JP2018014495A5 - トランジスタ及び表示装置 - Google Patents

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  1. 金属酸化物と、前記金属酸化物に接する一対の電極と、前記金属酸化物と接する絶縁体と、前記絶縁体を介して前記金属酸化物と重畳するゲート電極と、を有し、
    前記金属酸化物は、
    第1の領域と第2の領域を有し、
    前記第1の領域と前記第2の領域は混合しており、
    前記第2の領域の伝導帯下端のエネルギー準位は、前記第1の領域の伝導帯下端のエネルギー準位より0.2eV以上低く、
    前記第1の領域のエネルギーギャップは、3.3eV以上4.0eV以下であり、
    前記第2の領域のエネルギーギャップは、2.2eV以上2.9eV以下である、
    トランジスタ。
  2. 金属酸化物と、前記金属酸化物に接する一対の電極と、前記金属酸化物と接する絶縁体と、前記絶縁体を介して前記金属酸化物と重畳するゲート電極と、を有し、
    前記金属酸化物は、
    第1の領域と第2の領域を有し、
    前記第1の領域と前記第2の領域は混合しており、
    前記第2の領域の伝導帯下端のエネルギー準位は、前記第1の領域の伝導帯下端のエネルギー準位より低く、
    前記第1の領域は、M(Mは、Al、Ga、Si、Mg、Zr、Be、及びBから選ばれる少なくとも二種以上)酸化物、M窒化物またはIn−M−Zn酸化物を有し、
    前記第2の領域は、In酸化物、またはIn−Zn酸化物を有する、
    トランジスタ。
  3. 金属酸化物と、前記金属酸化物に接する一対の電極と、前記金属酸化物と接する絶縁体と、前記絶縁体を介して前記金属酸化物と重畳するゲート電極と、を有し、
    前記金属酸化物は、
    第1のエネルギーギャップを有する第1の領域と第2のエネルギーギャップを有する第2の領域と、を有し、
    前記第1の領域と前記第2の領域は混合しており、
    前記第1の領域の伝導帯下端のエネルギー準位は、前記第2の領域の伝導帯下端のエネルギー準位よりも高く、
    前記第1の領域は第1の金属元素の第1の酸化物を含み、
    前記第2の領域は第2の金属元素の第2の酸化物を含み、
    前記第1の酸化物は、前記第1の金属元素とは異なる第3の元素を含み、
    前記第2の酸化物は、前記第2の金属元素とは異なる第3の元素を含み、
    前記第1の領域における前記第3の元素の濃度は、前記第2の領域における前記第3の元素の濃度よりも高い、
    トランジスタ。
  4. 請求項3において、
    前記第1の金属元素はGaであり、前記第2の金属元素はInであり、前記第3の元素はAl、Si、Mg、Zr、Be、及びBから選ばれる少なくとも二種以上含む、トランジスタ。
  5. 請求項3または請求項4において、
    前記第1の領域は更にInとZnを含み、前記第2の領域は更にZnを含む、トランジスタ。
  6. 請求項1乃至5のいずれか一項において、
    前記金属酸化物は、1nm以上10nm以下の領域において原子配列に周期性を有する、トランジスタ。
  7. 請求項1乃至6のいずれか一項において、
    電子線回折を用いて前記金属酸化物は分析した場合、電子線回折パターン像において、リング状に輝度の高い領域内に、複数のスポットが観察される、トランジスタ。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
    表示部を有し、
    前記表示部の画素トランジスタとして前記トランジスタを有する、表示装置。
  9. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
    表示部を有し、
    前記表示部の駆動トランジスタとして前記トランジスタを有する、表示装置。
  10. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
    表示部と、ゲートドライバと、を有し、
    前記ゲートドライバが前記トランジスタを有する、表示装置。
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