JP2018131411A - 日焼け止め化粧料 - Google Patents
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(2) (1)の日焼け止め化粧料は、水中油型乳化日焼け止め化粧料であってもよい。
(3) (1)又は(2)の日焼け止め化粧料において、(a)1種類以上の有機系紫外線吸収剤は、少なくともシリコーン系の紫外線吸収剤を含有してもよい。
(4) (3)の日焼け止め化粧料において、シリコーン系の紫外線吸収剤は、ジメチコジエチルベンザルマロネートであってもよい。
(5) (1)から(4)のいずれかの日焼け止め化粧料において、(b)疎水化処理無水ケイ酸は、1次粒子の平均径が6.5nm以上12.4nm以下であり、BET法による比表面積が125m2/g以上265m2/g以下であってもよい。
(6) (1)から(5)のいずれかの日焼け止め化粧料は、さらに、(e)水溶性高分子、(f)水を含有していてもよい。
本発明の日焼け止め化粧料は、(a)1種類以上の有機系紫外線吸収剤、(b)疎水化処理無水ケイ酸、(c)界面活性剤、(d)油剤、を、含有する。
(a)有機系紫外線吸収剤は、1種類以上配合され、2種類以上6種類以下配合されることが好ましく、3種類以上5種類以下配合されることがより好ましい。1種類以上の有機系紫外線吸収剤を組み合わせて配合することで、波長帯の異なるUV−A領域(320nm〜400nm)とUV−B領域(290nm〜320nm)に対して、対応する波長を吸収する有機系紫外線吸収剤を複数選択し、優れた紫外線防御効果を有する日焼け止め化粧料とすることができる。
ベンザルマロネート誘導体は、ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサンであることが好ましく、ジメチコジエチルベンザルマロネートであることがより好ましい。ジメチコジエチルベンザルマロネートとしては、例えば、商品名:パルソールSLX(製造会社:DSM社)を好適に用いることができる。
ケイ皮酸誘導体は、パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル(例えば、商品名:ユビナールMC80、製造会社:BASF社や、商品名:パルソールMCX、製造会社:DSM社)、メトキシケイ皮酸イソプロピル、メトキシケイ皮酸イソアミル(例えば、商品名:ネオ・ヘリオパンE1000、製造会社:ハーマン・アンド・ライマー社)、シンノキセート、DEAメトキシシンナメート、メチルケイ皮酸ジイソプロピル、グリセリル−エチルヘキサノエート−ジメトキシシンナメート等を適宜用いることができ、パラメトキシケイ皮酸2−エチルヘキシルであることが好ましい。
パラアミノ安息香酸誘導体は、パラアミノ安息香酸(PABA)、パラアミノ安息香酸エチル(エチルPABA)、4−[N,N−ジ(3−ヒドロキシプロピル)アミノ]安息香酸エチル、パラジメチルアミノ安息香酸アミル(ジメチルPABAアミル)、パラジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル(ジメチルPABAエチルヘキシル)(例えば、商品名:エスカロール 507、製造会社:ISP社)、パラアミノ安息香酸グリセリル(グリセリルPABA)、PEG−25−アミノ安息香酸(例えば、商品名:ユビナール P25、製造会社:BASF社)、2−[4−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾイル]安息香酸ヘキシルエステル(例えば、商品名:ユビナール A Plus Glanular、製造会社:BASF社)等を適宜用いることができ、2−[4−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾイル]安息香酸ヘキシルエステルであることが好ましい。
トリアジン誘導体は、エチルヘキシルトリアゾン(2,4,6−トリス[4−(2−エチルヘキシルオキシカルボニル)アニリノ]−1,3,5−トリアジン)(例えば、商品名:ユビナール T−150、製造会社:BASF社)、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(例えば、商品名:ユバソーブ HEB、製造会社:3V Sigma社)、2,4,6−トリス(ジイソブチル−4’−アミノベンザルマロネート)−S−トリアジン、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン(2,4−ビス−[{4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ}−フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン)(例えば、商品名:チノソーブ S、製造会社:BASF社)、トリスビフェニルトリアジン(例えば、商品名:チノソーブA2B、製造会社:BASF社)等を適宜用いることができ、エチルヘキシルトリアゾン及びビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンであることが好ましい。
サリチル酸誘導体は、ホモサレート(Homosalate)(例えば、商品名:ユーソレックス HMS、製造会社:Merck社)、エチルヘキシルサリチレート(例えば、商品名:ネオ・ヘリオパン OS、製造会社:ハーマン・アンド・ライマー社)等を適宜用いることができる。
β,β−ジフェニルアクリレート誘導体は、オクトクリレン(例えば、商品名:ユビナール N539 T、製造会社:BASF社や、商品名:パルソール340、製造会社:DSM社)等を適宜用いることができる。
ベンゾフェノン誘導体は、ベンゾフェノン−1(例えば、商品名:ユビナール 400、製造会社:BASF社)、ベンゾフェノン−2(例えば、商品名:ユビナール D50、製造会社:BASF社)、ベンゾフェノン−3(オキシベンゾン)(例えば、商品名:ユビナール M40、製造会社:BASF社)、ベンゾフェノン−4(例えば、商品名:ユビナールMS40、製造会社:BASF社)、ベンゾフェノン−5、ベンゾフェノン−6(例えば、商品名:ヘリソーブ11、製造会社:ノルクアイ(Norquay)社)、ベンゾフェノン−8(例えば、商品名:スペクトラ−ソープ UV−24、製造会社:アメリカン・シアナミド(American Cyanamid)社、ベンゾフェノン−9(例えば、ユビナール DS−49、製造会社:BASF社)、ベンゾフェノン−12等を適宜用いることができる。
ベンジリデンショウノウ誘導体は、3−ベンジリデンショウノウ(例えば、商品名:メギゾリル(Mexoryl) SD、製造会社:シメックス(Chimex)社)、4−ベンジリデンショウノウ、ベンジリデンショウノウスルホン酸(例えば、商品名:メギゾリル SL、製造会社:シメックス社)、メト硫酸ショウノウベンザルコニウム(例えば、商品名:メギゾリル SO、製造会社:シメックス社)、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸(例えば、商品名:メギゾリル SX、製造会社:シメックス社)、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ(例えば、商品名:メギゾリル SW、製造会社:シメックス社)等を適宜用いることができる。
フェニルベンゾイミダゾール誘導体は、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸(例えば、商品名:ユーソレックッス 232、製造会社:Merck社)、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム(商品名:ネオ・ヘリオパン AP、製造会社:ハーマン・アンド・ライマー社)等を適宜用いることができる。
アントラニル誘導体は、アントラニル酸メンチル(例えば、商品名:ネオ・ヘリオパン MA、製造会社:ハーマン・アンド・ライマー社)等を適宜用いることができる。
イミダゾリン誘導体は、エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート等を適宜用いることができる。
4,4−ジアリールブタジエン誘導体は、1,1−ジカルボキシ(2,2’−ジメチルプロピル)−4,4−ジフェニルブタジエン等を適宜用いることができる。
ベンゾイル誘導体は、4−tert−ブチル−4’−メトキシ−ジベンゾイルメタン(例えば、商品名:パルソール1789、製造会社:DSM社)等を適宜用いることができる。
その他の有機系紫外線吸収剤は、2,2’−メチレンビス[6−(2Hベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール](例えば、商品名:チノソーブM、製造会社:BASF社)等を適宜用いることができる。
本発明の日焼け止め化粧料は、(b)疎水化処理無水ケイ酸を含有する。化粧料に疎水化処理無水ケイ酸を分散することで、有機系紫外線吸収剤を製剤中に均一に分散しやすくなるため、有機系紫外線吸収剤を多量に配合しなくても、紫外線防御効果を促進させることができ、使用感及び安全性に優れ、かつ、紫外線防御効果に優れた日焼け止め化粧料とすることができる。
(c)界面活性剤は、アニオン性界面活性剤若しくは非イオン性界面活性剤又はアニオン性界面活性剤と非イオン性界面活性剤の組み合わせであることが好ましい。アニオン性界面活性剤としては、ジラウロイルグルタミン酸リシンナトリウム(例えば、商品名:ペリセア、製造会社:旭化成ケミカルズ株式会社)、ステアロイルグルタミン酸ナトリウム等のアミノ酸系界面活性等を適宜用いることができ、ジラウロイルグルタミン酸リシンナトリウムであることが好ましい。非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸モノアルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ジアルカノールアミド、等を適宜用いることができる。
(d)油剤は、シリコーン油、炭化水素油、エステル油、エーテル油、フッ素油等を適宜用いることができる。
本発明の日焼け止め化粧料は、(e)水溶性高分子を、全量中に、0.2質量%以上5質量%以下含有することが好ましく、0.2質量%以上1.0質量%以下含有することがより好ましい。
本発明の日焼け止め化粧料は、(f)水を、全量中に、40質量%以上95質量%以下含有することが好ましく、60質量%以上80質量%以下含有することがより好ましい。
表1に記載の処方の日焼け止め化粧料を製造し、SPFについて評価し、その結果も表1に示した。なお、実施例1から実施例4においては、シリル化処理無水ケイ酸(AEROSIL R974)を表1に記載の配合量で配合し、比較例1においては、シリル化処理無水ケイ酸(AEROSIL R974)を配合しなかった。
SPFは、SPFアナライザー(Labsphere社製、UV−2000S)を用いて測定を行い、PMMA板上に、各試料を1.3mg/cm2になるように塗布し、15分間自然乾燥させた後、8か所以上における紫外線吸収スペクトルを検出し、平均化して、SPFを算出した。
実施例4と比較例1については、上述の処方とした日焼け止め化粧料を用いた。また、実施例5から7、比較例2から4は、表2に記載の疎水化処理無水ケイ酸又は無水ケイ酸を配合し、その他の成分については実施例4と同様の処方とした日焼け止め化粧料を製造し、SPFについて評価しその結果を図1に示した。なお、表2には、各実施例・比較例における疎水化処理無水ケイ酸又は無水ケイ酸についての1次粒子の平均径、BET法による比表面積、表面処理、水に対する挙動も示した。
実施例8から13については、実施例4に係る日焼け止め化粧料から、主に界面活性剤、油剤等を適宜変更して表3に記載の処方とした日焼け止め化粧料を製造し、SPF及び使用感(べたつきのなさ)について評価し、その結果も表3に記載した。
使用感(べたつきのなさ)は、8名のパネラーの皮膚上にそれぞれ30μlの日焼け止め化粧料をおき、直径5cmの円状の範囲内に指で軽く伸ばしたときに、べたつきがあるか否かにより評価を行った。べたつきがないと回答した者が2名未満の場合を「−」、2名以上4名未満の場合を「+」、4名以上6名未満の場合を「++」、6名以上8名以下の場合を「+++」で示した。
実施例14から17については、実施例4に係る日焼け止め化粧料から、主に紫外線吸収剤の配合量を適宜変更して表4に記載の処方とした日焼け止め化粧料を製造し、SPF及び使用感(べたつきのなさ)について評価し、その結果も表4に記載した。
Claims (6)
- 次の成分(a)から(d);
(a)1種類以上の有機系紫外線吸収剤、
(b)疎水化処理無水ケイ酸、
(c)界面活性剤、
(d)油剤、
を、含有する日焼け止め化粧料。 - 水中油型乳化日焼け止め化粧料である、請求項1に記載の日焼け止め化粧料。
- (a)1種類以上の有機系紫外線吸収剤は、少なくともシリコーン系の紫外線吸収剤を含有する、請求項1又は請求項2に記載の日焼け止め化粧料。
- シリコーン系の紫外線吸収剤は、ジメチコジエチルベンザルマロネートである、請求項3に記載の日焼け止め化粧料。
- (b)疎水化処理無水ケイ酸は、1次粒子の平均径が6.5nm以上12.4nm以下であり、BET法による比表面積が125m2/g以上265m2/g以下である、請求項1から4のいずれか1項に記載の日焼け止め化粧料。
- さらに、
(e)水溶性高分子、
(f)水、
を、含有する請求項1から5のいずれか1項に記載の日焼け止め化粧料。
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