JP2017181622A - Light transmissive conductive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光透過性及び導電性を有する光透過性導電フィルムに関する。 The present invention relates to a light-transmitting conductive film having light transmittance and conductivity.
近年、スマートフォン、携帯電話、ノートパソコン、タブレットＰＣ、複写機又はカーナビゲーションなどの電子機器において、タッチパネル式の液晶表示装置が、広く用いられている。このような液晶表示装置では、基材上に透明導電層が積層された光透過性導電フィルムが用いられている。 In recent years, touch panel liquid crystal display devices have been widely used in electronic devices such as smartphones, mobile phones, notebook computers, tablet PCs, copiers, and car navigation systems. In such a liquid crystal display device, a light transmissive conductive film in which a transparent conductive layer is laminated on a substrate is used.
下記の特許文献１には、支持体と、特定の屈折率を有するポリマー層と、導電層とを備える光透過性導電フィルムが開示されている。特許文献１では、特許文献１に記載された発明の効果として、透明性を損なうことなく虹むらの発生が防止され、オリゴマーの析出が無いことが記載されている。
光透過性導電フィルムにおいては、光が反射し、反射した光が互いに干渉して見える虹色の干渉むらが問題となることがある。この虹色の干渉むらは、虹むらと呼ばれる。 In a light-transmitting conductive film, light reflection is reflected, and rainbow-colored interference unevenness in which the reflected light appears to interfere with each other may be a problem. This rainbow-colored interference unevenness is called rainbow unevenness.
特許文献１に記載の光透過性導電フィルムでは、虹むらをある程度抑えることができる。しかし、特許文献１に記載の光透過性導電フィルムでも、虹むらの抑制効果は十分ではないことがある。
In the light-transmitting conductive film described in
本発明の目的は、虹むらが視認され難い光透過性導電フィルムを提供することである。 An object of the present invention is to provide a light-transmitting conductive film in which rainbow unevenness is difficult to be visually recognized.
本発明の広い局面によれば、光透過性及び導電性を有する導電層と、前記導電層の一方の表面側に配置されている基材フィルムと、前記基材フィルムの前記導電層側とは反対側に配置されているハードコート層とを備え、光透過性導電フィルムの前記導電層からの反射光が遮断された状態にて、前記ハードコート層の前記基材フィルム側とは反対側の表面の波長５００ｎｍ又は６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅が０．５％未満である、光透過性導電フィルムが提供される。 According to a wide aspect of the present invention, a conductive layer having light permeability and conductivity, a base film disposed on one surface side of the conductive layer, and the conductive layer side of the base film are: A hard coat layer disposed on the opposite side, and in a state where the light reflected from the conductive layer of the light transmissive conductive film is blocked, the hard coat layer on the side opposite to the base film side A light-transmitting conductive film is provided in which the interference wave amplitude of light reflectance at a surface wavelength of 500 nm or 600 nm is less than 0.5%.
本発明に係る光透過性導電フィルムのある特定の局面では、前記光透過性導電フィルムは、アンダーコート層を備え、前記基材フィルムの前記導電層側とは反対側に前記アンダーコート層が配置されており、前記アンダーコート層の前記基材フィルム側とは反対側に前記ハードコート層が配置されている。 On the specific situation with the transparent conductive film which concerns on this invention, the said transparent conductive film is equipped with an undercoat layer, and the said undercoat layer is arrange | positioned on the opposite side to the said conductive layer side of the said base film. The hard coat layer is disposed on the side of the undercoat layer opposite to the base film side.
本発明に係る光透過性導電フィルムのある特定の局面では、前記アンダーコート層の屈折率が、前記基材フィルムの屈折率と前記ハードコート層の屈折率との間である。 On the specific situation with the transparent electroconductive film which concerns on this invention, the refractive index of the said undercoat layer is between the refractive index of the said base film and the refractive index of the said hard-coat layer.
本発明に係る光透過性導電フィルムのある特定の局面では、前記アンダーコート層の光学厚みが１２５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下である。 On the specific situation with the transparent electroconductive film which concerns on this invention, the optical thickness of the said undercoat layer is 125 nm or more and 150 nm or less.
本発明に係る光透過性導電フィルムは、光透過性及び導電性を有する導電層と、上記導電層の一方の表面側に配置されている基材フィルムと、上記基材フィルムの上記導電層側とは反対側に配置されているハードコート層とを備え、光透過性導電フィルムの上記導電層からの反射光が遮断された状態にて、上記ハードコート層の上記基材フィルム側とは反対側の表面の波長５００ｎｍ又は６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅が０．５％未満であるので、虹むらを視認され難くすることができる。 The light-transmitting conductive film according to the present invention includes a light-transmitting and conductive conductive layer, a base film disposed on one surface side of the conductive layer, and the conductive layer side of the base film. And a hard coat layer disposed on the opposite side of the light-transmitting conductive film in a state where reflected light from the conductive layer is blocked, opposite to the base film side of the hard coat layer Since the amplitude of the interference wave of the reflectance of light at a wavelength of 500 nm or 600 nm on the side surface is less than 0.5%, it is possible to make the rainbow unevenness difficult to see.
以下、本発明の詳細を説明する。 Details of the present invention will be described below.
本発明に係る光透過性導電フィルムは、導電層と、基材とを備える。上記導電層は、光透過性及び導電性を有する。上記基材は、上記導電層の一方の表面側に配置されている。本発明に係る光透過性導電フィルムは、上記基材の全体又は一部として、基材フィルムと、ハードコート層とを含む。 The light transmissive conductive film according to the present invention includes a conductive layer and a base material. The conductive layer has light transmittance and conductivity. The base material is disposed on one surface side of the conductive layer. The light-transmitting conductive film according to the present invention includes a base film and a hard coat layer as the whole or a part of the base.
上記導電層の一方の表面側に、上記基材フィルムが配置されている。上記基材フィルムの上記導電層側とは反対側に、上記ハードコート層が配置されている。 The base film is disposed on one surface side of the conductive layer. The hard coat layer is disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film.
上記光透過性導電フィルムでは、上記導電層、（他の層（任意））、上記基材フィルム、（アンダーコート層等の他の層（任意））、上記ハードコート層がこの順で配置されている。 In the light transmissive conductive film, the conductive layer, (other layers (optional)), the base film, (other layers such as undercoat layers (optional)), and the hard coat layer are arranged in this order. ing.
本発明に係る光透過性導電フィルムの上記導電層からの反射光が遮断された状態にて、上記ハードコート層の上記基材フィルム側とは反対側の表面の波長５００ｎｍ又は６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅が０．５％未満である。光透過性導電フィルムの上記導電層からの反射光が遮断された状態にするためには、例えば、導電層の基材フィルム側とは反対側に、光非透過性部材を配置すればよい。 In the state where the light reflected from the conductive layer of the light-transmitting conductive film according to the present invention is blocked, the light of a wavelength of 500 nm or 600 nm on the surface of the hard coat layer opposite to the substrate film side is transmitted. The amplitude of the interference wave of reflectivity is less than 0.5%. In order to make the reflected light from the conductive layer of the light transmissive conductive film blocked, for example, a light non-transmissive member may be disposed on the side of the conductive layer opposite to the base film side.
本発明では、上記の構成が備えられているので、虹むらを視認され難くすることができる。また、ハードコート層の厚みにばらつきがあっても、虹むらを視認され難くすることができる。本発明では、波長５００ｎｍ又は６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅が上記上限未満であるため、視感度の高い波長（例えば５５０ｎｍ付近）での光の反射率の干渉波の振幅を抑えることができるので、虹むらを視認され難くすることができる。 In the present invention, since the above-described configuration is provided, it is possible to make the rainbow unevenness less visible. Further, even if the thickness of the hard coat layer varies, it is possible to make the rainbow unevenness difficult to be visually recognized. In the present invention, since the amplitude of the interference wave of the light reflectance at a wavelength of 500 nm or 600 nm is less than the above upper limit, the amplitude of the interference wave of the light reflectance at a wavelength with high visibility (for example, near 550 nm) is suppressed. Therefore, it is possible to make the rainbow unevenness difficult to see.
光の波長と、光の反射率とは、例えば、図３に示すような関係を示す。光の波長が増加するに従い、光の反射率は低下と増加とを繰り返す。図３の一部を拡大して図４に示すように、光の反射率の増加から低下に変わる第１の点の光の反射率と、その増加から低下に変わった後に低下から増加に変わる第２の点の光の反射率との差の絶対値が、１つの干渉波の振幅である。図３に示すように、光の反射率の干渉波の振幅（第１の点と第２の点とを結ぶ振幅）は複数存在する。光の反射率の干渉波の複数の振幅（第１の点と第２の点とを結ぶ複数の振幅）のうち、波長５００ｎｍ部分を含む振幅を、波長５００ｎｍでの振幅とする。光の反射率の干渉波の複数の振幅（第１の点と第２の点とを結ぶ複数の振幅）のうち、波長６００ｎｍ部分を含む振幅を、波長６００ｎｍでの振幅とする。
The wavelength of light and the reflectance of light show a relationship as shown in FIG. 3, for example. As the wavelength of light increases, the reflectance of light repeats decreasing and increasing. As shown in FIG. 4 by enlarging a part of FIG. 3, the light reflectance of the first point that changes from an increase in light reflectance to a decrease, and then changes from decrease to increase after changing from increase to decrease. The absolute value of the difference from the reflectance of the light at the second point is the amplitude of one interference wave. As shown in FIG. 3, there are a plurality of interference wave amplitudes (amplitudes connecting the first point and the second point) of the light reflectance. Of a plurality of amplitudes (a plurality of amplitudes connecting the first point and the second point) of the interference wave of the light reflectance, an amplitude including a wavelength of 500 nm is defined as an amplitude at a wavelength of 500 nm. Of a plurality of amplitudes (a plurality of amplitudes connecting the first point and the second point) of the interference wave of the reflectance of light, an amplitude including a
本発明では、波長５００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅のみが０．５％未満であってもよく、波長６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅のみが０．５％未満であってもよく、波長５００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅と波長６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅との双方が０．５％未満であることが好ましい。 In the present invention, only the amplitude of the interference wave of the light reflectance at the wavelength of 500 nm may be less than 0.5%, and only the amplitude of the interference wave of the light reflectance at the wavelength of 600 nm is less than 0.5%. It is preferable that both the amplitude of the interference wave of the light reflectance at a wavelength of 500 nm and the amplitude of the interference wave of the light reflectance at a wavelength of 600 nm are less than 0.5%.
上記基材は、基材フィルム及びハードコート層を含む。上記基材は、アンダーコート層を含むことが好ましい。虹むらをより一層抑える観点からは、上記光透過性導電フィルムは、アンダーコート層を備えることが好ましい。上記アンダーコート層は、上記基材フィルムの上記導電層側とは反対側に配置されていることが好ましい。上記アンダーコート層の上記基材フィルム側とは反対側に、上記ハードコート層が配置されていることが好ましい。上記基材フィルムと、上記ハードコート層との間に、上記アンダーコート層が配置されていることが好ましい。 The base material includes a base film and a hard coat layer. The substrate preferably includes an undercoat layer. From the viewpoint of further suppressing rainbow unevenness, the light transmissive conductive film preferably includes an undercoat layer. The undercoat layer is preferably disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film. The hard coat layer is preferably disposed on the side of the undercoat layer opposite to the base film side. It is preferable that the undercoat layer is disposed between the base film and the hard coat layer.
上記光透過性導電フィルムは、アニール処理された光透過性導電フィルムであることが好ましい。 The light transmissive conductive film is preferably an annealed light transmissive conductive film.
本発明に係る光透過性導電フィルムを液晶表示装置に用いた場合、虹むらを視認され難くすることができ、表示品質を高めることができる。よって、本発明に係る光透過性導電フィルムは、液晶表示装置に好適に用いることができ、タッチパネルにより好適に用いることができる。 When the light-transmitting conductive film according to the present invention is used in a liquid crystal display device, rainbow unevenness can be made difficult to be visually recognized, and display quality can be improved. Therefore, the light-transmitting conductive film according to the present invention can be suitably used for a liquid crystal display device and can be suitably used for a touch panel.
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図１は、本発明の一実施形態に係る光透過性導電フィルムを示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a light transmissive conductive film according to an embodiment of the present invention.
図１に示す光透過性導電フィルム１は、基材２、導電層３及び保護フィルム４を備える。
The light transmissive
基材２は、第１の表面２ａ及び第２の表面２ｂを有する。第１の表面２ａと、第２の表面２ｂとは、互いに対向している。基材２の第１の表面２ａ上に、導電層３が積層されている。第１の表面２ａは、導電層３が積層される側の表面である。基材２は、導電層３と保護フィルム４との間に配置される部材であり、導電層３の支持部材である。
The
基材２の第２の表面２ｂ上に、保護フィルム４が積層されている。第２の表面２ｂは、保護フィルム４が積層される側の表面である。保護フィルム４を設けることで、基材２の第２の表面２ｂを保護することができる。
A
基材２は、基材フィルム１１、第１及び第２のハードコート層１２，１３及び第１，第２及び第３のアンダーコート層１４，１５，１６を有する。基材フィルム１１は、光透過性の高い材料により構成されている。基材フィルム１１の導電層３側の表面上には、第２のアンダーコート層１５、第２のハードコート層１３及び第３のアンダーコート層１６がこの順に積層されている。基材フィルム１１の導電層３側とは反対側の表面上には、第１のアンダーコート層１４及び第１のハードコート層１２がこの順に積層されている。
The
従って、全体として、光透過性導電フィルム１は、導電層３、第３のアンダーコート層１６、第２のハードコート層１３、第２のアンダーコート層１５、基材フィルム１１、第１のアンダーコート層１４、第１のハードコート層１２、及び保護フィルム４がこの順で積層された構造を有する。
Therefore, as a whole, the light-transmitting
第３のアンダーコート層１６は、導電層３に接している。第２のハードコート層１３は、第３のアンダーコート層１６及び第２のアンダーコート層１５に接している。第２のアンダーコート層１５は、第２のハードコート層１３及び基材フィルム１１に接している。基材フィルム１１は、第２のアンダーコート層１５及び第１のアンダーコート層１４に接している。第１のハードコート層１２は、第１のアンダーコート層１４及び保護フィルム４に接している。保護フィルム４は、第１のハードコート層１２に接している。
The
導電層３は、光透過性が高く、かつ導電性の高い材料により構成されている。
The
保護フィルムは、粘着剤層により、基材の第２の表面２ｂに積層されてもよい。基材の第２の表面２ｂは、保護フィルムの上記粘着剤層と接していることが好ましい。
A protective film may be laminated | stacked on the
第３のアンダーコート層１６はなくてもよい。第２のハードコート層１３はなくてもよい。第２のアンダーコート層１５はなくてもよい。第１のアンダーコート層１４はなくてもよいが、第１のアンダーコート層１４があることが好ましい。
The
次に、図１に示す光透過性導電フィルム１の製造方法を説明する。
Next, a method for manufacturing the light transmissive
光透過性導電フィルム１は、例えば、以下の方法により作製することができる。
The light transmissive
基材フィルム１１の一方の表面上に、第１のアンダーコート層１４を形成する。具体的に、ＳｉＯ２を用いる場合は、蒸着又はスパッタリングにより、紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、塗工液を塗布することにより、基材フィルム１１上に第１のアンダーコート層１４を形成することができる。
A
次に、第１のアンダーコート層１４の基材フィルム１１とは反対側の表面上に、第１のハードコート層１２を形成する。具体的には、第１のハードコート層１２の形成に、樹脂に紫外線硬化樹脂を用いる場合は、光硬化性モノマー及び光開始剤を希釈剤中で撹拌して塗工液を作製する。得られた塗工液を基材フィルム１１上に塗布し、紫外線を照射して樹脂を硬化させて、第１のハードコート層１２を形成する。
Next, the first
続いて、第１のハードコート層１２上に保護フィルム４を形成する。保護フィルム４として、基材シート上に粘着剤層が設けられた保護フィルムを用いる場合は、粘着面を第１のハードコート層１２の表面に貼り合わせて、第１のハードコート層１２上に保護フィルム４を形成することができる。
Subsequently, the
次に、基材フィルム１１の第１のハードコート層１２とは反対側の表面上に、第２のアンダーコート層１５を形成する。第２のアンダーコート層１５は、第１のアンダーコート層１４と同様に、ＳｉＯ２又は紫外線硬化性樹脂等を用いて形成することができる。
Next, the
次に、第２のアンダーコート層１５の基材フィルム１１とは反対側の表面上に、第２のハードコート層１３を形成する。第２のハードコート層１３は、第１のハードコート層１２と同様にして、紫外線硬化樹脂等を用いて形成することができる。
Next, the second
次に、第２のハードコート層１３の第２のアンダーコート層１５とは反対の表面上に、第３のアンダーコート層１６を形成する。第３のアンダーコート層１６は、第１のアンダーコート層１４と同様に、ＳｉＯ２又は紫外線硬化性樹脂等を用いて形成することができる。
Next, a
次に、第３のアンダーコート層１６の第２のハードコート層１３とは反対の表面上に、導電層３を形成することにより、光透過性導電フィルム１を作製することができる。
Next, the light-transmissive
導電層の形成方法は、特に限定されない。例えば、蒸着又はスパッタリングにより、導電性の金属酸化膜が形成される。形成した導電層は、アニール処理により結晶性を高めることができる。 The method for forming the conductive layer is not particularly limited. For example, a conductive metal oxide film is formed by vapor deposition or sputtering. The formed conductive layer can be improved in crystallinity by annealing.
光透過性導電フィルム１は、図２に示すように、スクリーン印刷又はインクジェット印刷などの各種印刷方法、並びにレジストを用いたフォトリソグラフィー法等の公知のパターニング方法等を用いて、導電層３（図１）をパターン状の導電層３Ｘにすることにより、光透過性導電フィルム１Ｘとして用いることができる。導電層３の基材２とは反対側の表面上に、レジスト層を部分的に形成して、エッチング処理することで、パターン状の導電層３Ｘを形成することができる。エッチング処理後には、水洗が行われる。
As shown in FIG. 2, the light-transmitting
光透過性導電フィルム１Ｘは、パターン状の導電層３Ｘを有する。パターン状の導電層３Ｘは、基材２の第１の表面２ａ上に部分的に積層されている。光透過性導電フィルム１Ｘは、基材２の第１の表面２ａ上において、パターン状の導電層３Ｘがある部分と、パターン状の導電層３Ｘがない部分とを有する。第３のアンダーコート層１６は、パターン状の導電層３Ｘがある部分と、パターン状の導電層３Ｘがない部分との色目を近づける働きがあり、導電層３Ｘのパターンを目立たなくする。
The light transmissive
アニール処理の温度は、好ましくは１２０℃以上、より好ましくは１４０℃以上、好ましくは１７０℃以下、より好ましくは１６０℃以下である。 The annealing temperature is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, preferably 170 ° C. or lower, and more preferably 160 ° C. or lower.
上記アニール処理の処理時間は、好ましくは５分以上、より好ましくは１０分以上、好ましくは６０分以下、より好ましくは３０分以下である。 The treatment time for the annealing treatment is preferably 5 minutes or more, more preferably 10 minutes or more, preferably 60 minutes or less, more preferably 30 minutes or less.
光透過性導電フィルム１Ｘは、保護フィルム４を積層したまま使用してもよいし、保護フィルム４を剥がして使用してもよい。
The light transmissive
以下、光透過性導電フィルムを構成する各層の詳細を説明する。 Hereinafter, the detail of each layer which comprises a translucent conductive film is demonstrated.
（基材）
基材の全体の厚みは、好ましくは２３μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
(Base material)
The total thickness of the substrate is preferably 23 μm or more, more preferably 50 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less.
（基材フィルム）；
基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、基材フィルムの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記基材フィルムの材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
(Base film);
The base film preferably has high light transmittance. Accordingly, the material of the base film is not particularly limited. For example, polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Examples include phthalate, triacetylcellulose, and cellulose nanofiber. The material for the base film may be used alone or in combination.
基材フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、好ましくは１９０μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下である。基材フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、導電層のパターンを、より一層視認され難くすることができる。 The thickness of the base film is preferably 5 μm or more, more preferably 20 μm or more, preferably 190 μm or less, more preferably 125 μm or less. When the thickness of the base film is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the pattern of the conductive layer can be made even less visible.
また、基材フィルムの光透過率に関しては、波長３８０〜７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率が好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。 Regarding the light transmittance of the substrate film, the average transmittance in the visible light region having a wavelength of 380 to 780 nm is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more.
また、基材フィルムは、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。 Moreover, the base film may contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, or colorants.
（基材フィルムの導電層側とは反対側に配置されるアンダーコート層）；
虹むらをより一層抑える観点からは、上記基材フィルムの上記導電層側とは反対側に上記アンダーコート層（第１のアンダーコート層）が配置されていることが好ましく、上記アンダーコート層（第１のアンダーコート層）の上記基材フィルム側とは反対側に上記ハードコート層（第１のハードコート層）が配置されていることが好ましい。
(Undercoat layer disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film);
From the viewpoint of further suppressing rainbow unevenness, it is preferable that the undercoat layer (first undercoat layer) is disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film, and the undercoat layer ( It is preferable that the hard coat layer (first hard coat layer) is disposed on the opposite side of the first undercoat layer) to the base film side.
基材フィルムとして例えばポリエチレンテレフタレートを用いた場合、フィルムの表面が高度に結晶配向しているため、ハードコート層等に対する接着性が乏しい。このためにコーティング剤を塗工しやすいようにアンダーコート層が塗布される。 When, for example, polyethylene terephthalate is used as the base film, the surface of the film has a high crystal orientation, and therefore the adhesion to the hard coat layer and the like is poor. For this purpose, an undercoat layer is applied so that the coating agent can be easily applied.
アンダーコート層を構成する材料としては、特に限定されず、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂及びシロキサンポリマーなどの有機材料が挙げられる。 The material constituting the undercoat layer is not particularly limited, and examples thereof include organic materials such as polyester resin, acrylic resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, and siloxane polymer.
アンダーコート層を基材フィルムに塗布するための方法として、公知の任意の方法を用いることができる。この方法としては、例えば、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ダイコーター法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーコート法、パイプドクター法、含浸コート法、及びカーテンコート法等が挙げられる。これらの方法を単独で、あるいは組み合わせて塗布が行われる。 Any known method may be used as a method for applying the undercoat layer to the base film. As this method, for example, reverse roll coating method, gravure coating method, kiss coating method, die coater method, roll brush method, spray coating method, air knife coating method, wire bar coating method, pipe doctor method, impregnation coating method, and curtain Examples thereof include a coating method. These methods can be applied alone or in combination.
虹むらをより一層抑える観点からは、上記基材フィルムの上記導電層側とは反対側に配置されるアンダーコート層（第１のアンダーコート層）の屈折率は、上記基材フィルムの屈折率と、アンダーコート層（第１のアンダーコート層）の基材フィルム側とは反対側に配置される上記ハードコート層（第１のハードコート層）の屈折率との間であることが好ましい。 From the viewpoint of further suppressing rainbow unevenness, the refractive index of the undercoat layer (first undercoat layer) disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film is the refractive index of the base film. And the refractive index of the hard coat layer (first hard coat layer) disposed on the side opposite to the base film side of the undercoat layer (first undercoat layer).
虹むらをより一層抑える観点からは、基材フィルムの導電層側とは反対側に配置されるアンダーコート層の光学厚み、すなわち屈折率と厚みの積は、好ましくは１２５ｎｍ以上、より好ましくは１３０ｎｍ以上、更に好ましくは１３５ｎｍ以上、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１４５ｎｍ以下、更に好ましくは１４０ｎｍ以下である。 From the viewpoint of further suppressing rainbow unevenness, the optical thickness of the undercoat layer disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film, that is, the product of the refractive index and the thickness is preferably 125 nm or more, more preferably 130 nm. More preferably, it is 135 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 145 nm or less, and still more preferably 140 nm or less.
（第１及び第２のハードコート層）；
第１及び第２のハードコート層はそれぞれ、バインダー樹脂により構成されていることが好ましい。上記バインダー樹脂は、硬化樹脂であることが好ましい。上記硬化樹脂としては、熱硬化樹脂や、活性エネルギー線硬化樹脂などを用いることができる。生産性及び経済性を良好にする観点から、上記硬化樹脂は、紫外線硬化樹脂であることが好ましい。
(First and second hard coat layers);
Each of the first and second hard coat layers is preferably composed of a binder resin. The binder resin is preferably a cured resin. As the curable resin, a thermosetting resin, an active energy ray curable resin, or the like can be used. From the viewpoint of improving productivity and economy, the curable resin is preferably an ultraviolet curable resin.
上記紫外線硬化樹脂を形成するための光硬化性モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレートのようなジアクリレート化合物；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレートのようなトリアクリレート化合物；ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレートのようなテトラアクリレート化合物；並びにジペンタエリトリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレートのようなペンタアクリレート化合物等が挙げられる。上記紫外線硬化樹脂としては、５官能以上の多官能アクリレートも用いてもよい。上記多官能アクリレートは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。また、上記多官能アクリレート化合物に、光開始剤、光増感剤、レベリング剤、希釈剤などを添加してもよい。 Examples of the photocurable monomer for forming the ultraviolet curable resin include 1,6-hexanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, and tetraethylene glycol diacrylate. , Tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, poly (butanediol) diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate Such as triisopropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate and bisphenol A dimethacrylate Triacrylate compounds such as trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol monohydroxytriacrylate and trimethylolpropane triethoxytriacrylate; of pentaerythritol tetraacrylate and di-trimethylolpropane tetraacrylate And tetraacrylate compounds such as dipentaerythritol (monohydroxy) pentaacrylate. As the ultraviolet curable resin, a polyfunctional acrylate having 5 or more functional groups may be used. The said polyfunctional acrylate may be used independently and may use multiple together. Moreover, you may add a photoinitiator, a photosensitizer, a leveling agent, a diluent, etc. to the said polyfunctional acrylate compound.
また、第２のハードコート層は、樹脂部及びフィラーにより構成されていてもよい。第２のハードコート層がフィラーを含む場合、導電層のパターンをより一層視認され難くすることができる。なお、第２のハードコート層がフィラーを含む場合、表面粗さによる曇りが生じることがあり、液晶表示装置に用いると表示光が見えにくくなることがある。従って、ゆず肌を生じ難くする観点からは、第２のハードコート層が、フィラーを含まず、樹脂部のみによって構成されていることが望ましい。あるいは、フィラーの平均粒子径が、第２のハードコート層の厚みより小さく、第２のハードコート層の表面において突出していないことが好ましい。 Moreover, the 2nd hard-coat layer may be comprised by the resin part and the filler. When the second hard coat layer contains a filler, the pattern of the conductive layer can be made even less visible. When the second hard coat layer contains a filler, cloudiness due to surface roughness may occur, and display light may be difficult to see when used in a liquid crystal display device. Therefore, it is desirable that the second hard coat layer does not contain a filler and is constituted only by the resin portion from the viewpoint of making it difficult to produce the yuzu skin. Or it is preferable that the average particle diameter of a filler is smaller than the thickness of a 2nd hard-coat layer, and does not protrude in the surface of a 2nd hard-coat layer.
上記フィラーとしては、特に限定されないが、例えば、シリカ、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化セリウム、インジウム−錫酸化物などの金属酸化物粒子；シリコーン、（メタ）アクリル、スチレン、メラミンなどの樹脂粒子等が挙げられる。より具体的には、架橋ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどの樹脂粒子を用いることができる。上記フィラーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 Examples of the filler include, but are not limited to, metal oxides such as silica, iron oxide, aluminum oxide, zinc oxide, titanium oxide, silicon dioxide, antimony oxide, zirconium oxide, tin oxide, cerium oxide, and indium-tin oxide. Product particles; resin particles such as silicone, (meth) acryl, styrene, melamine, and the like. More specifically, resin particles such as crosslinked poly (meth) methyl acrylate can be used. The said filler may be used independently and may use multiple together.
また、第１及び第２のハードコート層はそれぞれ、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤又は着色剤を含んでいてもよい。 The first and second hard coat layers may each contain various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, or colorants.
（基材フィルムの導電層側に配置されるアンダーコート層）；
基材フィルムの導電層側に配置される第２のアンダーコート層は、例えば、屈折率調整層であることが好ましい。第２のアンダーコート層を設けることで、導電層と、第２のハードコート層又は基材フィルムとの間の屈折率の差を小さくすることができるので、光透過性導電フィルムの光透過性をより一層高めることができる。
(Undercoat layer disposed on the conductive layer side of the base film);
It is preferable that the 2nd undercoat layer arrange | positioned at the conductive layer side of a base film is a refractive index adjustment layer, for example. By providing the second undercoat layer, the difference in refractive index between the conductive layer and the second hard coat layer or substrate film can be reduced, so that the light transmissive conductive film has light transmittance. Can be further increased.
アンダーコート層を構成する材料としては、屈折率調整機能を有する限り特に限定されず、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａｌ２Ｏ３などの無機材料や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂及びシロキサンポリマーなどの有機材料が挙げられる。 The material constituting the undercoat layer is not particularly limited as long as it has a refractive index adjustment function, inorganic materials such as SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3 , acrylic resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, and the like Organic materials such as siloxane polymers can be mentioned.
アンダーコート層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は塗工法により形成することができる。 The undercoat layer can be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a coating method.
導電層のパターン見えをより一層抑える観点からは、基材フィルムの導電層側に配置される第３のアンダーコート層の屈折率が、上記基材フィルムの屈折率、上記第２のハードコート層の屈折率及び導電層の屈折率より低いことが好ましい。 From the viewpoint of further suppressing the pattern appearance of the conductive layer, the refractive index of the third undercoat layer disposed on the conductive layer side of the base film is the refractive index of the base film, and the second hard coat layer. It is preferable that the refractive index is lower than that of the conductive layer and the refractive index of the conductive layer.
導電層のパターン見えをより一層抑える観点からは、基材フィルムの導電層側に配置される第３のアンダーコート層の厚みは、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。 From the viewpoint of further suppressing the pattern appearance of the conductive layer, the thickness of the third undercoat layer disposed on the conductive layer side of the base film is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, preferably 50 nm or less, More preferably, it is 30 nm or less.
（導電層）；
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料としては、特に限定されないが、例えば、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）や、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などのＩｎ系酸化物、ＳｎＯ２、ＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）などのＳｎ系酸化物、ＡＺＯ（アルミニウム亜鉛酸化物）、ＧＺＯ（ガリウム亜鉛酸化物）などのＺｎ系酸化物、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３混合物、Ａｌ／ＬｉＦ混合物、金等の金属、ＣｕＩ、Ａｇナノワイヤー（ＡｇＮＷ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）又は導電性透明ポリマーなどが挙げられる。上記導電性材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
(Conductive layer);
The conductive layer is made of a light-transmitting conductive material. As the conductive material is not particularly limited, for example, IZO (indium zinc oxide) or, In-based oxides such as ITO (indium tin oxide), Sn, such as
導電性をより一層高め、光透過性をより一層高める観点から、上記導電性材料は、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）や、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などのＩｎ系酸化物、ＳｎＯ２、ＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）などのＳｎ系酸化物、ＡＺＯ（アルミニウム亜鉛酸化物）、ＧＺＯ（ガリウム亜鉛酸化物）などのＺｎ系酸化物であることが好ましく、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）であることがより好ましい。 From the viewpoint of further increasing the conductivity and further increasing the light transmittance, the conductive material is selected from In-based oxides such as IZO (indium zinc oxide) and ITO (indium tin oxide), SnO 2 , FTO. Sn-based oxides such as (fluorine-doped tin oxide), Zn-based oxides such as AZO (aluminum zinc oxide) and GZO (gallium zinc oxide) are preferable, and ITO (indium tin oxide) is preferable. Is more preferable.
導電層の厚みは、好ましくは１２ｎｍ以上、より好ましくは１６ｎｍ以上、更に好ましくは１７ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、更に好ましくは１９．９ｎｍ以下である。 The thickness of the conductive layer is preferably 12 nm or more, more preferably 16 nm or more, still more preferably 17 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and even more preferably 19.9 nm or less.
導電層の厚みが上記下限以上である場合、光透過性導電フィルムの抵抗値を効果的に低くすることができ、導電性をより一層高めることができる。導電層の厚みが上記上限以下である場合、導電層のパターンをより一層視認され難くすることができ、光透過性導電フィルムをより一層薄くすることができる。 When the thickness of the conductive layer is not less than the above lower limit, the resistance value of the light transmissive conductive film can be effectively reduced, and the conductivity can be further increased. When the thickness of the conductive layer is less than or equal to the above upper limit, the pattern of the conductive layer can be made less visible and the light transmissive conductive film can be made even thinner.
また、導電層の光透過率に関しては、可視光領域における平均透過率が好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。 Regarding the light transmittance of the conductive layer, the average transmittance in the visible light region is preferably 85% or more, more preferably 90% or more.
（保護フィルム）；
保護フィルムは、基材シート及び粘着剤層により構成されていることが好ましい。
(Protective film);
It is preferable that the protective film is comprised by the base material sheet and the adhesive layer.
上記基材シートは、高い光透過性を有することが好ましい。上記基材シートの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。 The base sheet preferably has high light transmittance. The material of the base sheet is not particularly limited, but for example, polyolefin, polyethersulfone, polysulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate , Triacetyl cellulose, and cellulose nanofibers.
上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤により構成することができる。熱処理による粘着力の上昇を抑制する観点から、上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤により構成されていることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer can be composed of a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based adhesive, or an epoxy-based adhesive. From the viewpoint of suppressing an increase in adhesive force due to heat treatment, the adhesive layer is preferably composed of a (meth) acrylic adhesive.
上記（メタ）アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル重合体に、必要に応じて架橋剤、粘着付与樹脂及び各種安定剤などを添加した粘着剤である。 The (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive in which a crosslinking agent, a tackifier resin, various stabilizers, and the like are added to a (meth) acrylic polymer as necessary.
上記（メタ）アクリル重合体は、特に限定されないが、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、共重合可能な他の重合性モノマーとを含む混合モノマーを共重合して得られた（メタ）アクリル共重合体であることが好ましい。 The (meth) acrylic polymer is not particularly limited, but the (meth) acrylic copolymer obtained by copolymerizing a mixed monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and another polymerizable monomer capable of copolymerization. A polymer is preferred.
上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、特に限定されないが、アルキル基の炭素数が１〜１２の１級又は２級のアルキルアルコールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化反応により得られる（メタ）アクリル酸エステルモノマーが好ましく、具体的には、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルなどが挙げられる。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 Although it does not specifically limit as said (meth) acrylic acid ester monomer, It is obtained by esterification reaction of the primary or secondary alkyl alcohol whose carbon number of an alkyl group is 1-12, and (meth) acrylic acid ( A (meth) acrylate monomer is preferable, and specific examples include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate-2-ethylhexyl. The said (meth) acrylic acid ester monomer may be used independently and may use multiple together.
上記共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル；（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジメタクリレート、（メタ）アクリル酸グリシジル、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸等の官能性モノマーが挙げられる。上記共重合可能な他の重合性モノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 Examples of other polymerizable monomers that can be copolymerized include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate; Isobornyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycerin dimethacrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, crotonic acid, malein Examples thereof include functional monomers such as acid and fumaric acid. The said other polymerizable monomer which can be copolymerized may be used independently, and may use multiple together.
上記架橋剤としては、特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤、多官能アクリレートなどが挙げられる。上記架橋剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The crosslinking agent is not particularly limited, and for example, an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a melamine crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, a urea crosslinking agent, a metal alkoxide crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent. Agents, metal salt crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, amine crosslinking agents, polyfunctional acrylates and the like. The above crosslinking agents may be used alone or in combination.
上記粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族系共重合体、芳香族系共重合体、脂肪族・芳香族系共重合体及び脂環式系共重合体等の石油系樹脂；クマロン−インデン系樹脂；テルペン系樹脂；テルペンフェノール系樹脂；重合ロジン等のロジン系樹脂；フェノール系樹脂；キシレン系樹脂等が挙げられる。上記粘着付与樹脂は、水素添加された樹脂であってもよい。上記粘着付与樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。 The tackifying resin is not particularly limited, and examples thereof include petroleum resins such as aliphatic copolymers, aromatic copolymers, aliphatic / aromatic copolymers, and alicyclic copolymers. Coumarone-indene resin; terpene resin; terpene phenol resin; rosin resin such as polymerized rosin; phenol resin; xylene resin. The tackifying resin may be a hydrogenated resin. The tackifying resins may be used alone or in combination.
保護フィルムの厚みは、好ましくは２５μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。保護フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、導電層のパターンを、より一層視認され難くすることができる。 The thickness of the protective film is preferably 25 μm or more, more preferably 50 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less. When the thickness of the protective film is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the pattern of the conductive layer can be made even less visible.
以下、本発明について、具体的な実施例に基づき、更に詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on specific examples. The present invention is not limited to the following examples.
（実施例１）
次のようにして光透過性導電フィルムを得た。なお、以下の屈折率は波長５５０ｎｍにおける値である。
Example 1
A light transmissive conductive film was obtained as follows. The following refractive indexes are values at a wavelength of 550 nm.
一方側の表面上に第１のアンダーコート層（厚み８２．０６ｎｍ、屈折率１．５８０９）が形成され、他方側の表面上に第２のアンダーコート層（厚み８５．５ｎｍ、屈折率１．６５３３）が形成されているＰＥＴ樹脂基材（厚み１２５μｍ、屈折率１．６６）を用意した。 A first undercoat layer (thickness 82.06 nm, refractive index 1.5809) is formed on one surface, and a second undercoat layer (thickness 85.5 nm, refractive index 1.75) is formed on the other surface. 6533) was prepared. A PET resin substrate (thickness 125 μm, refractive index 1.66) was prepared.
第１のアンダーコート層上に、アクリレート系樹脂を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥した後に紫外線を照射して、第１のハードコート層（厚み１３７０ｎｍ、屈折率１．５０３２）を形成した。 On the first undercoat layer, a photoreactive coating solution containing an acrylate resin is applied, dried by heating, and then irradiated with ultraviolet rays to form a first hard coat layer (thickness 1370 nm, refractive index 1.5032). Formed.
次に、第２のアンダーコート層の上に、光学干渉層として、ジルコニア粒子を含むアクリレート系樹脂によって第２のハードコート層（厚み９５５ｎｍ、屈折率１．６６１）と、アクリレート系樹脂によって第３のアンダーコート層（厚み２５ｎｍ、屈折率１．５１）とを形成した。さらに、第３のアンダーコート層上に、密着性向上のためのＳｉＯｘ層を介して、導電層としてＩＴＯ（インジウムスズ酸化物、厚み１８．５ｎｍ、屈折率１．９３）を成膜し、光透過性導電フィルムを得た。具体的にはターゲット材として、酸化インジウム：９５重量％及び酸化スズ：５重量％を含む焼結体材料を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ＳｉＯｘ層を形成し、その上に、ＩＴＯ層を形成した。 Next, on the second undercoat layer, as an optical interference layer, a second hard coat layer (thickness 955 nm, refractive index 1.661) is made of acrylate resin containing zirconia particles, and third is made of acrylate resin. Undercoat layer (thickness 25 nm, refractive index 1.51). Furthermore, on the third undercoat layer, ITO (indium tin oxide, thickness 18.5 nm, refractive index 1.93) was formed as a conductive layer through a SiO x layer for improving adhesion, A light transmissive conductive film was obtained. Specifically, a SiO x layer is formed by a DC magnetron sputtering method using a sintered body material containing 95% by weight of indium oxide and 5% by weight of tin oxide as a target material, and an ITO layer is formed thereon. Formed.
得られた光透過性導電フィルムをオーブン内で１４０℃、３０分加熱することにより、所定の抵抗値（１５０Ω／□）の光透過性導電フィルムを得た。 The obtained light-transmitting conductive film was heated in an oven at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a light-transmitting conductive film having a predetermined resistance value (150Ω / □).
（実施例２）
第１のアンダーコート層（厚み８２．０６ｎｍ、屈折率１．５８０９）を、第１のアンダーコート層（厚み８４．３９ｎｍ、屈折率１．５９８７）に変更したこと、並びに第１のハードコート層（厚み１３７０ｎｍ、屈折率１．５０３２）を、第１のハードコート層（厚み８８０ｎｍ、屈折率１．５５２６）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、光透過性導電フィルムを得た。
(Example 2)
The first undercoat layer (thickness 82.06 nm, refractive index 1.5809) was changed to the first undercoat layer (thickness 84.39 nm, refractive index 1.5987), and the first hard coat layer A light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that (thickness 1370 nm, refractive index 1.5032) was changed to the first hard coat layer (thickness 880 nm, refractive index 1.5526). .
（実施例３）
第１のアンダーコート層（厚み８２．０６ｎｍ、屈折率１．５８０９）を、第１のアンダーコート層（厚み８６．６９ｎｍ、屈折率１．５６８８）に変更したこと、並びに第１のハードコート層（厚み１３７０ｎｍ、屈折率１．５０３２）を、第１のハードコート層（厚み１２９０ｎｍ、屈折率１．４８３２）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、光透過性導電フィルムを得た。
(Example 3)
The first undercoat layer (thickness 82.06 nm, refractive index 1.5809) was changed to the first undercoat layer (thickness 86.69 nm, refractive index 1.5688), and the first hard coat layer A light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that (thickness 1370 nm, refractive index 1.5032) was changed to the first hard coat layer (thickness 1290 nm, refractive index 1.4832). .
（比較例）
第１のアンダーコート層（厚み８２．０６ｎｍ、屈折率１．５８０９）を、第１のアンダーコート層（厚み９９．３７ｎｍ、屈折率１．５７０８）に変更したこと、並びに第１のハードコート層（厚み１３７０ｎｍ、屈折率１．５０３２）を、第１のハードコート層（厚み１３１５ｎｍ、屈折率１．５３９５）に変更したこと以外は実施例１と同様にして、光透過性導電フィルムを得た。
(Comparative example)
The first undercoat layer (thickness 82.06 nm, refractive index 1.5809) was changed to the first undercoat layer (thickness 99.37 nm, refractive index 1.5708), and the first hard coat layer A light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that (thickness 1370 nm, refractive index 1.5032) was changed to the first hard coat layer (thickness 1315 nm, refractive index 1.5395). .
（評価）
（１）干渉波の振幅の測定
反射率は分光光度計（日本分光社製Ｖ−６７０）を用いて５度正反射を測定した。測定条件は次の通りである。
(Evaluation)
(1) Measurement of amplitude of interference wave The reflectance was measured by regular reflection at 5 degrees using a spectrophotometer (V-670 manufactured by JASCO Corporation). The measurement conditions are as follows.
波長範囲：８００ｎｍから２５０ｎｍ
走査速度：４００ｎｍ／分
データ取り込み間隔：１ｎｍ
Wavelength range: 800 nm to 250 nm
Scanning speed: 400 nm / min Data acquisition interval: 1 nm
また、得られた反射率スペクトルから、各層の厚みと屈折率とを計算した。計算はＷＶＡＳＥ３２（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製）で行った。 Moreover, the thickness and refractive index of each layer were calculated from the obtained reflectance spectrum. The calculation was performed with WVASE32 (manufactured by JA Woollam).
得られた光透過性導電フィルムの導電層の外側の表面を４００番の紙やすり（三共理化学社製）で削って表面を粗らした後に、黒テープ（積水化学工業社製エスロンテープ＃３６０）を貼った。 The outer surface of the conductive layer of the obtained light-transmitting conductive film was shaved with a No. 400 sandpaper (manufactured by Sankyori Chemical Co., Ltd.) to roughen the surface, and then black tape (Eslon tape # 360 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). Pasted.
このようにして光透過性導電フィルムの導電層からの反射光を遮断した状態にして、第１のハードコート層の基材フィルム側とは反対側の表面の光の波長と反射率との関係を測定し、波長５００ｎｍ及び波長６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅を評価した。 In this way, the reflected light from the conductive layer of the light transmissive conductive film is blocked, and the relationship between the wavelength of light on the surface opposite to the base film side of the first hard coat layer and the reflectance. Was measured, and the amplitude of the interference wave of the reflectance of light at a wavelength of 500 nm and a wavelength of 600 nm was evaluated.
（２）虹むら
得られた光透過性導電フィルムを白い紙の上に置き、昼光色の三波長型蛍光灯照明下で目視観察することにより、虹むらを評価した。虹むらを以下の基準で判定した。
(2) Rainbow unevenness The obtained light-transmitting conductive film was placed on white paper and visually observed under daylight-colored three-wavelength fluorescent lamp illumination to evaluate rainbow unevenness. Rainbow spot was judged according to the following criteria.
［虹むらの判定基準］
○○…虹むらが全く気にならない
○…虹むらがほとんど気にならない
△…若干虹むらが気になる
×…油膜のような虹むらがはっきり視認される
[Rainbow Judgment Criteria]
○○… I don't care about rainbow spots at all ○… I don't really care about rainbow spots △… I'm worried about some rainbow spots
詳細及び結果を下記の表１に示す。 Details and results are shown in Table 1 below.
また、図３に、実施例及び比較例における第１のハードコート層の基材フィルム側とは反対側の表面の波長２５０ｎｍ以上、８００ｎｍ以下での光の反射率の干渉波の振幅の測定結果を示した。 FIG. 3 shows the measurement results of the amplitude of the interference wave of the reflectance of light at a wavelength of 250 nm or more and 800 nm or less on the surface opposite to the base film side of the first hard coat layer in Examples and Comparative Examples. showed that.
１，１Ｘ…光透過性導電フィルム
２…基材
２ａ…第１の表面
２ｂ…第２の表面
３…導電層
３Ｘ…パターン状の導電層
４…保護フィルム
１１…基材フィルム
１２…第１のハードコート層
１３…第２のハードコート層
１４…第１のアンダーコート層
１５…第２のアンダーコート層
１６…第３のアンダーコート層
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記導電層の一方の表面側に配置されている基材フィルムと、
前記基材フィルムの前記導電層側とは反対側に配置されているハードコート層とを備え、
光透過性導電フィルムの前記導電層からの反射光が遮断された状態にて、前記ハードコート層の前記基材フィルム側とは反対側の表面の波長５００ｎｍ又は６００ｎｍでの光の反射率の干渉波の振幅が０．５％未満である、光透過性導電フィルム。 A conductive layer having optical transparency and conductivity;
A substrate film disposed on one surface side of the conductive layer;
A hard coat layer disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film,
Interference of light reflectance at a wavelength of 500 nm or 600 nm on the surface of the hard coat layer opposite to the substrate film side in a state where the reflected light from the conductive layer of the light transmissive conductive film is blocked A light-transmitting conductive film having a wave amplitude of less than 0.5%.
前記基材フィルムの前記導電層側とは反対側に前記アンダーコート層が配置されており、
前記アンダーコート層の前記基材フィルム側とは反対側に前記ハードコート層が配置されている、請求項１に記載の光透過性導電フィルム。 With an undercoat layer,
The undercoat layer is disposed on the side opposite to the conductive layer side of the base film,
The light-transmitting conductive film according to claim 1, wherein the hard coat layer is disposed on a side opposite to the base film side of the undercoat layer.
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