JP2017135277A - バックアップ装置の制御方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バックアップ装置200で基板Pを基板停止位置から基板処理位置にリフトする際には、バックアップ装置200の担持部材(担持部材(203、204))が基板Pの下面に当接するまでの離反区間(H0−H1)では、予め高速側に設定される初動速度V1に担持部材の速度を上げて基板Pを上昇させる。担持部材が当該基板Pに接触する時点から当該基板Pが搬送コンベア103の上方に離れるまでの受渡区間(H1−H2)では、予め低速側に設定される受取速度V1担持部材の速度を下げて基板Pを上昇させる。担持部材が受渡区間T2を越えて当該基板Pを上昇する区間(H2−H3)では、受取速度V1よりも高速側に設定されるリフト速度V2に担持部材の速度を上げて基板Pを上昇させる。
【選択図】図3
Description
40 制御装置
100 基板支持装置
104 ロック片
200 バックアップ装置
203 バックアッププレート(担持部材の要素例)
204 バックアップピン(担持部材の要素例)
210 モータ
211 エンコーダ
C ベアチップ
H0 初期高さ
H1 離反高さ
H2 受渡高さ
H3 ロック開始高さ
H4 ロック終了高さ
(H0−H1) 離反区間
(H1−H2) 受渡区間
(H2−H3) リフト区間
(H3−H4) ロック区間
P 基板
PH 基板搬送経路
S1 実装作業位置
S2 実装作業位置
V0 初動速度(高速側の速度)
V1 受取速度(低速側の速度)
V2 リフト速度(中速側の速度)
V3 ロック速度(低速側の速度)
V4 降下速度(中速側の速度)
V5 受渡速度(低速側の速度)
V6 復帰速度(高速側の速度)
W ウエハ
Claims (6)
- 基板を搬送する搬送コンベアの搬送経路上に設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置を用いて、前記基板停止位置にある基板を前記基板処理位置にリフトする際のバックアップ装置の制御方法において、
前記担持部材が前記停止位置にある基板の下方から当該基板の下面に接する前までの離反期間では、予め高速側に設定される初動速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるステップと、
前記担持部材が当該基板に接触する時点から当該基板が前記搬送コンベアの上方に離れるまでの受渡区間では、予め低速側に設定される受取速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇させるステップと、
前記担持部材が前記受渡区間を越えて当該基板を上昇する区間では、前記受取速度よりも高速側に設定されるリフト速度に前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるステップと
を備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法。 - 基板を搬送する搬送コンベアの搬送経路上に設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置を用いて、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際のバックアップ装置の制御方法において、
前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させるステップと、
降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させるステップと、
降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるステップと
を備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法。 - 基板を搬送する搬送経路に沿って基板を搬送する搬送コンベアと、
前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、
前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板停止位置にある基板を前記基板処理位置にリフトする際において、前記担持部材が前記停止位置にある基板の下方から当該基板の下面に接する前までの離反期間では、予め高速側に設定される初動速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させ、前記担持部材が当該基板に接触する時点から当該基板が前記搬送コンベアの上方に離れるまでの受渡区間では、予め低速側に設定される受取速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇させ、前記担持部材が前記受渡区間を越えて当該基板を上昇する区間では、前記受取速度よりも高速側に設定されるリフト速度に前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置と
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記制御装置は、前記基板が前記受渡区間を越えて上昇する区間では、前記初動速度よりも遅く前記受取速度よりも早い中速度まで前記担持部材が上昇する速度を上げて当該基板を上昇するように前記バックアップ装置を制御する
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3又は4に記載の基板処理装置において、
前記基板処理位置に基板を位置決めするように、基板の上縁を受けて前記担持部材との間で当該基板を挟み込んで前記基板処理位置にロックするロック片をさらに備え、
前記制御装置は、基板処理位置に上昇されている基板の上縁が前記ロック片に当接し始める高さから当該基板が前記基板処理位置に到着するまでのロック区間では、低速側に設定されるロック速度に前記担持部材が上昇する速度を下げて当該基板を上昇するように前記バックアップ装置を制御する
ことを特徴とする基板処理装置。 - 基板を搬送する搬送経路に沿って基板を搬送する搬送コンベアと、
前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、
前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置と
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
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