JP2017144424A - 触媒、アミド結合の形成方法、及びアミド化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】アミド結合形成反応に使用でき、高温での反応を要さず、かつ基質の適用範囲が広い触媒の提供。【解決手段】下記式で表される構造骨格を有する、４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール、２−フロオロ−４−（２−（９−フルオロ−１，３−ジオキサ−３ａ１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール、等で例示される２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン誘導体からなる触媒。【選択図】なし

Description

本発明は、新規な触媒、並びにそれを用いたアミド結合の形成方法、及びそれを用いたアミド化合物の製造方法に関する。

アミド結合は、タンパク質等の生体高分子やナイロン等の合成高分子の基本構成単位であるほか、合成医薬品の２５％に含まれる。そのため、アミド結合形成反応は、産業上の有用性が非常に高い（非特許文献１参照）。

アミド結合形成反応は、通常、化学量論上の活性化剤を用いて実施される。そのため、所望のアミドが生成する一方で、廃棄物を大量に副生するという問題がある。
そこで、アメリカ化学会グリーンケミストリー部会に所属する複数の製薬会社からなるワーキンググループは、２００６年に「廃棄物の少ないアミド結合形成反応」をもっとも開発の望まれる反応に選定している（非特許文献２参照）。

そこで、近年、触媒的アミド結合形成反応が検討され、提案されている（非特許文献３参照）。
例えば、酵素触媒を用いる反応が提案されている。しかし、この反応では、酵素に対する基質の適用範囲が限定的であるという問題がある。
例えば、金属触媒を用いる反応が提案されている。しかし、この反応では、１５０℃程度の高温を要するという問題がある。
例えば、ホウ酸、芳香族ボロン酸、又は芳香族ボリン酸を触媒として用いる反応が提案されている（非特許文献４参照）。しかし、この方法では、触媒を基質に対して１０ｍｏｌ％程度使用し、収率が５０％〜６０％程度である。特に、基質の適用範囲が限定的である点、具体的には、立体的に嵩高い基を有する基質の反応には適さない点で問題がある。

したがって、アミド結合形成反応に使用でき、高温での反応を要さず、かつ基質の適用範囲が広い触媒が求められているのが現状である。

Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ．， ２０１１， ５４， ３４５１． Ｇｒｅｅｎ Ｃｈｅｍ．， ２００７， ５， ４１１． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｒｅｖ．， ２０１４， ４３， ２７１４． Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．， ２０１２， ７７， ８３８６．

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、アミド結合形成反応に使用でき、高温での反応を要さず、かつ基質の適用範囲が広い触媒を提供すること、並びにその触媒を用いたアミド結合の形成方法、及びその触媒を用いたアミド化合物の製造方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
本発明の触媒は、下記一般式（１）で表される。
ただし、前記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、及び置換基のいずれかを表す。

本発明のアミド結合の形成方法は、カルボン酸化合物のカルボキシル基と、アミン化合物のアミノ基とを本発明の前記触媒の存在下で反応させてアミド結合を形成することを特徴とする。

本発明のアミド化合物の製造方法は、カルボン酸化合物と、アミン化合物とを、本発明の前記触媒の存在下で反応させてアミド化合物を得ることを特徴とする。

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、アミド結合形成反応に使用でき、高温での反応を要さず、かつ基質の適用範囲が広い触媒を提供すること、並びにその触媒を用いたアミド結合の形成方法、及びその触媒を用いたアミド化合物の製造方法を提供することができる。

（触媒）
本発明の触媒は、下記一般式（１）で表される。
ただし、前記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、及び置換基のいずれかを表す。

＜置換基＞
前記置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子供与性基、電子吸引性基などが挙げられる。
前記触媒は、後述の実施例からも理解されるように、前記一般式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^１６に電子供与性基、又は電子吸引性基を有していても、アミド結合形成反応における触媒として機能する。

＜＜電子供与性基＞＞
前記電子供与性基としては、例えば、アルキル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルオキシ基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、モノ又はジ置換アミノ基などが挙げられる。

前記アルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基が特に好ましい。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基などが挙げられる。

前記アルキルオキシ基としては、炭素数１〜２０のアルキルオキシ基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキルオキシ基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキルオキシ基が特に好ましい。
前記アルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基などが挙げられる。

前記アシルオキシ基としては、炭素数１〜２０のアシルオキシ基が好ましく、炭素数１〜１２のアシルオキシ基がより好ましく、炭素数１〜６のアシルオキシ基が特に好ましい。
前記アシルオキシ基としては、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。

前記スルホニルオキシ基としては、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基などが挙げられる。

前記アルコキシカルボニルオキシ基としては、炭素数２〜２１のアルコキシカルボニルオキシ基が好ましく、炭素数２〜１３のアルコキシカルボニルオキシ基がより好ましく、炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基が特に好ましい。

前記アリールオキシカルボニルオキシ基としては、例えば、フェニルオキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。

前記アルキルチオ基としては、炭素数１〜２０のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキルチオ基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキルチオ基が特に好ましい。

前記モノ又はジ置換アミノ基としては、モノ又はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基などが挙げられる。

＜＜電子吸引性基＞＞
前記電子吸引性基としては、例えば、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリール基、カルボキシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、アルキルオキシスルホニル基などが挙げられる。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

前記ハロアルキル基としては、炭素数１〜２０のハロアルキル基が好ましく、炭素数１〜１２のハロアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のハロアルキル基が特に好ましい。
前記ハロアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基などが挙げられる。

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられる。

前記アルキルオキシカルボニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキルオキシカルボニル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキルオキシカルボニル基が特に好ましい。
前記アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基などが挙げられる。

前記アリールオキシカルボニル基としては、炭素数６〜２０のアリールオキシカルボニル基が好ましい。
前記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基などが挙げられる。

前記アラルキルオキシカルボニル基としては、炭素数７〜２１のアラルキルオキシカルボニル基が好ましい。
前記アラルキルオキシカルボニル基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル基などが挙げられる。

前記アシル基としては、炭素数１〜２０のアシル基が好ましく、炭素数１〜１２のアシル基がより好ましく、炭素数１〜６のアシル基が特に好ましい。
前記アシル基としては、脂肪族アシル基、芳香族アシル基などが挙げられる。
前記アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基などが挙げられる。

前記アルキルオキシスルホニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルオキシスルホニル基が好ましく、炭素数１〜１２のアルキルオキシスルホニル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキルオキシスルホニル基が特に好ましい。
前記アルキルオキシスルホニル基としては、例えば、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基などが挙げられる。

−Ｒ^１２及びＲ^１６−
更に、Ｒ^１２及びＲ^１６のいずれかは、電子吸引性基としての下記一般式（２）で表される基であってもよいし、電子吸引性基としての下記一般式（３）で表される基であってもよい。
ただし、前記一般式（２）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２７は、それぞれ独立して、水素原子、及び置換基のいずれかを表す。
前記置換基としては、例えば、前記一般式（１）における置換基の説明で例示した置換基が挙げられる。
ただし、前記一般式（３）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２７、及びＲ^３１〜Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子、及び置換基のいずれかを表す。
前記置換基としては、例えば、前記一般式（１）における置換基の説明で例示した置換基が挙げられる。

例えば、Ｒ^２１〜Ｒ^２７は、以下の基が挙げられる。
Ｒ^２１は、Ｒ^１と同じ基である。
Ｒ^２２は、Ｒ^２と同じ基である。
Ｒ^２３は、Ｒ^３と同じ基である。
Ｒ^２４は、Ｒ^４と同じ基である。
Ｒ^２５は、Ｒ^５と同じ基である。
Ｒ^２６は、Ｒ^６と同じ基である。
Ｒ^２７は、Ｒ^７と同じ基である。

前記一般式（１）で表される触媒としては、例えば、下記一般式（１Ａ）で表される触媒、下記一般式（１Ｂ）で表される触媒、下記一般式（１Ｃ）で表される触媒などが挙げられる。もちろん、本発明の触媒は下記一般式に限定されない。
ただし、前記一般式（１Ａ）中、Ｒ^６及びＲ^１４は、前記一般式（１）中のＲ^６及びＲ^１４とそれぞれ同じである。
ただし、前記一般式（１Ｂ）中、Ｒ^６は、前記一般式（１）中のＲ^６と同じであり、Ｒ^２６は、前記一般式（２）中のＲ^２６と同じである。
ただし、前記一般式（１Ｃ）中、Ｒ^６は、前記一般式（１）中のＲ^６と同じであり、Ｒ^２６は、前記一般式（３）中のＲ^２６と同じである。

＜触媒の製造方法＞
本発明の触媒の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下の反応スキームで例示される方法が挙げられる。より具体的な製造方法は、後述の実施例に記載されている。

なお、下記スキームの製造方法において得られる化合物は、不安定なＢ−Ｐｈ（フェニル）アザボリン構造を有するものの、触媒として使用するには問題のないものである。

（アミド結合の形成方法、アミド化合物の製造方法）
本発明のアミド結合の形成方法では、カルボン酸化合物のカルボキシル基と、アミン化合物のアミノ基とを本発明の前記触媒の存在下で反応させてアミド結合を形成する。
本発明のアミド化合物の製造方法では、カルボン酸化合物と、アミン化合物とを、本発明の前記触媒の存在下で反応させてアミド化合物を得る。

＜カルボン酸化合物＞
従来のホウ素触媒を用いたアミド結合形成反応では、立体的に嵩高いカルボン酸化合物は基質として使用できない。
一方、本発明の前記触媒は、アミド結合形成反応に使用される従来のホウ素触媒と異なり、立体的に嵩高いカルボン酸化合物であっても、アミド結合形成反応の基質として使用することができる。
そのため、前記アミド結合の形成方法、及び前記アミド化合物の製造方法においては、前記カルボン酸化合物としては、カルボキシル基を有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記カルボン酸化合物は、モノカルボン酸化合物であってもよいし、多価カルボン酸化合物であってもよい。前記モノカルボン酸化合物とは、分子中に１つのカルボキシル基を有する化合物である。前記多価カルボン酸化合物とは、分子中に２つ以上のカルボキシル基を有する化合物である。
前記カルボン酸化合物が前記多価カルボン酸化合物である場合、各カルボキシル基の反応性の違いを利用して、アミド結合形成反応を制御すればよい。

前記カルボン酸化合物としては、例えば、下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^ａ−ＣＯＯＨ ・・・一般式（Ａ）
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒ^ａは、有機基を表す。

前記カルボン酸化合物の分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分子量１，０００以下が好ましく、分子量５００以下がより好ましい。

前記カルボン酸化合物の具体例を以下に例示する。もちろん、本発明における前記カルボン酸化合物は、以下の具体例に限定されない。

＜アミン化合物＞
前記アミン化合物としては、アミノ基を有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記アミン化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^ｂ−ＮＲ^ｃＨ ・・・一般式（Ｂ）
ただし、前記一般式（Ｂ）中、Ｒ^ｂは、有機基を表し、Ｒ^ｃは、水素原子又は有機基を表し、Ｒ^ｂとＲ^ｃとは一緒になって環構造を形成していてもよい。

前記アミン化合物の分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分子量１，０００以下が好ましく、分子量５００以下がより好ましい。

前記アミン化合物は、モノアミン化合物であってもよいし、多価アミン化合物であってもよい。前記アミン化合物とは、分子中に１つのアミノ基を有する化合物である。前記多価アミン化合物とは、分子中に２つ以上のアミノ基を有する化合物である。
前記アミン化合物が前記多価アミン化合物である場合、各アミノ基の反応性の違いを利用して、アミド結合形成反応を制御すればよい。

前記アミン化合物におけるアミノ基は、１級アミノ基であっても、２級アミノ基であってもよい。

前記アミン化合物の具体例を以下に例示する。もちろん、本発明における前記アミン化合物は、以下の具体例に限定されない。

＜アミド化合物＞
前記アミド化合物としては、アミド結合を有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式（Ｃ）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^ａ−ＣＯＮＲ^ｃ−Ｒ^ｂ ・・・一般式（Ｃ）
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、有機基を表し、Ｒ^Ｃは、水素原子又は有機基を表し、Ｒ^ｂとＲ^ｃとは一緒になって環構造を形成していてもよい。

＜反応条件＞
＜＜触媒の使用量＞＞
前記アミド結合の形成方法、及び前記アミド化合物の製造方法において、前記触媒の使用量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、本発明の前記触媒は、従来のホウ素触媒の使用量よりも少ない使用量で反応を進行させることができる。その点で、前記触媒の使用量としては、基質（例えば、前記カルボン酸化合物）に対して、１ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％が好ましく、１ｍｏｌ％〜８ｍｏｌ％がより好ましく、２ｍｏｌ％〜７ｍｏｌ％が特に好ましい。

＜＜反応温度、反応時間＞＞
前記アミド結合の形成方法、及び前記アミド化合物の製造方法における反応温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、本発明の前記触媒は、高温（例えば、１５０℃）を要せずに反応を進行させることができる。その点で、前記反応温度としては、３０℃〜１２０℃が好ましく、４０℃〜１００℃がより好ましい。
前記反応時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１時間〜４８時間が挙げられる。

＜＜その他の条件＞＞
前記カルボン酸化合物と、前記アミン化合物との使用量比としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、廃棄物が少ない点で、当量比が好ましい。

前記アミド結合の形成方法、及び前記アミド化合物の製造方法における反応は、有機溶媒存在下で行うことが好ましい。前記有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。

前記アミド結合の形成方法、及び前記アミド化合物の製造方法における反応は、不活性雰囲気下で行うことが好ましい。前記不活性雰囲気としては、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などが挙げられる。

以下に本発明の実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
以下の実施例において、「Ｐｈ」は、フェニル基を表す。

（合成例１Ａ）
＜２−ブロモ−６−フェニルアニリンの合成＞

２，６−ジブロモアニリン（３．００ｇ、１１．９ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１．４５ｇ、１１．９ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（７．６０ｇ、７１．７ｍｍｏｌ）、及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（６９１ｍｇ、０．５９８ｍｍｏｌ）のトルエン（１２０ｍＬ）溶液にエタノール（３０ｍＬ）、及び蒸留水（３０ｍＬ）を室温にて加え、アルゴン雰囲気下にて加熱還流条件にて２４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（５０ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層をｎ−ヘキサン（５０ｍＬ）にて３回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。こうして得られた濃縮液をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン／クロロホルム）で精製し、２−ブロモ−６−フェニルアニリンを白色個体として得た（１．６６g、６．６９ｍｍｏｌ、収率５６％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） δ： ７．４８−７．３３ （ｍ， ６Ｈ）， ７．０５ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．６ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．６８ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．６， ７．８ Ｈｚ， １Ｈ）， ４．１９ （ｓ， ２Ｈ）．

（合成例１Ｂ)
＜２−ブロモ−４−フルオロ−６−フェニルアニリンの合成＞

合成例１Ａにおいて、２，６−ジブロモアニリン（１１．９ｍｍｏｌ）を、２，６−ジブロモ−４−フルオロアニリン（１１．９ｍｍｏｌ）に変えた以外は、合成例１Ａと同様にして、２−ブロモ−４−フルオロ−６−フェニルアニリンを合成した（収率５６％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） δ： ７．５１−７．４４ （ｍ， ２Ｈ）， ７．４４−７．３４ （ｍ， ３Ｈ）， ７．２０ （ｄｄ， Ｊ ＝ ２．９， ７．９ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．８５ （ｄｄ， Ｊ ＝ ２．９， ８．８ Ｈｚ， １Ｈ）， ４．０２ （ｓ， ２Ｈ）．

（合成例１Ｃ）
＜２−ブロモ−４−メチル−６−フェニルアニリンの合成＞

合成例１Ａにおいて、２，６−ジブロモアニリン（１１．９ｍｍｏｌ）を、２，６−ジブロモ−４−メチルアニリン（１１．９ｍｍｏｌ）に変えた以外は、合成例１Ａと同様にして、２−ブロモ−４−メチル−６−フェニルアニリンを合成した（収率６１％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） δ： ７．４７−７．３４ （ｍ， ４Ｈ）， ７．３９−７．３４ （ｍ， １Ｈ）， ７．２７−７．２６ （ｍ， １Ｈ）， ６．８８ （ｄ， Ｊ ＝ ２．０ Ｈｚ， １Ｈ）， ３．８７ （ｓ， ２Ｈ）， ２．２６ （ｓ， ３Ｈ）．

（合成例２Ａ）
＜４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールの合成＞

２−ブロモ−６−フェニルアニリン（合成例１Ａで得られた化合物、１．６４ｇ、６．６１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８３．０ｍＬ）溶液を０℃に冷却して撹拌した。三臭化ホウ素（１．０Ｍジクロロメタン溶液；１６．５ｍＬ、１６．５ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した後に、反応溶液を室温にて２４時間撹拌した。その後０℃にて蒸留水（５ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）、及びジエチルエーテル（２５０ｍＬ）を加えて２０分間撹拌し、分離した水層をジエチルエーテル（８０ｍＬ）にて３回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮し、４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを白色固体として得た（１．７５ｇ、６．３９ｍｍｏｌ、収率９７％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４３ （ｄｄ， Ｊ ＝ ０．９， ８．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．３９ （ｄ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．３０ （ｓ， １Ｈ）， ８．０９ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．２， ７．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７６−７．６７ （ｍ， ２Ｈ）， ７．６４ （ｓ， １Ｈ）， ７．４９ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ ０．９， ７．４， ７．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．０２ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．９， ８．０ Ｈｚ， １Ｈ）．

（合成例２Ｂ）
＜４−ブロモ−２−フルオロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールの合成＞

合成例２Ａにおいて、２−ブロモ−６−フェニルアニリン（６．６１ｍｍｏｌ）を、２−ブロモ−４−フルオロ−６−フェニルアニリン（合成例１Ｂで得られた化合物、６．６１ｍｍｏｌ）に変えた以外は、合成例２Ａと同様にして、４−ブロモ−２−フルオロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを合成した（収率１００％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４５ （ｄｄ， Ｊ ＝ ０．９， ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．３３−８．２５ （ｍ， ２Ｈ）， ８．１０ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．３， ７．６ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７５−７．６７ （ｍ， ２Ｈ）， ７．６１ （ｓ， １Ｈ）， ７．５３ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ ０．９， ７．３， ７．６ Ｈｚ， １Ｈ）．

（合成例２Ｃ）
＜４−ブロモ−２−メチルジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールの合成＞

合成例２Ａにおいて、２−ブロモ−６−フェニルアニリン（６．６１ｍｍｏｌ）を、２−ブロモ−４−メチル−６−フェニルアニリン（合成例１Ｃで得られた化合物、６．６１ｍｍｏｌ）に変えた以外は、合成例２Ａと同様にして、４−ブロモ−２−メチルジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを合成した（収率９８％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４２ （ｄｄ， Ｊ ＝ ０．８， ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．２１−８．１９ （ｍ， ２Ｈ）， ８．０７ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．６９ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．２， ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．５７−７．５１ （ｍ， ２Ｈ）， ７．４７ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ ０．８， ７．２， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ２．３８ （ｓ， ３Ｈ）．

（合成例３Ａ）
＜（２−（６−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体の合成＞

４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（合成例２Ａで得られた化合物、１．５５ｇ、５．６７ｍｍｏｌ）、ｏ−ベンゼンジボロン酸 ピナコールエステル １，８−ジアミノナフタレン保護体（ＣＡＳ：９５０５１１−１８−９、２．１０ｇ、５．６７ｍｍｏｌ）、及びリン酸三カリウム（３．６１ｇ、１７．０ｍｍｏｌ）を加えた反応容器にビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（５２８ｍｇ、１．０３ｍｍｏｌ）をグローブボックス内で加えた。反応容器にアルゴンを封入した後、ジオキサン（２８ｍＬ）及び蒸留水（２．８ｍＬ）を加え、６０℃にて４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後に、蒸留水及びクロロホルムを加えて撹拌し、分離した水層をクロロホルムにて３回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。こうして得られた濃縮液をフラッシュカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、減圧濃縮後に得られた固体を室温にて酢酸エチルに溶解させ、続いてｎ−ヘキサンを加えることで固体を析出させた。この固体を濾取し、減圧下乾燥させることにより（２−（６−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体を灰色個体として得た（１．４g、３．２ｍｍｏｌ、収率５７％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４２ （ｄ， Ｊ ＝ ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．３５ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ８．２ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．０９−７．９９ （ｍ， ２Ｈ）， ７．８６ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７１−７．５２ （ｍ， ３Ｈ）， ７．４７−７．３８ （ｍ， ２Ｈ）， ７．３４ （ｓ， ２Ｈ）， ７．３２ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．１１ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．４， ８．１ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．７−６．８７ （ｍ， ３Ｈ）， ６．７８ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．１， ８．２ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．１２ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．１， ７．３ Ｈｚ， ２Ｈ）．

（合成例３Ｂ）
＜（２−（６−ヒドロキシ−２−フルオロ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体の合成＞

合成例３Ａにおいて、４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（５．６７ｍｍｏｌ）を、４−ブロモ−２−フルオロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（合成例２Ｂで得られた化合物、５．６７ｍｍｏｌ）に変えた以外は、合成例３Ａと同様にして、（２−（６−ヒドロキシ−２−フルオロ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体を得た（収率４０％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４０ （ｄ， Ｊ ＝ ８．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．１５ （ｄｄ， Ｊ ＝ ２．９， １１．２ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．０４ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．６ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．８１ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７１−７．５５ （ｍ， ４Ｈ）， ７．５２ （ｓ， ２Ｈ）， ７．４８−７．３６ （ｍ， ２Ｈ）， ７．２１ （ｄｄ， Ｊ ＝ ２．８， ８．７ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．９３ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．４， ８．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．８７ （ｓ， １Ｈ）， ６．７９ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．１， ８．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．１８ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．１， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）．

（合成例３Ｃ）
＜（２−（６−ヒドロキシ−２−メチル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体の合成＞

合成例３Ａにおいて、４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（５．６７ｍｍｏｌ）を、４−ブロモ−２−メチルジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（合成例２Ｃで得られた化合物、５．６７ｍｍｏｌ）に変えた以外は、合成例３Ａと同様にして、（２−（６−ヒドロキシ−２−メチル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体を得た（収率４８％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４２ （ｄ， Ｊ ＝ ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．１７ （ｓ， １Ｈ）， ８．０１ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ７．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．９４−７．８３ （ｍ， ２Ｈ）， ７．６７−７．５５ （ｍ， ３Ｈ）， ７．４５−７．３４ （ｍ， ２Ｈ）， ７．３０ （ｓ， ２Ｈ）， ７．１８ （ｄ， Ｊ ＝ １．９ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．９２ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．４， ８．２ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．７９−６．７６ （ｍ， ３Ｈ）， ６．１１ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．１， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ２．３９ （ｓ， ３Ｈ）．

（実施例１）
＜４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールの合成＞

（２−（６−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（合成例３Ａで得られた化合物、１５０ｍｇ、０．３４３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．４ｍＬ）溶液に５Ｎ塩酸水溶液（０．４１ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下にて５０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却し、反応溶液を氷冷した蒸留水へとゆっくりと滴下した。析出した固体をメタノールで３回洗浄し、室温にて乾燥させることにより４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを白色固体として得た（７５ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ、収率７６％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．４０ （ｄ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．３０−８．２７ （ｍ， ３Ｈ）， ８．０８ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．０４ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ８．１ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．９３ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７８ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．６４ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．１， ８．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．５３ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．１， ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．４３−７．２９ （ｍ， ５Ｈ）， ７．１７ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ７．２ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．０９ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．４， ７．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．０４ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ ０．８， ７．１， ７．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．８１ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．２， ８．１ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．６０ （ｓ， １Ｈ）．

（実施例２）
＜２−フロオロ−４−（２−（９−フルオロ−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールの合成＞

実施例１において、（２−（６−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（０．３４３ｍｍｏｌ）を、（２−（６−ヒドロキシ−２−フルオロ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（合成例３Ｂで得られた化合物、０．３４３ｍｍｏｌ）に変えた以外は、実施例１と同様にして、２−フロオロ−４−（２−（９−フルオロ−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを得た（収率７０％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．２５ （ｄ， Ｊ ＝ ８．５ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．２１−８．１５ （ｍ， ３Ｈ）， ８．０５ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．８６ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７６ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．７３−７．６６ （ｍ， ２Ｈ）， ７．６１ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４， ８．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．５１ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４， ８．５ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．４５−７．３２ （ｍ， ３Ｈ）， ７．０９−７．０５ （ｍ， ３Ｈ）， ６．９０ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ８．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．５０ （ｓ， １Ｈ）．

（実施例３）
＜２−メチル−４−（２−（９−メチル−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールの合成＞

実施例１において、（２−（６−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（０．３４３ｍｍｏｌ）を、（２−（６−ヒドロキシ−２−メチル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（合成例３Ｃで得られた化合物、０．３４３ｍｍｏｌ）に変えた以外は、実施例１と同様にして、２−メチル−４−（２−（９−メチル−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを得た（収率６８％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．２５ （ｄ， Ｊ ＝ ８．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．２０ （ｓ， ２Ｈ）， ８．１０ （ｄ， Ｊ ＝ ８．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．０３ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．８５ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７８ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．６４ （ｄ， Ｊ ＝ １．８ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．５５ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．４， ８．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．４９ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．６， ７．１， ８．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．４１−７．２８ （ｍ， ３Ｈ）， ７．１１−７．００ （ｍ， ３Ｈ）， ６．８８ （ｄ， Ｊ ＝ １．８ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．４４ （ｓ， １Ｈ）， ２．５３ （ｓ， ３Ｈ）， １．９５ （ｓ， ３Ｈ）．

（実施例４）
＜２−フェニル−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンの合成＞

（２−（６−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル)フェニル)ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（合成例３Ａで得られた化合物、１０３ｍｇ、０．２３６ｍｍｏｌ）、及びフェニルボロン酸（２８８ｍｇ、２．３６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．４０ｍＬ）溶液に５Ｎ塩酸水溶液（０．２８４ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下にて５０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。２Ｎ塩酸水溶液（１．００ｍＬ）を加えた後、反応溶液を氷冷した蒸留水へとゆっくりと滴下した。析出した固体をメタノールで３回洗浄し、室温にて乾燥させることにより２−フェニル−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンを白色固体として得た（５４．８ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ、収率６１％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．５５ （ｄ， Ｊ ＝ ７．９ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．５０ （ｄ， Ｊ ＝ ８．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．３２ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．５ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．７８−７．７４ （ｍ， ４Ｈ）， ７．５５ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ ０．９， ７．３， ７．５ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．４１ （ｔ， Ｊ ＝ ７．９ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．３０−７．２４ （ｍ， ２Ｈ）， ７．２２−７．１８ （ｍ， １Ｈ）．

（実施例５）
＜２−（４−フルオロフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンの合成＞

実施例４において、フェニルボロン酸（２．３６ｍｍｏｌ）を、４−フルオロフェニルボロン酸（２．３６ｍｍｏｌ）に変えた以外は、実施例４と同様にして、２−（４−フルオロフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンを得た（収率７０％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．５４ （ｄ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．４９ （ｄ， Ｊ ＝ ８．２ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．３１ （ｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．７８−７．７３ （ｍ， ４Ｈ）， ７．５５ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．２， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．４１ （ｔ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．０６ （ｄｄ， Ｊ ＝ ８．５， ９．７ Ｈｚ， ２Ｈ）．

（実施例６）
＜２−（４−メトキシフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンの合成＞

実施例４において、フェニルボロン酸（２．３６ｍｍｏｌ）を、４−メトキシフェニルボロン酸（２．３６ｍｍｏｌ）に変えた以外は、実施例４と同様にして、２−（４−メトキシフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンを得た（収率７６％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．５７ （ｄ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， ２Ｈ）， ８．５２ （ｄ， Ｊ ＝ ８．３， ２Ｈ）， ８．３４ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．８６−７．７３ （ｍ， ４Ｈ）， ７．５７ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．３， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．４４ （ｔ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， １Ｈ）， ６．９４−６．８８ （ｍ， ２Ｈ）， ３．７５ （ｓ， ３Ｈ）．

（実施例７Ａ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１２時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。こうして得られた濃縮液を分取ＴＬＣ（シリカゲル、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドを白色個体として得た（２１．０ｍｇ、７７．５μｍｏｌ、収率９５％）。

（実施例７Ｂ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例２で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２−フロオロ−４−（２−（９−フルオロ−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例２で得られた触媒、２．５ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は５７％であった。

（実施例７Ｃ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例３で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２−メチル−４−（２−（９−メチル−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例３で得られた触媒、２．５ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は８５％であった。

（実施例７Ｄ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例４で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２−フェニル−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン（実施例４で得られた触媒、１．６ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は４０％であった。

（実施例７Ｅ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例５で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２−（４−フルオロフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン（実施例５で得られた触媒、１．７ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は９％であった。

（実施例７Ｆ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例６で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２−（４−メトキシフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン（実施例６で得られた触媒、１．７ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は３３％であった。

（比較例１Ａ）
２，４，６−トリフェニルボロキシンを触媒として用いてＮ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を試みた。
モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２，４，６−トリフェニルボロキシン（１．３ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１８時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの生成は見られなかった。

（比較例１Ｂ）
合成例２Ａで得られた分子を触媒として用いてＮ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を試みた。
モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（合成例２Ａで得られた分子、１．１ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１２時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの生成は見られなかった。

（比較例１Ｃ）
合成例２Ｂで得られた分子を触媒として用いてＮ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を試みた。
モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−ブロモ−２−フルオロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（合成例２Ｂで得られた分子、１．８ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１２時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの生成は見られなかった。

（実施例８Ａ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）アダマンタン−１−カルボキサミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）アダマンタン−１−カルボキサミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、アダマンタン−１−カルボン酸（１４．７ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、加熱還流条件にて１４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）アダマンタン−１−カルボキサミドの収率は９０％以上であった。

（実施例８Ｂ）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−３−メチルチオフェン−２−カルボキサミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−３−メチルチオフェン−２−カルボキサミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、３−メチルチオフェン−２−カルボン酸（１１．６ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１２時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−３−メチルチオフェン−２−カルボキサミドの収率は７８％であった。

（実施例８Ｃ）
＜（Ｅ）−Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチルブテン−２−エナミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、（Ｅ）−Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチルブテン−２−エナミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、チグリン酸（８．２ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１８時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、（Ｅ）−Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチルブテン−２−エナミドの収率は９０％以上であった。

（実施例８Ｄ）
＜Ｎ−（シクロプロピルメチル）−２，４，６−トリメチルベンズアミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−（シクロプロピルメチル）−２，４，６−トリメチルベンズアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２，４，６−トリメチル安息香酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。シクロプロピルメチルアミン（７．００μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて１８時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（シクロプロピルメチル）−２，４，６−トリメチルベンズアミドの収率は８３％であった。

（実施例８Ｅ）
＜Ｎ−（２−（１Ｈ−インドール−３−イル）エチル）ベンズアミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−（２−（１Ｈ−インドール−３−イル）エチル）ベンズアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、安息香酸（１０．０ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）、トリプタミン（１３．１ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。アルゴン雰囲気下、８０℃にて１７時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（２−（１Ｈ−インドール−３−イル）エチル）ベンズアミドの収率は７７％であった。

（実施例８Ｆ）
＜Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）、４−メトキシフェノール（１０．０ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。アルゴン雰囲気下、８０℃にて１２時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は９０％以上であった。

（実施例８Ｇ）
＜Ｎ−ベンジルヘプタンアミドの合成＞
実施例１で得られた触媒を用いて、Ｎ−ベンジルヘプタンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、４−（２−（１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン−２−イル）フェニル）ジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール（実施例１で得られた触媒、２．４ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。ヘプタン酸（１１．６μＬ、８１．６μｍｏｌ）及びベンジルアミン（８．９μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温にて加え、アルゴン雰囲気下、室温にて２４時間撹拌した。その後、蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−ベンジルヘプタンアミドの収率は９０％以上であった。

（実施例９）
上記実施例８Ａ〜８Ｇの他に、実施例１で得られた触媒を用いて、以下のカルボン酸とアミンとから以下のアミドを合成するアミド結合形成反応を行った。アミドの収率を表１に示した。

（合成例２Ｄ）
＜４−ブロモ−６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニンの合成＞

２−ブロモ−６−フェニルアニリン（合成例１Ａで得られた化合物、１．６０ｇ、６．４４ｍｍｏｌ）のｏ−ジクロロベンゼン（１２．０ｍＬ）溶液に、ジクロロフェニルボロン（２．３５ｍＬ、１９．３ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（５．３０ｍＬ、３８．６ｍｍｏｌ）を加えた。得られた溶液を加熱還流条件下、１６時間撹拌した。溶液を室温まで冷却した後、蒸留水とクロロホルムを加え、分離した水層をクロロホルムにて３回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し４−ブロモ−６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニンを白色固体として得た（１．４９ｇ、収率６９％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） δ： ８．５１ （ｄ， Ｊ ＝ ８．２ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．４８−８．３６ （ｍ， ２Ｈ）， ８．２９ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．６ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．９０−７．８４ （ｍ， ２Ｈ），７．７９ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．１， ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．７４ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．２， ７．８ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．６１−７．４８ （ｍ， ４Ｈ）， ７．１８ （ｔ， Ｊ ＝ ８．０ Ｈｚ， １Ｈ）．

（合成例３Ｄ）
＜（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体の合成＞

合成例３Ａにおいて、４−ブロモジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オールを、４−ブロモ−６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン（合成例２Ｄで得られた化合物）に変えた以外は、合成例３Ａと同様にして、（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体を得た（収率４７％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３） δ： ８．６２−８．５３ （ｍ， ２Ｈ）， ８．１７ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．５ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．８５−７．７４ （ｍ， ３Ｈ）， ７．６５−７．５６ （ｍ， ３Ｈ）， ７．５６−７．４６ （ｍ， ３Ｈ）， ７．４６−７．３５ （ｍ， ５Ｈ）， ６．９５ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．２， ８．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．８９ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．１， ８．３ Ｈｚ， ２Ｈ）， ５．５０ （ｓ， ２Ｈ）．

（合成例４Ａ）
＜（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）ボロン酸の合成＞

（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）ボロン酸 １，８−ジアミノナフタレン保護体（合成例３Ｄで得られた化合物、５００ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０ｍＬ）溶液に５Ｎ塩酸水溶液（１．２ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下にて５０℃にて３時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。反応溶液に２Ｎ塩酸水溶液（２．５ｍＬ）と水（７．５ｍＬ）を加えて分離した水層を酢酸エチルにて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮することで、（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）ボロン酸を含む反応混合物（４２５ｍｇ）を得た。得られた反応混合物を精製することなしに、以下の実施例１０に使用した。

（実施例１０）
＜（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ^１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンの合成＞

実施例４において、フェニルボロン酸（２．３６ｍｍｏｌ）を、（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）ボロン酸（合成例４Ａで得られた化合物、０．６８ｍｍｏｌ）に変えた以外は、実施例４と同様にして、２−（４−フルオロフェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセンを得た（収率９５％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ， ｄ_６−ＤＭＳＯ） δ： ８．３９−８．３７（ｍ， ３Ｈ），８．２２ （ｄ， Ｊ ＝ ８．３ Ｈｚ， １Ｈ）， ８．０９−７．９９（ｍ， ２Ｈ），７．８６ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．６ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．７２ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．２， ８．４ Ｈｚ， １Ｈ）， ７．６５ （ｄｄ， Ｊ ＝ １．５， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．５４−７．２２ （ｍ， １３Ｈ）， ７．１５−７．０９ （ｍ， １Ｈ）， ６．９９ （ｄｄｄ， Ｊ ＝ ０．８， ７．４， ７．４ Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．８４ （ｄｄ， Ｊ ＝ ７．２， ８．３ Ｈｚ， １Ｈ）．

（実施例１１）
＜Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成＞
実施例１０で得られた触媒を用いて、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの合成を行った。

モレキュラーシーブ４Ａ（６７ｍｇ）を加え減圧下、加熱乾燥した反応容器に、２−メチル−２−フェニルプロパン酸（１３．４ｍｇ、８１．６μｍｏｌ）及び２−（２−（６−フェニル−５，６−ジヒドロジベンゾ［ｃ，ｅ］［１，２］アザボリニン−４−イル）フェニル）−１，３−ジオキサ−３ａ１−アザ−２，３ａ，１４ｂ−トリボラジベンゾ［ｆｇ，ｏｐ］テトラセン（実施例１０で得られた触媒、２．６ｍｇ、４．１６μｍｏｌ）を加え、トルエン（８２０μＬ）溶液とした。４−フルオロベンジルアミン（９．２８μＬ、８１．６μｍｏｌ）を室温で加え、アルゴン雰囲気下、８０℃にて４時間撹拌した後に反応液を室温まで冷却した。蒸留水（０．５ｍＬ）を加えて撹拌し、分離した水層を酢酸エチル（１．５ｍＬ）にて４回抽出した。その後、有機層を全量合わせ、そこに飽和塩化ナトリウム水溶液（１．５ｍＬ）を加えて撹拌して洗浄し、再分離した有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後の濾液を減圧濃縮した。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲを分析したところ、Ｎ−（４−フルオロベンジル）−２−メチル−２−フェニルプロパンアミドの収率は２１％であった。

以上の結果から、本発明の触媒は、種々のカルボン酸化合物と、種々のアミン化合物とからアミド化合物を合成する反応に使用できることが確認できた。特に、立体的に嵩高いカルボン酸化合物を用いた場合でもアミド結合形成反応を行うことができる点は、従来のホウ素触媒を用いたアミド結合形成反応には見られない、本発明の触媒の優れた点の一つである。
また、以上の結果から、一般式（１）で表される触媒において、ベンゼン環の置換基が電子供与性基であっても、電子吸引性基であっても、触媒として有用であることが確認できた。
なお、実施例７Ｅにおいては、アミド化合物の収率が９％であったが、（１）立体的に嵩高いカルボン酸化合物を用いた場合でもアミド結合形成反応を行うことができた点、及び（２）低温（８０℃）で反応を行うことができた点、を踏まえると、従来のアミド結合形成反応よりは優れているということができる。

本発明の触媒は、アミド結合形成反応に好適に使用できる。

本発明の態様は、例えば、以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（１）で表されることを特徴とする触媒である。
ただし、前記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、及び置換基のいずれかを表す。
＜２＞ 前記置換基が、電子供与性基、又は電子吸引性基である前記＜１＞に記載の触媒である。
＜３＞ 下記一般式（１Ａ）及び下記一般式（１Ｂ）のいずれかで表される前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の触媒である。
ただし、前記一般式（１Ａ）中、Ｒ^６及びＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、電子供与性基、及び電子吸引性基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（１Ｂ）中、Ｒ^６及びＲ^２６は、水素原子、電子供与性基、及び電子吸引性基のいずれかを表す。
＜４＞ 下記一般式（１Ｃ）で表される前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の触媒である。
ただし、前記一般式（１Ｃ）中、Ｒ^６及びＲ^２６は、それぞれ独立して、水素原子、電子供与性基、及び電子吸引性基のいずれかを表す。
＜５＞ カルボン酸化合物のカルボキシル基と、アミン化合物のアミノ基とを前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の触媒の存在下で反応させてアミド結合を形成することを特徴とするアミド結合の形成方法である。
＜６＞ カルボン酸化合物と、アミン化合物とを、前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の触媒の存在下で反応させてアミド化合物を得ることを特徴とするアミド化合物の製造方法である。

Claims (6)

1. 下記一般式（１）で表されることを特徴とする触媒。
   ただし、前記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、及び置換基のいずれかを表す。
2. 前記置換基が、電子供与性基、又は電子吸引性基である請求項１に記載の触媒。
3. 下記一般式（１Ａ）及び下記一般式（１Ｂ）のいずれかで表される請求項１から２のいずれかに記載の触媒。
   ただし、前記一般式（１Ａ）中、Ｒ^６及びＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、電子供与性基、及び電子吸引性基のいずれかを表す。
   ただし、前記一般式（１Ｂ）中、Ｒ^６及びＲ^２６は、水素原子、電子供与性基、及び電子吸引性基のいずれかを表す。
4. 下記一般式（１Ｃ）で表される請求項１から２のいずれかに記載の触媒。
   ただし、前記一般式（１Ｃ）中、Ｒ^６及びＲ^２６は、それぞれ独立して、水素原子、電子供与性基、及び電子吸引性基のいずれかを表す。
5. カルボン酸化合物のカルボキシル基と、アミン化合物のアミノ基とを請求項１から４のいずれかに記載の触媒の存在下で反応させてアミド結合を形成することを特徴とするアミド結合の形成方法。
6. カルボン酸化合物と、アミン化合物とを、請求項１から４のいずれかに記載の触媒の存在下で反応させてアミド化合物を得ることを特徴とするアミド化合物の製造方法。