JP2018043344A - Circular support board, nonwoven cloth polishing roll, roll assembly, and polishing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、円形支持板、不織布研磨ロール、ロール組立体及び研磨方法に関する。 The present invention relates to a circular support plate, a nonwoven fabric polishing roll, a roll assembly, and a polishing method.
従来、金属条材等の表面を研磨するための研磨ロールとして、回転工具の回転軸（スピンドル）が挿入される貫通孔が形成された円筒状の研磨ロールが用いられている（例えば、特許文献１）。このような研磨ロールとしては、例えば、特許文献１の図５に記載されているようなラミネート形式、フラップ形式、渦巻き形式等の研磨ロールが知られている。
Conventionally, as a polishing roll for polishing the surface of a metal strip or the like, a cylindrical polishing roll in which a through hole into which a rotating shaft (spindle) of a rotary tool is inserted is used (for example, Patent Documents). 1). As such a polishing roll, for example, a polishing roll of a laminate type, a flap type, a spiral type or the like as described in FIG. 5 of
このうち、ラミネート形式においては、特許文献１の図１に記載されているように、ディスクシートの圧縮積層体の両端に金属等の硬質なディスク板を配して、圧縮積層体を挟持することが一般的である。
Among these, in the laminate format, as shown in FIG. 1 of
ラミネート形式の研磨ロールにおいては、特許文献１の図１に記載されているように、ディスクシートの圧縮積層体がディスク板より大きい外径を有することから、ディスクシートがいわゆる花開き状にふくらむという問題が生じやすい。この花開きが過度に生じると、圧縮積層体の積層方向に密度の差が生じ、研磨加工が不効率且つ不均一になる場合がある。
In the laminating type polishing roll, as described in FIG. 1 of
また、上記研磨ロールの使用限界径はディスク板の外径で決まるため、外径の大きいディスク板で圧縮積層体を挟持して花開きを抑制しようとすると、使用限界径が大きくなり、研磨ロールの寿命が短くなる。 In addition, since the use limit diameter of the polishing roll is determined by the outer diameter of the disk plate, if the compression laminate is sandwiched between the disk plates having a large outer diameter to suppress flowering, the use limit diameter increases, Life is shortened.
本発明の一側面は、研磨機の回転軸が挿入される貫通孔を有する不織布研磨ロールに関するものである。この不織布研磨ロールは、上記貫通孔をなす開口を有する円形不織布が複数枚積層された研磨部と、上記研磨部の積層方向の両端にそれぞれ位置し、上記貫通孔をなす開口を有し、上記円形不織布と略同一の外径を有する２つの円形支持板と、を備える。また、この不織布研磨ロールにおいて、上記円形支持板は、押圧された状態で固化された不織布を含む。 One aspect of the present invention relates to a nonwoven fabric polishing roll having a through hole into which a rotating shaft of a polishing machine is inserted. The nonwoven fabric polishing roll has a polishing portion in which a plurality of circular nonwoven fabrics having openings that form the through-holes are stacked, and an opening that forms the through-holes that are positioned at both ends in the stacking direction of the polishing portions. And two circular support plates having substantially the same outer diameter as the circular nonwoven fabric. In the nonwoven fabric polishing roll, the circular support plate includes a nonwoven fabric solidified in a pressed state.
この不織布研磨ロールでは、研磨部を挟持する円形支持板が、研磨部を構成する円形不織布と略同一の外径を有することから、研磨部における円形不織布の積層方向への広がり（すなわち、花開き）が十分に抑制される。このため、研磨部が積層方向に均一な密度を有するものとなり、高効率且つ均一な研磨加工が実現される。 In this nonwoven fabric polishing roll, the circular support plate sandwiching the polishing portion has substantially the same outer diameter as the circular nonwoven fabric constituting the polishing portion, so that the circular nonwoven fabric spreads in the polishing portion in the laminating direction (that is, flowering). Is sufficiently suppressed. For this reason, the polishing portion has a uniform density in the stacking direction, and a highly efficient and uniform polishing process is realized.
また、この不織布研磨ロールは、円形支持板が押圧された状態で固化された不織布を含むものであるため、研磨加工において、円形支持板が研磨部とともに摩耗し得る。すなわち、この不織布研磨ロールにおいては、その使用限界径が円形支持板の外径に依存せず、従来の研磨ロールと比較して長期にわたって研磨加工を実施することができる。 Moreover, since this nonwoven fabric polishing roll contains the nonwoven fabric solidified in the state where the circular support plate was pressed, the circular support plate can be worn together with the polishing portion in the polishing process. That is, in this nonwoven fabric polishing roll, the use limit diameter does not depend on the outer diameter of the circular support plate, and polishing can be carried out over a long period of time as compared with the conventional polishing roll.
一実施形態においては、圧縮応力Ｔ１／Ｓ１（Ｎ／ｍ２）に対する上記円形支持板の厚み方向の変形率が、２０％以下である。ここで、圧縮応力Ｔ１／Ｓ１は、フランジと接触する上記円形支持板の面積Ｓ１（ｍ２）と、上記研磨部から掛かる圧縮応力Ｔ１（Ｎ）と、から算出される単位面積当たりの圧縮応力である。また、フランジは、上記不織布研磨ロールと上記回転軸とを接合する部材である。このような変形率の円形支持板を備える不織布研磨ロールは、研磨部における円形不織布の積層方向への広がりが一層顕著に抑制される。 In one embodiment, the deformation rate in the thickness direction of the circular support plate with respect to the compressive stress T 1 / S 1 (N / m 2 ) is 20% or less. Here, the compressive stress T 1 / S 1 is a unit area calculated from the area S 1 (m 2 ) of the circular support plate in contact with the flange and the compressive stress T 1 (N) applied from the polished portion. The compressive stress per hit. Moreover, a flange is a member which joins the said nonwoven fabric polishing roll and the said rotating shaft. In the nonwoven fabric polishing roll including the circular support plate having such a deformation rate, the spread of the circular nonwoven fabric in the laminating direction in the polishing portion is further remarkably suppressed.
一実施形態においては、上記円形支持板に含まれる不織布が、該不織布に対して５〜３０質量％の接着剤により固化されている。このような不織布を含む円形支持板は、上述の変形率を満たしやすい。また、該円形支持板は、研磨加工における摩耗の度合いを十分に大きくすることができるため、該円形支持板によれば研磨加工をより効率良く実施することができる。 In one Embodiment, the nonwoven fabric contained in the said circular support plate is solidified with 5-30 mass% adhesive agent with respect to this nonwoven fabric. A circular support plate including such a nonwoven fabric easily satisfies the above-described deformation rate. In addition, since the circular support plate can sufficiently increase the degree of wear in the polishing process, the circular support plate can perform the polishing process more efficiently.
一実施形態においては、上記円形支持板の厚みが、上記円形支持板の外径の３〜２５％である。このような円形支持板によれば、不織布研磨ロールの研磨有効幅が十分に確保されるとともに、研磨部における円形不織布の積層方向への広がりが一層顕著に抑制される。 In one embodiment, the thickness of the circular support plate is 3 to 25% of the outer diameter of the circular support plate. According to such a circular support plate, the polishing effective width of the nonwoven fabric polishing roll is sufficiently ensured, and the spread of the circular nonwoven fabric in the polishing direction in the polishing portion is further remarkably suppressed.
一実施形態において、上記円形支持板は、積層方向に押圧された状態で固化された積層体を含み、上記積層体は、積層された複数枚の上記円形不織布を含む。このような円形支持板は、研磨部をなす円形不織布と同じ円形不織布を押圧した状態で固化しているから、研磨加工における摩耗の度合いが研磨部と同程度となる。そのため、研磨加工時に円形不織布が研磨対象又はバックアップロールと接触しても、これらの摩耗や劣化が生じ難く、研磨加工をより高効率に実施できる。なお、バックアップロールは、研磨機において研磨対象の研磨面と反対側の面において、研磨対象を支持する役割をもつものである。 In one Embodiment, the said circular support plate contains the laminated body solidified in the state pressed in the lamination direction, and the said laminated body contains the several said circular nonwoven fabric laminated | stacked. Since such a circular support plate is solidified in a state where the same circular nonwoven fabric as the circular nonwoven fabric forming the polishing portion is pressed, the degree of wear in the polishing process is approximately the same as that of the polishing portion. For this reason, even when the circular nonwoven fabric is in contact with the object to be polished or the backup roll during the polishing process, these wears and deterioration hardly occur, and the polishing process can be performed with higher efficiency. The backup roll has a role of supporting the object to be polished on the surface opposite to the surface to be polished in the polishing machine.
一実施形態では、上記研磨部において、上記貫通孔をなす開口を有し、上記円形不織布の外径以下の外径を有する円板が複数枚積層されていてもよい。 In one embodiment, a plurality of discs having an opening forming the through hole and having an outer diameter equal to or smaller than the outer diameter of the circular nonwoven fabric may be stacked in the polishing portion.
また、上記円板は、押圧された状態で固化された不織布を含むものであってよく、このとき、上記円板の外径は、上記円形不織布の外径と略同一であってよい。 Moreover, the said disk may contain the nonwoven fabric solidified in the pressed state, At this time, the outer diameter of the said disk may be substantially the same as the outer diameter of the said circular nonwoven fabric.
本発明の第二の側面は、上記不織布研磨ロールと、上記貫通孔に挿入された回転軸と、上記不織布研磨ロールの両端で上記回転軸と上記不織布研磨ロールとを接合する２つのフランジと、を備える、ロール組立体に関する。 The second aspect of the present invention includes the nonwoven fabric polishing roll, a rotating shaft inserted into the through-hole, and two flanges that join the rotating shaft and the nonwoven fabric polishing roll at both ends of the nonwoven fabric polishing roll, A roll assembly.
このようなロール組立体は、上記不織布研磨ロールを備えるため、均一な密度を有する研磨部を有し、高効率且つ均一な研磨加工を行うことができる。また、このようなロール組立体は、円形支持板が研磨加工に際し研磨部とともに摩耗し得るため、例えばフランジの外径に至るまで研磨を実施することができ、従来の研磨ロールと比較して長期にわたって研磨加工を実施することができる。 Since such a roll assembly includes the nonwoven fabric polishing roll, it has a polishing portion having a uniform density, and can perform highly efficient and uniform polishing. In addition, such a roll assembly can be worn to the outer diameter of the flange, for example, since the circular support plate can be worn together with the polishing portion during the polishing process. The polishing process can be carried out over a wide range.
本発明の第三の側面は、研磨機の回転軸が挿入される貫通孔をなす開口を有する円形不織布が複数枚積層された研磨部を備える不織布研磨ロールにおいて、上記研磨部の端部に位置する円形支持板であって、上記貫通孔をなす開口を有し、上記円形不織布と略同一の外径を有し、押圧された状態で固化された不織布を含む、円形支持板に関する。 A third aspect of the present invention is a nonwoven fabric polishing roll comprising a polishing portion in which a plurality of circular nonwoven fabrics having openings that form through holes into which a rotating shaft of a polishing machine is inserted, and is positioned at an end of the polishing portion. The present invention relates to a circular support plate that includes an opening forming the through-hole, has an outer diameter substantially the same as that of the circular nonwoven fabric, and includes a nonwoven fabric solidified in a pressed state.
このような円形支持板は、不織布研磨ロールの研磨部の端部に配置され、研磨部の積層方向への広がりを抑制することができる。また、このような円形支持板は、研磨加工において研磨部とともに摩耗し得るため、不織布研磨ロールの使用限界径を増大させることなく、上記広がりを抑制することができる。すなわち、このような円形支持板によれば、高効率且つ均一な研磨を長期間にわたって実施することが可能な不織布研磨ロールが実現される。 Such a circular support plate is arrange | positioned at the edge part of the grinding | polishing part of a nonwoven fabric grinding | polishing roll, and can suppress the breadth to the lamination direction of a grinding | polishing part. Moreover, since such a circular support plate can be worn together with the polishing portion in the polishing process, the above-mentioned spread can be suppressed without increasing the use limit diameter of the nonwoven fabric polishing roll. That is, according to such a circular support plate, a nonwoven fabric polishing roll capable of performing highly efficient and uniform polishing over a long period of time is realized.
本発明の第四の側面は、上記回転軸により回転する上記ロール組立体の研磨部に、研磨対象を接触させる工程を含む、研磨方法に関する。 A fourth aspect of the present invention relates to a polishing method including a step of bringing a polishing object into contact with a polishing portion of the roll assembly rotated by the rotating shaft.
このような研磨方法では、上記ロール組立体を用いているため、高効率且つ均一な研磨加工を長期間にわたって実施することができる。そのため、このような研磨方法によれば、均一に研磨された研磨対象を高効率で得ることができる。 In such a polishing method, since the roll assembly is used, highly efficient and uniform polishing can be performed over a long period of time. Therefore, according to such a polishing method, a uniformly polished object can be obtained with high efficiency.
本発明は、高効率且つ均一な研磨を長期間にわたって実施することが可能な不織布研磨ロール、該不織布研磨ロールを実現するための円形支持板、該不織布研磨ロールを備えるロール組立体、及び、該ロール組立体を用いた研磨方法を提供する。 The present invention provides a nonwoven fabric polishing roll capable of carrying out highly efficient and uniform polishing over a long period of time, a circular support plate for realizing the nonwoven fabric polishing roll, a roll assembly including the nonwoven fabric polishing roll, and the A polishing method using a roll assembly is provided.
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the same or equivalent elements will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
図１及び図２は、本発明の第一実施形態に係る不織布研磨ロール１００に回転軸６が挿入された組立を示す図であり、この組立全体をロール組立体ということもできる。
1 and 2 are views showing an assembly in which the rotating
不織布研磨ロール１００は、円形不織布１が複数枚積層された研磨部５０と、研磨部５０の積層方向の両端にそれぞれ位置する２つの円形支持板２とを備える。不織布研磨ロール１００は、回転軸６が挿入される貫通孔を有し、貫通孔に挿入された回転軸６とフランジ４及びロックナット５によって固定されている。
The nonwoven
回転軸６は、回転機からのトルクを不織布研磨ロール１００に伝達するためのキー突起３を有しており、不織布研磨ロール１００の貫通孔は、キー突起３を含む回転軸６と嵌合する形状を有している。
The rotating
不織布研磨ロール１００において、円形支持板２は、円形不織布１と略同一の外径を有する。このため、不織布研磨ロール１００では、研磨部５０における円形不織布１の積層方向への広がり（すなわち花開き）が十分に抑制されている。そして、花開きが十分に抑制されている研磨部５０は、積層方向に均一な密度を有し、高効率且つ均一な研磨を実現できる。
In the nonwoven
また、不織布研磨ロール１００において、円形支持板２は、押圧された状態で固化された不織布を含むものであり、研磨加工において研磨部５０とともに摩耗し得る。そのため、不織布研磨ロール１００は、図２のｄ１で示す厚みの範囲で研磨加工を実施することができ、従来の研磨ロールと比較して長期に亘って研磨加工を実施することができる。
Moreover, in the nonwoven
なお、図８に示す従来の不織布研磨ロール１１０は、不織布研磨ロール１００の円形支持板２を、従来の硬質ディスク８に置き換えた構造を示した模式断面図である。不織布研磨ロール１１０では、硬質ディスク８により円形不織布１の積層方向への広がりを抑制しているが、硬質ディスク８は円形不織布１よりその外径が小さいため、十分な広がりの抑制が達成できない場合がある。なお、硬質ディスク８には、一般的には、プラスチック製ディスク、合板製ディスク、金属製ディスク等が用いられている。
The conventional nonwoven
また、不織布研磨ロール１１０では、研磨部が摩耗して硬質ディスク８と同程度の外径になると、硬質ディスク８が研磨対象又はバックアップロールと接触してしまうため、研磨加工が不可能となる。すなわち、不織布研磨ロール１１０では、図８にｄ２で示す厚みの範囲でのみ、研磨加工を行うことができる。
Further, in the nonwoven
なお、円形不織布１の積層方向への広がりは、例えば研磨部５０全体を接着剤等により固化することによって抑制することも可能であるが、このような方法では、研磨部５０が剛直で硬度が高いものとなる。このような研磨部５０は、高研磨負荷で高い研磨量が求められる研磨用途では好適に適用し得るが、研磨対象への馴染み性が要求されるような、低研磨負荷条件下での研磨用途では、均一な仕上げが得られ難い場合がある。
The spread of the circular
これに対して、本実施形態に係る不織布研磨ロール１００では、研磨部全体の固化等によらず、円形不織布１の積層方向への広がりを有効に抑制することができる。そのため、不織布研磨ロール１００は、研磨負荷が０．１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ（好ましくは０．５〜５ｋｇｆ／ｃｍ）の低研磨負荷条件での研磨に好適に用いることができる。
On the other hand, in the nonwoven
不織布研磨ロール１００においては、図２のＷ１で示す幅で研磨加工を実施することができる。また、不織布研磨ロール１００は、円形支持板２が、研磨部５０と共に研磨対象を研磨加工できるように、研磨砥粒を含有していてもよい。この場合、不織布研磨ロール１００は、図２のＷ２で示す幅で研磨加工を実施することもできる。なお、これに対して不織布研磨ロール１１０では、研磨部でのみ研磨加工を実施することができる。
In the nonwoven
不織布研磨ロール１００において、研磨部５０は、複数の円形不織布１と円形不織布１の外径より小さい外径を有する複数の円板７とを備え、複数の円形不織布１及び複数の円板７は、２枚の円板７が２枚の円形不織布１を挟むように略等間隔に積層されている。
In the nonwoven
ここで円板７は、円形不織布１の外径より小さい外径を有しており、円形不織布１と共に回転軸６が挿入される貫通孔をなすように開口を有しており、且つ、積層方向と垂直な方向からの圧力に対する圧縮変形率が円形不織布１より小さい。円板７には、研磨部５０の内周部にかかる回転軸６からのトルクを十分に支えて、研磨部５０の外周部に確実に伝達する効果がある。そのため円板７を備える研磨部５０では、研磨対象と接する外周部の形状が安定して、より均一な研磨加工が可能となる。
Here, the
なお、不織布研磨ロール１００は、研磨部５０において円形不織布１が複数枚積層されていればよく、必ずしも研磨部５０が円板７を備える必要はない。すなわち、研磨部５０は、円形不織布１を複数枚積層してなるものであってよい。
Note that the nonwoven
図２において、研磨部５０では、２枚の円板７が２枚の円形不織布１を挟むように積層されているが、積層態様はこれに限定されない。例えば、円板７は、１枚の円形不織布１を挟むように積層されていてもよく、３枚以上の円形不織布１を挟むように積層されていてもよい。
In FIG. 2, in the polishing
また、円板７は必ずしも等間隔に積層されている必要はなく、例えば、研磨部５０が、１枚の円形不織布１を挟むように積層した箇所と２枚以上の円形不織布１を挟むように積層した箇所とを有していてもよい。積層方向の研磨性能が一層均一になることから、円板７は、略等間隔に積層されていることが好ましい。ここで略等間隔とは、例えば、複数の円板７がそれぞれ同じ枚数の円形不織布１を挟むように積層されている状態をいう。
Moreover, the
円板７の外径は、フランジ４の外径より小さくすることができる。不織布研磨ロール１００の使用限界径は、場合により、円板７の外径又はフランジ４の外径のいずれか大きい方に依存する。このとき、円板７の外径がフランジ４の外径より大きいと、外観から使用限界径を確認することが困難となる。一方、円板７の外径がフランジ４の外径より小さいと、フランジ４の外径に基づき、外観から使用限界径を確認することができる。
The outer diameter of the
ところで、円板７を後述のとおり押圧された状態で固化された不織布を含み、研磨加工において円形不織布１ととも摩耗し得るものとしたときは、円板７の外径はフランジ４の外径より大きくしてもよい。このような円板７を用いた場合には、円板７の外径がフランジ４の外径がより大きい場合であっても、フランジ４の外径に至るまで研磨加工を実施することができる。
By the way, when the
研磨部５０の積層方向の長さ１ｍあたりに含まれる円板７の総厚みは、好ましくは１０〜７０ｃｍであり、より好ましくは１５〜５０ｃｍである。このような割合で円板を積層することで、外周部での研磨性能の均一性を一層顕著に得ることができる。このような総厚みとするため、円板７の積層枚数は、例えば円板７の厚さが２ｍｍであるとき、研磨部５０の積層方向の長さ１ｍあたり５０〜３５０枚とすることができる。
The total thickness of the
研磨部５０においては、複数枚の円形不織布１が積層されているが、該円形不織布１は積層方向に任意に圧縮されていてよい。圧縮の程度は、不織布研磨ロールの用途（研磨対象の種類等）に応じて適宜変更することができ、圧縮の程度を変更することにより、研磨部の研磨可能域（図２のｄ１で示す厚みの範囲。使用限界径より外側の範囲ということもできる。）における不織布密度を任意に変更することができる。
In the polishing
研磨部５０の研磨可能域における不織布密度は、０．０５〜１．００ｇ／ｃｍ３であることが好ましく、０．１〜０．７ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。不織布密度は、単位体積当たりの不織布重量を測定して求めることができる。
Nonwoven density in abradable region of the polishing
圧縮された複数枚の円形不織布１は、研磨部５０の両端で円形支持板２によって挟持され、その形状を保持している。円形支持板２は、研磨部側の面から円形不織布１の圧縮応力を受け、該圧縮応力の負荷は、研磨部と反対側の面におけるフランジ４との接面にかかる。
The plurality of compressed circular
ここで、円形支持板２にかかる単位面積当たりの圧縮応力は、円形支持板２とフランジ４との接面の面積をＳ１（ｍ２）とし、研磨部５０から円形支持板２にかかる圧縮応力をＴ１（Ｎ）としたとき、Ｔ１／Ｓ１（Ｎ／ｃｍ２）で求めることができる。
Here, the compressive stress per unit area applied to the
この単位面積当たりの圧縮応力Ｔ１／Ｓ１（Ｎ／ｃｍ２）に対する、円形支持板２の厚み方向の変形率は、２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。円形支持板２の変形率が十分に小さいことで、研磨部５０からの圧縮応力による円形支持板２の変形が十分に抑制され、それにより円形不織布１の積層方向への広がりがより確実に抑制される。
The deformation rate in the thickness direction of the
なお、研磨部５０においては、積層された複数枚の円形不織布１は、積層方向に圧縮した状態で互いに接着剤等により固化され、一体となっていてもよい。この場合、円形支持板２は必ずしも上述の変形率が２０％以下である必要はなく、研磨部５０の固化状態に応じて任意の変形率の円形支持板２を選択することができる。
In the polishing
図３は、円形不織布１の複数の態様を例示する図であり、図４は、円形支持板２の複数の態様を例示する図であり、図５は、円板７の複数の態様を例示する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a plurality of modes of the circular
図３（ａ）の円形不織布１１は、図４（ａ）の円形支持板２１と組合せて用いられ、必要に応じて図５（ａ）の円板３１とさらに組合せて用いられる。円形不織布１１は、中央部に開口１４ａを有し、円形支持板２１は中央部に開口２４ａを有し、円板３１は中央部に開口３４ａを有している。
The
開口１４ａ、開口２４ａ及び開口３４ａは、略同一形状であって、円形不織布１１及び円板３１が各々複数枚積層された研磨部の両端に円形支持板２１が配置された不織布研磨ロールにおいては、開口１４ａ、開口２４ａ及び開口３４ａにより研磨機の回転軸を挿入するための貫通孔が形成される。すなわち、開口１４ａ、開口２４ａ及び開口３４ａは、研磨機の回転軸の断面形状と略同一形状であって、回転軸のキー突起と嵌合するキー溝を有しているということができる。
In the nonwoven fabric polishing roll in which the
円形不織布１１及び円形支持板２１はその外径が略同一であり、円形不織布１１における開口１４ａから外周までの最短距離Ｌ１と円形支持板２１における開口２４ａから外周までの最短距離Ｌ２も略同一の長さである。一方、円板３１は、その開口３４ａの形状は円形不織布１１及び円形支持板２１の開口１４ａ及び開口２４ａと略同一であるが、開口３４ａから外周までの最短距離Ｌ３は、距離Ｌ１及び距離Ｌ２より短いものとなっている。
Circular
図３（ｂ）の円形不織布１２は、図４（ｂ）の円形支持板２２と組合せて用いられ、必要に応じて図５（ｂ）の円板３２とさらに組合せて用いられる。円形不織布１２は、中央部に開口１４ｂを有し、円形支持板２２は中央部に開口２４ｂを有し、円板３２は中央部に開口３４ｂを有している。
The
開口１４ｂ、開口２４ｂ及び開口３４ｂは、略同一形状であって、円形不織布１２及び円板３２が各々複数枚積層された研磨部の両端に円形支持板２２が配置された不織布研磨ロールにおいては、開口１４ｂ、開口２４ｂ及び開口３４ｂにより研磨機の回転軸を挿入するための貫通孔が形成される。すなわち、開口１４ｂ、開口２４ｂ及び開口３４ｂは、研磨機の回転軸の断面形状と略同一形状であって、回転軸のキー溝と嵌合するキー突起を有しているということができる。
In the nonwoven fabric polishing roll in which the
円形不織布１２及び円形支持板２２はその外径が略同一であり、円形不織布１２における開口１４ｂから外周までの最短距離Ｌ１と円形支持板２２における開口２４ｂから外周までの最短距離Ｌ２も略同一の長さである。一方、円板３２は、その開口３４ｂの形状は円形不織布１２及び円形支持板２２の開口１４ｂ及び開口２４ｂと略同一であるが、開口３４ｂから外周までの最短距離Ｌ３は、距離Ｌ１及び距離Ｌ２より短いものとなっている。
Circular
図３（ｃ）の円形不織布１３は、図４（ｃ）の円形支持板２３と組合せて用いられ、必要に応じて図５（ｃ）の円板３３とさらに組合せて用いられる。円形不織布１３は、中央部に開口１４ｃを有し、円形支持板２３は中央部に開口２４ｃを有し、円板３３は中央部に開口３４ｃを有している。
The
開口１４ｃ、開口２４ｃ及び開口３４ｃは、略同一形状であって、円形不織布１３及び円板３３が各々複数枚積層された研磨部の両端に円形支持板２３が配置された不織布研磨ロールにおいては、開口１４ｃ、開口２４ｃ及び開口３４ｃにより研磨機の回転軸を挿入するための貫通孔が形成される。すなわち、開口１４ｃ、開口２４ｃ及び開口３４ｃは、研磨機の回転軸の断面形状と略同一形状である。円形不織布１３、円形支持板２３及び円板３３においては、開口１４ｃ、開口２４ｃ及び開口３４ｃは六角形状であり、このような円形不織布１３、円形支持板２３及び円板３３は、断面形状が六角形である回転軸を備える研磨機に設置するための不織布研磨ロールを製造するために用いられる。
In the nonwoven fabric polishing roll in which the
円形不織布１、円形支持板２及び円板７の開口の形状は、図３、図４及び図５に示す形状に限定されず、研磨機の回転軸の形状に応じて適宜変更することができる。例えば、開口の形状は、三角形、四角形等であってもよく、キー突起を一つ又は二つ以上有する回転軸と嵌合するような形状であってもよく、キー溝を一つ又は二つ以上有する回転軸と嵌合するような形状であってもよい。
The shapes of the openings of the circular
円形不織布１は、例えば、不織布基材と該不織布基材に担持された研磨砥粒とを備えるものである。不織布基材としては、例えば、ポリアミド（例えば、ナイロン（登録商標）６、ナイロン（登録商標）６，６等）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン等）、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート等）、ポリカーボネート等の樹脂からなる有機繊維から構成された不織布が挙げられる。有機繊維の太さ（繊維径）は、例えば、１９〜２５０μｍとすることができる。
The circular
研磨砥粒としては、研磨対象に応じて適宜変更することができ、例としては、ＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ５等からなるセラミック砥粒が挙げられる。研磨砥粒の直径は、研磨対象に応じて適宜変更でき、例えば、０．１〜１０００μｍとすることができる。 The abrasive grains can be appropriately changed depending on the object to be polished, and examples thereof include ceramic abrasive grains made of SiC, Al 2 O 3 , Cr 2 O 5 or the like. The diameter of the abrasive grains can be appropriately changed according to the object to be polished, and can be, for example, 0.1 to 1000 μm.
円形不織布１は、例えば、不織布基材に、研磨砥粒を含有する研磨組成物を含浸させ、乾燥及び／又は硬化させることによって製造することができる。
The circular
研磨組成物の例としては、研磨砥粒と、エポキシ樹脂やフェノール樹脂等のバインダーポリマーと、キシレンやカルビトール等のバインダーポリマーを溶解する溶剤と、を含むものが挙げられ、研磨組成物は必要に応じてさらに硬化剤を含んでいても良い。このような研磨組成物を不織布基材に含浸させた後、例えば、加熱炉にて溶剤を除去するとともにバインダーポリマーを硬化させて、研磨砥粒を不織布基材に担持させることができる。 Examples of polishing compositions include those containing abrasive grains, binder polymers such as epoxy resins and phenol resins, and solvents that dissolve binder polymers such as xylene and carbitol, and polishing compositions are necessary. Depending on the case, a curing agent may be further contained. After impregnating the nonwoven fabric substrate with such a polishing composition, for example, the solvent can be removed in a heating furnace and the binder polymer can be cured to support the abrasive grains on the nonwoven fabric substrate.
円形不織布１は、例えば、シート状の不織布基材に研磨砥粒を担持させた後、該シート状の不織布基材を図３に記載の形状等に打ち抜き加工して、個片化することによって得ることができる。また、図３に記載の形状等に加工した不織布基材に、研磨砥粒を担持させて得ることもできる。
The circular
円形不織布１の外径は特に制限されないが、例えば、５０〜７００ｍｍとすることができ、１００〜４００ｍｍとすることもできる。
Although the outer diameter in particular of the circular
円形不織布１の厚さは特に制限されず、複数の円形不織布１はそれぞれ厚さが同一であることが好ましいが、互いに異なる厚さを有していてもよい。円形不織布１の積層前の厚さは、例えば、２〜３０ｍｍであってよく、５〜２０ｍｍであってもよい。
The thickness of the circular
円形支持板２は、押圧された状態で固化された不織布を含むものであり、不織布としては、上記で不織布基材として例示した不織布と同様のものが挙げられる。
The
円形支持板２は、例えば、シート状の不織布を複数枚積層して積層方向に押圧した状態で固化し、次いで固化した不織布を図４に記載の形状等に打ち抜き加工して個片化することによって得ることができる。また、円形支持板２は、図４に記載の形状等に加工した不織布を、複数枚積層して積層方向に押圧した状態で固化することによって得ることもできる。
For example, the
また、円形支持板２は、円形不織布１の不織布基材を複数枚積層して積層方向に押圧した状態で固化したものであってよく、円形不織布１を複数枚積層して積層方向に押圧した状態で固化したものであってもよい。
Further, the
好ましい態様において、円形支持板２は、積層方向に押圧された状態で固化された積層体を含み、積層体は、積層された複数枚の円形不織布１を含む。積層体における円形不織布１の積層枚数は特に制限されず、例えば、後述の好適な厚さ及び上述の好適な変形率を満たすように適宜選択することができる。
In a preferred embodiment, the
円形支持板２における不織布の固化は、接着剤を用いて行うことができる。接着剤としては、例えば、硬化性樹脂と硬化剤とを含有する接着剤が挙げられる。
Solidification of the nonwoven fabric in the
硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。これらのうち、エポキシ樹脂としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ナフタレン系エポキシ樹脂、フルオレンエポキシ樹脂、グリシジルアミン化合物等が挙げられる。 Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urea resin, a urethane resin, and a phenol resin. Among these, as the epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene epoxy resin, A glycidylamine compound etc. are mentioned.
硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド（ＤＩＣＹ）、酸ヒドラジド、ボラントリフロライド錯体、イミダゾール化合物、アミンイミド及び鉛塩が挙げられ、これらのうちジシアンジアミドが特に好適に用いられる。 Examples of the curing agent include dicyandiamide (DICY), acid hydrazide, borane trifluoride complex, imidazole compound, amine imide, and lead salt. Among these, dicyandiamide is particularly preferably used.
好ましい態様において、円形支持板２に含まれる不織布は、不織布全量に対して５〜３０質量％の接着剤により固化されている。このような不織布を含む円形支持板２は、上述の変形率を満たしやすい。また、このような円形支持板２は、研磨加工における摩耗の度合いを十分に大きくすることができるため、研磨加工をより効率良く実施することができる。
In a preferred embodiment, the nonwoven fabric contained in the
円形支持板２は、研磨砥粒をさらに含んでいてもよい。この場合、不織布研磨ロール１００は、図２のＷ２で示す幅で研磨加工を実施することもできる。
The
円形支持板２が研磨砥粒を含有するとき、研磨砥粒の種類及び配合量は、研磨部５０における研磨量と同程度の研磨量が円形支持板２において得られるように、調整することが好ましい。これにより、図２のＷ２で示す幅で研磨加工を実施したとき、Ｗ２で示す幅全域に亘ってより均一な研磨が実現できる。
When the
なお、研磨対象をより確実に、より均一に研磨するとともに、バックアップロールの消耗を避ける観点からは、円形支持板２を研磨砥粒を含有しないものとし、図２のＷ１で示す幅で研磨対象を研磨することが好ましい。また、このとき円形支持板２は、実質的に研磨加工に影響しない細かな研磨砥粒や、研磨能力の低い研磨砥粒や、その他の無機粉体などの充填材を含有していてもよい。
Incidentally, the polished more reliably, with polished more uniformly, from the viewpoint of avoiding depletion of the backup roll, and shall not contain abrasive grains a
円形支持板２の外径は、円形不織布１の外径と略同一であり、例えば５０〜７００ｍｍとすることができ、１００〜４００ｍｍとすることもできる。
The outer diameter of the
円形支持板２の厚みは、円形支持板２の外径の３〜２５％とすることが好ましく、５〜１５％とすることがより好ましい。このような円形支持板２によれば、不織布研磨ロール１００の研磨有効幅（図２のＷ１で示す幅）が十分に確保されるとともに、研磨部における円形不織布の積層方向への広がりが一層顕著に抑制される。
The thickness of the
円板７は、円形不織布１より固い（アスカーＣ硬度計を用いて測定された硬度が、積層前の円形不織布１の硬度より高い）ものであれば特に限定されず、例えば、高圧縮紙、ハードボード、プラスチックボード、紙にフェノール樹脂を含浸させ、必要に応じて積層して硬化したもの（紙フェノール基板、ベークライト板）、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）、ベニア板、パーティクルボード、金属板、等を、図５に記載の形状に成形したものを用いることができる。
The
不織布研磨ロール１００を使用する際、例えば研磨対象の表面に水を流しながら研磨する場合があるため、円板７としては耐水性を有するものが好ましい。
When the nonwoven
円板７の外径は、円形不織布１の外径より小さければよいが、上述のとおり、研磨可能域を多くとることができ、且つ外観から使用限界径を容易に確認することができる観点から、フランジ４の外径より小さいことが好ましい。
Although the outer diameter of the
例えば、円板７は、開口から円板の外周までの最短距離（図５に示すＬ３）を５ｍｍ以上とすることができる。最短距離Ｌ３を５ｍｍ以上とすることで、研磨部５０の外周部の形状の安定性を一層顕著に維持することができ、より均一な研磨加工が実現できる。また、最短距離Ｌ３は５〜１００ｍｍとすることもできる。
For example, in the
円板７の厚さは、例えば、１〜５ｍｍとすることができる。円板７の厚さを上記範囲とすることで、研磨部５０の内周部の強度を十分に確保し、外周部の形状の安定性を一層顕著に維持することができる。
The thickness of the
また、円板７は、円形支持板２と同様に、押圧された状態で固化された不織布を含むものとすることもできる。このような円板７は、研磨加工において円形不織布１とともに摩耗し得るため、例えば、円板７の外径がフランジ４の外径がより大きい場合であっても、フランジ４の外径に至るまで研磨加工を実施することができる。
Moreover, the
円板７が、押圧された状態で固化された不織布を含むものであるとき、その不織布の種類、固化に用いる接着剤の種類等としては、円形支持板２として例示したものと同様のものが例示できる。すなわち、円形７は、円形支持板２と同様の構成を有するものとすることができる。
When the
また、このとき円板７は、円形不織布１とともに摩耗し得るため、図７に示すように円形不織布１の外径と略同一の外径としてもよい。図７に示す態様においては、円形不織布１と略同一の外径を有する円板７が、所定の間隔で挿入されているため、研磨部５０において積層方向への広がりが一層顕著に抑制される。
Further, at this time, the
図７に示す態様において、円板７は、研磨砥粒を含有し、円形不織布１とともに研磨部５０を構成している。円板７が含有する研磨砥粒の種類及び含有量は、研磨部５０の全域で均一な研磨が可能となるように、円形不織布１から構成される部分と同程度の研磨量が得られるように、調整することができる。
In the embodiment shown in FIG. 7, the
図７に示す態様において、円板７の厚さは、例えば３〜２５ｍｍとすることができ、５〜１０ｍｍとすることもできる。また、円板７は、円形支持板２と同様の形状を有するものであってもよい。
In the aspect shown in FIG. 7, the thickness of the
図６は、不織布研磨ロール１００の製造工程の一例を示す模式断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of the manufacturing process of the nonwoven
本製造工程では、まず、図６（ａ）に示すように、２つの円形支持板２と複数枚の円形不織布１と複数枚の円板７とを、不織布研磨ロール１００における各部材の位置関係と同様に積層する。ここで、円形支持板２、円形不織布１及び円板７は、それぞれが有する開口が、回転軸と嵌合する貫通孔をなすように積層される必要がある。そのため、本製造工程では、回転軸６及び回転軸６と同じ形状のダミーシャフト４３を軸として、これに差し込むように円形支持板２、円形不織布１及び円板７を積層している。
In this manufacturing process, first, as shown in FIG. 6A, two
回転軸６及びダミーシャフト４３を軸として積層された円形支持板２、円形不織布１及び円板７は、保持具４２によって積層方向の両端部を保持されている。ここで、保持具４２には、中央部にダミーシャフト４３が貫通する貫通孔が設けられており、保持具４２は、積層方向（ダミーシャフト４３の軸方向）に自在に移動可能となっている。
The
次いで、円形支持板２、円形不織布１及び円板７を、保持具４２の一方に設置された押圧手段４１によって、保持具４２を介して積層方向に押圧して、図６（ｂ）に示すように圧縮積層体とする。
Next, the
そして図６（ｂ）に示す圧縮積層体を、フランジ４及びロックナット５によって回転軸６に固定し、最後に保持具４２を取り外すことにより、図１及び図２に示すような不織布研磨ロール１００を得ることができる。
And the compression laminated body shown in FIG.6 (b) is fixed to the
本実施形態に係るロール組立体は、不織布研磨ロール１００と、貫通孔に挿入された回転軸６と、不織布研磨ロール１００の両端で回転軸６と不織布研磨ロール１００とを接合する２つのフランジ４と、を備えるものである。
The roll assembly according to this embodiment includes a nonwoven
また、本実施形態に係る研磨機は、不織布研磨ロール１００を備えるものであり、好適には上記ロール組立体を備える。本実施形態に係る研磨機の不織布研磨ロール１００以外の構成は、従来の研磨ロールを備える研磨機と同様のものとすることができる。
Moreover, the polishing machine according to the present embodiment includes the nonwoven
また、本実施形態によれば、回転軸６により回転する不織布研磨ロール１００の研磨部５０に研磨対象を接触させる工程を含む研磨方法によって、研磨対象を研磨し、研磨製品を製造することができる。
In addition, according to the present embodiment, the polishing object can be polished to manufacture a polishing product by the polishing method including the step of bringing the polishing object into contact with the polishing
研磨対象は特に限定されず、例えば、金属条材、金属板等が挙げられる。また、上述のとおり不織布研磨ロール１００は研磨負荷が０．１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ（好ましくは０．５〜５ｋｇｆ／ｃｍ）の低研磨負荷条件での研磨に好適に用いることができる。このような研磨が行われる研磨対象としては、例えば、銅、鉄、アルミニウム及びこれらの合金等の金属条材が挙げられる。
The object to be polished is not particularly limited, and examples thereof include metal strips and metal plates. Further, as described above, the nonwoven
また、本実施形態の不織布研磨ロール１００を適用する研磨の一例として、鉄鋼や伸銅材の製造工程において、金属条材の圧延、焼鈍及び酸洗を行った後に、表面に残留している酸化被膜を除去するための研磨が挙げられる。このような研磨では、金属条材を連続して研磨するため、安定した研磨性能の持続と幅方向の均一な仕上げが求められる。本実施形態の不織布研磨ロール１００によれば、このような要求特性を十分に満たすことができる。
In addition, as an example of polishing to which the nonwoven
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。 The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment.
以下、上記の実施形態に係る不織布研磨ロールについての確認試験を行い、その内容により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, although the confirmation test about the nonwoven fabric polishing roll which concerns on said embodiment is performed, and this invention is demonstrated more concretely by the content, this invention is not limited to an Example.
（比較例１）
目付量７４０ｇ／ｍ２の不織布研磨シート（不織布基材に研磨砥粒が担持されたもの）を外径２１０ｍｍ、内径７６ｍｍに打ち抜き、７６枚の円形不織布を作製した。また、外径１３５ｍｍの高圧縮紙（紙とプラスチックのハイブリッド素材）からなる円板を１８枚準備した。
(Comparative Example 1)
A non-woven fabric abrasive sheet having a basis weight of 740 g / m 2 (a non-woven fabric substrate having abrasive grains carried thereon) was punched into an outer diameter of 210 mm and an inner diameter of 76 mm to produce 76 circular non-woven fabrics. In addition, 18 discs made of highly compressed paper (hybrid material of paper and plastic) having an outer diameter of 135 mm were prepared.
７６枚の円形不織布及び１８枚の円板を、円形不織布が４枚積層されるごとに円板が１枚積層されるように積層した。積層後、両端に外径１３５ｍｍのスチール製フランジを設置し、フランジ間隔を１９０ｍｍ幅まで圧縮して保持した。次いで、全体を外径が２００ｍｍとなるようドレッシングした。最後に、外径２００ｍｍを確保できないほどフランジの外側に広がった円形不織布を、端面処理で除去した。除去した円形不織布は、両端部で３枚ずつの計６枚であった。 76 circular nonwoven fabrics and 18 circular plates were laminated so that one circular disc was laminated every time four circular nonwoven fabrics were laminated. After lamination, steel flanges having an outer diameter of 135 mm were installed at both ends, and the flange interval was compressed to 190 mm width and held. Subsequently, the whole was dressed so that an outer diameter might be set to 200 mm. Finally, the circular nonwoven fabric spreading outside the flange so that the outer diameter of 200 mm could not be secured was removed by end face treatment. The removed circular nonwoven fabric was a total of 6 sheets, 3 at each end.
得られた不織布研磨ロールは、研磨部の外周部が７０枚の円形不織布で構成されており、そのロール幅は、２１５ｍｍであった。また、不織布研磨ロールの設計寸法は、円形不織布１枚あたりの厚みが２．５ｍｍ（ロール幅１９０ｍｍ／７６枚）であるところ、得られた不織布研磨ロールでは円形不織布１枚あたりの厚みは３．０７ｍｍ（ロール幅２１５ｍｍ／７０枚）であった。 As for the obtained nonwoven fabric polishing roll, the outer peripheral part of the grinding | polishing part was comprised with 70 circular nonwoven fabrics, and the roll width | variety was 215 mm. In addition, the design dimension of the nonwoven fabric polishing roll is 2.5 mm (round width 190 mm / 76 sheets) per circular nonwoven fabric, and in the obtained nonwoven polishing roll, the thickness per circular nonwoven fabric is 3. It was 07 mm (roll width 215 mm / 70 sheets).
（実施例１）
目付量３６０ｇ／ｍ２の不織布基材（不織布に対して８質量％の接着剤が含浸されたもの）を外径２１０ｍｍ、内径７６ｍｍに打ち抜き、１０枚の不織布ディスクを作製した。次いで不織布ディスク１０枚を積層圧縮して２０ｍｍ幅に保持し、高温で熱処理してディスク間を接着することにより、円形支持板Ａ１を製作した。同様の方法により、円形支持板Ａ１をもう１枚作成した。
Example 1
A nonwoven fabric substrate having a weight per unit area of 360 g / m 2 (impregnated with 8% by mass of an adhesive with respect to the nonwoven fabric) was punched into an outer diameter of 210 mm and an inner diameter of 76 mm, and 10 nonwoven disks were produced. Next, 10 non-woven disks were laminated and compressed, held at a width of 20 mm, and heat-treated at a high temperature to bond the disks, thereby producing a circular support plate A1. Another circular support plate A1 was prepared by the same method.
目付量７４０ｇ／ｍ２の不織布研磨シート（不織布基材に研磨砥粒が担持されたもの）を外径２１０ｍｍ、内径７６ｍｍに打ち抜き、６０枚の円形不織布を作製した。また、外径１３５ｍｍの高圧縮紙からなる円板を１４枚準備した。 A non-woven fabric abrasive sheet having a basis weight of 740 g / m 2 (a non-woven fabric substrate having abrasive grains carried thereon) was punched into an outer diameter of 210 mm and an inner diameter of 76 mm to produce 60 circular nonwoven fabrics. In addition, 14 disks made of highly compressed paper having an outer diameter of 135 mm were prepared.
２つの円形支持板Ａ１の間に、６０枚の円形不織布及び１４枚の円板を、４枚の円形不織布ごとに１枚の円板が積層されるように積層した。この両端に外径１３５ｍｍのスチール製フランジを配置し、フランジ間隔を１９０ｍｍ幅まで圧縮して保持した。最後に、全体を外径が２００ｍｍとなるようドレッシングして、不織布研磨ロールを得た。 Between the two circular support plates A1, 60 circular nonwoven fabrics and 14 circular plates were laminated so that one circular disc was laminated for every four circular nonwoven fabrics. Steel flanges having an outer diameter of 135 mm were disposed at both ends, and the flange interval was compressed to 190 mm and held. Finally, the whole was dressed so that the outer diameter was 200 mm to obtain a nonwoven fabric polishing roll.
不織布研磨ロールの研磨部の幅（図２のＷ１で示す幅）及びロール幅（図２のＷ２で示す幅）の設計寸法はそれぞれ１５０ｍｍ及び１９０ｍｍであったところ、得られた不織布研磨ロールのロール幅は１７５ｍｍ及び２１５ｍｍであった。また、研磨部の外周部における円形不織布１枚あたりの厚みは、設計寸法では２．５ｍｍ（ロール幅１９０ｍｍ／７６枚）であるところ、得られた不織布研磨ロールでは２．９２ｍｍ（ロール幅２１５ｍｍ／７６枚）であった。 Where the design dimensions of the width of the abrasive portion of the nonwoven fabric polishing roll (width shown by W 1 in FIG. 2) and the roll width (shown by W 2 in FIG. 2) were 150mm and 190mm, respectively, resulting nonwoven fabric polishing roll Roll widths of 175 mm and 215 mm. Moreover, the thickness per circular nonwoven fabric in the outer peripheral portion of the polishing portion is 2.5 mm (roll width 190 mm / 76 sheets) in the design dimension, but 2.92 mm (roll width 215 mm / in) in the obtained nonwoven fabric polishing roll. 76).
（実施例２）
目付量３６０ｇ／ｍ２の不織布基材（不織布に対して８質量％の接着剤が含浸されたもの）を外径２１０ｍｍ、内径７６ｍｍに打ち抜き、１６枚の不織布ディスクを作製した。次いで不織布ディスク１６枚を積層圧縮して２０ｍｍ幅に保持し、高温で熱処理してディスク間を接着することにより、円形支持板Ａ２を製作した。同様の方法により、円形支持板Ａ２をもう１枚作成した。
(Example 2)
A nonwoven fabric base material having a basis weight of 360 g / m 2 (impregnated with 8% by mass of an adhesive with respect to the nonwoven fabric) was punched into an outer diameter of 210 mm and an inner diameter of 76 mm to prepare 16 nonwoven fabric disks. Next, 16 nonwoven fabric disks were stacked and compressed, held at a width of 20 mm, and heat-treated at high temperature to bond the disks, thereby producing a circular support plate A2. Another circular support plate A2 was prepared by the same method.
実施例１の円形支持板Ａ１を円形支持板Ａ２に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、不織布研磨ロールを得た。 A nonwoven fabric polishing roll was obtained in the same manner as in Example 1 except that the circular support plate A1 of Example 1 was changed to the circular support plate A2.
不織布研磨ロールの研磨部の幅及びロール幅の設計寸法はそれぞれ１５０ｍｍ及び１９０ｍｍであったところ、得られた不織布研磨ロールのロール幅は１６３ｍｍ及び２００ｍｍであった。また、研磨部の外周部における円形不織布１枚あたりの厚みは、設計寸法では２．５ｍｍ（ロール幅１９０ｍｍ／７６枚）であるところ、得られた不織布研磨ロールでは２．６３ｍｍ（ロール幅２００ｍｍ／７６枚）であった。 When the design dimensions of the width and roll width of the polishing part of the nonwoven fabric polishing roll were 150 mm and 190 mm, respectively, the roll width of the obtained nonwoven fabric polishing roll was 163 mm and 200 mm. Moreover, the thickness per one piece of circular nonwoven fabric in the outer peripheral portion of the polishing portion is 2.5 mm (roll width 190 mm / 76 sheets) in the design dimension, but 2.63 mm (roll width 200 mm / in) in the obtained nonwoven fabric polishing roll. 76).
（硬度分布の測定）
実施例１，２及び比較例１で得られた不織布研磨ロールのロール幅の中央部１５０ｍｍについて、硬度分布を測定した。具体的には、不織布研磨ロールのロール幅の中央部１５０ｍｍについて、２５ｍｍ間隔でアスカーＣ硬度計を用いて外周部の硬度を測定した。
(Measurement of hardness distribution)
The hardness distribution was measured for the
測定の結果、比較例１の研磨ロールでは円形不織布の積層方向への広がりに起因して、両端部に近いほどその硬度が著しく低下していた。これに対して、実施例１の研磨ロールでは両端部に近い位置でも比較的高い硬度が維持されていた。また、実施例２の研磨ロールでは、比較例１及び実施例１のいずれと比較しても、全体的に高い硬度を有しており、両端部に近い位置でもその高い硬度が維持されていた。 As a result of the measurement, the hardness of the polishing roll of Comparative Example 1 was significantly reduced as it was closer to both ends due to the spread of the circular nonwoven fabric in the stacking direction. In contrast, the polishing roll of Example 1 maintained a relatively high hardness even at positions close to both ends. In addition, the polishing roll of Example 2 had a high overall hardness as compared with either Comparative Example 1 or Example 1, and the high hardness was maintained even at positions close to both ends. .
（研磨テスト）
平面研磨機による銅板表面仕上げで研磨テストを行ったところ、実施例１の研磨ロールでは十分に均一な仕上げの研磨面が得られ、実施例２の研磨ロールでは一層均一な仕上げの研磨面が得られた。その一方で、比較例１の研磨ロールでは、研磨ロールの両端部での研磨が十分に実施できず、均一な仕上げが得られなかった。
(Polishing test)
When a polishing test was performed with a copper plate surface finish by a flat surface polishing machine, a sufficiently uniform polished surface was obtained with the polishing roll of Example 1, and a more evenly polished surface was obtained with the polishing roll of Example 2. It was. On the other hand, in the polishing roll of Comparative Example 1, polishing at both ends of the polishing roll could not be sufficiently performed, and a uniform finish could not be obtained.
（円形支持板の変形率）
実施例１及び２の研磨ロールの研磨部において、ドレッシング後、外径２００ｍｍ及び内径７６ｍｍの円形不織布６０枚が積層している。このときの研磨部から円形支持板にかかる圧縮応力Ｔ１を見積もると４５７０Ｎである。また、実施例１及び２では外径１３５ｍｍ、内径７６ｍｍのフランジを用いていることから、円形支持板のフランジと接触する部分に掛かる単位面積当たりの圧縮応力Ｔ１／Ｓ１は、４７Ｎ／ｃｍ２である。
(Deformation rate of circular support plate)
In the polishing part of the polishing rolls of Examples 1 and 2, 60 circular nonwoven fabrics having an outer diameter of 200 mm and an inner diameter of 76 mm are laminated after dressing. From the polishing section of this time is 4570N when estimating the compressive stress T 1 according to the circular support plate. In Examples 1 and 2, since flanges having an outer diameter of 135 mm and an inner diameter of 76 mm are used, the compressive stress T 1 / S 1 per unit area applied to the portion of the circular support plate in contact with the flange is 47 N / cm. 2 .
ここで、実施例１の円形支持板Ａ１、実施例２の円形支持板Ａ２について、その圧縮応力に対する変形率を求めたところ、結果は図９に示すとおりであった。 Here, regarding the circular support plate A1 of Example 1 and the circular support plate A2 of Example 2, the deformation rate with respect to the compressive stress was obtained, and the result was as shown in FIG.
図９に示した結果から、実施例１では、円形支持板Ａ１の圧縮応力４７Ｎ／ｃｍ２に対する変形率は３５％であった。また、実施例２では、円形支持板Ａ２の圧縮応力４７Ｎ／ｃｍ２に対する変形率は７％であった。 From the results shown in FIG. 9, in Example 1, the deformation rate of the circular support plate A1 with respect to the compressive stress of 47 N / cm 2 was 35%. In Example 2, the deformation rate of the circular support plate A2 with respect to the compressive stress of 47 N / cm 2 was 7%.
本発明によれば、高効率且つ均一な研磨を長期間にわたって実施することが可能な不織布研磨ロール、該不織布研磨ロールを実現するための円形支持板、該不織布研磨ロールを備えるロール組立体、及び、該ロール組立体を用いた研磨方法を提供することができ、産業上有用である。 According to the present invention, a nonwoven fabric polishing roll capable of performing highly efficient and uniform polishing over a long period of time, a circular support plate for realizing the nonwoven fabric polishing roll, a roll assembly including the nonwoven fabric polishing roll, and The polishing method using the roll assembly can be provided and is industrially useful.
１…円形不織布、２…円形支持板、３…キー突起、４…フランジ、５…ロックナット、６…回転軸、７…円板、８…硬質ディスク、１１，１２，１３…円形不織布、１４ａ，１４ｂ，１４ｃ…開口、２１，２２，２３…円形支持板、２４ａ，２４ｂ，２４ｃ…開口、３１，３２，３３…円板、３４ａ，３４ｂ，３４ｃ…開口、４１…押圧手段、４２…保持具、４３…ダミーシャフト、４４…ボルト、５０…研磨部、１００…不織布研磨ロール、１１０…不織布研磨ロール。
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記貫通孔をなす開口を有する円形不織布が複数枚積層された研磨部と、
前記研磨部の積層方向の両端にそれぞれ位置し、前記貫通孔をなす開口を有し、前記円形不織布と略同一の外径を有する２つの円形支持板と、
を備え、
前記円形支持板が、押圧された状態で固化された不織布を含む、不織布研磨ロール。 A nonwoven fabric polishing roll having a through hole into which a rotating shaft of a polishing machine is inserted,
A polishing portion in which a plurality of circular nonwoven fabrics having openings that form the through holes are laminated,
Two circular support plates that are located at both ends in the laminating direction of the polishing part, have openings that form the through holes, and have substantially the same outer diameter as the circular nonwoven fabric;
With
A nonwoven fabric polishing roll including a nonwoven fabric solidified in a state where the circular support plate is pressed.
前記積層体が、積層された複数枚の前記円形不織布を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の不織布研磨ロール。 The circular support plate includes a laminated body solidified in a state pressed in the laminating direction,
The nonwoven fabric polishing roll according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminate includes a plurality of the laminated circular nonwoven fabrics.
前記円板の外径が、前記円形不織布の外径と略同一である、請求項６に記載の不織布研磨ロール。 The disk includes a nonwoven fabric solidified in a pressed state,
The nonwoven fabric polishing roll according to claim 6, wherein an outer diameter of the disc is substantially the same as an outer diameter of the circular nonwoven fabric.
前記貫通孔に挿入された回転軸と、
前記不織布研磨ロールの両端で前記回転軸と前記不織布研磨ロールとを接合する２つのフランジと、を備える、ロール組立体。 The nonwoven fabric polishing roll according to any one of claims 1 to 7,
A rotating shaft inserted into the through hole;
A roll assembly comprising: two flanges that join the rotating shaft and the nonwoven fabric polishing roll at both ends of the nonwoven fabric polishing roll.
前記貫通孔をなす開口を有し、
前記円形不織布と略同一の外径を有し、
押圧された状態で固化された不織布を含む、円形支持板。 In a nonwoven fabric polishing roll provided with a polishing portion in which a plurality of circular nonwoven fabrics having an opening forming a through hole into which a rotating shaft of a polishing machine is inserted, a circular support plate positioned at an end of the polishing portion,
Having an opening forming the through-hole,
It has substantially the same outer diameter as the circular nonwoven fabric,
A circular support plate including a nonwoven fabric solidified in a pressed state.
The grinding | polishing method including the process of making a grinding | polishing object contact the said grinding | polishing part of the roll assembly of Claim 8 rotated with the said rotating shaft.
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