JP2017162811A - 物体の構築方法およびそれに関連する粒子ビームシステム - Google Patents
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Abstract
Description
3 第二の粒子ビームコラム
7 第一の粒子ビームコラム
13 基板
15 表面
17 イオンビーム
19 第一の電子ビーム
85 溝
89 表面領域
91 マーク
Claims (12)
- 物体を構築する方法において、
基板を第一の粒子ビームコラムおよび第二の粒子ビームコラムの作業領域に配置するステップと、
前記第一の粒子ビームコラムにより生成された第一の粒子ビームを前記基板の複数の箇所に誘導して、そこに材料を堆積させるか、そこから材料を除去することによって、前記基板上に所望のターゲット構造を製造するステップと、
前記所望のターゲット構造の製造を繰り返し中断し、前記第一の粒子ビームを前記基板上に誘導することによって前記基板上にマークを生成し、前記所望のターゲット構造の製造を継続するステップと、
前記第二の粒子ビームコラムにより生成された第二の粒子ビームを前記基板上の前記マークへと誘導することによって前記基板上の前記マークの位置を捕捉し、前記プロセス中に前記基板上に前記第二の粒子ビームにより生成された粒子または放射を検出するステップと、
を含み、
前記第一の粒子ビームコラムにより生成される予定の前記第一の粒子ビームのビーム偏向は、前記捕捉されたマークの位置に依存して判断され、それによって前記第一の粒子ビームが前記基板の前記複数の箇所へと誘導される方法。 - 前記所望のターゲット構造は2つの表面領域を有し、その表面法線の向きには、5°より大きい、特に10°より大きい、特に15°より大きい差がある、請求項1に記載の方法。
- 前記所望のターゲット構造の製造を開始する前に、前記基板の上にマークを生成するステップをさらに含む、請求項1または2に記載の方法。
- 前記マークは前記基板の表面領域に隣接させて生成され、この表面領域の表面法線の向きには、5°未満、特に1°未満、および特に0.1°未満の差がある、請求項1〜3の何れか1項に記載の方法。
- 前記基板の表面領域に金属層を堆積させるステップをさらに含み、前記マークは前記金属層に生成される、請求項1〜4の何れか1項に記載の方法。
- 前記マークは各々、1本の直線または2本の交差する直線を含む、請求項1〜5の何れか1項に記載の方法。
- 前記第一の粒子ビーム装置の主軸と前記第二の粒子ビーム装置の主軸の相互に関して、10°より大きく、特に20°より大きく、特に30°より大きい角度で向き付けられる、請求項1〜6の何れか1項に記載の方法。
- 前記基板上の前記マークの位置を捕捉するステップは、少なくとも1対のマークの相互からの距離を測定するステップを含む、請求項1〜7の何れか1項に記載の方法。
- 前記第二の粒子ビームを前記基板の、前記ターゲット構造を製造している領域に誘導することによって、製造中の前記ターゲット構造の瞬間的形状を捕捉するステップと、前記プロセス中に前記第二の粒子ビームによって前記基板上に生成された粒子または放射を検出するステップと、をさらに含み、
前記第一の粒子ビームコラムによって生成される予定であり、前記第一の粒子ビームが前記基板上の複数の箇所に誘導されるような、前記第一の粒子ビームの前記ビーム偏向はさらに、製造中の前記ターゲット構造の前記捕捉された瞬間的形状に依存して判断される、
請求項1〜8の何れか1項に記載の方法。 - 前記第一の粒子ビームコラムにより生成される前記第一の粒子ビームはイオンビーム、特にガリウムイオンビームであり、前記第二の粒子ビームコラムにより生成される前記第二の粒子ビームは電子ビームである、請求項1〜9の何れか1項に記載の方法。
- 前記物体がTEMラメラである、請求項1〜10の何れか1項に記載の方法。
- 第一の粒子ビームコラムと、第二の粒子ビームコラムと、コントローラと、を含む粒子ビームシステムにおいて、
前記コントローラは、前記粒子ビームシステムを、それが請求項1〜11の何れか1項に記載の方法を実行するように制御するように構成された粒子ビームシステム。
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