JP2017207372A5 - - Google Patents
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Description
(3)上記(1)又は(2)に記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、前記複数のX線測定光学系部品は、前記試料に対して入射側にあって前記試料の最も近くに配置される第1入射側光学部品と、前記試料に対して散乱側にあって前記試料の最も近くに配置される第1散乱側光学部品と、をさらに含み、前記X線分析の操作ガイドシステムは、前記入射X線の入射光軸方向に垂直な平面において前記第1入射側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第1入射側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第1入射側光学部品形状変形手段と、前記散乱X線の散乱光軸方向に垂直な平面において前記第1散乱側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第1散乱側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第1散乱側光学部品形状変形手段と、をさらに備え、前記X線測定光学系モデリング手段が、前記第1第1入射側光学部品のデフォルメ形状及び前記第1散乱側光学部品のデフォルメ形状を、さらにモデリングしてもよい。
(4)上記(1)に記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、前記複数のX線測定光学系部品それぞれを伝搬するX線の光軸方向に垂直な平面において該X線光学系部品それぞれの形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記複数のX線測定光学系部品のデフォルメ形状を決定する光学部品形状変形手段を、さらに備え、前記入射X線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のX線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記入射X線のデフォルメ形状を決定し、前記散乱X線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のX線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記散乱X線のデフォルメ形状を決定してもよい。
X線発生部23は、X線管(X線管球)を含み、多層膜ミラー24Aに対して、発散するX線を放射する。CBOユニット24は、多層膜ミラー24Aと、多層膜ミラー24Aの後方に配置される選択スリット24Bを含んでいる。選択スリット24Bの配置により、集中法と平行ビーム法の切換えを容易に行うことが可能である。ここでは、平行ビーム法が選択されている。多層膜ミラー24Aは、断面が放物線(二次関数)となる反射面を有する。多層膜ミラー24Aは、放物線の焦点がX線発生部23が放射するX線の微小焦点に含まれるよう、配置される。多層膜ミラー24Aにおいて反射されるX線は、多層膜ミラー24Aの多層膜構造により、所定の波長のX線が選択的に所定の方向に反射されるとともに、反射面の断面が放物線であることにより、平行化されて、入射ソーラースリット25へ入射する。
なお、伝搬X線のデフォルメ形状は、入射X線のデフォルメ形状と、散乱X線のデフォルメ形状と、を含んでいる。複数のX線測定光学系部品の変形形状は、第1第1入射側光学部品のデフォルメ形状と、第1散乱側光学部品のデフォルメ形状と、その他のX線測定光学系部品それぞれの変形形状と、を含んでいる。
図11は、伝搬X線の形状の近似を示す図である。伝搬X線は、発散X線、平行X線、集束X線などを含みうる。ここでは、発散X線の一例として、簡単のために、点X線源XSから放射される発散X線が試料Sを照射する場合を、図11は示している。点X線源XSから試料への発散X線の視野角をφとすれば、X線の外縁とX線の光軸のなす角はφ/2となる。X線の光軸と試料Sのなす角をθとすると、X線が試料Sに照射される長さDは、D=D−+D+で定義される。ここで、D−、D+は、それぞれ(数式1)及び(数式2)で記述される。
Claims (8)
- 試料の情報と、前記試料に対してX線分析を行う複数のX線測定光学系部品それぞれの情報を取得する、測定情報取得手段と、
前記試料を拡大して表示する拡大倍率を取得する、試料拡大倍率取得手段と、
前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、入射X線のデフォルメ形状を決定する、入射X線形状変形手段と、
前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、散乱X線のデフォルメ形状を決定する、散乱X線形状変形手段と、
前記試料の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される前記試料の変形形状、前記入射X線のデフォルメ形状、及び前記散乱X線のデフォルメ形状を、モデリングする、X線測定光学系モデリング手段と、
を備える、X線分析の操作ガイドシステムであって、
前記入射X線のデフォルメ形状は、前記試料へ照射する入射X線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記入射X線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状であり、
前記散乱X線のデフォルメ形状は、前記試料より発生し検出される散乱X線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記散乱X線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状である、
ことを特徴とするX線分析の操作ガイドシステム。 - 請求項1に記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、
前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と前記複数のX線測定光学系部品の情報に基づいて、前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、前記試料へ照射する入射X線の形状及び前記試料より発生し検出される散乱X線の形状を決定する、伝搬X線形状決定手段を、さらに備え、
前記入射X線形状変形手段は、前記入射X線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記伝搬X線形状決定手段により決定される前記入射X線の形状を前記拡大倍率に応じて拡大して、前記入射X線のデフォルメ形状を決定し、
前記散乱X線形状変形手段は、前記散乱X線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記伝搬X線形状決定手段により決定される前記散乱X線の形状を前記拡大倍率に応じて拡大して、前記散乱X線のデフォルメ形状を決定する、
ことを特徴とする、X線分析の操作ガイドシステム。 - 請求項1又は2に記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、
前記複数のX線測定光学系部品は、前記試料に対して入射側にあって前記試料の最も近くに配置される第1入射側光学部品と、前記試料に対して散乱側にあって前記試料の最も近くに配置される第1散乱側光学部品と、をさらに含み、
前記X線分析の操作ガイドシステムは、
前記入射X線の入射光軸方向に垂直な平面において前記第1入射側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第1入射側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第1入射側光学部品形状変形手段と、
前記散乱X線の散乱光軸方向に垂直な平面において前記第1散乱側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第1散乱側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第1散乱側光学部品形状変形手段と、
をさらに備え、
前記X線測定光学系モデリング手段が、前記第1第1入射側光学部品のデフォルメ形状及び前記第1散乱側光学部品のデフォルメ形状を、さらにモデリングする、
ことを特徴とする、X線分析の操作ガイドシステム。 - 請求項1に記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、
前記複数のX線測定光学系部品それぞれを伝搬するX線の光軸方向に垂直な平面において該X線光学系部品それぞれの形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記複数のX線測定光学系部品のデフォルメ形状を決定する光学部品形状変形手段を、さらに備え、
前記入射X線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のX線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記入射X線のデフォルメ形状を決定し、
前記散乱X線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のX線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記散乱X線のデフォルメ形状を決定する、
ことを特徴とする、X線分析の操作ガイドシステム。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、
前記入射X線形状変形手段は、前記入射X線の入射光軸方向において、前記入射X線の形状を維持し、
前記散乱X線形状変形手段は、前記散乱X線の散乱光軸方向において、前記散乱X線の形状を維持する、
ことを特徴とする、X線分析の操作ガイドシステム。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載のX線分析の操作ガイドシステムであって、
前記試料の角度配置の情報を取得する試料角度配置情報取得手段を、さらに備え、
前記入射X線形状変形手段は、該角度配置の情報にさらに基づいて前記入射X線のデフォルメ形状を決定し、
前記散乱X線形状変形手段が、該角度配置の情報にさらに基づいて前記散乱X線のデフォルメ形状を決定する、
ことを特徴とする、X線分析の操作ガイドシステム。 - 試料の情報と、前記試料に対してX線分析を行う複数のX線測定光学系部品それぞれの情報を取得する、測定情報取得ステップと、
前記試料を拡大して表示する拡大倍率を取得する、試料拡大倍率取得ステップと、
前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、入射X線のデフォルメ形状を決定する、入射X線形状変形ステップと、
前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、散乱X線のデフォルメ形状を決定する、散乱X線形状変形ステップと、
前記試料の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される変形形状、前記入射X線のデフォルメ形状、及び前記散乱X線のデフォルメ形状を、モデリングする、X線測定光学系モデリングステップと、
を備える、X線分析の操作ガイド方法であって、
前記入射X線のデフォルメ形状は、前記試料へ照射する入射X線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記入射X線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状であり、
前記散乱X線のデフォルメ形状は、前記試料より発生し検出される散乱X線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記散乱X線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状である、
ことを特徴とするX線分析の操作ガイド方法。 - コンピュータを、
試料の情報と、前記試料に対してX線分析を行う複数のX線測定光学系部品それぞれの情報を取得する、測定情報取得手段、
前記試料を拡大して表示する拡大倍率を取得する、試料拡大倍率取得手段、
前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、入射X線のデフォルメ形状を決定する、入射X線形状変形手段、
前記複数のX線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、散乱X線のデフォルメ形状を決定する、散乱X線形状変形手段、
前記試料の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される変形形状、前記入射X線のデフォルメ形状、及び前記散乱X線のデフォルメ形状を、モデリングする、X線測定光学系モデリング手段、
として機能させるための、X線分析の操作ガイドプログラムであって、
前記入射X線のデフォルメ形状は、前記試料へ照射する入射X線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記入射X線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状であり、
前記散乱X線のデフォルメ形状は、前記試料より発生し検出される散乱X線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記散乱X線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状である、
ことを特徴とするX線分析の操作ガイドプログラム。
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