JP2018026512A - 有機el表示装置およびその製造方法 - Google Patents
有機el表示装置およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018026512A JP2018026512A JP2016158999A JP2016158999A JP2018026512A JP 2018026512 A JP2018026512 A JP 2018026512A JP 2016158999 A JP2016158999 A JP 2016158999A JP 2016158999 A JP2016158999 A JP 2016158999A JP 2018026512 A JP2018026512 A JP 2018026512A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film thickness
- hole injection
- light emitting
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 81
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 71
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 19
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 213
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 abstract description 89
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 83
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 5
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 for example Substances 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Inorganic materials [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 2
- 229920002495 polyphenylene ethynylene polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 2
- FULDPTBMZFLVHV-UHFFFAOYSA-N 1-N,1-N,3-N,3-N,5-N,5-N-hexakis[4-(4-methylphenyl)phenyl]benzene-1,3,5-triamine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=CC=C(N(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(C)=CC=2)C=2C=C(C=C(C=2)N(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(C)=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(C)=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(C)=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(C)=CC=2)C=C1 FULDPTBMZFLVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBOYOXRQUWVUFU-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Ti+4].[Nb+5] Chemical compound [O-2].[Ti+4].[Nb+5] OBOYOXRQUWVUFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000491 multivariate analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
第1実施形態の有機EL表示装置S1について、図1、図2、図3を参照して述べる。
なお、ここでいう膜厚(単位:nm)とは、青の副画素101の領域のうち陽極20上の領域に形成された機能層の厚みであって、基板10の一面10aに対する法線方向すなわち積層方向の厚みを指す。
第2実施形態の有機EL表示装置については、青の副画素101に加えて、緑の副画素102、赤の副画素103についても、機能層の膜厚を調整した構成である点が上記第1実施形態と相違する。本実施形態では、上記の相違点を主に説明する。
つまり、1つの青の副画素101内だけでなく、1つの主画素101内の副画素101、102、103間における相対輝度寿命についても式2にて導き出されるXが0.9以上1.3以下となることが好ましい。
なお、上記した各実施形態に示した半導体装置は、本発明の半導体装置の一例を示したものであり、上記の各実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
20 陽極
30 正孔注入層
40 正孔輸送層
50 発光層
60 陰極
70 バンク
100 主画素
101 青の副画素
Claims (12)
- 一面(10a)を有する基板(10)と、
前記一面上に設けられた陽極(20)と、
前記陽極のうち一部を覆うように形成されたバンク(70)と、
前記一面に対して平行な面内において一方向を縦方向(Y1)、前記縦方向と直交する方向を横方向(Y2)として、前記一面上にて前記縦方向および前記横方向に繰り返し配列され、前記陽極のうち前記一面に対する法線方向から見て前記バンクから露出している領域内に設けられ、少なくとも3つの異なる発光色である副画素(101、102、103)であって、そのうちの1つが青の発光色である前記副画素を有してなる複数個の主画素(100)と、を含み、
前記副画素は、前記陽極のうち前記露出している領域の上に、正孔注入層(30)、正孔輸送層(40)、高分子材料を含んでなる発光層(50)、陰極(60)が少なくともこの順に配置され、
前記法線方向から見て、前記副画素の領域のうち任意の点における前記一面の法線方向における前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層の厚みを膜厚として、前記正孔注入層の膜厚(nm)をA、前記正孔輸送層の膜厚(nm)をB、前記発光層の膜厚(nm)をCとした場合において、3つの異なる発光色の前記副画素のうち少なくとも青の発光色である前記副画素の領域内では、
X=−0.383−0.005×A+0.010×B+0.016×C
の関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たす有機EL表示装置。 - 前記副画素のうち青の発光色と異なる発光色の前記副画素についても、前記関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たす有機EL表示装置。
- 前記バンクの壁面と前記陽極のうち前記一面と反対側の面とのなす角を前記バンクのテーパ角として、前記テーパ角が10°〜20°の範囲内である請求項1または2に記載の有機EL表示装置。
- 前記一面に対する法線方向から見て1つの前記副画素をなす前記陽極と前記バンクとの境界を境界線として、前記発光層が、前記法線方向から見た前記バンクの領域のうち前記境界線から少なくとも2μm以内の領域を含む領域にも形成されている請求項1ないし3のいずれか1つに記載の有機EL表示装置。
- 青の発光色の前記副画素における前記正孔注入層の膜厚をA1とし、前記正孔注入層の膜厚をB1とし、前記発光層の膜厚をC1とした場合において、A1が21nm以上35nm以下、かつ、B1が25nm以上38nm以下、かつ、C1が80nm以上88nm以下である請求項1ないし4のいずれか1つに記載の有機EL表示装置。
- 青とは異なる発光色の前記画素についても、前記正孔注入層の膜厚Aが21nm以上35nm以下、かつ、前記正孔注入層の膜厚Bが25nm以上38nm以下、かつ、前記発光層の膜厚Cが80nm以上88nm以下である請求項5に記載の有機EL表示装置。
- 前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をA2とし、前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をB2とし、前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をC2とした場合において、A2>B2>C2を満たす請求項1ないし6のいずれか1つに記載の有機EL表示装置。
- 一面(10a)を有し、前記一面上に陽極(20)を備えた基板を用意することと、
前記陽極の上に前記陽極の一部を覆うようにバンク(70)を形成することと、
前記陽極のうち前記バンクから露出している前記陽極上に少なくとも正孔注入層(30)、正孔輸送層(40)、高分子材料を含んでなる発光層(50)、陰極(60)をこの順に形成して、少なくとも3つの異なる発光色であって、そのうち1つが青色である副画素(101、102、103)を設けつつ、一面(10a)を有する基板(10)の前記一面と平行な面内において一方向を縦方向(Y1)、前記縦方向と直交する方向を横方向(Y2)として、前記一面上にて前記縦方向および前記横方向に繰り返し配列され、3つの異なる発光色の前記副画素により構成された主画素(100)を複数個形成することと、を含み、
前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層を形成することにおいては、前記副画素を構成する領域のうち前記陽極上の任意の点における前記一面の法線方向における前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層の厚みを膜厚として、前記正孔注入層の膜厚(nm)をA、前記正孔輸送層の膜厚(nm)をB、前記発光層の膜厚(nm)をCとした場合において、少なくとも青の発光色である前記副画素の領域内では、
X=−0.383−0.005×A+0.010×B+0.016×C
の関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たすA、B、Cとなるように塗布により成膜する有機EL表示装置の製造方法。 - 前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層を形成することにおいては、前記副画素のうち青の発光色と異なる発光色の前記副画素についても、前記関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たすA、B、Cとなるように塗布により成膜する請求項8に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記バンクを形成することにおいては、前記陽極のうち前記一面側の反対側の面と前記バンクの壁面とのなす角をテーパ角として、前記テーパ角を10°以上20°以下とする請求項8または9に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記発光層を形成することにおいては、前記法線方向から見て前記陽極と前記バンクとの境界を境界領域として、前記法線方向から見て前記バンクの領域のうち前記境界領域から少なくとも2μm以上の領域を含む領域を塗布する請求項8ないし10のいずれか1つに記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層を形成することにおいては、前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をA2とし、前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をB2とし、前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をC2とした場合において、A2>B2>C2となるように塗布する請求項8ないし11のいずれか1つに記載の有機EL表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016158999A JP6686787B2 (ja) | 2016-08-12 | 2016-08-12 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016158999A JP6686787B2 (ja) | 2016-08-12 | 2016-08-12 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018026512A true JP2018026512A (ja) | 2018-02-15 |
JP6686787B2 JP6686787B2 (ja) | 2020-04-22 |
Family
ID=61194684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016158999A Expired - Fee Related JP6686787B2 (ja) | 2016-08-12 | 2016-08-12 | 有機el表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6686787B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110783383A (zh) * | 2019-09-19 | 2020-02-11 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种显示基板以及显示装置 |
DE112018003942T5 (de) | 2017-08-01 | 2020-05-07 | Denso Corporation | Magnetische Erzeugungseinrichtung für einen Motor, Weichmagnetischer Kern und Verfahren zur Herstellung eines Magneten |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004071432A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体およびその製造方法 |
JP2004192935A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
JP2005174907A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および電子機器 |
JP2006004743A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
JP2006012762A (ja) * | 2004-05-27 | 2006-01-12 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2009152178A (ja) * | 2007-12-24 | 2009-07-09 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光素子 |
WO2009113239A1 (ja) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | パナソニック株式会社 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP2011159419A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置の製造方法および有機el表示装置 |
JP2016503231A (ja) * | 2013-01-17 | 2016-02-01 | カティーバ, インコーポレイテッド | 高解像度有機発光ダイオードデバイス |
JP2016062748A (ja) * | 2014-09-18 | 2016-04-25 | セイコーエプソン株式会社 | バンクの形成方法、有機el素子の製造方法 |
US20160155978A1 (en) * | 2014-12-02 | 2016-06-02 | Lg Display Co., Ltd. | Organic light emitting display apparatus and method for manufacturing the same |
-
2016
- 2016-08-12 JP JP2016158999A patent/JP6686787B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004071432A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体およびその製造方法 |
JP2004192935A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
JP2005174907A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および電子機器 |
JP2006012762A (ja) * | 2004-05-27 | 2006-01-12 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2006004743A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
JP2009152178A (ja) * | 2007-12-24 | 2009-07-09 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光素子 |
WO2009113239A1 (ja) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | パナソニック株式会社 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP2011159419A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置の製造方法および有機el表示装置 |
JP2016503231A (ja) * | 2013-01-17 | 2016-02-01 | カティーバ, インコーポレイテッド | 高解像度有機発光ダイオードデバイス |
JP2016062748A (ja) * | 2014-09-18 | 2016-04-25 | セイコーエプソン株式会社 | バンクの形成方法、有機el素子の製造方法 |
US20160155978A1 (en) * | 2014-12-02 | 2016-06-02 | Lg Display Co., Ltd. | Organic light emitting display apparatus and method for manufacturing the same |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112018003942T5 (de) | 2017-08-01 | 2020-05-07 | Denso Corporation | Magnetische Erzeugungseinrichtung für einen Motor, Weichmagnetischer Kern und Verfahren zur Herstellung eines Magneten |
DE112018003941T5 (de) | 2017-08-01 | 2020-05-20 | Denso Corporation | Rotierende elektrische Maschine, Antriebssystem einer rotierenden elektrischen Maschine, Magnet, Verfahren zum Herstellen eines Magneten, Magnetisierungsvorrichtung und Magneteinheit |
CN110783383A (zh) * | 2019-09-19 | 2020-02-11 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种显示基板以及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6686787B2 (ja) | 2020-04-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7842947B2 (en) | Organic EL display panel and manufacturing method thereof | |
US9698347B2 (en) | Organic EL display panel and method for manufacturing same | |
JP6519933B2 (ja) | 有機発光デバイスとその製造方法 | |
CN102106186B (zh) | 有机电致发光显示面板 | |
US8624275B2 (en) | Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device | |
US8907358B2 (en) | Organic light-emitting panel, manufacturing method thereof, and organic display device | |
WO2013190847A1 (ja) | 有機発光素子およびその製造方法 | |
US8901546B2 (en) | Organic light-emitting panel, manufacturing method thereof, and organic display device | |
WO2012086111A1 (ja) | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 | |
JP5092485B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ及びその製造方法 | |
WO2010032514A1 (ja) | 薄膜付き基板、有機エレクトロルミネセンス表示装置、カラーフィルタ基板及び薄膜付き基板の製造方法 | |
JP2021061175A (ja) | 自発光表示パネル | |
JP4706845B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP2010267428A (ja) | 機能膜形成方法および機能膜形成装置 | |
JP2010282903A (ja) | 有機elディスプレイパネル | |
JP6686787B2 (ja) | 有機el表示装置およびその製造方法 | |
JP2018045873A (ja) | 有機el表示装置およびその製造方法 | |
JP2008235066A (ja) | 有機el素子及びその製造方法 | |
JP2009070859A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 | |
JP2008204792A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JPWO2013129611A1 (ja) | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 | |
JP7193953B2 (ja) | 有機elデバイスの製造方法及び有機elデバイス | |
JP2008140588A (ja) | 有機el素子及びその製造方法、凸版 | |
JP2017183153A (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP2008311169A (ja) | 有機elディスプレイ及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181024 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200303 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200316 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6686787 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |