JP2017517863A - Bidirectional conductive socket for high-frequency device test, bidirectional conductive module for high-frequency device test, and manufacturing method thereof - Google Patents
Bidirectional conductive socket for high-frequency device test, bidirectional conductive module for high-frequency device test, and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017517863A JP2017517863A JP2017512624A JP2017512624A JP2017517863A JP 2017517863 A JP2017517863 A JP 2017517863A JP 2017512624 A JP2017512624 A JP 2017512624A JP 2017512624 A JP2017512624 A JP 2017512624A JP 2017517863 A JP2017517863 A JP 2017517863A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive
- conductive patterns
- frequency device
- testing
- bidirectional
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
Abstract
本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールは、一面が半導体素子に向かって、他の一面が検査回路基板に向くように曲げた構造を有する基板部;基板部の一面に半導体素子の端子にそれぞれ電気的に接続される複数の第1導電性パターン;基板部の他の一面に検査回路基板の端子と複数の第1導電性パターンにそれぞれ電気的に接続される複数の第2導電性パターン;及び基板部を弾性支持するように基板部に連結された弾性支持部を含み、半導体素子と検査回路基板との間に設置されて、半導体素子の端子と検査回路基板の端子とを電気的に接続することが望ましい。【選択図】なしA bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to an embodiment of the present invention has a substrate part bent so that one side faces a semiconductor element and the other side faces a test circuit board; A plurality of first conductive patterns electrically connected to the terminals of the semiconductor element respectively; a plurality of first conductive patterns electrically connected to the terminals of the inspection circuit board and the plurality of first conductive patterns respectively on the other surface of the substrate portion A second conductive pattern; and an elastic support portion connected to the substrate portion so as to elastically support the substrate portion, and disposed between the semiconductor element and the inspection circuit substrate, and the terminals of the semiconductor element and the inspection circuit substrate It is desirable to electrically connect these terminals. [Selection figure] None
Description
本発明は、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール及びその製造方法に関するもので、詳細には、ポゴピン型の半導体テストソケットが有する欠点と、PCRソケット型の半導体テストソケットが有する欠点を補完し、微細パターンの具現が可能でありながら、半導体素子のテストに使用される高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a bidirectional conductive socket for testing a high-frequency device, a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device, and a method of manufacturing the same. A bidirectional conductive socket for testing a high frequency device used for testing a semiconductor element, a bidirectional conductive module for testing a high frequency device, and a manufacturing method thereof, while complementing the shortcomings of a semiconductor test socket and realizing a fine pattern. It is about the method.
半導体素子は、製造過程を経た後、電気的性能の良否を判断するための検査が行われる。半導体素子の良否検査は、半導体素子の端子と電気的に接続することができるように形成された半導体テストソケット(またはコンタクタまたはコネクタ)を半導体素子と検査回路基板との間に挿入した状態で行われる。そして、半導体テストソケットは、半導体素子の最終的な良否検査に加えて、半導体素子の製造過程中のバーンイン(Burn−In)テストの過程でも使われている。 A semiconductor element undergoes a manufacturing process and is then inspected to determine whether the electrical performance is good or bad. The semiconductor device quality inspection is performed with a semiconductor test socket (or contactor or connector) formed so as to be electrically connected to the terminals of the semiconductor device inserted between the semiconductor device and the inspection circuit board. Is called. The semiconductor test socket is used in a burn-in test process during the manufacturing process of the semiconductor element in addition to the final pass / fail inspection of the semiconductor element.
半導体素子の集積化技術の発達と超小型化の趨勢に応じて、半導体素子の端子、すなわち、リードの大きさ及び間隔も微細化されている傾向であり、それに応じてテストソケットの導電パターンの相互間の間隔も微細に形成する方法が求められている。したがって、従来のポゴピン(Pogo−pin)型の半導体テストソケットでは、集積化される半導体素子をテストするための半導体テストソケットを製作するのに限界があった。 In accordance with the development of semiconductor device integration technology and the trend of ultra-miniaturization, the size and spacing of the terminals of semiconductor devices, that is, leads, are also becoming finer. There is a need for a method of forming the gaps between each other finely. Therefore, in the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket, there is a limit in manufacturing a semiconductor test socket for testing an integrated semiconductor device.
このような半導体素子の集積化に適合するように提案された技術として、弾性材のシリコン素材で製作されるシリコン本体上に垂直方向に穿孔パターンを形成した後、穿孔されたパターンの内部に導電性粉末を充填して導電パターンを形成するPCRソケット型が広く使用されている。 As a technique proposed to be adapted to the integration of such semiconductor elements, a perforation pattern is formed in a vertical direction on a silicon body made of an elastic silicon material, and then conductive inside the perforated pattern. A PCR socket type that fills conductive powder to form a conductive pattern is widely used.
図1は、PCRソケット型の従来の半導体テスト装置1の断面を示す図面である。図1を参照して説明すると、従来の半導体テスト装置1は支持プレート30及びPCRソケット型の半導体テストソケット10を含む。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional
支持プレート30は、半導体テストソケット10が半導体素子3と検査回路基板5との間で移動するとき、半導体テストソケット10を支持する。ここで、支持プレート30の中央には、進退ガイド用のメイン貫通孔(図示せず)が形成され、メイン貫通孔を形成する縁に沿って縁から離隔する位置に結合用貫通孔が相互離隔するように形成される。そして、半導体テストソケット10は支持プレート30の上面及び下面に接合される周辺支持部50によって支持プレート30に固定される。
The
PCRソケット型の半導体テストソケット10は絶縁性のシリコン本体に穿孔パターンが形成され、当該穿孔パターンの内に充填される導電性粉末11によって上下方向に導電パターンが形成される。
In the PCR socket type
このように、PCRソケットはファインピッチの具現が可能である長所があるが、穿孔パターンに充填された導電性粉末11が、半導体素子3と検査回路基板5との間で相互に接触するときに発生する圧力によって導電性が形成される方法である点で、上下方向の厚さの形成に制限を受ける欠点がある。
As described above, the PCR socket has an advantage that a fine pitch can be realized. However, when the
つまり、上下方向の圧力によって、導電性粉末11が相互に接触して導電性が形成されるのに、厚さが増加する場合、導電性粉末11の内部に伝達される圧力が弱まって導電性が形成されていない場合がある。したがって、PCRソケットは上下方向の厚さの制約を受ける欠点がある。
In other words, when the
引用文献1には、半導体チップ検査用ソケットが開示されている。
本発明は、ポゴピン型の半導体テストソケットが有する欠点と、PCRソケット型の半導体テストソケットが有する欠点を補完し、微細パターンの具現が可能でありながら、半導体素子のテストに使用される高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットを容易に組み立てることができる高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール及び高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention complements the disadvantages of the pogo-pin type semiconductor test socket and the disadvantages of the PCR socket type semiconductor test socket, and enables the realization of a fine pattern, while the high-frequency device used for testing the semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a high-frequency device test bidirectional conductive module and a high-frequency device test bidirectional conductive module manufacturing method capable of easily assembling a test bidirectional conductive socket.
また、本発明は、複数の端子接続部が一列に配置された構造を備える単位モジュール化された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールを利用して簡単に組み立てることができる高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットを提供することを目的とする。 Further, the present invention provides a bidirectional device for testing a high frequency device that can be easily assembled using a bidirectional conductive module for testing a high frequency device in a unit module having a structure in which a plurality of terminal connection portions are arranged in a row. An object is to provide a conductive socket.
本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールは、一面が半導体素子に向かって、他の一面が検査回路基板に向くように曲げた構造を有する基板部;基板部の一面に、前記半導体素子の端子にそれぞれ電気的に接続される複数の第1導電性パターン;基板部の他の一面に、検査回路基板の端子と複数の第1導電性パターンにそれぞれ電気的に接続される複数の第2導電性パターン;及び基板部を弾性支持するように基板部に連結された弾性支持部を含み、半導体素子と前記検査回路基板との間に設置されて、半導体素子の端子と検査回路基板の端子とを電気的に接続することが望ましい。 A bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to an embodiment of the present invention has a substrate part bent so that one side faces a semiconductor element and the other side faces a test circuit board; And a plurality of first conductive patterns electrically connected to the terminals of the semiconductor element; respectively, electrically connected to the terminals of the test circuit board and the plurality of first conductive patterns on the other surface of the substrate section, respectively. A plurality of second conductive patterns; and an elastic support portion connected to the substrate portion so as to elastically support the substrate portion, and disposed between the semiconductor element and the inspection circuit board, and a terminal of the semiconductor element It is desirable to electrically connect the terminals of the inspection circuit board.
本発明の一実施形態において、基板部は、複数の第1導電性パターンの表面に粒状に形成された第1バンプ部;及び複数の第2導電性パターンの表面に粒状に形成された第2バンプ部をさらに含み、第1のバンプ部と第2のバンプ部は導電性粉末によって形成されていることが望ましい。 In one embodiment of the present invention, the substrate portion includes first bump portions formed in a granular shape on the surfaces of the plurality of first conductive patterns; and a second bump formed in the surfaces of the plurality of second conductive patterns. It is desirable to further include a bump part, and the first bump part and the second bump part are formed of conductive powder.
または、基板部は、複数の第1導電性パターンの表面に粒状に形成された第1バンプ部;複数の第2導電性パターンの表面に粒状に形成された第2バンプ部;及び複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとにめっきされて、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとを電気的に接続するめっき層を含み、第1バンプ部と第2バンプ部は非導電性粉末によって形成されていることが望ましい。 Alternatively, the substrate portion may be formed by first bumps formed on the surfaces of the plurality of first conductive patterns in a granular manner; second bump portions formed on the surfaces of the plurality of second conductive patterns in a granular manner; A plating layer that is plated on one conductive pattern and a plurality of second conductive patterns and electrically connects the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns; It is desirable that the second bump portion is formed of non-conductive powder.
本発明の一実施形態において、基板部は、柔軟に曲がる構造を有する絶縁シート;絶縁シートの一面がめっき処理された後、パターニングして形成された複数の第1導電性パターン;及び絶縁シートの他の一面がめっき処理された後、パターニングして形成された複数の第2導電性パターンから構成されていることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the substrate portion includes an insulating sheet having a structure that bends flexibly; a plurality of first conductive patterns formed by patterning after one surface of the insulating sheet is plated; and an insulating sheet It is preferable that the other surface is composed of a plurality of second conductive patterns formed by patterning after the other surface is plated.
本発明の一実施形態において、複数の第1導電性パターンは、絶縁シートの一面で相互に一定のピッチで離隔して一列に並んで形成され、複数の第2導電性パターンは絶縁シートの他の一面で相互に一定のピッチで離隔して一列に並んで形成され、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとは、めっき処理により電気的に接続される構造を有することが望ましい。 In one embodiment of the present invention, the plurality of first conductive patterns are formed in a row on one surface of the insulating sheet and spaced apart from each other at a constant pitch. The plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns have a structure that is electrically connected by a plating process. Is desirable.
本発明の一実施形態において、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとは、導電性ラインによって、それぞれ電気的に接続されることが望ましい。 In one embodiment of the present invention, it is preferable that the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns are electrically connected to each other by conductive lines.
一方、本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットは、少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール;及び半導体素子の端子方向に従って、単位モジュール化された少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールが半導体素子の端子と接続するように、少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの取り付け位置を固定するハウジングを含み、半導体素子と検査回路基板とに電気的に接続されて、半導体素子の良否をテストすることが望ましい。 Meanwhile, the bidirectional conductive socket for testing a high-frequency device according to an embodiment of the present invention includes at least one bidirectional conductive module for testing a high-frequency device; and at least one unitized module according to the terminal direction of the semiconductor element. Including a housing for fixing a mounting position of at least one high-frequency device test bidirectional conductive module so that the high-frequency device test bidirectional conductive module is connected to a terminal of the semiconductor element; It is desirable to test the quality of the semiconductor element by being electrically connected.
一方、本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法は、(A)絶縁シートを準備する段階;(B)絶縁シートがめっきされて、絶縁シートの表面にベースめっき層を形成する段階;(C)絶縁シートの一面において、ベースめっき層がパターニング処理され、半導体素子の端子と電気的に接続される複数の第1導電性パターンが形成され、絶縁シートの他の一面において、ベースめっき層がパターニング処理されて検査回路基板の端子と電気的に接続される複数の第2導電性パターンが形成された基板部を準備する段階;(D)基板部を成形金型に接触させ、成形金型の形状通りの流線型に曲げながら、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとが互いに異なる方向を向くように曲げる段階;及び(E)基板部を成形金型モールドに連結し、シリコンを成形金型モールドに注入した後硬化することによって、基板部を弾性支持する弾性支持部を形成する段階を含み、基板部が半導体素子と検査回路基板との間に位置すると、複数の第1導電性パターンは半導体素子の端子と電気的に接続され、複数の第2導電性パターンは検査回路基板の端子と電気的に接続されて、半導体素子と検査回路基板とを電気的に接続することが望ましい。 On the other hand, in the method for manufacturing a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to an embodiment of the present invention, (A) a step of preparing an insulating sheet; (B) an insulating sheet is plated and a base is formed on the surface of the insulating sheet. A step of forming a plating layer; (C) on one surface of the insulating sheet, the base plating layer is patterned to form a plurality of first conductive patterns electrically connected to terminals of the semiconductor element; A step of preparing a substrate portion on which a plurality of second conductive patterns are formed by patterning the base plating layer and being electrically connected to terminals of the inspection circuit substrate; (D) forming the substrate portion into a mold A plurality of first conductive patterns and a plurality of second conductive patterns are bent so that they are directed in different directions while being brought into contact with the mold and bent into a streamline mold as the shape of the molding die. And (E) forming an elastic support portion for elastically supporting the substrate portion by connecting the substrate portion to the molding die mold and injecting silicon into the molding die mold and then curing. When the portion is located between the semiconductor element and the inspection circuit board, the plurality of first conductive patterns are electrically connected to the terminals of the semiconductor element, and the plurality of second conductive patterns are electrically connected to the terminals of the inspection circuit board. It is desirable to electrically connect the semiconductor element and the inspection circuit board.
本発明の一実施形態において、(C)段階の後、複数の第1導電性パターンの表面に導電性粉末を粒状に付着して第1バンプ部を形成し、複数の第2導電性パターンの表面に導電性粉末を粒状に付着して第2バンプ部を形成することをさらに含むことが好ましい。 In one embodiment of the present invention, after the step (C), conductive powder is adhered to the surfaces of the plurality of first conductive patterns to form first bump portions, and the plurality of second conductive patterns are formed. Preferably, the method further includes forming the second bump portion by attaching the conductive powder in a granular form on the surface.
本発明の一実施形態において、(C)段階の後、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとをニッケルめっきする段階;及びニッケルめっきされた複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンとを金めっきする段階をさらに含み、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンはニッケルめっき及び金めっきによって電気的に接続されることが望ましい。 In one embodiment of the present invention, after step (C), nickel-plating a plurality of first conductive patterns and a plurality of second conductive patterns; and a plurality of nickel-plated first conductive patterns; Preferably, the method further includes gold plating a plurality of second conductive patterns, and the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns are electrically connected by nickel plating and gold plating.
本発明の一実施形態において、(E)段階の後、複数の第1導電性パターンと複数の第2導電性パターンは導電性ラインによって、それぞれ電気的に接続される段階をさらに含むことが好ましい。 In one embodiment of the present invention, after the step (E), the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns may further include a step of being electrically connected to each other by conductive lines. .
本発明は、ポゴピン型の半導体テストソケットが有する欠点と、PCRソケット型の半導体テストソケットが有する欠点を補完し、微細パターンの具現が可能でありながら、半導体素子のテストに使用される高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットを容易に組み立てることができる。 The present invention complements the disadvantages of the pogo-pin type semiconductor test socket and the disadvantages of the PCR socket type semiconductor test socket, and enables the realization of a fine pattern, while the high-frequency device used for testing the semiconductor element. The test bidirectional conductive socket can be easily assembled.
また、本発明は、FPCBに導電性パターンをパターニングする方法を用いて、半導体素子の複数の端子に接続する部分と検査回路基板の複数の端子に接続する部分とを微細な大きさに一つのモジュールに具現することができ、技術の進歩により、従来の半導体素子をテストするために使用されるポゴピン型またはPCRソケット型ではテストがしにくい超小型の半導体素子をテストすることができる高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットを容易に製作することができる。 In addition, the present invention uses a method of patterning a conductive pattern on an FPCB, so that a portion connected to a plurality of terminals of a semiconductor element and a portion connected to a plurality of terminals of a test circuit board are reduced to a single size. A high-frequency device that can be implemented in a module and can test ultra-small semiconductor elements that are difficult to test with conventional pogo-pin type or PCR socket type, which is used for testing conventional semiconductor elements, due to technological advances. A bidirectional conductive socket for testing can be easily manufactured.
また、本発明は、半導体素子に備えられた複数の端子と検査回路基板の複数の端子とを一つ一つ電気的に接続するのではなく、フレキシブルな構造を有するFPCBに複数の導電性パターンをパターニングして、単位モジュール構造を有する高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールを製造して、単位モジュール化された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールをハウジングに組み立てる方法で高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットを組み立てることができる。これにより、本発明は、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットの組立工程の単純化により組み立て効率を増大させると同時に、組み立てにかかる作業時間を短縮することができ、これに加え、作業者の作業能率を向上させることができる。 Further, the present invention does not electrically connect a plurality of terminals provided on a semiconductor element and a plurality of terminals of an inspection circuit board one by one, but a plurality of conductive patterns on an FPCB having a flexible structure. To manufacture a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device having a unit module structure and to assemble the bidirectional conductive module for testing a high-frequency device unitized into a housing in a bidirectional manner for testing the high-frequency device A conductive socket can be assembled. As a result, the present invention increases the assembly efficiency by simplifying the assembly process of the bidirectional conductive socket for testing the high-frequency device, and at the same time, shortens the work time required for the assembly. Work efficiency can be improved.
以下、添付の図面を参照して、本発明の好ましい実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット及び高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法について説明する。 Hereinafter, a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device, a bidirectional conductive socket for testing a high-frequency device, and a manufacturing method of the bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings Will be described.
<高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット>
図2乃至図4を参照して、本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100について説明すると、次の通りである。
<Bidirectional conductive socket for high frequency device testing>
With reference to FIG. 2 to FIG. 4, the bidirectional
本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は、半導体素子10と検査回路基板20とを電気的に接続して、半導体素子10の良否をテストするためものである。図2に示すように、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は、半導体素子10と検査回路基板20との間に設置される。高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110によって、半導体素子10と検査回路基板20に電気的に接続される。高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110とハウジング190で構成される。
The bidirectional
市販されている半導体素子10は電子機器に使用される目的に応じて様々な構造が使用されている。例えば、半導体素子10は、パッケージで端子が一方向に突出したSIP(Single In−line Package)構造、図3(a)に示すように、パッケージで端子が両方向に突出したSOP(Sma高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケットOutline Package)構造、または図4(a)に示すように、パッケージで端子が四方向に突出したQFP(Quad Flat Package)構造など様々な種類が使われている。本実施形態に開示された半導体素子の構造は例示的なものに過ぎず、本発明の高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールを用いて、本明細書に開示されていない様々な種類及び大きさを有する半導体素子10をテストするために製作されることができる。
The
図3(a)または図4(a)に示すように、半導体素子10は端子の配置が多様に行わって、半導体素子の端子の配置構造に応じて、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100の構造も図3(b)及び図4(b)に示すように、さまざまに変更することができる。このため、本発明は、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は半導体素子の端子の配置に応じて、少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110がハウジング190に組み立てて形成される。
As shown in FIG. 3 (a) or FIG. 4 (a), the
図3(a)に示したSOP型の半導体素子10の良否をテストする際に、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100は、SOP型の半導体素子の端子の配置構造と同じ構造で、図3(b)および図3(c)に示すように、2つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110a、110bが互いに向かい合うようにハウジング190に組み立てて製作される。本明細書では、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールを称する符号を110aと110bに区分したが、これは説明の便宜のためのものに過ぎず、二つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110a、110bは互いに同一構造を有する。
When testing the quality of the SOP
または、図4(a)に示したQFP型の半導体素子10の良否をテストする際に、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100はQFP型の半導体素子の端子の配置構造と同じ構造で、図4(b)および図4(c)に示すように、ハウジング190の4つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110a、110b、110c、110dが四角形の断面形状の構造に組み立てられて製作される。ここで、4つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110a、110b、110c、110dは相互に同一構造を有するが、半導体素子の端子11の数に応じて、複数の第1導電性パターン113と第2導電性パターン114との数を変更することができる。
Alternatively, when testing the quality of the QFP
本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100を製造するために使用される単位モジュール化された端子接続部材である。高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は半導体素子の端子11と検査回路基板の端子21とを電気的に接続するためのものである。
The high-frequency device test bidirectional
高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、半導体素子10に備えられたサイズが非常に小さい複数の端子にそれぞれ個別に接続されるのではなく、FPCB基板に複数の導電性パターンがパターニングされて半導体素子の端子11と接続される構造で単位モジュール化される。単位モジュール化された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、上述した高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100に開示された構造のように、半導体素子10の一側に備えられた複数の端子と一度に電気的に接続される構造を有する。このような構造により、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、一定の枠を有するハウジング190に嵌合されたり、接着体によって相互に連結されて、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100の組立工程を単純化させることができる。
The bidirectional
<高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール>
以下では、図5乃至図7を参照して、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールを形成する詳細の構成について説明する。
<Bidirectional conductive module for high frequency device testing>
Hereinafter, a detailed configuration for forming a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device will be described with reference to FIGS. 5 to 7.
図5及び図6に示すように、本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は基板部111と弾性支持部119とで構成される。
As shown in FIGS. 5 and 6, the bidirectional
基板部111は、半導体素子10と検査回路基板20を電気的に接続する部分である。基板部111はフレキシブルな構造を有する。これにより、基板部111は、一面が半導体素子10に向かって、他の一面が検査回路基板20に向くように曲げることができる。
The
このように曲げた基板部111は、半導体素子10と接する上部接触部111aと、検査回路基板20に接する下部接触部111bとを形成する。ここで、上部接触部111aは基板部111の一面に備えられた部分であり、下部接触部111bは基板部111の他の一面に備えられた部分である。
The
基板部111は、絶縁シート112、複数の第1導電性パターン113、複数の第2導電性パターン114、第1バンプ部115と第2バンプ部116で構成される。基板部111は、絶縁シート112の両面がめっきされた後、両面でそれぞれパターニングの過程を行うことにより一面に複数の第1導電性パターン113が形成され、他の一面に複数の第2導電性パターン114を形成することにより作られる。
The
本実施形態では、絶縁シート112は電気を通さずに柔軟に曲がることができる材質で構成される。絶縁シート112としては、例えばPIフィルムを使用することができる。絶縁シート112は、材質の特性により、半導体素子10のテストの過程で押される圧力に応じて曲がることができる形になることができる。絶縁シート112の一面には複数の第1導電性パターン113が備えられ、絶縁シート112の他の一面には複数の第2導電性パターン114が備えられる。
In this embodiment, the insulating
複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とは、半導体素子10と検査回路基板20とを電気的に接続する部分である。複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114は絶縁シート112がめっきされた後、パターニングされる過程を通して作られる。複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とは相互に同じ規格で形成することができる。
The plurality of first
図6及び図7(a)に示すように、複数の第1導電性パターン113は絶縁シート112の一面に形成される。複数の第1導電性パターン113は同じピッチで離隔して形成される。この時、複数の第1導電性パターン113は絶縁シート112の横長方向に一列に配置される。複数の第1導電性パターン113は半導体素子の端子11のそれぞれに接続される。複数の第1導電性パターン113は、半導体素子の端子11との接続時、検査回路基板20に印加された電流を半導体素子の端子11に電流を印加する部分である。
As shown in FIGS. 6 and 7A, the plurality of first
本実施形態では、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、複数の第1導電性パターン113と半導体素子の端子11との接続効率を向上させるために、すなわち、複数の第1導電性パターン113の表面を粗く形成して、半導体素子の端子11と複数の第1導電性パターン113との電気的接続を安定的に確保するために、上部接触部111aにおいて、第1バンプ部115が複数の第1導電性パターン113に取り付けられる。
In the present embodiment, the bidirectional
第1バンプ部115は、複数の第1導電性パターン113の表面に粒状に取り付けられる。第1バンプ部115は、導電性粉末によって形成することができる。または、第1バンプ部115は、非導電性粉末が複数の第1導電性パターン113の表面に粒状に置かれた後、ニッケルめっきおよび/または金めっきされて、複数の第1導電性パターン113の表面に付着させることができる。第1バンプ部115の表面にめっき層117a、117bが形成されたのは、図11で示される。
The
また、第1バンプ部115は、第1導電性パターン113と半導体素子の端子11との電気的接続が安定的に行われる構造であれば、本明細書に開示されているように、導電性粉末を使用することに加えて、第1導電性パターン113の表面をクラウン形態の構造のように尖らし突出した構造のめっき層で形成することもできる。
Further, as long as the
一方、本実施形態では、複数の第2導電性パターン114は上述した複数の第1導電性パターン113と同じ方法で絶縁シート112の他の一面に形成される。複数の第2導電性パターン114のピッチは、複数の第1導電性パターン113のピッチと同じ大きさで形成されることが望ましい。
On the other hand, in the present embodiment, the plurality of second
複数の第2導電性パターン114は検査回路基板20の端子21と接続され、電流印加時の電流が通じる部分である。下部接触部111bにおいて、複数の第2導電性パターン114には第2バンプ部116が形成される。上述したように、下部接触部111bは、複数の第2導電性パターン114と検査回路基板20の端子21が接続する部分である。
The plurality of second
本実施形態では、第2バンプ部116は第1バンプ部115と同じ構造及び役割を果たして、本実施形態では説明の繰り返しを避けるために、これに対する説明は省略することにする。
In the present embodiment, the
本実施形態では、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、互いに異なる面に形成された複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とが相互に電気的に接続された構造を有する。このような構造を形成するために、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、絶縁シート112のめっき後のパターニング工程で、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とが接続される部分でめっきが除去されないようにパターニング処理され、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とが相互に電気的に接続された構造を有することができる。
In the present embodiment, the bidirectional
他の例として、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールは、第1導電性パターン113と第2導電性パターン114とを連通するビアホール(via hole)を形成した後、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とがビアホール埋めめっき工程を通して相互間にめっきで連結されて、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とが相互に電気的に接続された構造を有することができる。
As another example, a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device includes a plurality of first conductive patterns after forming a via hole that connects the first
他の例として、図8(a)乃至図8(c)に示すように、第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とは導電性ライン118によって電気的に接続することができる。本発明では導電性ライン118として導電性ワイヤが使用されることを例にする。
As another example, as shown in FIGS. 8A to 8C, the first
上記のような構造により、本実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、第1導電性パターン113と第2導電性パターン114とが互いに異なる面に備えられても、第1導電性パターン113と第2導電性パターン114とがめっき連結または導電性ライン118によって電気的に接続されて、電流印加時通電されて、検査回路基板20の端子21で印加された電流を半導体素子10の端子11に提供することができる。
With the above-described structure, the bidirectional
本実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は弾性支持部119を利用して、上述したように、曲がりやすい構造を有する基板部111を弾性支持することができる。
The bidirectional
弾性支持部119は加圧時にある程度の弾性があり、電流が通じない材質で構成される。本発明では、弾性支持部119がシリコン材質で構成されることを例にする。弾性支持部119は、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110が高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100に適用され、実際の半導体素子10のテストに使用されるとき、半導体素子10の接触を弾性的に支持する。弾性支持部119は第1バンプ部115と第2バンプ部116とが弾性支持部119に影響を受けず、上部接触部111aと下部接触部111bで露出されるように、基板部111に結合されていることが望ましい。
The
例えば、弾性支持部119は、図6に示すように、上部接触部111aを除いた基板部111の一面を囲んで、下部接触部111bを除いた基板部111の他の一面を囲むはブロック構造で基板部111に結合することができる。
For example, as shown in FIG. 6, the
または、弾性支持部119は、図8(a)に示すように、基板部111との接触面が平らな構造を有するブロック構造を有することもでき、図8(b)および図8(c)に示したように、ブロック型の構造を有することができる。
Alternatively, as shown in FIG. 8A, the
<高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法>
以下では、図9及び図10を参照して、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110を製造する高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法について説明する。図9および図10は、本発明の一実施形態に係る高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの組立工程図を概略的に示したものである。
<Manufacturing Method of Bidirectional Conductive Module for Testing High Frequency Device>
Hereinafter, a method of manufacturing a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device for manufacturing the bidirectional
まず、図9(a)に示すように、絶縁シート112を準備する(A段階)。絶縁シート112は上述したように、電流が通じない材質のPIフィルムが使用されることができる。
First, as shown in FIG. 9A, an insulating
次に、図9(b)に示すように、絶縁シート112がめっきされて、絶縁シート112の表面にベースめっき層が形成される(B段階)。以後、絶縁シート112の一面でベースめっき層がパターニング処理され、複数の第1導電性パターン113が形成される(C段階)。複数の第1導電性パターン113は、基板部111と半導体素子10との接触時に、半導体素子10の端子11と電気的に接続される部分である。
Next, as shown in FIG. 9B, the insulating
そして、絶縁シート112の他の一面でベースめっき層がパターニング処理され、複数の第2導電性パターン114が形成される(C段階)。複数の第2導電性パターン114は、基板部111と検査回路基板20との接続時に、検査回路基板20の端子21と電気的に接続される部分である。
Then, the base plating layer is patterned on the other surface of the insulating
ここで、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とは、半導体素子10に備えられた複数の端子11間のピッチに応じて絶縁シート112にパターニングすることができる。半導体素子10の端子11間のピッチは半導体素子10の種類及び大きさに応じて任意に可変することができ、本明細書では、複数の第1導電性パターン113間のピッチおよび/または複数の第2導電性パターン114間のピッチについては、具体的な言及を省略することにする。
Here, the plurality of first
以降、図9(c)に示すように、複数の第1導電性パターン113の表面に導電性粉末が粒状に付着されて第1バンプ部115を形成し、複数の第2導電性パターン114の表面に導電性粉末が粒状に付着されて第2バンプ部116を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 9C, the conductive powder is adhered to the surface of the plurality of first
以降、上部と下部が曲げられた構造を有する成形金型40が準備されると、図10(e)に示すように、基板部111が成形金型40に接触して成形金型40の形状通りの流線型に曲がる。これらの過程によって、基板部111は複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とが互いに異なる方向に向くように曲げられる(D段階)。成形金型40は、図9(d)に示すような形状を有することもできるが、これは例示的な形状の限定であり、当業者の立場から自明な範囲内のさまざまなブロック構造を使用することができる。
Thereafter, when a
次に、図10(f)に示すように、基板部111が成形金型モールド50に連結される。以降、シリコンが成形金型モールド50に注入される。成形金型モールド50に注入されたシリコンが硬化し、弾性支持部119が形成される(E段階)。
Next, as shown in FIG. 10 (f), the
上述したような段階によって製作された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、基板部111と弾性支持部119が一体に連結された構造を有する。高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110において、一面と他の一面が互いに異なる方向に向くように曲げられた基板部111は、弾性支持部119によって、半導体素子10の検査時に加わる圧力によって上下方向に弾性支持される。前記工程により製作された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は図10(g)に示すような断面形状を有する。
The high-frequency device test bidirectional
一方、上記のような工程に加えて、本発明は、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114との安定な電気的接続構造のために、次のような過程をさらに行うことができる。
On the other hand, in addition to the above processes, the present invention performs the following process for a stable electrical connection structure between the plurality of first
C段階の後、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とには、ニッケルめっき工程と金めっき工程が行われる。一次的にニッケル工程が行われた後、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114との通電効率を向上させるために、電流伝導度が高い材質の金を、ニッケルめっきされた複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とに再びめっきすることができる。
After the C stage, a nickel plating process and a gold plating process are performed on the plurality of first
ニッケルめっき工程と金めっき工程とは、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とを電気的に接続するためのものである。ニッケルめっき工程と金めっき工程は、ビアホール埋めめっき工程を通して行うことができるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とのそれぞれにのみニッケルめっき層117aおよび/または金めっき層117bを形成することができれば、当業者の立場で自明な範囲内で様々なめっき工程が適用されることができる。ニッケルめっき層117aと金めっき層117bとが形成された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は図11に示される。
The nickel plating step and the gold plating step are for electrically connecting the plurality of first
一方、上述したようなニッケルめっき工程および/または金めっき工程を行わずに、導電性ライン118を介して複数の第1導電性パターン113と複数の第2導電性パターン114とをそれぞれ接続することができる。これは、E段階の後に行われることが望ましい。
On the other hand, the plurality of first
前記のような方法で製作された高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール110は、半導体素子10の一面に備えられた複数の端子11と接続可能な導電性パターンを微細に集積してパターニングすることにより、従来のポゴピンの不良による半導体素子の端子11と検査回路基板20の端子21との間の電気的短絡を防止して、半導体素子10のテスト効率を向上させることができる。
The bidirectional
また、本発明は、FPCBに導電性パターンをパターニングする方法を用いて、半導体素子10の複数の端子11に接続する部分と検査回路基板20の複数の端子21に接続する部分を微細な大きさに一つのモジュールに具現することができ、技術の進歩により、従来の半導体素子10をテストするために使用されるポゴピン型またはPCRソケット型ではテストがしにくい超小型の半導体素子10をテストすることができる高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット100を容易に製作することができる。
In addition, the present invention uses a method of patterning a conductive pattern on the FPCB, and the portion connected to the plurality of
以上で説明した本発明は、前述した実施形態及び添付された図面によって限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、いくつかの置換、変形及び変更が可能であることは、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかであろう。 The present invention described above is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, and some substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical idea of the present invention. This will be apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains.
10 半導体素子
20 検査回路基板
100 両方向導電性ソケット
110 両方向導電性モジュール
111 基板部
112 絶縁シート
113 第1導電性パターン
114 第2導電性パターン
115 第1バンプ部
116 第2バンプ部
118 導電性ライン
119 弾性支持部
DESCRIPTION OF
Claims (11)
前記基板部の一面に、前記半導体素子の端子にそれぞれ電気的に接続される複数の第1導電性パターン;
前記基板部の他の一面に、前記検査回路基板の端子と前記複数の第1導電性パターンにそれぞれ電気的に接続される複数の第2導電性パターン;及び
前記基板部を弾性支持するように前記基板部に連結された弾性支持部を含み、
前記半導体素子と前記検査回路基板との間に設置されて、前記半導体素子の端子と前記検査回路基板の端子とを電気的に接続する、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール。 A substrate portion having a structure bent so that one surface faces the semiconductor element and the other surface faces the inspection circuit board;
A plurality of first conductive patterns electrically connected to terminals of the semiconductor element on one surface of the substrate portion;
A plurality of second conductive patterns electrically connected to terminals of the inspection circuit board and the plurality of first conductive patterns, respectively, on the other surface of the substrate part; and elastically supporting the board part Including an elastic support connected to the substrate part;
A bidirectional conductive module for testing a high-frequency device, which is installed between the semiconductor element and the inspection circuit board and electrically connects a terminal of the semiconductor element and a terminal of the inspection circuit board.
前記複数の第1導電性パターンの表面に粒状に形成された第1バンプ部;及び
前記複数の第2導電性パターンの表面に粒状に形成された第2バンプ部をさらに含み、
前記第1バンプ部と前記第2バンプ部は導電性粉末によって形成されている、請求項1に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール。 The substrate portion is
A first bump portion formed in a granular shape on the surface of the plurality of first conductive patterns; and a second bump portion formed in a granular shape on the surface of the plurality of second conductive patterns;
The bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to claim 1, wherein the first bump portion and the second bump portion are formed of conductive powder.
前記複数の第1導電性パターンの表面に粒状に形成された第1バンプ部;
前記複数の第2導電性パターンの表面に粒状に形成された第2バンプ部;及び
前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとにめっきされて、前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとを電気的に接続するめっき層を含み、
前記第1バンプ部と前記第2バンプ部は非導電性粉末によって形成されている、請求項1に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール。 The substrate portion is
First bump portions formed in a granular shape on the surfaces of the plurality of first conductive patterns;
A second bump portion formed in a granular shape on a surface of the plurality of second conductive patterns; and the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns are plated to form the plurality of first conductive patterns. A plating layer that electrically connects the conductive pattern and the plurality of second conductive patterns;
The bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to claim 1, wherein the first bump part and the second bump part are formed of non-conductive powder.
柔軟に曲がる構造を有する絶縁シート;
前記絶縁シートの一面がめっき処理された後、パターニングして形成された前記複数の第1導電性パターン;及び
前記絶縁シートの他の一面がめっき処理された後、パターニングして形成された前記複数の第2導電性パターンから構成されている、請求項1に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール。 The substrate portion is
An insulating sheet having a flexible bending structure;
The plurality of first conductive patterns formed by patterning after one surface of the insulating sheet is plated; and the plurality of patterns formed by patterning after another surface of the insulating sheet is plated. The bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to claim 1, comprising the second conductive pattern.
前記複数の第2導電性パターンは、前記絶縁シートの他の一面で相互に一定のピッチで離隔して一列に並んで形成され、
前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとは、前記めっき処理により電気的に接続される構造を有する、請求項4に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュール。 The plurality of first conductive patterns are formed in a row spaced apart from each other at a constant pitch on one surface of the insulating sheet,
The plurality of second conductive patterns are formed in a line spaced apart from each other at a constant pitch on the other surface of the insulating sheet,
5. The bidirectional conductive module for testing a high-frequency device according to claim 4, wherein the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns have a structure of being electrically connected by the plating process.
半導体素子の端子方向に従って、単位モジュール化された前記少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールが前記半導体素子の端子と接続するように、前記少なくとも一つの高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの取り付け位置を固定するハウジングを含み、
前記半導体素子と検査回路基板とに電気的に接続されて、前記半導体素子の良否をテストする、高周波デバイスのテスト用両方向導電性ソケット。 2. The bidirectional conductive module for testing at least one high-frequency device according to claim 1; and the bidirectional conductive module for testing of the at least one high-frequency device formed into a unit module according to a terminal direction of the semiconductor element. A housing for fixing a mounting position of the test bidirectional conductive module of the at least one high-frequency device so as to be connected to a terminal;
A bidirectional conductive socket for testing a high-frequency device, which is electrically connected to the semiconductor element and an inspection circuit board to test the quality of the semiconductor element.
(B)前記絶縁シートがめっきされて、前記絶縁シートの表面にベースめっき層を形成する段階;
(C)前記絶縁シートの一面において、前記ベースめっき層がパターニング処理され、半導体素子の端子と電気的に接続される複数の第1導電性パターンが形成され、前記絶縁シートの他の一面において、前記ベースめっき層がパターニング処理されて検査回路基板の端子と電気的に接続される複数の第2導電性パターンが形成された基板部を準備する段階;
(D)前記基板部を成形金型に接触させ、前記成形金型の形状通りの流線型に曲げながら、前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとが互いに異なる方向を向くように曲げる段階;及び
(E)前記基板部を成形金型モールドに連結し、シリコンを前記成形金型モールドに注入した後硬化することによって、前記基板部を弾性支持する弾性支持部を形成する段階を含み、
前記基板部が前記半導体素子と前記検査回路基板との間に位置すると、前記複数の第1導電性パターンは前記半導体素子の端子と電気的に接続され、前記複数の第2導電性パターンは前記検査回路基板の端子と電気的に接続されて、前記半導体素子と前記検査回路基板とを電気的に接続する、高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法。 (A) preparing an insulating sheet;
(B) The insulating sheet is plated to form a base plating layer on the surface of the insulating sheet;
(C) On one surface of the insulating sheet, the base plating layer is patterned to form a plurality of first conductive patterns that are electrically connected to the terminals of the semiconductor element. On the other surface of the insulating sheet, Preparing a substrate part on which a plurality of second conductive patterns that are electrically connected to terminals of the inspection circuit board are formed by patterning the base plating layer;
(D) The plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns have directions different from each other while the substrate portion is brought into contact with the molding die and bent into a streamline shape as the shape of the molding die. (E) connecting the substrate portion to a molding die mold, and injecting silicon into the molding die mold and then curing to form an elastic support portion that elastically supports the substrate portion; Including the steps of
When the substrate portion is located between the semiconductor element and the inspection circuit board, the plurality of first conductive patterns are electrically connected to terminals of the semiconductor element, and the plurality of second conductive patterns are A method of manufacturing a bidirectional conductive module for testing a high-frequency device, wherein the semiconductor element and the inspection circuit board are electrically connected to each other and electrically connected to a terminal of the inspection circuit board.
前記複数の第1導電性パターンの表面に導電性粉末を粒状に付着して第1バンプ部を形成し、前記複数の第2導電性パターンの表面に導電性粉末を粒状に付着して第2バンプ部を形成することをさらに含む、請求項8に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法。 After the step (C),
Conductive powder is adhered to the surfaces of the plurality of first conductive patterns in a granular form to form first bump portions, and conductive powder is adhered to the surfaces of the plurality of second conductive patterns in a granular form. The manufacturing method of the bidirectional | two-way conductive module for a test of the high frequency device of Claim 8 which further includes forming a bump part.
前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとをニッケルめっきする段階;及び
ニッケルめっきされた前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとを金めっきする段階をさらに含み、
前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとは前記ニッケルめっき及び前記金めっきによって電気的に接続される、請求項8に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法。 After the step (C),
Nickel plating the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns; and gold plating the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns plated with nickel Further comprising:
The bidirectional conductive module for testing a high frequency device according to claim 8, wherein the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns are electrically connected by the nickel plating and the gold plating. Production method.
前記複数の第1導電性パターンと前記複数の第2導電性パターンとは導電性ラインによって、それぞれ電気的に接続される段階をさらに含む、請求項8に記載の高周波デバイスのテスト用両方向導電性モジュールの製造方法。 After the step (E),
9. The bidirectional conductivity for testing a high frequency device according to claim 8, further comprising a step of electrically connecting the plurality of first conductive patterns and the plurality of second conductive patterns by conductive lines, respectively. Module manufacturing method.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2015-0054280 | 2015-04-17 | ||
KR1020150054280A KR20160124347A (en) | 2015-04-17 | 2015-04-17 | Bi-directional conductive socket for testing high frequency device, bi-directional conductive module for testing high frequency device, and manufacturing method thereof |
PCT/KR2015/006757 WO2016167412A1 (en) | 2015-04-17 | 2015-07-01 | Bidirectional conductive socket for testing high-frequency device, bidirectional conductive module for testing high-frequency device, and manufacturing method thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017517863A true JP2017517863A (en) | 2017-06-29 |
Family
ID=57126882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017512624A Pending JP2017517863A (en) | 2015-04-17 | 2015-07-01 | Bidirectional conductive socket for high-frequency device test, bidirectional conductive module for high-frequency device test, and manufacturing method thereof |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017517863A (en) |
KR (1) | KR20160124347A (en) |
WO (1) | WO2016167412A1 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102447833B1 (en) * | 2018-02-09 | 2022-09-27 | 주성엔지니어링(주) | Electric power interface |
KR102446242B1 (en) * | 2022-07-13 | 2022-09-21 | 강경훈 | Test Socket for Testing Electronic Module Having a Flexible Terminal Protecting Structure |
KR102651424B1 (en) * | 2023-12-19 | 2024-03-26 | 주식회사 피엠티 | Chip test socket |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000304806A (en) * | 1999-04-20 | 2000-11-02 | Mitsubishi Electric Corp | Testing socket for semiconductor apparatus |
JP2007027093A (en) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Alps Electric Co Ltd | Connecting member and its manufacturing method as well as connecting member mounting structure having connecting member and its manufacturing method |
JP2011228215A (en) * | 2010-04-22 | 2011-11-10 | Nhk Spring Co Ltd | Connection terminal, connector, socket and semiconductor package |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5471151A (en) * | 1990-02-14 | 1995-11-28 | Particle Interconnect, Inc. | Electrical interconnect using particle enhanced joining of metal surfaces |
JP3789810B2 (en) * | 2001-12-14 | 2006-06-28 | 株式会社アドバンテスト | IC socket |
JP2004171905A (en) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Dainippon Printing Co Ltd | Contact sheet for electronic device inspection, and its manufacturing method |
JP2008021637A (en) * | 2006-06-12 | 2008-01-31 | Fujikura Ltd | Socket, its manufacturing method, and semiconductor device |
KR101339124B1 (en) * | 2012-12-28 | 2013-12-09 | 에이케이이노텍주식회사 | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof |
-
2015
- 2015-04-17 KR KR1020150054280A patent/KR20160124347A/en not_active Application Discontinuation
- 2015-07-01 JP JP2017512624A patent/JP2017517863A/en active Pending
- 2015-07-01 WO PCT/KR2015/006757 patent/WO2016167412A1/en active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000304806A (en) * | 1999-04-20 | 2000-11-02 | Mitsubishi Electric Corp | Testing socket for semiconductor apparatus |
JP2007027093A (en) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Alps Electric Co Ltd | Connecting member and its manufacturing method as well as connecting member mounting structure having connecting member and its manufacturing method |
JP2011228215A (en) * | 2010-04-22 | 2011-11-10 | Nhk Spring Co Ltd | Connection terminal, connector, socket and semiconductor package |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016167412A1 (en) | 2016-10-20 |
KR20160124347A (en) | 2016-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101489186B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR101517409B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR101826663B1 (en) | Bi-directional conductive socket for testing semiconductor device, bi-directional conductive module for testing semiconductor device, and manufacturing method thereof | |
US20210190822A1 (en) | Multi-layer mems spring pin | |
KR101582956B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR101566173B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR101708487B1 (en) | Test socket having double wire in silicon rubber and method for manufacturing thereof | |
KR101162175B1 (en) | Semiconductor test socket | |
JP2017517863A (en) | Bidirectional conductive socket for high-frequency device test, bidirectional conductive module for high-frequency device test, and manufacturing method thereof | |
KR101556216B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR20110093085A (en) | Test socket | |
KR101694768B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR101970695B1 (en) | By-directional electrically conductive pin and by-directional electrically conductive pattern module using carbon fiber | |
KR101745884B1 (en) | Socket using high accuracy laser and manufacturing method thereof | |
KR20090073745A (en) | Probe card | |
KR101747652B1 (en) | By-directional electric conductive sheet and semiconductor test socket, manufacturing method of by-directional electric conductive sheet | |
KR101846303B1 (en) | Bi-directional conductive module, semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR20230031638A (en) | Test socket and test apparatus having the same, manufacturing method for the test socket | |
KR102007261B1 (en) | By-directional electrically conductive module | |
KR100548803B1 (en) | Probe pin block of probe card | |
JP2009129609A (en) | Composite conductive sheet, anisotropic conductive connector, adapter device, and electrical inspection device for circuit device | |
KR101721945B1 (en) | Semiconductor test socket and manufacturing method thereof | |
KR102571582B1 (en) | Testor socket | |
US20170093101A1 (en) | Interface Apparatus for Semiconductor Testing and Method of Manufacturing Same | |
KR102644473B1 (en) | Test apparatus for semiconductor package |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170606 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180109 |