3…素子片、30…基板、31…固定電極部、311…第1固定電極指、312…第2固定電極指、32…可動電極部、321、322…支持部、323…可動部、324、325…連結部、326…可動電極指、7a…下地層、7b…電極層、7c…被覆層、72、73、74…配線、8…蓋部、81…凹部、82…連通孔、83…封止部材、89…低融点ガラス、91…第1絶縁層、92…第2絶縁層、1000…物理量センサーデバイス、1010…ベース基板、1011…接続端子、1012…実装端子、1020…回路素子、1030…モールド部、1100…パーソナルコンピューター、1102…キーボード、1104…本体部、1106…表示ユニット、1108…表示部、1200…携帯電話機、1202…操作ボタン、1204…受話口、1206…送話口、1208…表示部、1300…デジタルスチールカメラ、1302…ケース、1304…受光ユニット、1306…シャッターボタン、1308…メモリー、1310…表示部、1500…自動車、1501…車体、1502…車体姿勢制御装置、1503…車輪、Ax…加速度、B1、B2、B3…導電性バンプ、BW1、BW2…ボンディングワイヤー、D1…離間距離、D2…深さ、P…電極パッド、S…収納空間、V1…電圧、V2…電圧、W1、W2…幅   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Physical quantity sensor, 2 ... Base | substrate, 21 ... Recessed part, 22, 23, 24 ... Groove part, 220, 230, 240 ... Through-hole, 3 ... Element piece, 30 ... Board | substrate, 31 ... Fixed electrode part, 311 ... 1st fixed Electrode finger, 312 ... second fixed electrode finger, 32 ... movable electrode part, 321, 322 ... support part, 323 ... movable part, 324, 325 ... connection part, 326 ... movable electrode finger, 7a ... underlayer, 7b ... electrode Layer, 7c ... coating layer, 72, 73, 74 ... wiring, 8 ... lid, 81 ... recess, 82 ... communication hole, 83 ... sealing member, 89 ... low melting glass, 91 ... first insulating layer, 92 ... Second insulating layer, 1000 ... Physical quantity sensor device, 1010 ... Base substrate, 1011 ... Connection terminal, 1012 ... Mounting terminal, 1020 ... Circuit element, 1030 ... Mold part, 1100 ... Personal computer, 1102 ... Keyboard, 110 ...... Main unit, 1106: Display unit, 1108 ... Display unit, 1200 ... Mobile phone, 1202 ... Operation buttons, 1204 ... Earpiece, 1206 ... Mouthpiece, 1208 ... Display unit, 1300 ... Digital still camera, 1302 ... Case, DESCRIPTION OF SYMBOLS 1304 ... Light-receiving unit, 1306 ... Shutter button, 1308 ... Memory, 1310 ... Display part, 1500 ... Automobile, 1501 ... Car body, 1502 ... Car body posture control apparatus, 1503 ... Wheel, Ax ... Acceleration, B1, B2, B3 ... Conductivity Bump, BW1, BW2 ... bonding wire, D1 ... separation distance, D2 ... depth, P ... electrode pad, S ... storage space, V1 ... voltage, V2 ... voltage, W1, W2 ... width

Claims (12)

可動イオンを含有する絶縁性の基体と、
前記基体に設けられた素子片と、
前記基体に設けられ、前記素子片と電気的に接続されている配線と、
前記基体と前記配線との間に設けられ、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第1絶縁層と、を有することを特徴とする物理量センサー。
An insulating substrate containing mobile ions;
An element piece provided on the substrate;
Wiring provided on the base body and electrically connected to the element piece;
A physical quantity sensor comprising: a first insulating layer that is provided between the substrate and the wiring and has a lower content of mobile ions than the substrate.
前記配線を覆い、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第2絶縁層を有する請求項1に記載の物理量センサー。   2. The physical quantity sensor according to claim 1, wherein the physical quantity sensor has an insulating second insulating layer that covers the wiring and has a smaller content of mobile ions than the base. 前記第1絶縁層および前記第2絶縁層は、互いに同じ材料を含む請求項2に記載の物理量センサー。   The physical quantity sensor according to claim 2, wherein the first insulating layer and the second insulating layer contain the same material. 前記第2絶縁層は、低融点ガラスで構成されている請求項2に記載の物理量センサー。   The physical quantity sensor according to claim 2, wherein the second insulating layer is made of low-melting glass. 前記基体との間に前記素子片を収納するように前記基体に接合されている蓋部を有し、
前記蓋部および前記基体は、前記第2絶縁層を介して接合されている請求項4に記載の物理量センサー。
Having a lid joined to the base so as to accommodate the element piece between the base and the base;
The physical quantity sensor according to claim 4, wherein the lid portion and the base body are bonded via the second insulating layer.
前記基体は、凹部を有し、
前記凹部内に、前記配線および前記第1絶縁層が設けられている請求項1ないし5のいずれか1項に記載の物理量センサー。
The base has a recess;
The physical quantity sensor according to claim 1, wherein the wiring and the first insulating layer are provided in the recess.
可動イオンを含有する絶縁性の基体を準備する工程と、
前記基体上に、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層上に配線を形成する工程と、
前記基体上に、前記配線と電気的に接続されている素子片を配置する工程と、を有することを特徴とする物理量センサーの製造方法。
Preparing an insulating substrate containing mobile ions;
Forming an insulating first insulating layer on the substrate, the content of mobile ions being less than that of the substrate;
Forming a wiring on the first insulating layer;
And a step of disposing an element piece electrically connected to the wiring on the substrate.
前記配線を形成する工程と前記素子片を配置する工程との間に、前記配線を覆い、可動イオンの含有量が前記基体よりも少ない絶縁性の第2絶縁層を形成する工程を有する請求項7に記載の物理量センサーの製造方法。   A step of forming an insulating second insulating layer that covers the wiring and has a smaller content of mobile ions than the base between the step of forming the wiring and the step of arranging the element pieces. 8. A method for producing a physical quantity sensor according to 7. 前記基体と前記素子片とは、陽極接合されている請求項7または8に記載の物理量センサーの製造方法。   The method of manufacturing a physical quantity sensor according to claim 7 or 8, wherein the base and the element piece are anodically bonded. 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の物理量センサーを有することを特徴とする物理量センサーデバイス。   A physical quantity sensor device comprising the physical quantity sensor according to claim 1. 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の物理量センサーを有することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the physical quantity sensor according to claim 1. 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の物理量センサーを有することを特徴とする移動体。   A moving body comprising the physical quantity sensor according to claim 1.
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