JP2017519898A - 3次元的基材のパターニング方法及びマスク作製方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年4月25日出願の米国特許出願第61/984,693号に対する優先権を主張し、そのすべての開示内容が参照によって本願に組み込まれる。
本発明は、全般的には、3次元的基材を、その上に成膜されパターニングされた材料で形成されるマスク及び生産物でパターニングする新規方法に関する。本発明はまた、3次元的基材のパターニング用のマスクを作製する新規方法に関する。
(1) 3次元的基材のパターニング用マスクの作製方法であって、
前記3次元的基材の形状に対応する、機械加工された型枠を表面に含むマンドレルを供給することと、
前記型枠の第1の領域にメッキ層を成膜することと、
前記型枠の第2の領域に金属層を成膜することであって、前記第2の領域が前記第1の領域とは異なる、ことと、
前記第1の領域の前記メッキ層及び前記第2の領域の前記金属層より下にある、前記マンドレルの部分を除去することと、を含む、方法。
(2) 前記マンドレルの前記部分を除去した後に前記メッキ層を剥離することを更に含む、実施態様1に記載の方法。
(3) 前記第2の領域が前記第1の領域を取り囲む、実施態様1に記載の方法。
(4) 前記メッキ層がリング状である、実施態様1に記載の方法。
(5) 前記メッキ層が前記型枠の外周に成膜される、実施態様1に記載の方法。
(7) 前記成膜されたメッキ層の厚さが約100マイクロメートル未満である、実施態様1に記載の方法。
(8) 前記成膜された金属層の厚さが約100マイクロメートル未満である、実施態様1に記載の方法。
(9) 前記3次元的基材がほぼ非平面状である、実施態様1に記載の方法。
(10) 前記3次元的基材が非回転対称である、実施態様1に記載の方法。
(12) 前記型枠の上面に接続されたブリッジを設けることを更に含む、実施態様1に記載の方法。
(13) 3次元的基材をマスクでパターニングする方法であって、
前記3次元的基材を供給することと、
前記マスクを前記基材に上重ねすることであって、前記マスクが開口部によって第2の領域から分離された第1の領域を含む、ことと、
前記開口部を介して前記3次元的基材の上に層を成膜することと、を含む、方法。
(14) 前記開口部の幅が約100マイクロメートル未満である、実施態様13に記載の方法。
(15) 前記マスクの厚さが約100マイクロメートル未満である、実施態様13に記載の方法。
(17) 前記3次元的基材がほぼ非平面状である、実施態様13に記載の方法。
(18) 前記3次元的基材が、電子デバイスを設置するための平面領域を含む、実施態様17に記載の方法。
(19) 前記基材が眼用レンズである、実施態様13に記載の方法。
(20) 前記開口部が前記第1の領域の外周に沿ったリング形状である、実施態様13に記載の方法。
前記レンズ部分の外側に形成された非平面状部分と、
前記非平面状部分の上に形成されたリング形状層であって、厚さが約100マイクロメートル未満である、前記リング形状層と、を含む、3次元的基材。
Claims (21)
- 3次元的基材のパターニング用マスクの作製方法であって、
前記3次元的基材の形状に対応する、機械加工された型枠を表面に含むマンドレルを供給することと、
前記型枠の第1の領域にメッキ層を成膜することと、
前記型枠の第2の領域に金属層を成膜することであって、前記第2の領域が前記第1の領域とは異なる、ことと、
前記第1の領域の前記メッキ層及び前記第2の領域の前記金属層より下にある、前記マンドレルの部分を除去することと、を含む、方法。 - 前記マンドレルの前記部分を除去した後に前記メッキ層を剥離することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の領域が前記第1の領域を取り囲む、請求項1に記載の方法。
- 前記メッキ層がリング状である、請求項1に記載の方法。
- 前記メッキ層が前記型枠の外周に成膜される、請求項1に記載の方法。
- 前記成膜されたメッキ層の幅が約100マイクロメートル未満である、請求項1に記載の方法。
- 前記成膜されたメッキ層の厚さが約100マイクロメートル未満である、請求項1に記載の方法。
- 前記成膜された金属層の厚さが約100マイクロメートル未満である、請求項1に記載の方法。
- 前記3次元的基材がほぼ非平面状である、請求項1に記載の方法。
- 前記3次元的基材が非回転対称である、請求項1に記載の方法。
- 前記3次元的基材が眼用レンズ用である、請求項1に記載の方法。
- 前記型枠の上面に接続されたブリッジを設けることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 3次元的基材をマスクでパターニングする方法であって、
前記3次元的基材を供給することと、
前記マスクを前記基材に上重ねすることであって、前記マスクが開口部によって第2の領域から分離された第1の領域を含む、ことと、
前記開口部を介して前記3次元的基材の上に層を成膜することと、を含む、方法。 - 前記開口部の幅が約100マイクロメートル未満である、請求項13に記載の方法。
- 前記マスクの厚さが約100マイクロメートル未満である、請求項13に記載の方法。
- 前記層が、金属、誘電体、合金、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項13に記載の方法。
- 前記3次元的基材がほぼ非平面状である、請求項13に記載の方法。
- 前記3次元的基材が、電子デバイスを設置するための平面領域を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記基材が眼用レンズである、請求項13に記載の方法。
- 前記開口部が前記第1の領域の外周に沿ったリング形状である、請求項13に記載の方法。
- レンズ部分と、
前記レンズ部分の外側に形成された非平面状部分と、
前記非平面状部分の上に形成されたリング形状層であって、厚さが約100マイクロメートル未満である、前記リング形状層と、を含む、3次元的基材。
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