JP2017207372A5

JP2017207372A5 -

Info

Publication number: JP2017207372A5
Application number: JP2016099916A
Authority: JP
Filing date: 2016-05-18
Publication date: 2018-07-05
Anticipated expiration: 2036-05-18

Description

（３）上記（１）又は（２）に記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、前記複数のＸ線測定光学系部品は、前記試料に対して入射側にあって前記試料の最も近くに配置される第１入射側光学部品と、前記試料に対して散乱側にあって前記試料の最も近くに配置される第１散乱側光学部品と、をさらに含み、前記Ｘ線分析の操作ガイドシステムは、前記入射Ｘ線の入射光軸方向に垂直な平面において前記第１入射側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第１入射側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第１入射側光学部品形状変形手段と、前記散乱Ｘ線の散乱光軸方向に垂直な平面において前記第１散乱側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第１散乱側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第１散乱側光学部品形状変形手段と、をさらに備え、前記Ｘ線測定光学系モデリング手段が、前記第１第１入射側光学部品のデフォルメ形状及び前記第１散乱側光学部品のデフォルメ形状を、さらにモデリングしてもよい。

（４）上記（１）に記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、前記複数のＸ線測定光学系部品それぞれを伝搬するＸ線の光軸方向に垂直な平面において該Ｘ線光学系部品それぞれの形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記複数のＸ線測定光学系部品のデフォルメ形状を決定する光学部品形状変形手段を、さらに備え、前記入射Ｘ線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のＸ線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定し、前記散乱Ｘ線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のＸ線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定してもよい。

Ｘ線発生部２３は、Ｘ線管（Ｘ線管球）を含み、多層膜ミラー２４Ａに対して、発散するＸ線を放射する。ＣＢＯユニット２４は、多層膜ミラー２４Ａと、多層膜ミラー２４Ａの後方に配置される選択スリット２４Ｂを含んでいる。選択スリット２４Ｂの配置により、集中法と平行ビーム法の切換えを容易に行うことが可能である。ここでは、平行ビーム法が選択されている。多層膜ミラー２４Ａは、断面が放物線（二次関数）となる反射面を有する。多層膜ミラー２４Ａは、放物線の焦点がＸ線発生部２３が放射するＸ線の微小焦点に含まれるよう、配置される。多層膜ミラー２４Ａにおいて反射されるＸ線は、多層膜ミラー２４Ａの多層膜構造により、所定の波長のＸ線が選択的に所定の方向に反射されるとともに、反射面の断面が放物線であることにより、平行化されて、入射ソーラースリット２５へ入射する。

なお、伝搬Ｘ線のデフォルメ形状は、入射Ｘ線のデフォルメ形状と、散乱Ｘ線のデフォルメ形状と、を含んでいる。複数のＸ線測定光学系部品の変形形状は、第１第１入射側光学部品のデフォルメ形状と、第１散乱側光学部品のデフォルメ形状と、その他のＸ線測定光学系部品それぞれの変形形状と、を含んでいる。

図１１は、伝搬Ｘ線の形状の近似を示す図である。伝搬Ｘ線は、発散Ｘ線、平行Ｘ線、集束Ｘ線などを含みうる。ここでは、発散Ｘ線の一例として、簡単のために、点Ｘ線源ＸＳから放射される発散Ｘ線が試料Ｓを照射する場合を、図１１は示している。点Ｘ線源ＸＳから試料への発散Ｘ線の視野角をφとすれば、Ｘ線の外縁とＸ線の光軸のなす角はφ／２となる。Ｘ線の光軸と試料Ｓのなす角をθとすると、Ｘ線が試料Ｓに照射される長さＤは、Ｄ＝Ｄ₋＋Ｄ_＋で定義される。ここで、Ｄ₋、Ｄ_＋は、それぞれ（数式１）及び（数式２）で記述される。

Claims

試料の情報と、前記試料に対してＸ線分析を行う複数のＸ線測定光学系部品それぞれの情報を取得する、測定情報取得手段と、
前記試料を拡大して表示する拡大倍率を取得する、試料拡大倍率取得手段と、
前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、入射Ｘ線形状変形手段と、
前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、散乱Ｘ線形状変形手段と、
前記試料の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される前記試料の変形形状、前記入射Ｘ線のデフォルメ形状、及び前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を、モデリングする、Ｘ線測定光学系モデリング手段と、
を備える、Ｘ線分析の操作ガイドシステムであって、
前記入射Ｘ線のデフォルメ形状は、前記試料へ照射する入射Ｘ線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記入射Ｘ線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状であり、
前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状は、前記試料より発生し検出される散乱Ｘ線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記散乱Ｘ線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状である、
ことを特徴とするＸ線分析の操作ガイドシステム。
請求項１に記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、
前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と前記複数のＸ線測定光学系部品の情報に基づいて、前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、前記試料へ照射する入射Ｘ線の形状及び前記試料より発生し検出される散乱Ｘ線の形状を決定する、伝搬Ｘ線形状決定手段を、さらに備え、
前記入射Ｘ線形状変形手段は、前記入射Ｘ線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記伝搬Ｘ線形状決定手段により決定される前記入射Ｘ線の形状を前記拡大倍率に応じて拡大して、前記入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定し、
前記散乱Ｘ線形状変形手段は、前記散乱Ｘ線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記伝搬Ｘ線形状決定手段により決定される前記散乱Ｘ線の形状を前記拡大倍率に応じて拡大して、前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、
ことを特徴とする、Ｘ線分析の操作ガイドシステム。
請求項１又は２に記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、
前記複数のＸ線測定光学系部品は、前記試料に対して入射側にあって前記試料の最も近くに配置される第１入射側光学部品と、前記試料に対して散乱側にあって前記試料の最も近くに配置される第１散乱側光学部品と、をさらに含み、
前記Ｘ線分析の操作ガイドシステムは、
前記入射Ｘ線の入射光軸方向に垂直な平面において前記第１入射側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第１入射側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第１入射側光学部品形状変形手段と、
前記散乱Ｘ線の散乱光軸方向に垂直な平面において前記第１散乱側光学部品の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記第１散乱側光学部品のデフォルメ形状を決定する、第１散乱側光学部品形状変形手段と、
をさらに備え、
前記Ｘ線測定光学系モデリング手段が、前記第１第１入射側光学部品のデフォルメ形状及び前記第１散乱側光学部品のデフォルメ形状を、さらにモデリングする、
ことを特徴とする、Ｘ線分析の操作ガイドシステム。
請求項１に記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、
前記複数のＸ線測定光学系部品それぞれを伝搬するＸ線の光軸方向に垂直な平面において該Ｘ線光学系部品それぞれの形状が前記拡大倍率に応じて拡大される、前記複数のＸ線測定光学系部品のデフォルメ形状を決定する光学部品形状変形手段を、さらに備え、
前記入射Ｘ線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のＸ線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定し、
前記散乱Ｘ線形状変形手段は、前記測定情報取得手段が取得する前記試料の情報と、前記光学部品形状変形手段が決定する前記複数のＸ線測定光学系部品のデフォルメ形状に基づいて、前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、
ことを特徴とする、Ｘ線分析の操作ガイドシステム。
請求項１乃至４のいずれかに記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、
前記入射Ｘ線形状変形手段は、前記入射Ｘ線の入射光軸方向において、前記入射Ｘ線の形状を維持し、
前記散乱Ｘ線形状変形手段は、前記散乱Ｘ線の散乱光軸方向において、前記散乱Ｘ線の形状を維持する、
ことを特徴とする、Ｘ線分析の操作ガイドシステム。
請求項１乃至５のいずれかに記載のＸ線分析の操作ガイドシステムであって、
前記試料の角度配置の情報を取得する試料角度配置情報取得手段を、さらに備え、
前記入射Ｘ線形状変形手段は、該角度配置の情報にさらに基づいて前記入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定し、
前記散乱Ｘ線形状変形手段が、該角度配置の情報にさらに基づいて前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、
ことを特徴とする、Ｘ線分析の操作ガイドシステム。
試料の情報と、前記試料に対してＸ線分析を行う複数のＸ線測定光学系部品それぞれの情報を取得する、測定情報取得ステップと、
前記試料を拡大して表示する拡大倍率を取得する、試料拡大倍率取得ステップと、
前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、入射Ｘ線形状変形ステップと、
前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、散乱Ｘ線形状変形ステップと、
前記試料の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される変形形状、前記入射Ｘ線のデフォルメ形状、及び前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を、モデリングする、Ｘ線測定光学系モデリングステップと、
を備える、Ｘ線分析の操作ガイド方法であって、
前記入射Ｘ線のデフォルメ形状は、前記試料へ照射する入射Ｘ線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記入射Ｘ線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状であり、
前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状は、前記試料より発生し検出される散乱Ｘ線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記散乱Ｘ線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状である、
ことを特徴とするＸ線分析の操作ガイド方法。
コンピュータを、
試料の情報と、前記試料に対してＸ線分析を行う複数のＸ線測定光学系部品それぞれの情報を取得する、測定情報取得手段、
前記試料を拡大して表示する拡大倍率を取得する、試料拡大倍率取得手段、
前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、入射Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、入射Ｘ線形状変形手段、
前記複数のＸ線測定光学系部品を用いて前記試料に対して測定を行う場合における、散乱Ｘ線のデフォルメ形状を決定する、散乱Ｘ線形状変形手段、
前記試料の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される変形形状、前記入射Ｘ線のデフォルメ形状、及び前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状を、モデリングする、Ｘ線測定光学系モデリング手段、
として機能させるための、Ｘ線分析の操作ガイドプログラムであって、
前記入射Ｘ線のデフォルメ形状は、前記試料へ照射する入射Ｘ線の入射光軸方向に垂直な平面において、前記入射Ｘ線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状であり、
前記散乱Ｘ線のデフォルメ形状は、前記試料より発生し検出される散乱Ｘ線の散乱光軸方向に垂直な平面において、前記散乱Ｘ線の形状が前記拡大倍率に応じて拡大される形状である、
ことを特徴とするＸ線分析の操作ガイドプログラム。