JP2017187561A - 反射型スクリーン - Google Patents
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Abstract
【課題】観察者に対する輝度が充分に高い投影画像を提供できる、表面微細凹凸シートを用いた反射型スクリーンを提供する。【解決手段】少なくとも（１）反射層３０、（２）フレネルレンズ形状層２０、及び（３）表面微細凹凸シート１０Ａ、を順に有する反射型スクリーン１００であって、反射型スクリーン１００の表面に、不規則な波状凹凸パターン１０ＡＡが形成されている。【選択図】図１
Description
本発明は、フロントプロジェクターに好適に用いる反射型スクリーンに関する。
プロジェクターは、展示会や会議室のプレゼンテーションに使用されたり、また、一般家庭用に液晶を用いたビデオプロジェクターなどが普及しつつある。プロジェクターにはリアプロジェクターとフロントプロジェクターとがあり、特にフロントプロジェクタースクリーンの裏側にプロジェクターを配置する必要がないことから、会議室や一般家庭の限られた空間を有効に利用できるという利点がある。さらに近年、注目されているプロジェクションマッピングもフロントプロジェクタータイプが主に使用される。
フロントプロジェクターからの投射光を反射して投影画像を映し出す反射型スクリーンとして、特許文献１には、画像投影における基準面に平行な方向のうち所定の異方性拡散方向について他の方向よりも大きい拡散特性を示す拡散構造と、前記拡散構造に対して裏側の外形形状を形成し前記基準面に対して傾いた複数の傾斜面を含む凹凸形状部と、を有する本体部分と、前記凹凸形状部の表面上に前記複数の傾斜面の分布に応じて部分的に形成され、前記拡散構造の表側から入射して前記本体部分を経た入射光を反射する複数の光反射面を有する光反射部とを備えるものが記載されている（特許文献１参照。）。
フロントプロジェクターからの投射光を反射して投影画像を映し出す反射型スクリーンとして、特許文献１には、画像投影における基準面に平行な方向のうち所定の異方性拡散方向について他の方向よりも大きい拡散特性を示す拡散構造と、前記拡散構造に対して裏側の外形形状を形成し前記基準面に対して傾いた複数の傾斜面を含む凹凸形状部と、を有する本体部分と、前記凹凸形状部の表面上に前記複数の傾斜面の分布に応じて部分的に形成され、前記拡散構造の表側から入射して前記本体部分を経た入射光を反射する複数の光反射面を有する光反射部とを備えるものが記載されている（特許文献１参照。）。
特許文献1に記載の凹凸形状部と光反射部の作用は、プロジェクターからの投射光をひ、「基準面の法線方向」あるいは「基準面の法線方向から鉛直方向に対してある角度傾いた方向に位置する観察者に対する法線方向」に投影することであるが、特許文献１に記載のスクリーンでは、前記プロジェクターからの投射光の一部が前記異方性拡散構造に入射し、前記光反射部に到達する前に前記異方性拡散構造で反射してしまうため、前記凹凸形状部と光反射部とで所望の方向に投影させることのできる光の量が減少し、観察者に対する輝度が低下するという課題に本発明者等は気づいた。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、観察者に対する輝度が充分に高い投影画像を提供できる、表面微細凹凸シートを用いた反射型スクリーンの提供を目的とする。
本発明は以下の構成を有する。
［１］ 少なくとも（１）反射層、（２）フレネルレンズ形状層、及び（３）表面微細凹凸シート、を順に有する反射型スクリーンであって、
前記反射型スクリーンの表面に、不規則な波状凹凸パターンが形成されている
反射型スクリーン。
［２］ 前記表面微細凹凸シートが、基材及び波状凹凸パターン層から構成されており、
前記波状凹凸パターン層の一方の表面に、前記不規則な波状凹凸パターンが形成されている、［１］に記載の反射型スクリーン。
［３］ フロントプロジェクター用である、［１］又は［２］に記載の反射型スクリーン。
［４］ ［１］〜［３］のいずれかに記載の反射型スクリーンの使用方法であって、
前記反射型スクリーンの前記波状凹凸パターンとフロントプロジェクターとが対向するように前記反射型スクリーンを配置し、
前記表面微細凹凸シートの主拡散方向が水平方向と略一致するように、前記反射型スクリーンを配置する、
反射型スクリーンの使用方法。
［１］ 少なくとも（１）反射層、（２）フレネルレンズ形状層、及び（３）表面微細凹凸シート、を順に有する反射型スクリーンであって、
前記反射型スクリーンの表面に、不規則な波状凹凸パターンが形成されている
反射型スクリーン。
［２］ 前記表面微細凹凸シートが、基材及び波状凹凸パターン層から構成されており、
前記波状凹凸パターン層の一方の表面に、前記不規則な波状凹凸パターンが形成されている、［１］に記載の反射型スクリーン。
［３］ フロントプロジェクター用である、［１］又は［２］に記載の反射型スクリーン。
［４］ ［１］〜［３］のいずれかに記載の反射型スクリーンの使用方法であって、
前記反射型スクリーンの前記波状凹凸パターンとフロントプロジェクターとが対向するように前記反射型スクリーンを配置し、
前記表面微細凹凸シートの主拡散方向が水平方向と略一致するように、前記反射型スクリーンを配置する、
反射型スクリーンの使用方法。
本発明によれば、フロントプロジェクターと組み合わせて使用した場合に、観察者に対する輝度が高い表面微細凹凸シートを用いた反射型スクリーンを提供できる。
本発明の反射型スクリーンは、少なくとも（１）反射層、（２）フレネルレンズ形状層、及び（３）表面微細凹凸シート、を順に有する反射型スクリーンであって、前記反射型スクリーンの表面に、不規則な波状凹凸パターンが形成されている反射型スクリーンに関する。当該反射型スクリーンは、「一方の表面に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シートと前記表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを有する面と反対側の表面にフレネルレンズ形状、反射層がこの順に形成されている反射型スクリーン」、ともいえる。ここで、フレネルレンズ形状層をフレネルレンズ形状（２０）ともいう。当該反射型スクリーンは、主にフロントプロジェクター用として使用することが可能であり、前記反射型スクリーンをフロントプロジェクターと合わせて使用する場合、前記表面微細凹凸シートの不規則な波状凹凸パターンが前記フロントプロジェクターに対向して配置され、前記表面微細凹凸シートの主拡散方向が水平方向と略一致するように使用することが好ましい。
上述のように、本発明の反射型スクリーンは、少なくとも反射層、フレネルレンズ形状層、及び表面微細凹凸シートの３つを順に有する。
「不規則な波状凹凸パターン」とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な少なくとも一つの面に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な微細な波状の凹凸形状であるパターンのことをいう。
たとえば、下記の〔１〕、〔２〕のパターンが挙げられる。
上述のように、本発明の反射型スクリーンは、少なくとも反射層、フレネルレンズ形状層、及び表面微細凹凸シートの３つを順に有する。
「不規則な波状凹凸パターン」とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な少なくとも一つの面に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な微細な波状の凹凸形状であるパターンのことをいう。
たとえば、下記の〔１〕、〔２〕のパターンが挙げられる。
〔１〕波状凹凸パターン形成面に沿って筋状に延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とが、波状凹凸パターン形成面に沿う一方向に交互に繰り返されるパターンを少なくとも有し、以下の（ａ）および（ｂ）の特徴を有するパターン（以下、「波状凹凸パターン（１）」ともいう。）。
なお、波状凹凸パターン（１）では、少なくとも、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部と凹条部とが交互に繰り返される上記一方向（以下、「凸条部の配列方向」ともいう。）に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
なお、波状凹凸パターン（１）では、少なくとも、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部と凹条部とが交互に繰り返される上記一方向（以下、「凸条部の配列方向」ともいう。）に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
（ａ）各凸条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部の稜線が蛇行し、隣接する凸条部の稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ）各凹条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部の谷線が蛇行し、隣接する凹条部の谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
（ｂ）各凹条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部の谷線が蛇行し、隣接する凹条部の谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
波状凹凸パターン（１）では、上記切断面における各凸条部の縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
以上のような波状凹凸パターン（１）の不規則性により、該波状凹凸パターン（１）は、後述する主拡散方向だけでなく、該主拡散方向に対して直交する低拡散方向にも、適度に光を拡散させる。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン（１）は、１軸延伸フィルム（１軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン（１）は、１軸延伸フィルム（１軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
〔２〕波状凹凸パターン形成面上に、特定の方向に沿わない微細な凹凸が形成されたパターン（以下、「波状凹凸パターン（２）ともいう。」）。
波状凹凸パターン（２）では、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
波状凹凸パターン（２）では、上記切断面における各凸部の縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
波状凹凸パターン（２）では、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
波状凹凸パターン（２）では、上記切断面における各凸部の縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
以上のような波状凹凸パターン（２）の不規則性により、該波状凹凸パターン（２）は、主拡散方向および低拡散方向に光を拡散させる。また、凹凸が上述のように特定の方向に沿わないため、主拡散方向と低拡散方向の拡散角度の差は小さい。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン（２）は、２軸延伸フィルム（２軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン（２）は、２軸延伸フィルム（２軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
「波状凹凸パターンの主拡散方向」とは、以下の方法で決定される方向である。
（１）拡散角度測定用として、一方の面が波状凹凸パターン形成面であり、他方の面が平滑な面（平滑面）であるサンプルシートを用意する。
（２）ゴニオメータ（たとえば、型式：ＧＥＮＥＳＩＡ Ｇｏｎｉｏ／ＦＦＰ、ジェネシア社製）を用いて、上記サンプルシートの平滑面側から測定光を入射させ、波状凹凸パターン形成面からの透過散乱光を測定し、照度曲線を得る。
具体的には、サンプルシートから垂直に出射する光（出光角度＝０°）の照度を１とした際の相対照度を、波状凹凸パターン形成面上のある方向（α方向）において、出光角度−９０°から９０°まで１°間隔で測定する。これによりα方向における照度曲線が得られる。
このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、α方向から１°ずらした方向（β方向）において行う。
ついで、このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、β方向から１°ずらした方向（γ方向）において行う。
このように相対照度を測定する方向を波状凹凸パターン形成面内で１°ずつずらし、１°毎の照度曲線を得る。これにより、合計１８０種の照度曲線が得られる。
（３）１８０種の各照度曲線のそれぞれにおいて、相対照度が０．５以上となる角度範囲を求める。その範囲が拡散角度である。たとえば、α方向について得られた照度曲線において、相対照度が０．５以上となる角度範囲が−１３°〜＋１７°である場合には、α方向における拡散角度は、１３°＋１７°＝３０°となる。
（４）１８０種の各方向について、上記のようにして拡散角度を求め、１８０種の拡散角度のうち、最も大きな拡散角度が得られた方向が、主拡散方向である。
（５）低拡散方向は、「主拡散方向に直交する方向」と定義する。
主拡散方向および低拡散方向は、いずれも、波状凹凸パターン形成面上の方向である。
（１）拡散角度測定用として、一方の面が波状凹凸パターン形成面であり、他方の面が平滑な面（平滑面）であるサンプルシートを用意する。
（２）ゴニオメータ（たとえば、型式：ＧＥＮＥＳＩＡ Ｇｏｎｉｏ／ＦＦＰ、ジェネシア社製）を用いて、上記サンプルシートの平滑面側から測定光を入射させ、波状凹凸パターン形成面からの透過散乱光を測定し、照度曲線を得る。
具体的には、サンプルシートから垂直に出射する光（出光角度＝０°）の照度を１とした際の相対照度を、波状凹凸パターン形成面上のある方向（α方向）において、出光角度−９０°から９０°まで１°間隔で測定する。これによりα方向における照度曲線が得られる。
このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、α方向から１°ずらした方向（β方向）において行う。
ついで、このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、β方向から１°ずらした方向（γ方向）において行う。
このように相対照度を測定する方向を波状凹凸パターン形成面内で１°ずつずらし、１°毎の照度曲線を得る。これにより、合計１８０種の照度曲線が得られる。
（３）１８０種の各照度曲線のそれぞれにおいて、相対照度が０．５以上となる角度範囲を求める。その範囲が拡散角度である。たとえば、α方向について得られた照度曲線において、相対照度が０．５以上となる角度範囲が−１３°〜＋１７°である場合には、α方向における拡散角度は、１３°＋１７°＝３０°となる。
（４）１８０種の各方向について、上記のようにして拡散角度を求め、１８０種の拡散角度のうち、最も大きな拡散角度が得られた方向が、主拡散方向である。
（５）低拡散方向は、「主拡散方向に直交する方向」と定義する。
主拡散方向および低拡散方向は、いずれも、波状凹凸パターン形成面上の方向である。
なお、本明細書において、平滑とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の方法により測定される中心線平均粗さが０．１μｍ以下であることをいう。
本明細書において、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向とは、それぞれ表面微細凹凸シートの低拡散方向、主拡散方向、法線方向を示す。また、反射型スクリーンの基準面とは、Ｘ軸方向および
Ｙ軸方向をともに含む面とする。さらに、本明細書の反射型スクリーンの設置、使用において、Ｘ軸方向は鉛直方向とほぼ一致する。
Ｙ軸方向をともに含む面とする。さらに、本明細書の反射型スクリーンの設置、使用において、Ｘ軸方向は鉛直方向とほぼ一致する。
＜第１〜第５実施形態例＞
〔第１実施形態例〕
図１は、本実施形態例の反射型スクリーンを模式的に示す図である。本実施形態における反射スクリーン１００は、Ｘ、Ｙ軸方向のいずれにも平行な基準面に、プロジェクターからの投射光が投影される側から、表面微細凹凸シート１０Ａ、前記表面微細凹凸シートの投射光が投影される側と反対側の面に前記表面微細凹凸シート１０Ａと一体化したフレネルレンズ形状２０、および、前記フレネルレンズ形状２０の表面に形成された金属製の反射層３０、がこの順に積層されたものである。
また、図１に示すように、表面微細凹凸シート１０Ａはプロジェクターからの投射光が投影される側に波状凹凸パターン層１０ＡＡを有し、前記波状凹凸パターン層１０ＡＡの波状凹凸パターンが形成されていない側に透明な樹脂製の基材１０ＡＢを有する。
また、フレネルレンズ形状２０は前記表面微細凹凸シート１０Ａの基材１０ＡＢの波状凹凸パターン層１０ＡＡと反対側の面に一体化し、前記フレネルレンズ形状２０がプロジェクターからの投射光が投影される側と反対側に形成されている。
〔第１実施形態例〕
図１は、本実施形態例の反射型スクリーンを模式的に示す図である。本実施形態における反射スクリーン１００は、Ｘ、Ｙ軸方向のいずれにも平行な基準面に、プロジェクターからの投射光が投影される側から、表面微細凹凸シート１０Ａ、前記表面微細凹凸シートの投射光が投影される側と反対側の面に前記表面微細凹凸シート１０Ａと一体化したフレネルレンズ形状２０、および、前記フレネルレンズ形状２０の表面に形成された金属製の反射層３０、がこの順に積層されたものである。
また、図１に示すように、表面微細凹凸シート１０Ａはプロジェクターからの投射光が投影される側に波状凹凸パターン層１０ＡＡを有し、前記波状凹凸パターン層１０ＡＡの波状凹凸パターンが形成されていない側に透明な樹脂製の基材１０ＡＢを有する。
また、フレネルレンズ形状２０は前記表面微細凹凸シート１０Ａの基材１０ＡＢの波状凹凸パターン層１０ＡＡと反対側の面に一体化し、前記フレネルレンズ形状２０がプロジェクターからの投射光が投影される側と反対側に形成されている。
［表面微細凹凸シート］
図２は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す斜視図である。
第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、波状凹凸パターン形成面１１に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。
図３は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像であり、図４は、波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である。
図５は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ａ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
図５に示すように、凸条部１１ａの上記縦断面形状は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降している。また、各凸条部１１ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、隣り合う凸条部１１ａ間の各凹条部において、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
図２は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す斜視図である。
第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、波状凹凸パターン形成面１１に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。
図３は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像であり、図４は、波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である。
図５は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ａ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
図５に示すように、凸条部１１ａの上記縦断面形状は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降している。また、各凸条部１１ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、隣り合う凸条部１１ａ間の各凹条部において、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチは、１〜５０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、８〜２０μｍであることがより好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限値以上であると、表面微細凹凸シート１０Ａを容易に製造できる。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シート１０Ａを照明装置に使用した場合に、波状凹凸パターン（１Ａ）が好ましくない輝線として視認されにくい。また、平均ピッチが上記範囲内であると、主拡散方向に充分な拡散角度を示す。
なお、平均ピッチは、図３のような、凸条部１１ａが２０本以上含まれる波状凹凸パターン形成面１１の平面画像を得て、隣り合う凸条部１１ａの２０本分について、凸条部１１ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求めることができる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面１１の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等に記載されており、これを参照できる。なお、該公報の段落［００２４］にも記載のとおり、当該方法で求められる最頻ピッチと、上記平均ピッチは、同等に扱うことができる。以下、各実施形態例においても同様である。
なお、平均ピッチは、図３のような、凸条部１１ａが２０本以上含まれる波状凹凸パターン形成面１１の平面画像を得て、隣り合う凸条部１１ａの２０本分について、凸条部１１ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求めることができる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面１１の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等に記載されており、これを参照できる。なお、該公報の段落［００２４］にも記載のとおり、当該方法で求められる最頻ピッチと、上記平均ピッチは、同等に扱うことができる。以下、各実施形態例においても同様である。
波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）は、０．０５〜３．０であることが好ましく、０．１〜２．０であることがより好ましく、０．３〜１．０であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン（１Ａ）により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られる。アスペクト比が上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。
凸条部１１ａの平均高さは次のように求める。
たとえばミクロトームを用いて、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断した切断面を有する薄片サンプルを得て、該薄片サンプルの切断面の光学顕微鏡画像を得る。そして、該光学顕微鏡画像の切断面から、ランダムに５０個の凸条部を選択し、これら各凸条部の高さＨを求める。
具体的には、図５に示すように、１つの凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの一方側に位置する凹条部の底部Ｂ１との垂直距離をＬｉとし、該凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの他方側に位置する凹条部の底部Ｂ２との垂直距離をＲｉとした場合に、Ｈ＝（Ｌｉ＋Ｒｉ）／２で求められるのが、その凸条部１１ａの高さである。
このようにして求めた５０個の凸条部の高さの平均値が「凸条部の平均高さ」である。
たとえばミクロトームを用いて、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断した切断面を有する薄片サンプルを得て、該薄片サンプルの切断面の光学顕微鏡画像を得る。そして、該光学顕微鏡画像の切断面から、ランダムに５０個の凸条部を選択し、これら各凸条部の高さＨを求める。
具体的には、図５に示すように、１つの凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの一方側に位置する凹条部の底部Ｂ１との垂直距離をＬｉとし、該凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの他方側に位置する凹条部の底部Ｂ２との垂直距離をＲｉとした場合に、Ｈ＝（Ｌｉ＋Ｒｉ）／２で求められるのが、その凸条部１１ａの高さである。
このようにして求めた５０個の凸条部の高さの平均値が「凸条部の平均高さ」である。
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａにおいて、波状凹凸パターン（１Ａ）の主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの配列方向に平行な方向（図２中のＡ方向）である。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して直交する方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、凸条部の平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
以上の主拡散方向の拡散角度の好ましい範囲は、後に説明する各実施形態例２〜５までも上記実施形態１と同様である。その理由は、以下のようである。
主拡散方向の拡散角度が１０°以上であれば、後述するように、反射型ディスプレイの拡散シートして 使用する場合、光が斜めから入射しても、正反射方向以外の方向にも光が拡散反射するため 正面輝度が高くなる。この正面輝度が高くなる点で主拡散方向の拡散角度が１５°以上がより好ましい。なお、主拡散方向の拡散角度が５０°を越えるような表面微細凹凸シートは、表面の波状凹凸パターンの作製が困難になる場合がある点で好ましくない。
以上の低拡散方向の拡散角度の好ましい範囲は、後に説明する各実施形態例２〜５までも上記実施形態１と同様である。その理由は、以下のようである。
低拡散方向の拡散角度が１０°以下であれば、後述するように不要な方向への光の拡散反射が軽減されるため、正面輝度の低下が軽減される。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して直交する方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、凸条部の平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
以上の主拡散方向の拡散角度の好ましい範囲は、後に説明する各実施形態例２〜５までも上記実施形態１と同様である。その理由は、以下のようである。
主拡散方向の拡散角度が１０°以上であれば、後述するように、反射型ディスプレイの拡散シートして 使用する場合、光が斜めから入射しても、正反射方向以外の方向にも光が拡散反射するため 正面輝度が高くなる。この正面輝度が高くなる点で主拡散方向の拡散角度が１５°以上がより好ましい。なお、主拡散方向の拡散角度が５０°を越えるような表面微細凹凸シートは、表面の波状凹凸パターンの作製が困難になる場合がある点で好ましくない。
以上の低拡散方向の拡散角度の好ましい範囲は、後に説明する各実施形態例２〜５までも上記実施形態１と同様である。その理由は、以下のようである。
低拡散方向の拡散角度が１０°以下であれば、後述するように不要な方向への光の拡散反射が軽減されるため、正面輝度の低下が軽減される。
表面微細凹凸シート１０Ａの厚みは、接触式膜厚計で測定した厚みとして、２０〜５０００μｍの範囲が好ましく、５０〜３０００μｍがより好ましい。
表面微細凹凸シート１０Ａの材質については、後述する。
表面微細凹凸シート１０Ａの材質については、後述する。
［表面微細凹凸シートの製造方法］
本実施形態例の１層構造の表面微細凹凸シート１０Ａは、たとえば、以下の製造方法（Ａ）により製造できる。また、多層構造の表面微細凹凸シートは、たとえば、以下の製造方法（Ｂ）により製造できる。また、製造方法（Ａ）の一部と製造方法（Ｂ）の一部とを組み合わせた方法によっても製造できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）の形成には、特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等を参照できる。
本実施形態例の１層構造の表面微細凹凸シート１０Ａは、たとえば、以下の製造方法（Ａ）により製造できる。また、多層構造の表面微細凹凸シートは、たとえば、以下の製造方法（Ｂ）により製造できる。また、製造方法（Ａ）の一部と製造方法（Ｂ）の一部とを組み合わせた方法によっても製造できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）の形成には、特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等を参照できる。
（製造方法）
製造方法は、以下の工程（ａ１）および工程（ａ２）を有する。
工程（ａ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ａ１）。
工程（ａ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状を電離放射線硬化性樹脂を用いたナノインプリント法を用いてシートに転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ａ２）。
製造方法は、以下の工程（ａ１）および工程（ａ２）を有する。
工程（ａ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ａ１）。
工程（ａ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状を電離放射線硬化性樹脂を用いたナノインプリント法を用いてシートに転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ａ２）。
工程（ａ１）：
工程（ａ１）としては、たとえば、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で少なくとも１種の樹脂から構成される硬質層を少なくとも１層積層させて、積層フィルムを得る工程（ａ１−１）と、積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る工程（ａ１−２）と、該凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面にニッケル等の金属を堆積させた後に剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る工程（ａ１−３）とを有する工程等が挙げられる。
なお、硬質層は、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。軟化しないとは、硬質層のヤング率が１００ＭＰａ以上であることを意味する。
工程（ａ１）としては、たとえば、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で少なくとも１種の樹脂から構成される硬質層を少なくとも１層積層させて、積層フィルムを得る工程（ａ１−１）と、積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る工程（ａ１−２）と、該凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面にニッケル等の金属を堆積させた後に剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る工程（ａ１−３）とを有する工程等が挙げられる。
なお、硬質層は、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。軟化しないとは、硬質層のヤング率が１００ＭＰａ以上であることを意味する。
工程（ａ１−１）：
加熱収縮性樹脂フィルムとは、８０〜１８０℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮（シュリンク）するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。また、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂から構成されるフィルムも挙げられる。
耐熱性の点では、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルムが好ましい。
本実施形態例では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、１軸延伸フィルムを用いる。１軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。
加熱収縮性樹脂フィルムとは、８０〜１８０℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮（シュリンク）するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。また、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂から構成されるフィルムも挙げられる。
耐熱性の点では、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルムが好ましい。
本実施形態例では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、１軸延伸フィルムを用いる。１軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。
加熱収縮性樹脂フィルムは、延伸倍率１．１〜１５倍で延伸されていることが好ましく、１．３〜１０倍で延伸されていることがより好ましい。
また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が２０〜９０％のフィルムが好ましく、３０〜８０％のフィルムがより好ましい。収縮率が前記下限値以上であれば、凹凸パターン形成シートをより容易に製造できる。収縮率が上限値を超える加熱収縮性樹脂フィルムは製造が困難である。
また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が２０〜９０％のフィルムが好ましく、３０〜８０％のフィルムがより好ましい。収縮率が前記下限値以上であれば、凹凸パターン形成シートをより容易に製造できる。収縮率が上限値を超える加熱収縮性樹脂フィルムは製造が困難である。
本明細書において、収縮率とは、下記で定義される。
（収縮率［％］）＝｛（収縮前の長さ）−（収縮後の長さ）｝×１００／（収縮前の長さ）（ただし、長さは加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さである。）
（収縮率［％］）＝｛（収縮前の長さ）−（収縮後の長さ）｝×１００／（収縮前の長さ）（ただし、長さは加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さである。）
加熱収縮性樹脂フィルムは、硬質層を容易に形成できることから、表面が平滑であることが好ましい。
加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂（以下、「樹脂Ｌ」ともいう。）のガラス転移温度Ｔｇ１は、−４０〜２００℃であることが好ましく、６０〜１５０℃であることがより好ましい。ガラス転移温度は示差熱分析等により測定できる。ガラス転移温度Ｔｇ１が上記範囲内であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。すなわち、Ｔｇ１が上記範囲内であれば、樹脂Ｌから構成される加熱収縮性樹脂フィルムを８０〜１８０℃の温度で加熱収縮させることができるため、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
加熱収縮性樹脂フィルムの厚みは３０〜５００μｍであることが好ましい。上記範囲内であれば、破れにくく薄型化もできる。なお、厚みは、得られた凹凸パターン形成シートをシート面に対して垂直に切った断面（縦断面）の顕微鏡写真から、１０カ所以上無作為に抽出して、加熱収縮性樹脂フィルムの厚さを測定した際の、得られた各数値の平均値である。
樹脂Ｌのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度、すなわち、８０〜１８０℃の温度範囲において、０．０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＭＰａであることがより好ましい。樹脂Ｌのヤング率が前記下限値以上であれば、実用上使用可能な硬さであり、前記上限値以下であれば、硬質層が変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。
上述のようなＴｇ１およびヤング率を有する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂およびポリ塩化ビニル系樹脂等が挙げられ、これらの１種以上を好適に使用できる。
硬質層を構成する樹脂（以下、「樹脂Ｍ」ともいう。）としては、たとえば、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体などの１種以上を使用できる。
樹脂Ｍは、凹凸パターン形成シートを容易に形成できる点では、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２Ｍ−Ｔｇ１）が１０℃以上であることが好ましく、１５℃以上であることがより好ましく、２０℃以上であることが特に好ましい。
樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍは、４０〜４００℃の範囲内にあることが好ましく、８０〜２５０℃の範囲内にあることがより好ましい。Ｔｇ２Ｍが前記範囲内であれば、凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
樹脂Ｍのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度（８０〜１８０℃）において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍのヤング率が上記下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、上限値以下であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
樹脂Ｍのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度（８０〜１８０℃）において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍのヤング率が上記下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、上限値以下であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
硬質層の厚さは、０．０５μｍを超え１０．０μｍ以下とすることが好ましく、０．５〜３．０μｍとすることがより好ましい。硬質層の厚さを上記範囲にすることにより、光拡散性の点で、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが適切な範囲となる。
硬質層の厚さは連続的に変化していても構わない。硬質層の厚さが連続的に変化している場合には、工程（ａ１−２）後に形成される波状凹凸パターン（１Ａ）のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。
硬質層を設け、積層フィルムを得る方法としては、樹脂Ｍを含む硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに連続的に塗工し、乾燥する方法が挙げられる。
硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等の１種以上の溶媒で、樹脂Ｍを希釈する方法等が挙げられる。硬質層形成用塗料の固形分濃度（樹脂Ｍの濃度：硬質層形成用塗料の質量（１００質量％）に対して、該塗料中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率）は、塗料の総質量に対して１〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。
硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等の１種以上の溶媒で、樹脂Ｍを希釈する方法等が挙げられる。硬質層形成用塗料の固形分濃度（樹脂Ｍの濃度：硬質層形成用塗料の質量（１００質量％）に対して、該塗料中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率）は、塗料の総質量に対して１〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。
塗料の塗工方法としては、たとえば、エアナイフコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、メイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、カーテンコーティング、ダイスロットコーティング、ゲートロールコーティング、サイズプレスコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。
乾燥方法としては、熱風、赤外線等を用いた加熱乾燥法が挙げられる。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、１〜１０ｇ／ｍ２にすることが好ましい。上記範囲内であれば、硬質層の厚みを上記好ましい範囲にとすることができ、硬質層に、波状凹凸パターン（１Ａ）を形成しやすい。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、１〜１０ｇ／ｍ２にすることが好ましい。上記範囲内であれば、硬質層の厚みを上記好ましい範囲にとすることができ、硬質層に、波状凹凸パターン（１Ａ）を形成しやすい。
工程（ａ１−２）：
工程（ａ１−２）では、工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。
工程（ａ１−２）では、３０％以上の収縮率で収縮させることが好ましい。収縮率を３０％以上にすると、収縮不足の部分（たとえば凹凸が充分に形成されない部分、アスペクト比が充分には大きくない部分等。）を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくし過ぎると、得られる凹凸パターン形成シートの面積が小さくなり、歩留まりが低下するため、収縮率の上限は８０％が好ましい。
工程（ａ１−２）では、工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。
工程（ａ１−２）では、３０％以上の収縮率で収縮させることが好ましい。収縮率を３０％以上にすると、収縮不足の部分（たとえば凹凸が充分に形成されない部分、アスペクト比が充分には大きくない部分等。）を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくし過ぎると、得られる凹凸パターン形成シートの面積が小さくなり、歩留まりが低下するため、収縮率の上限は８０％が好ましい。
積層フィルムを加熱する方法としては、熱風、蒸気、熱水または遠赤外線中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱風または遠赤外線に通す方法が好ましい。
加熱収縮性樹脂フィルムを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性樹脂フィルムの種類、目的とする凹凸パターン形成シートの凸条部の平均ピッチやアスペクト比に応じて適宜設定することが好ましい。
具体的には、該加熱温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１以上の温度にすることが好ましい。Ｔｇ１以上の温度で熱収縮させると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。
また、該加熱温度は、（樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ＋１５℃）未満であることが好ましい。
具体的には、該加熱温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１以上の温度にすることが好ましい。Ｔｇ１以上の温度で熱収縮させると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。
また、該加熱温度は、（樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ＋１５℃）未満であることが好ましい。
工程（ａ１−２）の好適な一例としては、上述の工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを好ましくは８０〜１８０℃、より好ましくは１２０〜１７０℃の熱風の中を通過させることにより、加熱収縮性フィルムと硬質層とを変形させて、凹凸パターン形成シートを得る工程であることが好ましい。
積層フィルムを加熱する時間は、１〜３分間が好ましく、１〜２分間がより好ましい。熱風の風速は、１〜１０ｍ／ｓが好ましく、２〜５ｍ／ｓがより好ましい。
積層フィルムを加熱する時間は、１〜３分間が好ましく、１〜２分間がより好ましい。熱風の風速は、１〜１０ｍ／ｓが好ましく、２〜５ｍ／ｓがより好ましい。
工程（ａ１−３）
工程（ａ１−３）は、上述の工程（ａ１−２）で得られた凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が転写された金属製の原版（Ｗ）を得る工程である。
工程（ａ１−３）は、上述の工程（ａ１−２）で得られた凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が転写された金属製の原版（Ｗ）を得る工程である。
なお、耐熱性等の観点からは、原版（Ｗ）の材質はニッケル等の金属が好適であるが、樹脂等であってもよい。また、原版（Ｗ）は、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を有しているものであればよく、上記のような転写を２回以上繰り返して得たもの等であってもよい。
原版（Ｗ）が樹脂製である場合は、以下に示す工程にて製造する。上述の工程ａ１−１およびａ１−２と同様の工程により凹凸パターン形成シートを得る。ついで、該凹凸パターン形成シートにおける波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された面に、離型剤を含む未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を例えば３〜３０μｍの厚さに収まるように、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターで塗布し、その上に、ＰＥＴ等の基材を配置する。そして、電離放射線を照射して硬化させた後、凹凸パターン形成シートを剥離して、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が形成された、電離放射線硬化性樹脂硬化物と基材とからなる樹脂製の原版（Ｗ）を得る。
工程（ａ２）：
工程（ａ２）としては、ＰＥＴ等を材料とする透明な基材を別途用意し、その片面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布する。ここで塗布する厚さは、上記原版（Ｗ）における波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状の凹凸を充分に覆える厚さとする。そして、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、上記原版（Ｗ）における波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が形成された面を押し当て、その状態のまま、電離放射線を照射して硬化させた後、原版（Ｗ）を剥離する。
このように原版（Ｗ）を使用することにより、ＰＥＴを材料とする透明な基材と、その片面上に形成された透明な電離放射線硬化性樹脂硬化物の層から構成される２層構造のシートが得られる。電離放射性硬化性樹脂硬化物の層の表面には、波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。なお、ここでの原版（Ｗ）としては、１次転写品に限定されず、転写をさらに繰り返して得たものであってもよい。
工程（ａ２）としては、ＰＥＴ等を材料とする透明な基材を別途用意し、その片面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布する。ここで塗布する厚さは、上記原版（Ｗ）における波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状の凹凸を充分に覆える厚さとする。そして、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、上記原版（Ｗ）における波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が形成された面を押し当て、その状態のまま、電離放射線を照射して硬化させた後、原版（Ｗ）を剥離する。
このように原版（Ｗ）を使用することにより、ＰＥＴを材料とする透明な基材と、その片面上に形成された透明な電離放射線硬化性樹脂硬化物の層から構成される２層構造のシートが得られる。電離放射性硬化性樹脂硬化物の層の表面には、波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。なお、ここでの原版（Ｗ）としては、１次転写品に限定されず、転写をさらに繰り返して得たものであってもよい。
電離放射線としては、一般には紫外線および電子線を意味することが多いが、本明細書においては、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
スタンパによる転写の具体的な方法については、たとえば、特開２０１２−０２２２９２号公報等を参照できる。
［フレネルレンズ形状］
第１実施形態例のフレネルレンズ形状２０は、プロジェクターからの投射光が表面微細凹凸シートを通過して拡散し前記フレネルレンズ形状２０を通過し、さらに反射層３０で反射し前記フレネルレンズ形状２０を再度通過した後で、観察者に対して平行な光になるように（以後、フレネルレンズ形状I）、または観察者に集光する光になるように（以後、フレネルレンズ形状II）設計されている。
フレネルレンズ形状２０の形成は、例えば、表面微細凹凸シート１０Ａの基材１０ＡＢの、波状凹凸パターン層１０ＡＡが形成されている面と反対側の面に、前述の未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布し、その塗布面にフレネルレンズ形状２０の反転凹凸形状が表面に形成された金属製等の原版を、前記反転凹凸形状面が接触するように押し当て、その状態のまま、表面微細凹凸シート１０Ａの波状凹凸パターン層１０ＡＡ側から電離放射線を照射して硬化させた後、原版を剥離する方法などを使用することができる。
第１実施形態例のフレネルレンズ形状２０は、プロジェクターからの投射光が表面微細凹凸シートを通過して拡散し前記フレネルレンズ形状２０を通過し、さらに反射層３０で反射し前記フレネルレンズ形状２０を再度通過した後で、観察者に対して平行な光になるように（以後、フレネルレンズ形状I）、または観察者に集光する光になるように（以後、フレネルレンズ形状II）設計されている。
フレネルレンズ形状２０の形成は、例えば、表面微細凹凸シート１０Ａの基材１０ＡＢの、波状凹凸パターン層１０ＡＡが形成されている面と反対側の面に、前述の未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布し、その塗布面にフレネルレンズ形状２０の反転凹凸形状が表面に形成された金属製等の原版を、前記反転凹凸形状面が接触するように押し当て、その状態のまま、表面微細凹凸シート１０Ａの波状凹凸パターン層１０ＡＡ側から電離放射線を照射して硬化させた後、原版を剥離する方法などを使用することができる。
［反射層］
第１実施形態例の反射層３０は、プロジェクターから反射型スクリーンに入射した投射光を反射させて、観察者側に出射させることができる。
反射層３０の形成は、例えば、フレネルレンズ形状２０の表面に形状の効果を損なわない程度の厚みで、アルミニウムや銀などの金属を蒸着する方法などを使用することができる。
第１実施形態例の反射層３０は、プロジェクターから反射型スクリーンに入射した投射光を反射させて、観察者側に出射させることができる。
反射層３０の形成は、例えば、フレネルレンズ形状２０の表面に形状の効果を損なわない程度の厚みで、アルミニウムや銀などの金属を蒸着する方法などを使用することができる。
〔第２実施形態例〕
本発明の第２実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図６は、第２実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンが、上述の波状凹凸パターン（１）に該当するパターンではなく、上述の波状凹凸パターン（２）（すなわち、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターン）に該当する波状凹凸パターン（２Ａ）である点のみで、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。
本発明の第２実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図６は、第２実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンが、上述の波状凹凸パターン（１）に該当するパターンではなく、上述の波状凹凸パターン（２）（すなわち、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターン）に該当する波状凹凸パターン（２Ａ）である点のみで、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートが有する波状凹凸パターン（２Ａ）は、図６に示すように、波状凹凸パターン形成面に沿って折れ曲がりながら、特定の方向に沿わずに延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とにより形成されている。凸条部は、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。また、各凹条部は、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
波状凹凸パターン（２）の凸条部の平均ピッチおよびアスペクト比等の好ましい範囲、求め方等は、第１実施形態例と同様である。
なお、平均ピッチは、次の方法で求めることが好適である。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−２７９５９７号公報の段落［０００２］等に記載されており、これを参照できる。
なお、平均ピッチは、次の方法で求めることが好適である。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−２７９５９７号公報の段落［０００２］等に記載されており、これを参照できる。
波状凹凸パターン（２Ａ）は、上述のように、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターンであり、光拡散性の異方性が弱められている。そのため、第１実施形態例と比較すると、波状凹凸パターンの主拡散方向と低拡散方向とにおける拡散角度の差は小さい。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
第２実施形態例の波状凹凸パターンの主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、上記平均ピッチ、アスペクト比等を調整すること等により制御できる。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと同程度である。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
第２実施形態例の波状凹凸パターンの主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、上記平均ピッチ、アスペクト比等を調整すること等により制御できる。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと同程度である。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、１層構造でも、２層以上の多層構造であってもよい。
また、第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例と同様の方法で製造できる。ただし、第２実施形態例では、工程（ａ１−１）において、加熱収縮性樹脂フィルムとして、２軸延伸フィルムを用いる。２軸延伸フィルムを用いることにより、図６に示すような特定の方向に沿わない凹凸が形成される。また、使用する２軸延伸フィルムの縦延伸倍率および横延伸倍率を調整し、縦収縮率および横収縮率を調整することにより、主拡散方向の拡散角度と、低拡散方向の拡散角度とのバランスが適宜調整された波状凹凸パターン（２Ａ）を形成できる。縦収縮率および横収縮率の好ましい各範囲は、各々、第１実施形態例における収縮率の好ましい範囲と同じである。加熱収縮性樹脂フィルムの材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（２Ａ）の形成には、特開２００８−３０４６５１号公報（特許第５０９８４５０号公報）等を参照できる。
また、第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例と同様の方法で製造できる。ただし、第２実施形態例では、工程（ａ１−１）において、加熱収縮性樹脂フィルムとして、２軸延伸フィルムを用いる。２軸延伸フィルムを用いることにより、図６に示すような特定の方向に沿わない凹凸が形成される。また、使用する２軸延伸フィルムの縦延伸倍率および横延伸倍率を調整し、縦収縮率および横収縮率を調整することにより、主拡散方向の拡散角度と、低拡散方向の拡散角度とのバランスが適宜調整された波状凹凸パターン（２Ａ）を形成できる。縦収縮率および横収縮率の好ましい各範囲は、各々、第１実施形態例における収縮率の好ましい範囲と同じである。加熱収縮性樹脂フィルムの材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（２Ａ）の形成には、特開２００８−３０４６５１号公報（特許第５０９８４５０号公報）等を参照できる。
〔第３実施形態例〕
本発明の第３実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図７は、第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
本発明の第３実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図７は、第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
第３実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターンは、波状凹凸パターン（１）に該当するが、第１実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）は、図５に示したように、凸条部１１ａの縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降しているのに対して、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｂ）は、図８に示すように、凸条部１１ｂの縦断面形状において、先端側（頂部）と基端側とを結ぶ線が、微細な多数の凹凸を有する微細凹凸状である点で、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと異なる。微細な多数の凹凸は、後述の波状凹凸パターン（１−ａ）によるものである。
図８に示すように、波状凹凸パターン（１Ｂ）は、凸条部３２ａと凹条部３２ｂとから構成される波状凹凸パターン（１Ａ）と、その上に形成された、凸条部３３ａと凹条部３３ｂとから構成される別の微細な波状凹凸パターン（１−ａ）により形成されている。
波状凹凸パターン（１−ａ）は、筋状に延びる複数の凸条部３３ａと、該複数の凸条部３３ａ間の複数の凹条部３３ｂとが一方向に交互に繰り返されるパターンであって、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部３２ａの配列方向と、波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの配列方向とはほぼ同じ方向である。
波状凹凸パターン（１−ａ）は、筋状に延びる複数の凸条部３３ａと、該複数の凸条部３３ａ間の複数の凹条部３３ｂとが一方向に交互に繰り返されるパターンであって、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部３２ａの配列方向と、波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの配列方向とはほぼ同じ方向である。
波状凹凸パターン（１−ａ）は、以下の特徴を有する。
（ａ’）各凸条部３３ａが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部３３ａの稜線が蛇行し、隣接する凸条部３３ａの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ’）各凹条部３３ｂが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部３３ｂの谷線が蛇行し、隣接する凹条部３３ｂの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
（ａ’）各凸条部３３ａが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部３３ａの稜線が蛇行し、隣接する凸条部３３ａの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ’）各凹条部３３ｂが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部３３ｂの谷線が蛇行し、隣接する凹条部３３ｂの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
また、波状凹凸パターン（１−ａ）では、各凸条部３３ａの縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
また、各凸条部３３ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン（１−ａ）は、各凸条部３３ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部３３ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部３３ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部３３ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部３３ｂにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凸条部３３ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン（１−ａ）は、各凸条部３３ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部３３ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部３３ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部３３ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部３３ｂにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
凸条部３２ａの平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第１実施形態例で説明したとおりである。
波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの平均ピッチは、０．３〜２．０μｍであることが好ましく、０．４〜１．０μｍであることがより好ましく、０．５〜０．８μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
凸条部３３ａの平均ピッチは、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチと同様の方法で求めることができる。すなわち、隣り合う凸条部３３ａが２０本以上含まれる平面画像を得て、凸条部３３ａの２０本分について、凸条部３３ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求められる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、最頻ピッチの求め方として、たとえば国際公開第２０１４／００２８５０号等に記載されており、これを参照できる。最頻ピッチと平均ピッチは、同等に扱うことができる。
凸条部３３ａの平均ピッチは、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチと同様の方法で求めることができる。すなわち、隣り合う凸条部３３ａが２０本以上含まれる平面画像を得て、凸条部３３ａの２０本分について、凸条部３３ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求められる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、最頻ピッチの求め方として、たとえば国際公開第２０１４／００２８５０号等に記載されており、これを参照できる。最頻ピッチと平均ピッチは、同等に扱うことができる。
波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）は、０．２５〜０．３５であることが好ましく、０．２８〜０．３３であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
波状凹凸パターン（１−ａ）のアスペクト比Ａ１は、凸条部３３ａの平均高さ／平均ピッチで求められる値であって、概略、第１実施形態例において説明した波状凹凸パターン（１Ａ）のアスペクト比と同様の方法で求められる。
すなわち、図８において、波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの高さは、両隣の２つの凹条部３３ｂの底部から、凸条部３３ａの頂部までの距離の和の１／２である。ここで、凹条部３３ｂの底から凸条部３３ａの頂部までの距離は、凸条部３２ａの頂部と、凹条部３２ｂを結ぶ線に平行であり、かつ、凸条部３３ａの頂部を通過する仮想線に対して垂直方向の距離である。すなわち、波状凹凸パターン（１−ａ）を形成する凸条部３３ａの高さは、凸条部３３ａに対して一方側の凹条部３３ｂの底部から計測した凸条部３３ａの高さをＬｓ、他方側の凹条部３３ｂの底部から計測した高さをＲｓとした際に、ｂｓ＝（Ｌｓ＋Ｒｓ）／２となる。このようにして各凸条部３３ａの高さｂｓを求める。そして、５０個の凸条部３３ａの高さＲＳを測定し、それらの高さを平均して平均高さを求める。
すなわち、図８において、波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの高さは、両隣の２つの凹条部３３ｂの底部から、凸条部３３ａの頂部までの距離の和の１／２である。ここで、凹条部３３ｂの底から凸条部３３ａの頂部までの距離は、凸条部３２ａの頂部と、凹条部３２ｂを結ぶ線に平行であり、かつ、凸条部３３ａの頂部を通過する仮想線に対して垂直方向の距離である。すなわち、波状凹凸パターン（１−ａ）を形成する凸条部３３ａの高さは、凸条部３３ａに対して一方側の凹条部３３ｂの底部から計測した凸条部３３ａの高さをＬｓ、他方側の凹条部３３ｂの底部から計測した高さをＲｓとした際に、ｂｓ＝（Ｌｓ＋Ｒｓ）／２となる。このようにして各凸条部３３ａの高さｂｓを求める。そして、５０個の凸条部３３ａの高さＲＳを測定し、それらの高さを平均して平均高さを求める。
本実施形態例の表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部３２ａの配列方向にほぼ平行な図８中Ａ方向である。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ａ）それぞれの凸条部１１ｂ，３３ａの平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
第３実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
第３実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
第３実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程（ａ１−１）では、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂を２種類（以下、「樹脂Ｍ１」および「樹脂Ｎ１」という。）使用する。このように２種類の樹脂を使用することにより、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ａ）から構成される波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成には、国際公開第２０１４／００２８５０号等を参照できる。
ただし、上述の工程（ａ１−１）では、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂を２種類（以下、「樹脂Ｍ１」および「樹脂Ｎ１」という。）使用する。このように２種類の樹脂を使用することにより、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ａ）から構成される波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成には、国際公開第２０１４／００２８５０号等を参照できる。
加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。
硬質層の形成に用いる樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１としては、各々、たとえば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１は、波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成しやすさの点から、ガラス転移温度が互いに異なることが好ましく、具体的には、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｍが樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｎよりも高いことが好ましい。さらには、（樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ）−（樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｎ）が１０℃以上であることが好ましく、１２℃以上であることがより好ましい。
一方、Ｔｇ２Ｍ−Ｔｇ２Ｎが２０℃以下であることが好ましく、１８℃以下であることがより好ましい。すなわち、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと、樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｎとの差は、１０〜２０℃であることが好ましい。より好ましくは、１２〜１８℃である。
一方、Ｔｇ２Ｍ−Ｔｇ２Ｎが２０℃以下であることが好ましく、１８℃以下であることがより好ましい。すなわち、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと、樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｎとの差は、１０〜２０℃であることが好ましい。より好ましくは、１２〜１８℃である。
波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成しやすさの点から、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと樹脂Ｌ１のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２Ｍ−Ｔｇ１）、樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｎと樹脂Ｌ１のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２Ｎ−Ｔｇ１）が共に１０℃以上であることが好ましく、１５℃以上であることがより好ましく、２０℃以上であることが特に好ましい。
樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ，Ｔｇ２Ｎは共に４０〜４００℃の範囲内にあることが好ましく、８０〜２５０℃の範囲内にあることがより好ましい。Ｔｇ２Ｍ，Ｔｇ２Ｎが上記範囲内であれば、より容易に波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。
樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１のヤング率は、工程（ａ１−２）の温度、すなわち８０〜１８０℃において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１のヤング率が上記範囲の下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ｂ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、ヤング率が上記範囲の上限値以下であれば、より容易に波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。
硬質層の厚さは、第１実施形態例と同じ範囲が好ましく、厚さが連続的に変化していても構わない点も同様である。
硬質層を設ける方法としては、硬質層形成用塗料として、樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１を含む塗料を使用する点以外は、第１実施形態例と同様である。
硬質層を設ける方法としては、硬質層形成用塗料として、樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１を含む塗料を使用する点以外は、第１実施形態例と同様である。
なお、上記製造方法において、波状凹凸パターン（１Ｂ）の特性（ピッチ、アスペクト比等。）は、たとえば樹脂Ｍ１と樹脂Ｎ１の配合比率、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率を調整することで制御できる（たとえば、国際公開第２０１４／００２８５０号等参照。）。
〔第４実施形態例〕
本発明の第４実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図９は、第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
図１０は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ｃ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ｃ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
本発明の第４実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図９は、第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
図１０は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ｃ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ｃ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
第４実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターン（１Ｃ）は、上述のとおり、波状凹凸パターン（１）に該当するが、第１実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）は、図５に示したように、凸条部の縦断面形状１１ａにおいて、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降しているのに対して、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｃ）は、図１０に示すように、凸条部４２ａの縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線の途中に、外方に突出する複数の凸部４３がランダムに形成されている点で、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。凸部４３は、凹条部４２ｂ上や凸条部４２ａの頂部上に形成されていてもよい。
その他の点は第１実施形態例と同様である。
その他の点は第１実施形態例と同様である。
波状凹凸パターン（１Ｃ）は、凸条部４２ａおよび凹条部４２ｂによる波状凹凸パターン（１Ａ）とその上にランダムに形成された多数の凸部４３とからなり、波状凹凸パターン（１Ａ）は、主拡散方向への拡散を主に担い、該波状凹凸パターン（１Ａ）上に形成された凸部４３は、該波状凹凸パターン（１Ａ）による光拡散性の異方性を適度に弱め、低拡散方向の拡散角度を増加させる作用を奏する。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
なお、本実施形態例では、波状凹凸パターン（１Ａ）上に凸部４３が形成された態様が示されているが、凸部の代わりに凹部が形成されていてもよく、凹部も凸部と同じ作用を奏する。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
なお、本実施形態例では、波状凹凸パターン（１Ａ）上に凸部４３が形成された態様が示されているが、凸部の代わりに凹部が形成されていてもよく、凹部も凸部と同じ作用を奏する。
凸条部４２ａの平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第１実施形態例で説明したとおりである。
波状凹凸パターン（１Ａ）上に形成された凸部４３の平均径は、１〜１０μｍが好ましく、３〜８μｍがより好ましく、４〜６μｍがさらに好ましい。
凸部の平均径Ｄは、図１０の凸条部４２ａの配列方向に沿って、各凸部４３の径（凸条部４２ａの配列方向に沿う最大長さ）を測定した各値を平均することで求められる。
平均径Ｄは、次の方法で求めることもできる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析により求める。この方法は、最頻径の求め方として、たとえば特開２０１４−２０６７２８号公報（特許第５６６０２３５号公報）に記載されており、これを参照できる。平均径と最頻径は、同等に扱うことができる。
凸部の平均径Ｄは、図１０の凸条部４２ａの配列方向に沿って、各凸部４３の径（凸条部４２ａの配列方向に沿う最大長さ）を測定した各値を平均することで求められる。
平均径Ｄは、次の方法で求めることもできる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析により求める。この方法は、最頻径の求め方として、たとえば特開２０１４−２０６７２８号公報（特許第５６６０２３５号公報）に記載されており、これを参照できる。平均径と最頻径は、同等に扱うことができる。
波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの平均ピッチ、凸部４３の平均径をそれぞれ上記範囲内で調整することにより、主拡散方向および低拡散方向それぞれの拡散角度を適度に制御できる。
凸条部４２ａの平均高さは、３〜７μｍが好ましく、４〜６μｍがより好ましい。凸条部４２ａの平均高さが上記範囲であると、光拡散性が充分に得られる。
本実施形態例において、凸条部４２ａの平均高さは、以下のように測定、定義される。
まず、図１０のような縦断面図を得て、凸部４３が存在していない部分の凸条部４２ａの断面図から、該凸条部４２ａの高さＨを求める。具体的には、凸条部４２ａの高さＨは、該凸条部４２ａの頂部Ｔと該凸条部４２ａの一方側に位置する凹条部４２ｂの底部Ｂ１１との垂直距離をＨ１とし、該凸条部４２ａの頂部Ｔと該凸条部４２ａの他方側に位置する凹条部４２ｂの底部Ｂ２１との垂直距離をＨ２とした場合に、Ｈ＝（Ｈ１＋Ｈ２）／２で求められる。
このような計測を凸部４３が存在していない凸条部４２ａの５０箇所に対して行い、５０のデータの平均値を「凸条部の平均高さ」と定義する。
まず、図１０のような縦断面図を得て、凸部４３が存在していない部分の凸条部４２ａの断面図から、該凸条部４２ａの高さＨを求める。具体的には、凸条部４２ａの高さＨは、該凸条部４２ａの頂部Ｔと該凸条部４２ａの一方側に位置する凹条部４２ｂの底部Ｂ１１との垂直距離をＨ１とし、該凸条部４２ａの頂部Ｔと該凸条部４２ａの他方側に位置する凹条部４２ｂの底部Ｂ２１との垂直距離をＨ２とした場合に、Ｈ＝（Ｈ１＋Ｈ２）／２で求められる。
このような計測を凸部４３が存在していない凸条部４２ａの５０箇所に対して行い、５０のデータの平均値を「凸条部の平均高さ」と定義する。
一方、凸部４３の平均高さは、０．５〜３μｍが好ましく、より好ましくは１〜２μｍである。凸部４３の平均高さが上記範囲であると、波状凹凸パターンの光拡散性の異方性を適度に弱めることができ、主拡散方向および低拡散方向の両方の拡散角度を制御しやすい。
本実施形態例において、凸部４３の平均高さは、以下のように測定、定義される。
まず、図１０のような断面図を得て、波状の凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状と、凸部４３に由来する形状とに波形分離する。なお、波形分離は、波状凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状をサインカーブとして行う。ついで、図１０の断面図から、波状凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状を差し引き、図１１に示すように、凸部４３に由来する形状のみの断面図を得る。そして、図１１の断面図において、凸部４３の高さＨ’を、Ｈ’＝（Ｈ１’＋Ｈ２’）／２として求める。Ｈ１’は、図１１の断面図において、凸部４３の頂部Ｔ’と該凸部４３の一方側のベースラインＬαとの垂直距離であり、Ｈ２’は、凸部４３の頂部Ｔ’と該凸部４３の他方側のベースラインＬβとの垂直距離である。
このような計測を５０個の凸部４３に対して行い、５０のデータの平均値を「凸部の平均高さ」と定義する。
まず、図１０のような断面図を得て、波状の凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状と、凸部４３に由来する形状とに波形分離する。なお、波形分離は、波状凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状をサインカーブとして行う。ついで、図１０の断面図から、波状凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状を差し引き、図１１に示すように、凸部４３に由来する形状のみの断面図を得る。そして、図１１の断面図において、凸部４３の高さＨ’を、Ｈ’＝（Ｈ１’＋Ｈ２’）／２として求める。Ｈ１’は、図１１の断面図において、凸部４３の頂部Ｔ’と該凸部４３の一方側のベースラインＬαとの垂直距離であり、Ｈ２’は、凸部４３の頂部Ｔ’と該凸部４３の他方側のベースラインＬβとの垂直距離である。
このような計測を５０個の凸部４３に対して行い、５０のデータの平均値を「凸部の平均高さ」と定義する。
波状凹凸パターン形成面における凸部４３の占有面積割合は、１０〜７０％が好ましく、より好ましくは２０〜６０％、さらに好ましくは３０〜５５％である。凸部４３の占有面積割合が上記範囲であると、波状凹凸パターン（１Ａ）の光拡散性の異方性を適度に弱めることができ、主拡散方向および低拡散方向の両方の拡散角度を上記範囲に制御しやすい。
波状凹凸パターン形成面における凸部４３の占有面積割合γ（％）は、以下のように測定、定義される。
まず、図９のような光学顕微鏡画像を得て、視野全体の面積Ｓ２（例えば縦０．４〜１．６ｍｍ、横０．５〜２ｍｍ）中に認められる凸部４３の個数ｎを数え、視野全体において、ｎ個の凸部４３によって占有されている面積Ｓ１＝ｎｒ２πを求める。占有面積割合γ（％）は以下の式により求められる。
γ（％）＝Ｓ１×１００／Ｓ２（ただし、式中のｒは、凸部の平均径の１／２（すなわち半径）である。）
まず、図９のような光学顕微鏡画像を得て、視野全体の面積Ｓ２（例えば縦０．４〜１．６ｍｍ、横０．５〜２ｍｍ）中に認められる凸部４３の個数ｎを数え、視野全体において、ｎ個の凸部４３によって占有されている面積Ｓ１＝ｎｒ２πを求める。占有面積割合γ（％）は以下の式により求められる。
γ（％）＝Ｓ１×１００／Ｓ２（ただし、式中のｒは、凸部の平均径の１／２（すなわち半径）である。）
本実施形態例の表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの配列方向にほぼ平行な図１０中Ａ方向である。一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの平均ピッチ、平均高さ、凸部４３の平均径、平均高さ、占有面積等を調整すること等により制御できる。
第４実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
第４実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
第４実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程（ａ１−１）において、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂Ｍとともに粒子を含有する塗料を用いる点で異なる。粒子を用いることにより、凸部４３を有する波状凹凸パターン（１Ａ）を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｃ）の形成には、特開２０１４−２０６７２８号公報（特許第５６６０２３５号公報）を参照できる。
ただし、上述の工程（ａ１−１）において、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂Ｍとともに粒子を含有する塗料を用いる点で異なる。粒子を用いることにより、凸部４３を有する波状凹凸パターン（１Ａ）を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｃ）の形成には、特開２０１４−２０６７２８号公報（特許第５６６０２３５号公報）を参照できる。
加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。
硬質層やその材質（樹脂Ｍ）、樹脂Ｍのガラス転移温度およびヤング率等も、第１実施形態例と同様である。
硬質層やその材質（樹脂Ｍ）、樹脂Ｍのガラス転移温度およびヤング率等も、第１実施形態例と同様である。
粒子を構成する材料には、樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１より１０℃高い温度未満では、熱により粒子形状が変化しない材料の１種以上を用いることができる。
例えば、粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有する樹脂およびガラス転移温度を有する無機材料からなる群から選ばれる１種以上である場合、そのガラス転移温度Ｔｇ３が、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと同様の条件を満たすこと、すなわち、（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が１０℃以上となるように選択されることが必要であり、（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が２０℃以上がより好ましく、３０℃以上が更に好ましい。（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が１０℃以上であると、上述の加工温度において、粒子が変形した溶融したりしない。
例えば、粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有する樹脂およびガラス転移温度を有する無機材料からなる群から選ばれる１種以上である場合、そのガラス転移温度Ｔｇ３が、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと同様の条件を満たすこと、すなわち、（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が１０℃以上となるように選択されることが必要であり、（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が２０℃以上がより好ましく、３０℃以上が更に好ましい。（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が１０℃以上であると、上述の加工温度において、粒子が変形した溶融したりしない。
粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有さない材料、例えば内部架橋型樹脂などである場合には、そのビカット軟化温度（ＪＩＳ Ｋ７２０６に規定）が、上述の条件を満たすこと、すなわち、樹脂Ｌのガラス転移温度より１０℃以上高いことが好ましく、２０℃以上高いことが好ましく、３０℃以上高いことがより好ましい。
本明細書において、ガラス転移温度Ｔｇ３についての好ましい温度範囲などの記載は、粒子がガラス転移温度を有さず、ビカット軟化温度を有する材料からなる場合、そのビカット軟化温度にも該当するものとする。
さらに、粒子を構成する材料としては、ガラス転移温度、ビカット軟化温度が測定できないものであっても、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１より１０℃高い温度未満において、熱により粒子形状が変化しない材料であれば、使用可能である。
さらに、粒子を構成する材料としては、ガラス転移温度、ビカット軟化温度が測定できないものであっても、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１より１０℃高い温度未満において、熱により粒子形状が変化しない材料であれば、使用可能である。
Ｔｇ３は、４０〜４００℃であることが好ましく、８０〜２５０℃であることがより好ましい。Ｔｇ３が４０℃以上であれば、工程（ａ１−２）の温度を室温またはそれ以上にすることができて有用であり、Ｔｇ３が４００℃を超えるような粒子を使用することは、経済性の面から必要性に乏しい。
粒子を構成する樹脂としては、そのガラス転移温度Ｔｇ３（またはビカット軟化点。）が上述の条件を満たすように、加熱収縮性樹脂フィルムの種類等に応じて選択され、例えば、アクリル系熱可塑性樹脂粒子、ポリスチレン系熱可塑性樹脂粒子、アクリル系架橋型樹脂粒子、ポリスチレン系架橋型樹脂粒子などが挙げられる。また、無機材料としては、ガラスビーズなどが挙げられる。
粒子の粒径ｄは、形成される硬質層の厚みｔより大きいことが必要であり、硬質層の厚みｔに応じて設定される。また、凸部４３の平均径が、上述の好適な範囲となるように、適宜設定される。好ましい粒径ｄは、例えば、５〜１０μｍで、より好ましくは５〜８μｍである。
粒子の粒径ｄは、形成される硬質層の厚みｔより大きいことが必要であり、硬質層の厚みｔに応じて設定される。また、凸部４３の平均径が、上述の好適な範囲となるように、適宜設定される。好ましい粒径ｄは、例えば、５〜１０μｍで、より好ましくは５〜８μｍである。
工程（ａ１−１）においては、硬質層形成用塗料として、樹脂Ｍおよび粒子を含む塗料を使用し、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、厚みｔ’が０．０５μｍを超え、１０μｍ以下である硬質層を形成する。この時点での硬質層は、折り畳むように変形していない。すなわち、厚みｔ’は変形前の硬質層の厚さである。
硬質層は、このように硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに直接塗工して設ける代わりに、あらかじめ作製した硬質層（樹脂Ｍ中に粒子が分散してなるフィルム）を加熱収縮性フィルムに積層する方法で設けてもよい。
硬質層は、このように硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに直接塗工して設ける代わりに、あらかじめ作製した硬質層（樹脂Ｍ中に粒子が分散してなるフィルム）を加熱収縮性フィルムに積層する方法で設けてもよい。
樹脂Ｍおよび粒子を構成する樹脂としては、それぞれすでに例示したものを使用できるが、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと、粒子のガラス転移温度Ｔｇ３とが、樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１よりも１０℃以上高くなるように各材質を選択し、組み合わせることが重要である。このようにそれぞれの材質を選択したうえで、厚みｔ’が０．０５μｍを超え１０μｍ以下である硬質層を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に設けると、次の工程（ａ１−２）を経ることにより、凸条部４２ａの平均ピッチ、平均高さが上記範囲の波状凹凸パターン（１Ｃ）が形成されやすい。
本実施形態例において、硬質層形成用塗料中の樹脂Ｍの好ましい固形分濃度の範囲は、第１実施形態例と同様である。粒子の量は、樹脂Ｍの正味量１００質量部に対して、１０〜５０質量部であることが好ましく、２０〜３０質量部であることがより好ましい。このような範囲であると、形成される凸部４３の占有面積割合を上述の好適な範囲内に制御することができる。
なお、塗工する硬質層の厚みｔ’は、０．０５μｍを超え１０μｍ以下の範囲内であれば、連続的に変化していても構わない。その場合、変形工程により形成される凸条部４２ａのピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。硬質層の厚みｔ’は、次の工程（ａ１−２）を経てもほとんど変化せす、ｔ’＝ｔと考えることができる。
硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部４２ａの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。
硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部４２ａの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。
工程（ａ１−１）以外は、第１実施形態例と同様に行う。
〔第５実施形態例〕
本発明の第５実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図１２は、第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
本発明の第５実施形態例は、前記第１実施形態と表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのみが異なり、それ以外は第１実施形態と同様の構成を有する。
図１２は、第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
第５実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターン（１Ｄ）は、上述の波状凹凸パターン（１Ａ）に加えて、別の波状凹凸パターン（１−ｂ）を有する。
図１３（ａ）は、第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄについて、法線方向から観察した様子を示す模式的な平面図、図１３（ｂ）は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、後述の波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃの配列方向に平行な側面を示す側面図、図１３（ｃ）は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの配列方向に平行な側面の側面図である。
波状凹凸パターン（１Ａ）における凸条部１１ｄの配列方向と、波状凹凸パターン（１−ｂ）における凸条部１１ｃの配列方向とは、ほぼ直交し、これらの配列方向のなす角度は、波状凹凸パターンを平面視した場合において９０±１０°の範囲内である。
図１３（ａ）は、第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄについて、法線方向から観察した様子を示す模式的な平面図、図１３（ｂ）は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、後述の波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃの配列方向に平行な側面を示す側面図、図１３（ｃ）は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの配列方向に平行な側面の側面図である。
波状凹凸パターン（１Ａ）における凸条部１１ｄの配列方向と、波状凹凸パターン（１−ｂ）における凸条部１１ｃの配列方向とは、ほぼ直交し、これらの配列方向のなす角度は、波状凹凸パターンを平面視した場合において９０±１０°の範囲内である。
その他の点は第１実施形態例と同様である。
波状凹凸パターン（１Ｄ）は、凸条部１１ｄと凸条部１１ｃとが互いにほぼ直交（±１０°の範囲内）しているパターン、すなわち、波状凹凸パターン（１Ａ）と波状凹凸パターン（１−ｂ）とが重畳したパターンであるため、光拡散性の異方性が弱められており、波状凹凸パターンの主拡散方向と低拡散方向とにおける拡散角度の差は小さい傾向にある。
波状凹凸パターン（１−ｂ）は、波状凹凸パターン（１Ａ）と同様に、以下の特徴を有する。
（ａ’）各凸条部１１ｃが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部１１ｃの稜線が蛇行し、隣接する凸条部１１ｃの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ’）各凹条部１１ｅが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部１１ｅの谷線が蛇行し、隣接する凹条部１１ｅの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
（ａ’）各凸条部１１ｃが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部１１ｃの稜線が蛇行し、隣接する凸条部１１ｃの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ’）各凹条部１１ｅが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部１１ｅの谷線が蛇行し、隣接する凹条部１１ｅの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
また、波状凹凸パターン（１−ｂ）において、各凸条部１１ｃの縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部１１ｃの配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
また、各凸条部１１ｃの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン（１−ｂ）は、各凸条部１１ｃの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部１１ｃは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ｃの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ｃにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部１１ｅにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凸条部１１ｃの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン（１−ｂ）は、各凸条部１１ｃの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部１１ｃは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ｃの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ｃにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部１１ｅにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
波状凹凸パターン（１Ｄ）を構成している波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの平均ピッチおよびアスペクト比の求め方等は、第１実施形態例で説明したとおりであり、波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃについても同様である。波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ｂ）の平均ピッチおよびアスペクト比は、適宜調整できるが、波状凹凸パターン（１Ａ）よりも波状凹凸パターン（１−ｂ）の方が、小さいことが好ましい。
たとえば本実施形態例においては、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの平均ピッチは、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜４０μｍであることがより好ましく、１５〜３０μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限以上であると、表面微細凹凸シートを容易に製造できる。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シートを照明装置に使用した場合に、波状凹凸パターン（１Ａ）が好ましくない輝線として視認されにくい。
一方、波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃの平均ピッチは、１〜２５μｍであることが好ましく、３〜２０μｍであることがより好ましく、５〜１５μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、表面微細凹凸シート１０Ｄを容易に製造できる。
一方、波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃの平均ピッチは、１〜２５μｍであることが好ましく、３〜２０μｍであることがより好ましく、５〜１５μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、表面微細凹凸シート１０Ｄを容易に製造できる。
波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ｂ）の各凸条部１１ｃ，１１ｄのアスペクト比は、それぞれ、０．１〜１．０であることが好ましく、０．２〜０．８であることがより好ましく、０．３〜０．６であることがさらに好ましい。
波状凹凸パターン（１Ａ）のアスペクト比が、上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン（１Ａ）により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られ、上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。波状凹凸パターン（１−ｂ）のアスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
波状凹凸パターン（１Ａ）のアスペクト比が、上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン（１Ａ）により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られ、上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。波状凹凸パターン（１−ｂ）のアスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができる。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、たとえば１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば４０°以下であることが好ましく、たとえば３０°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向における光の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば２°以上であることが好ましい。また、１５°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、たとえば１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば４０°以下であることが好ましく、たとえば３０°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向における光の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば２°以上であることが好ましい。また、１５°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ｂ）それぞれの凸条部１１ｃ，１１ｄの平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。
第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄは、概略、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程（ａ１）のうちの工程（ａ１−１）のみ異なる。
すなわち、第１実施形態例の工程（ａ１−１）では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑な硬質層を積層させるが、本実施形態例の製造方法における工程（ａ１−１）では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）が形成された硬質層を形成する。硬質層の形成には、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を用いる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｄ）の形成には、特開２０１２−２５２１４９号公報（特許第５６３７０７４号公報）等を参照できる。
ただし、上述の工程（ａ１）のうちの工程（ａ１−１）のみ異なる。
すなわち、第１実施形態例の工程（ａ１−１）では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑な硬質層を積層させるが、本実施形態例の製造方法における工程（ａ１−１）では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）が形成された硬質層を形成する。硬質層の形成には、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を用いる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｄ）の形成には、特開２０１２−２５２１４９号公報（特許第５６３７０７４号公報）等を参照できる。
以下に本実施形態例における工程（ａ１−１）を説明する。
加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。加熱収縮性樹脂フィルムとしては、透光性（透明）のものを用いる。
ついで、ダイコーター、ロールコーター、バーコーター等のコーターで、未硬化の電離放射線硬化性樹脂のうちの１種以上を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に塗工し、塗工層を形成する。そして、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）の転写形状を有するスタンパを用意し、該スタンパを塗工層に押し当て、その状態のまま、加熱収縮性樹脂フィルム側から電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を硬化させ、硬化層を形成する。その後、スタンパを剥離する。
この際、スタンパにおける凸条部の延在方向と、加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致するように、スタンパを押し当てる。
これにより、加熱収縮性フィルムの片面に、波状凹凸パターン（１−ｂ）が形成された硬質層を有する積層フィルムが得られる。
加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。加熱収縮性樹脂フィルムとしては、透光性（透明）のものを用いる。
ついで、ダイコーター、ロールコーター、バーコーター等のコーターで、未硬化の電離放射線硬化性樹脂のうちの１種以上を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に塗工し、塗工層を形成する。そして、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）の転写形状を有するスタンパを用意し、該スタンパを塗工層に押し当て、その状態のまま、加熱収縮性樹脂フィルム側から電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を硬化させ、硬化層を形成する。その後、スタンパを剥離する。
この際、スタンパにおける凸条部の延在方向と、加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致するように、スタンパを押し当てる。
これにより、加熱収縮性フィルムの片面に、波状凹凸パターン（１−ｂ）が形成された硬質層を有する積層フィルムが得られる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、第１実施形態例の製造方法（Ｂ）で例示したものを好適に使用できるが、なかでも、硬化後のガラス転移温度が、加熱収縮性樹脂フィルムを構成している樹脂Ｌよりも１０℃以上高く、また、ヤング率が０．０１〜３００ＧＰａ、好ましくは０．１〜１０ＧＰａの樹脂が好適である。
硬質層の厚さは、０．５μｍを超え、２０μｍ以下とすることが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。
ガラス転移温度およびヤング率が上記の条件を満たし、かつ、硬質層の厚さが上記範囲内であれば、本実施形態例における波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチを上記範囲内に調整しやすい。硬質層の厚さが上記範囲の下限値未満であると、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり過ぎる傾向にあり、上記範囲の上限値を超えると、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮が阻害され、波状凹凸パターン（１Ａ）が良好に形成されない傾向にある。
硬質層の厚さは、０．５μｍを超え、２０μｍ以下とすることが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。
ガラス転移温度およびヤング率が上記の条件を満たし、かつ、硬質層の厚さが上記範囲内であれば、本実施形態例における波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチを上記範囲内に調整しやすい。硬質層の厚さが上記範囲の下限値未満であると、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり過ぎる傾向にあり、上記範囲の上限値を超えると、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮が阻害され、波状凹凸パターン（１Ａ）が良好に形成されない傾向にある。
なお、電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
工程（ａ１−１）の後、第１実施形態例と同様にして工程（ａ１−２）を行い、加熱収縮性フィルムを収縮させることにより、表面に、波状凹凸パターン（１Ｄ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る。
ついで、第１実施形態例と同様にして工程（ａ１−３）を行い、波状凹凸パターン（１Ｄ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る。
硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部１１ｄの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。
なお、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）の転写形状を有するスタンパは、第１実施形態例における工程（ａ１）と同様の手法で製造できる。また、たとえば特開２０１２−２５２１４９号公報（特許第５６３７０７４号公報）を参照できる。
＜作用効果＞
以上、各実施形態例を示して説明した本発明の反射型スクリーンは、フロントプロジェクターから投射された映像を投影するスクリーンとして好適に使用できる。
図１４および図１５は本発明の反射型スクリーンの、それぞれフレネルレンズ形状Iを用いたタイプおよびフレネルレンズ形状IIを用いたタイプの使用方法の一例について説明するための模式図である。
図１４（ａ）および図１５（ａ）は、反射型スクリーン１００、プロジェクター２００、および観察者（Ｆ）をＹ軸方向から見た場合の模式図であり、図１４（ｂ）および図１５（ｂ）はそれらをＸ軸方向から見た場合の模式図である。反射型スクリーン１００は鉛直方向とＸ軸方向がほぼ一致するように、また、プロジェクター２００と観察者（Ｆ）（１人の場合）とを含む面がＸ軸方向およびＺ軸方向を含む面とほぼ一致するように設置されている。また、プロジェクター２００は観察者（Ｆ）の斜め上方後方に設置されている。
図１４のようにフレネルレンズ形状Iを用いた反射型スクリーン１００Iは、プロジェクター２００から投射された光を、フレネルレンズ形状Iの作用により、波状凹凸パターンから出射する直前に、反射型スクリーン１００Iの基準面の法線方向と等しい方向の光つまり平行光にすることができる。前記平行光は波状凹凸パターンから出射する際に、Ｙ軸方向が主拡散方向となるように拡散し、観察者（Ｆ）にとどく。この場合、観察者（Ｆ）が１人ではなく、Ｙ軸方向とＺ軸方向とを含む面上に複数存在するような場合でも映像を観察することができる。
一方、図１５のようにフレネルレンズ形状IIを用いた反射型スクリーン１００IIは、プロジェクター２００から投射された光を、フレネルレンズ形状IIの作用により、波状凹凸パターンから出射する直前に、観察者（Ｆ）に対して集光する光にすることができる。前記集光された光は波状凹凸パターンから出射する際に、Ｙ軸方向が主拡散方向となるように拡散し、観察者（Ｆ）にとどく。この場合、観察者（Ｆ）が１人ではなく、Ｙ軸方向とＺ軸方向とを含む面上に複数存在するような場合でも映像を観察することができる。ただし、図１４の反射型スクリーン１００Iとの違いは、複数の観察者（Ｆ）はＹ軸方向とＺ軸方向とを含む面の中でも、映像が集光され焦点を結ぶ場所、つまり、反射型スクリーン１００IIと観察者（Ｆ）との距離がほぼ一定となる円周上に位置する必要がある。それ以外の場所では例えＹ軸方向とＺ軸方向とを含む面内でも、映像の一部または全ての部分で輝度が低下する。
反射型スクリーン１００Iは観察者（Ｆ）が複数おり、また、それぞれの反射型スクリーン１００Iからの距離が一定ではない場合に有効であるが、その分、様々な位置でも映像の輝度を低下させないため、投射光の強度を強くする必要がある。
それに対して、反射型スクリーン１００IIは、観察者（Ｆ）が複数いても、それぞれの反射型スクリーンIIからの距離を一定に出来るような比較的少人数の場合に、映像の円周上焦点以外に配光させる必要がないため、投射光の強度を軽減可能である。
図１４および図１５は本発明の反射型スクリーンの、それぞれフレネルレンズ形状Iを用いたタイプおよびフレネルレンズ形状IIを用いたタイプの使用方法の一例について説明するための模式図である。
図１４（ａ）および図１５（ａ）は、反射型スクリーン１００、プロジェクター２００、および観察者（Ｆ）をＹ軸方向から見た場合の模式図であり、図１４（ｂ）および図１５（ｂ）はそれらをＸ軸方向から見た場合の模式図である。反射型スクリーン１００は鉛直方向とＸ軸方向がほぼ一致するように、また、プロジェクター２００と観察者（Ｆ）（１人の場合）とを含む面がＸ軸方向およびＺ軸方向を含む面とほぼ一致するように設置されている。また、プロジェクター２００は観察者（Ｆ）の斜め上方後方に設置されている。
図１４のようにフレネルレンズ形状Iを用いた反射型スクリーン１００Iは、プロジェクター２００から投射された光を、フレネルレンズ形状Iの作用により、波状凹凸パターンから出射する直前に、反射型スクリーン１００Iの基準面の法線方向と等しい方向の光つまり平行光にすることができる。前記平行光は波状凹凸パターンから出射する際に、Ｙ軸方向が主拡散方向となるように拡散し、観察者（Ｆ）にとどく。この場合、観察者（Ｆ）が１人ではなく、Ｙ軸方向とＺ軸方向とを含む面上に複数存在するような場合でも映像を観察することができる。
一方、図１５のようにフレネルレンズ形状IIを用いた反射型スクリーン１００IIは、プロジェクター２００から投射された光を、フレネルレンズ形状IIの作用により、波状凹凸パターンから出射する直前に、観察者（Ｆ）に対して集光する光にすることができる。前記集光された光は波状凹凸パターンから出射する際に、Ｙ軸方向が主拡散方向となるように拡散し、観察者（Ｆ）にとどく。この場合、観察者（Ｆ）が１人ではなく、Ｙ軸方向とＺ軸方向とを含む面上に複数存在するような場合でも映像を観察することができる。ただし、図１４の反射型スクリーン１００Iとの違いは、複数の観察者（Ｆ）はＹ軸方向とＺ軸方向とを含む面の中でも、映像が集光され焦点を結ぶ場所、つまり、反射型スクリーン１００IIと観察者（Ｆ）との距離がほぼ一定となる円周上に位置する必要がある。それ以外の場所では例えＹ軸方向とＺ軸方向とを含む面内でも、映像の一部または全ての部分で輝度が低下する。
反射型スクリーン１００Iは観察者（Ｆ）が複数おり、また、それぞれの反射型スクリーン１００Iからの距離が一定ではない場合に有効であるが、その分、様々な位置でも映像の輝度を低下させないため、投射光の強度を強くする必要がある。
それに対して、反射型スクリーン１００IIは、観察者（Ｆ）が複数いても、それぞれの反射型スクリーンIIからの距離を一定に出来るような比較的少人数の場合に、映像の円周上焦点以外に配光させる必要がないため、投射光の強度を軽減可能である。
前述のように、本発明の反射型スクリーンを構成する表面微細凹凸シートは、Ｙ軸方向が主拡散方向であり、Ｘ軸方向が低拡散方向であることにより、反射型スクリーンとして使用した場合に、鉛直方向であるＸ軸方向の拡散性が相対的に小さいため、斜め上方から入射した外光がＸ軸方向に拡散され、つまり方向以外の方向に拡散され、観察者（Ｆ）に視認されることにより、プロジェクターからの投射映像のコントラストが低下する恐れが少ない。
また、前述のように、本発明の反射型スクリーンを構成する表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは、Ｚ軸方向から見た場合に互いに非平行で、また、Ｙ軸とＺ軸とを含む平面で切断した場合の断面形状が波状で互いに不規則な形状であるため、例えば、本表面微細凹凸シートの代わりに断面が円の一部である複数の凹凸形状がＸ軸方向に互いに平行に延在し、一定間隔で配列しているレンチキュラーレンズシートと比較して、モアレ干渉縞を発生しにくい、という特徴を有する。
また、前述のように、本発明の反射型スクリーンを構成する表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは、Ｚ軸方向から見た場合に互いに非平行で、また、Ｙ軸とＺ軸とを含む平面で切断した場合の断面形状が波状で互いに不規則な形状であるため、例えば、本表面微細凹凸シートの代わりに断面が円の一部である複数の凹凸形状がＸ軸方向に互いに平行に延在し、一定間隔で配列しているレンチキュラーレンズシートと比較して、モアレ干渉縞を発生しにくい、という特徴を有する。
さらに、本発明の反射型スクリーンを構成する表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは、プロジェクターからの投射光が入射する側に形成される場合（本発明）とその反対側に形成される場合とで、前記投射光の取り込み効率が異なり、その結果として、観察者（Ｆ）に届く光量つまり観察者（Ｆ）から見た場合の輝度が異なることを見出した。
本発明の反射型スクリーン（図１参照）との比較のために、図１６に示すように、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンが、プロジェクターからの投射光が入射する側と反対側に形成された反射型スクリーンを考える。ここで、図１および図１６の反射型スクリーンに使用する表面微細凹凸シートの拡散角度は、主拡散方向が３３°であり、低拡散方向が３°である。
また、フレネルレンズ形状は図１７に示すようなフレネルレンズ形状I、および図１８に示すようなフレネルレンズ形状IIの２ケースについて述べる。
本発明の反射型スクリーン（図１参照）との比較のために、図１６に示すように、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンが、プロジェクターからの投射光が入射する側と反対側に形成された反射型スクリーンを考える。ここで、図１および図１６の反射型スクリーンに使用する表面微細凹凸シートの拡散角度は、主拡散方向が３３°であり、低拡散方向が３°である。
また、フレネルレンズ形状は図１７に示すようなフレネルレンズ形状I、および図１８に示すようなフレネルレンズ形状IIの２ケースについて述べる。
図１７は本発明の反射型スクリーンIにおいて、表面微細凹凸シートがない場合（厳密には、プロジェクターからの投射光が入射する際には表面微細凹凸シートがあり、前記入射光がフレネルレンズ形状Iを通過、反射層で反射し、さらにフレネルレンズ形状Iを再通過し、反射型スクリーンから出射する際に表面微細凹凸シートがない場合）の反射型スクリーンIからの出射光の光跡を示しており、図１７（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、Ｙ軸方向から見た場合およびＸ軸方向から見た場合である。斜め上方に設置されたプロジェクターから投射された光は、Ｘ軸方向から見た場合にθ１の角度で広がりながら反射型スクリーンIに入射する。入射光は、反射型スクリーンIから出射する際、表面微細凹凸シートがない状態では、Ｘ、Ｙ軸いずれの方向から見た場合も、ほぼ平行光になる。
以上から、反射型スクリーンIの表面微細凹凸シートにプロジェクターからの投射光が入射し、フレネルレンズ形状Iと反射層で偏向・反射した光が表面微細凹凸シートから出射する場合の投射光の取り込み効率を評価する場合、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの影響が大きい主拡散方向、つまりＹ方向について考えると、下記≪１≫、≪２≫それぞれの場合の取り込み効率を測定すればいいことがわかる。
≪１≫表面微細凹凸シートのプロジェクター側の面にθ１の角度で広がる光が入光し、反対面から出光する場合
≪２≫表面微細凹凸シートの反対面に平行光が入光し、プロジェクター側の面から出光する場合
以上から、反射型スクリーンIの表面微細凹凸シートにプロジェクターからの投射光が入射し、フレネルレンズ形状Iと反射層で偏向・反射した光が表面微細凹凸シートから出射する場合の投射光の取り込み効率を評価する場合、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの影響が大きい主拡散方向、つまりＹ方向について考えると、下記≪１≫、≪２≫それぞれの場合の取り込み効率を測定すればいいことがわかる。
≪１≫表面微細凹凸シートのプロジェクター側の面にθ１の角度で広がる光が入光し、反対面から出光する場合
≪２≫表面微細凹凸シートの反対面に平行光が入光し、プロジェクター側の面から出光する場合
図１８は本発明の反射型スクリーンIIにおいて、表面微細凹凸シートがない場合（厳密には、プロジェクターからの投射光が入射する際には表面微細凹凸シートがあり、前記入射光がフレネルレンズ形状IIを通過、反射層で反射し、さらにフレネルレンズ形状IIを再通過し、反射型スクリーンから出射する際に表面微細凹凸シートがない場合）の反射型スクリーンIIからの出射光の光跡を示しており、図１８（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、Ｙ軸方向から見た場合およびＸ軸方向から見た場合である。斜め上方に設置されたプロジェクターから投射された光は、Ｘ軸方向から見た場合にθ１の角度で広がりながら反射型スクリーンIIに入射する。入射光は、反射型スクリーンIIから出射する際、表面微細凹凸シートがない状態では、Ｘ、Ｙ軸いずれの方向から見た場合も、ほぼ観察者（Ｆ）の位置が焦点となるようにθ２の角度で集光する。
以上から、反射型スクリーンIIの表面微細凹凸シートにプロジェクターからの投射光が入射し、フレネルレンズ形状IIと反射層で偏向・反射した光が表面微細凹凸シートから出射する場合の投射光の取り込み効率を評価する場合、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの影響が大きい主拡散方向、つまりＹ方向について考えると、下記≪３≫、≪４≫それぞれの場合の取り込み効率を測定すればいいことがわかる。
≪３≫表面微細凹凸シートのプロジェクター側の面にθ１の角度で広がる光が入光し、反対面から出光する場合
≪４≫表面微細凹凸シートの反対面にθ２の角度で集光する光が入光し、プロジェクター側の面から出光する場合
また、本発明の表面微細凹凸シートの主拡散方向における照度曲線は＋方向、−方方向で分布に差がないことから、表面微細凹凸シート上の波状凹凸パターンはマクロでみると＋方向、−方向で対称である。つまり、前記≪４≫の取り込み効率を考える場合、「θ２の角度で集光する光」≒「θ２の角度で広がる光」と考えてよい。
以上から、反射型スクリーンIIの表面微細凹凸シートにプロジェクターからの投射光が入射し、フレネルレンズ形状IIと反射層で偏向・反射した光が表面微細凹凸シートから出射する場合の投射光の取り込み効率を評価する場合、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの影響が大きい主拡散方向、つまりＹ方向について考えると、下記≪３≫、≪４≫それぞれの場合の取り込み効率を測定すればいいことがわかる。
≪３≫表面微細凹凸シートのプロジェクター側の面にθ１の角度で広がる光が入光し、反対面から出光する場合
≪４≫表面微細凹凸シートの反対面にθ２の角度で集光する光が入光し、プロジェクター側の面から出光する場合
また、本発明の表面微細凹凸シートの主拡散方向における照度曲線は＋方向、−方方向で分布に差がないことから、表面微細凹凸シート上の波状凹凸パターンはマクロでみると＋方向、−方向で対称である。つまり、前記≪４≫の取り込み効率を考える場合、「θ２の角度で集光する光」≒「θ２の角度で広がる光」と考えてよい。
ここで、θ１およびθ２の角度範囲について考える。一般的にスクリーンサイズとプレプロジェクターからスクリーンまでの距離との比率の最適値は、スクリーンサイズが変わっても概ね一定であり、θ１の角度範囲は〜３６°とされている。また、一般的にスクリーンサイズとスクリーンから観察者（Ｆ）までの距離との比率の最適値も、スクリーンサイズが変わっても概ね一定であり、θ２の角度範囲は２６°〜４０°とされている。
つまり、反射型スクリーンIおよびII両者について、プロジェクターからの投射光の取り込み効率を考える場合は、「表面微細凹凸シートのプロジェクター側の面にθ１の角度で広がる光（≒照射角０〜３６°の光）を入光させ反対面から出光させる場合」と「表面微細凹凸シートの反対面に平行光またはθ２の角度で広がる光（≒照射角０〜４０°の光）を入光させ、プロジェクター側の面から出光させる場合」とのトータルの取り込み効率（≒全光線透過率）を評価すればよい。
つまり、反射型スクリーンIおよびII両者について、プロジェクターからの投射光の取り込み効率を考える場合は、「表面微細凹凸シートのプロジェクター側の面にθ１の角度で広がる光（≒照射角０〜３６°の光）を入光させ反対面から出光させる場合」と「表面微細凹凸シートの反対面に平行光またはθ２の角度で広がる光（≒照射角０〜４０°の光）を入光させ、プロジェクター側の面から出光させる場合」とのトータルの取り込み効率（≒全光線透過率）を評価すればよい。
図１９に、前記、主拡散方向および低拡散方向の拡散角度がそれぞれ３３°、３°の表面微細凹凸シートに、照射角の異なる光を、「波状凹凸パターン面から入射させ、反対面から出射させた場合（図１９の●）」および「反対面から入射させ、波状凹凸パターン面から出射させた場合（図１９の○）」の全光線透過率を示す。
照射角が０〜６０°の範囲では、波状凹凸パターン面から入射させ、反対面から出射させた場合の方が、全光線透過率が高いことがわかる。
波状パターン面または反対面から入射させた場合の全光線透過率が異なる（反対面から入射させた場合の全光線透過率が低い）理由としては、波状凹凸パターン面の反対面から入射した光は、波状凹凸パターン面から出射する際、その一部が屈折率が相対的に大きい波状凹凸パターンと屈折率が相対的に小さい空気層との界面で全反射し、前記反対面から出射してしまいロスになるためと考えられる。
一方、波状凹凸パターン面から光が入射する場合は、屈折率が相対的に小さい空気層から屈折率が相対的に大きい波状凹凸パターンへの入射となるため、全反射は起きない。
なお、全光線透過率は、ヘーズメーター（例えば株式会社村上色彩技術研究所製ＨＭ−１５０）にて、各照射角の異なる光を表面微細凹凸シートに入射させた場合の出射光が全て検出できるようにアパーチャー等を調整することで測定した。
照射角が０〜６０°の範囲では、波状凹凸パターン面から入射させ、反対面から出射させた場合の方が、全光線透過率が高いことがわかる。
波状パターン面または反対面から入射させた場合の全光線透過率が異なる（反対面から入射させた場合の全光線透過率が低い）理由としては、波状凹凸パターン面の反対面から入射した光は、波状凹凸パターン面から出射する際、その一部が屈折率が相対的に大きい波状凹凸パターンと屈折率が相対的に小さい空気層との界面で全反射し、前記反対面から出射してしまいロスになるためと考えられる。
一方、波状凹凸パターン面から光が入射する場合は、屈折率が相対的に小さい空気層から屈折率が相対的に大きい波状凹凸パターンへの入射となるため、全反射は起きない。
なお、全光線透過率は、ヘーズメーター（例えば株式会社村上色彩技術研究所製ＨＭ−１５０）にて、各照射角の異なる光を表面微細凹凸シートに入射させた場合の出射光が全て検出できるようにアパーチャー等を調整することで測定した。
ここで、前記全光線透過率と、図１（本発明）および図１６の場合のプロジェクターからの光の取り込み効率との関係について考察する。
図１（本発明）の場合、プロジェクターから投射された光は全反射によるロスなく表面微細凹凸シートに取り込まれる。その後、フレネルレンズ形状、反射層を通過した光が表面微細凹凸シートから出射する際に、その一部は全反射によりフレネルレンズ形状に戻されるが、戻された光も反射層にて再度反射するため、最終的には、表面微細凹凸シートから出射可能な角度の光となり出射し、観察者（Ｆ）に届けられる。つまり、最終的には、表面微細凹凸シートに取り込まれた光はほぼ全て観察者（Ｆ）に届くため、映像の輝度の低下がない。
それに対して、図１６の場合、プロジェクターから投射された光の一部は波状凹凸パターンと空気層界面での全反射により、フレネルレンズ形状まで届く前に表面凹凸パターンシートから出射する。そのように出射した光はフレネルレンズ形状で、観察者（Ｆ）にとって最適角度に調整されることなく表面微細凹凸シートから出射するため、観察者（Ｆ）に届かないものも含まれ、その結果、観察者（Ｆ）にとって映像の輝度が低下する、と考えられる。
図１（本発明）の場合、プロジェクターから投射された光は全反射によるロスなく表面微細凹凸シートに取り込まれる。その後、フレネルレンズ形状、反射層を通過した光が表面微細凹凸シートから出射する際に、その一部は全反射によりフレネルレンズ形状に戻されるが、戻された光も反射層にて再度反射するため、最終的には、表面微細凹凸シートから出射可能な角度の光となり出射し、観察者（Ｆ）に届けられる。つまり、最終的には、表面微細凹凸シートに取り込まれた光はほぼ全て観察者（Ｆ）に届くため、映像の輝度の低下がない。
それに対して、図１６の場合、プロジェクターから投射された光の一部は波状凹凸パターンと空気層界面での全反射により、フレネルレンズ形状まで届く前に表面凹凸パターンシートから出射する。そのように出射した光はフレネルレンズ形状で、観察者（Ｆ）にとって最適角度に調整されることなく表面微細凹凸シートから出射するため、観察者（Ｆ）に届かないものも含まれ、その結果、観察者（Ｆ）にとって映像の輝度が低下する、と考えられる。
以下、本発明について、実施例を例示して具体的に説明する。
（実施例１）
［波状凹凸パターンのニッケル２次原版］
下記塗工液（１）をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製「ＬＸ-１８Ｓ」、厚さ：６０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇ１＝７５℃）の片面に、塗工乾燥後の硬質層の厚みｔ’が２．５μｍになるようにバーコーター （メイヤーバー♯１８）により塗工し、積層シートを得た。
［波状凹凸パターンのニッケル２次原版］
下記塗工液（１）をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製「ＬＸ-１８Ｓ」、厚さ：６０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇ１＝７５℃）の片面に、塗工乾燥後の硬質層の厚みｔ’が２．５μｍになるようにバーコーター （メイヤーバー♯１８）により塗工し、積層シートを得た。
塗工液（１）：
アクリル樹脂Ａ（ガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ＝１０５℃）をトルエンに加え、固形分濃度７質量％の塗工液（１）を得た。なお、上記アクリル樹脂Ａは固形分濃度２０質量％であるが、本例での質量比および濃度は、正味量（固形分量）で計算した値である。以下の例についても、正味量で計算している。
アクリル樹脂Ａ（ガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ＝１０５℃）をトルエンに加え、固形分濃度７質量％の塗工液（１）を得た。なお、上記アクリル樹脂Ａは固形分濃度２０質量％であるが、本例での質量比および濃度は、正味量（固形分量）で計算した値である。以下の例についても、正味量で計算している。
次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて１００℃で３０秒間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルムを、加熱前の長さの４５％に熱収縮させ（変形率として５５％）、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された波状凹凸パターンシート（原版）を得た。
形成された波状凹凸パターンの凸条部は、それぞれが略平行であるが蛇行して、不規則に形成されていた。
また、フーリエ変換画像の画像解析により求めた凸条部の平均ピッチは、２０μｍであり、平均高さは１１μｍであった。
次いで、得られた波状凹凸パターンシート（原版）の表面に、ニッケル電気鋳造法にて、ニッケルを５００μｍの厚さになるように堆積させた。ついで、堆積させたニッケルを波状凹凸パターンシート（原版）から剥離し、表面に波状凹凸パターンシートの波状凹凸の反転パターンが転写されたニッケル２次原版を得た。
形成された波状凹凸パターンの凸条部は、それぞれが略平行であるが蛇行して、不規則に形成されていた。
また、フーリエ変換画像の画像解析により求めた凸条部の平均ピッチは、２０μｍであり、平均高さは１１μｍであった。
次いで、得られた波状凹凸パターンシート（原版）の表面に、ニッケル電気鋳造法にて、ニッケルを５００μｍの厚さになるように堆積させた。ついで、堆積させたニッケルを波状凹凸パターンシート（原版）から剥離し、表面に波状凹凸パターンシートの波状凹凸の反転パターンが転写されたニッケル２次原版を得た。
［表面微細凹凸シート］
次いで、透明ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製「Ａ４３００」、厚さ：１８８μｍ）の片面に未硬化の紫外線硬化性樹脂Ｂ（ソニーケミカル社製）を厚さ２０μｍとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Ｂに対して、ニッケル２次原版の上記反転パターンを有する面を押し当て、紫外線を照射して硬化させ、硬化後、ニッケル２次原版を剥離して、透明ＰＥＴ基材上に、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる表面層が形成され、該表面層の表面に、上記の波状凹凸パターンシート（原版）と同じ微細凹凸が形成された表面微細凹凸シートを得た。
次いで、透明ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製「Ａ４３００」、厚さ：１８８μｍ）の片面に未硬化の紫外線硬化性樹脂Ｂ（ソニーケミカル社製）を厚さ２０μｍとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Ｂに対して、ニッケル２次原版の上記反転パターンを有する面を押し当て、紫外線を照射して硬化させ、硬化後、ニッケル２次原版を剥離して、透明ＰＥＴ基材上に、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる表面層が形成され、該表面層の表面に、上記の波状凹凸パターンシート（原版）と同じ微細凹凸が形成された表面微細凹凸シートを得た。
［反射型スクリーン］
次いで、前記表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンが形成された面の反対側の面に未硬化の紫外線硬化性樹脂Ｂ（ソニーケミカル社製）を厚さ１００μｍとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Ｂに対して、別途準備したフレネルレンズ形状（前記Iのタイプ）を有する金属型のフレネルレンズ形状を有する面を押し当て、波状凹凸パターン形成面側から紫外線を照射して硬化させ、硬化後、前記フレネルレンズ形状を有する金属型を剥離して、前記表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面と反対面にフレネルレンズ形状を形成した。
次いで、前記表面微細凹凸シートのフレネルレンズ形状が形成された面にアルミニウムを厚さ２００ｎｍとなるように蒸着し、透明ＰＥＴ基材上の片方の面に波状凹凸パターンが形成され、もう片方の面にフレネルレンズ形状I、反射層がこの順に形成された反射型スクリーン（前記Iのタイプ）を得た。
次いで、前記表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンが形成された面の反対側の面に未硬化の紫外線硬化性樹脂Ｂ（ソニーケミカル社製）を厚さ１００μｍとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Ｂに対して、別途準備したフレネルレンズ形状（前記Iのタイプ）を有する金属型のフレネルレンズ形状を有する面を押し当て、波状凹凸パターン形成面側から紫外線を照射して硬化させ、硬化後、前記フレネルレンズ形状を有する金属型を剥離して、前記表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面と反対面にフレネルレンズ形状を形成した。
次いで、前記表面微細凹凸シートのフレネルレンズ形状が形成された面にアルミニウムを厚さ２００ｎｍとなるように蒸着し、透明ＰＥＴ基材上の片方の面に波状凹凸パターンが形成され、もう片方の面にフレネルレンズ形状I、反射層がこの順に形成された反射型スクリーン（前記Iのタイプ）を得た。
（実施例２）
［反射型スクリーン］
別途準備したフレネルレンズ形状が前記IIのタイプである以外は、実施例１と同様にして、反射型スクリーン（前記IIのタイプ）を得た。
［反射型スクリーン］
別途準備したフレネルレンズ形状が前記IIのタイプである以外は、実施例１と同様にして、反射型スクリーン（前記IIのタイプ）を得た。
（比較例１）
［反射型スクリーン］
実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。
次いで、別途用意した透明ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製「Ａ４３００」、厚さ：１８８μｍ）の片方の面に実施例１と同様にしてフレネルレンズ形状IIおよび反射層を形成し、前記表面微細凹凸シートの透明ＰＥＴ基材、波状凹凸パターンがこの順に積層し、さらに透明ＰＥＴ基材、フレネルレンズ形状II、反射層がこの順に積層した反射型スクリーンを得た。
このようにして得た反射スクリーンは、表面微細凹凸シートの透明ＰＥＴ基材と波状凹凸パターンは一体化しており、また、別の透明ＰＥＴ基材とフレネルレンズ形状IIと反射層からなる積層体は一体化しているが、表面微細凹凸シートと積層体は接触しているが一体化はしていない。
［反射型スクリーン］
実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。
次いで、別途用意した透明ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製「Ａ４３００」、厚さ：１８８μｍ）の片方の面に実施例１と同様にしてフレネルレンズ形状IIおよび反射層を形成し、前記表面微細凹凸シートの透明ＰＥＴ基材、波状凹凸パターンがこの順に積層し、さらに透明ＰＥＴ基材、フレネルレンズ形状II、反射層がこの順に積層した反射型スクリーンを得た。
このようにして得た反射スクリーンは、表面微細凹凸シートの透明ＰＥＴ基材と波状凹凸パターンは一体化しており、また、別の透明ＰＥＴ基材とフレネルレンズ形状IIと反射層からなる積層体は一体化しているが、表面微細凹凸シートと積層体は接触しているが一体化はしていない。
（比較例２）
［反射型スクリーン］
波状凹凸パターンの代わりに、レンチキュラーレンズパターンを使用する以外は実施例１と同様にして、反射型スクリーンを得た。
［反射型スクリーン］
波状凹凸パターンの代わりに、レンチキュラーレンズパターンを使用する以外は実施例１と同様にして、反射型スクリーンを得た。
（評価）
上記の各例で得られた反射型スクリーンの主拡散方向（Ｙ軸方向）の照射角を表１に示す。
ここで、主拡散方向の照射角とは、図１４（実施例１、比較例１および２の場合）および図１５（実施例２の場合）に示すような反射型シート、プロジェクターおよび観察者（Ｆ）の位置関係にて、θ１が３０°、反射型スクリーンサイズがＹ軸方向１，１００ｍｍ、Ｘ軸方向６２０ｍｍで反射型スクリーンと観察者（Ｆ）との距離が１，５００ｍｍで、プロジェクターおよび観察者（Ｆ）は、反射型スクリーンのＹ軸方向中心から伸ばした法線上に配置される場合、プロジェクターから反射型スクリーンに白色光を投射し、Ｙ軸方向における照度曲線を前述の方法にて測定し、反射型スクリーンの基準面の法線方向における照度を１とした時、照度が０．５以上となる角度範囲のことである。
上記の各例で得られた反射型スクリーンの主拡散方向（Ｙ軸方向）の照射角を表１に示す。
ここで、主拡散方向の照射角とは、図１４（実施例１、比較例１および２の場合）および図１５（実施例２の場合）に示すような反射型シート、プロジェクターおよび観察者（Ｆ）の位置関係にて、θ１が３０°、反射型スクリーンサイズがＹ軸方向１，１００ｍｍ、Ｘ軸方向６２０ｍｍで反射型スクリーンと観察者（Ｆ）との距離が１，５００ｍｍで、プロジェクターおよび観察者（Ｆ）は、反射型スクリーンのＹ軸方向中心から伸ばした法線上に配置される場合、プロジェクターから反射型スクリーンに白色光を投射し、Ｙ軸方向における照度曲線を前述の方法にて測定し、反射型スクリーンの基準面の法線方向における照度を１とした時、照度が０．５以上となる角度範囲のことである。
上記の各例で得られた反射型スクリーンにプロジェクターから白色光を投射し、観察者（Ｆ）の位置にて、正面輝度を測定し、また、モアレ干渉縞を目視評価した。
その測定および評価結果を表１に示す。モアレ干渉縞の目視評価基準は下記とした。
モアレ干渉縞がない場合：○
モアレ干渉縞がある場合：×
その測定および評価結果を表１に示す。モアレ干渉縞の目視評価基準は下記とした。
モアレ干渉縞がない場合：○
モアレ干渉縞がある場合：×
実施例１および２の反射型スクリーンはプロジェクターからの投射光の入射側に波状凹凸パターンを有することで、投射光の取り込み効率が大きくなるため、相対正面輝度が高く、また、モアレ干渉縞もないが、比較例１の反射型スクリーンはプロジェクターからの投射光の入射側に波状凹凸パターンがなく、投射光の取り込み効率が小さくなるため、相対正面輝度が低下し、また、比較例２はプロジェクターからの投射光の入射側に波状凹凸パターンではなく規則形状であるレンチキュラーレンズパターンを有するため、モアレ干渉縞がある。
１０Ａ、１０Ｄ：表面微細凹凸シート
１０ＡＡ：波状凹凸パターン層（波状凹凸パターンが形成された表面層）
１０ＡＢ：基材
１１：波状凹凸パターン形成面
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、３２ａ、３３ａ、４２ａ：凸条部
１１ｅ、３２ｂ、３３ｂ、４２ｂ：凹条部
２０：フレネルレンズ形状
３０：反射層
４３：凸部
１００、１００I、１００II：反射型スクリーン
２００：プロジェクター
（Ｆ）（図１４、図１５、図１７及び図１８においてＦを○で囲った記号）：観察者
θ１、θ２：光の広がる角度
１０ＡＡ：波状凹凸パターン層（波状凹凸パターンが形成された表面層）
１０ＡＢ：基材
１１：波状凹凸パターン形成面
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、３２ａ、３３ａ、４２ａ：凸条部
１１ｅ、３２ｂ、３３ｂ、４２ｂ：凹条部
２０：フレネルレンズ形状
３０：反射層
４３：凸部
１００、１００I、１００II：反射型スクリーン
２００：プロジェクター
（Ｆ）（図１４、図１５、図１７及び図１８においてＦを○で囲った記号）：観察者
θ１、θ２：光の広がる角度
Claims (4)
- 少なくとも（１）反射層、（２）フレネルレンズ形状層、及び（３）表面微細凹凸シート、を順に有する反射型スクリーンであって、
前記反射型スクリーンの表面に、不規則な波状凹凸パターンが形成されている
反射型スクリーン。 - 前記表面微細凹凸シートが、基材及び波状凹凸パターン層から構成されており、
前記波状凹凸パターン層の一方の表面に、前記不規則な波状凹凸パターンが形成されている、
請求項１に記載の反射型スクリーン。 - フロントプロジェクター用である、請求項１又は２に記載の反射型スクリーン。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の反射型スクリーンの使用方法であって、
前記反射型スクリーンの前記波状凹凸パターンとフロントプロジェクターとが対向するように前記反射型スクリーンを配置し、
前記表面微細凹凸シートの主拡散方向が水平方向と略一致するように、前記反射型スクリーンを配置する、
反射型スクリーンの使用方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016074769A JP2017187561A (ja) | 2016-04-01 | 2016-04-01 | 反射型スクリーン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016074769A JP2017187561A (ja) | 2016-04-01 | 2016-04-01 | 反射型スクリーン |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017187561A true JP2017187561A (ja) | 2017-10-12 |
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ID=60045607
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|---|---|---|---|
| JP2016074769A Pending JP2017187561A (ja) | 2016-04-01 | 2016-04-01 | 反射型スクリーン |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2016
- 2016-04-01 JP JP2016074769A patent/JP2017187561A/ja active Pending
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| CN111556983B (zh) * | 2017-12-20 | 2021-11-16 | Ａｇｃ株式会社 | 透明屏幕、影像投影层合板及影像显示*** |
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