JP2017096743A - Acceleration sensor - Google Patents
Acceleration sensor Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017096743A JP2017096743A JP2015228633A JP2015228633A JP2017096743A JP 2017096743 A JP2017096743 A JP 2017096743A JP 2015228633 A JP2015228633 A JP 2015228633A JP 2015228633 A JP2015228633 A JP 2015228633A JP 2017096743 A JP2017096743 A JP 2017096743A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- plate
- axis
- acceleration
- acceleration sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
Description
本発明は、加速度センサに関し、特に、重錘体に作用する慣性力により可撓性部材に変形を生じさせ、当該変形を電気的に検出することにより加速度の検出を行う加速度センサに関する。 The present invention relates to an acceleration sensor, and more particularly to an acceleration sensor that detects an acceleration by causing a flexible member to deform by an inertial force acting on a weight body and electrically detecting the deformation.
様々な産業機械や電子機器に組み込むために、小型かつ高精度でありながら、製造コストの低い加速度センサが求められている。このような要望に応えるため、たとえば、下記の特許文献1には、円盤状のダイアフラム部の中央に重錘体を接合し、周囲を装置筐体に固定し、加速度の作用によりダイアフラム部に生じる撓みを圧電素子によって検出する加速度センサが開示されている。また、特許文献2には、同様の構造を用いて、撓みを容量素子によって検出する加速度センサが開示されており、特許文献3には、同様の構造を用いて、撓みをピエゾ抵抗素子によって検出する加速度センサが開示されている。
In order to be incorporated into various industrial machines and electronic devices, there is a need for an acceleration sensor that is small and highly accurate, yet has a low manufacturing cost. In order to meet such a demand, for example, in
更に、特許文献4には、2枚の基板の間に複数の圧電素子を介挿し、下方の基板の下面に重錘体を接合した構造体を利用して、各圧電素子に生じる電圧に基づいて、2枚の基板間の距離の変化を検出し、作用した加速度を検出する加速度センサが開示されており、特許文献5には、同様の構造を用いて、圧電素子の代わりに容量素子を用いて基板間の距離の変化を検出する加速度センサが開示されている。一方、特許文献6には、ダイアフラム部の代わりにL字状の板状橋梁部を用い、重錘体を片持ち梁構造で支持し、L字状の板状橋梁部に生じた撓みを電気的に検出する加速度センサが開示されている。 Further, Patent Document 4 uses a structure in which a plurality of piezoelectric elements are interposed between two substrates and a weight body is joined to the lower surface of the lower substrate, and based on the voltage generated in each piezoelectric element. An acceleration sensor that detects a change in distance between two substrates and detects an applied acceleration is disclosed, and Patent Document 5 uses a similar structure to replace a capacitive element instead of a piezoelectric element. An acceleration sensor is disclosed that uses it to detect changes in the distance between substrates. On the other hand, in Patent Document 6, an L-shaped plate-like bridge portion is used instead of the diaphragm portion, the weight body is supported by a cantilever structure, and the deflection generated in the L-shaped plate-like bridge portion is electrically An acceleration sensor that detects automatically is disclosed.
上述した特許文献1〜5に開示されている加速度センサは、いずれも原理的には、平板状のダイアフラム部の中央下面に重錘体を接合し、当該ダイアフラム部の周囲を装置筐体に固定することにより重錘体を装置筐体内に宙吊り状態にする構造を採用している。センサに加速度が作用すると、重錘体に作用する慣性力によりダイアフラム部に対して応力が加わるので、当該応力に基づいてダイアフラム部に生じる撓みや変位を様々な検出素子によって電気的に検出し、作用した加速度を求める、という検出方法が採られる。
In principle, the acceleration sensors disclosed in
しかしながら、このように、重錘体をダイアフラム部の中央に垂下させ、ダイアフラム部の周囲を装置筐体に固定する従来の加速度センサは、ダイアフラム部の周囲が装置筐体に固定されているため、利用時に装置筐体に何らかの応力が加わると、当該応力がダイアフラム部まで伝達され、検出結果に影響を与えるという問題がある。 However, the conventional acceleration sensor that hangs the weight body in the center of the diaphragm part and fixes the periphery of the diaphragm part to the apparatus housing in this way is because the periphery of the diaphragm part is fixed to the apparatus housing. If any stress is applied to the apparatus housing during use, the stress is transmitted to the diaphragm portion, which affects the detection result.
たとえば、利用時の温度環境により装置筐体が膨張したり収縮したりすると、当該応力がダイアフラム部まで伝達され、検出結果に悪影響を及ぼすことになる。また、装置筐体を何らかの測定対象物に実装するために、ハンダ付接着剤やネジで固定したとすると、当該実装時に装置筐体に応力が加わる可能性があり、当該応力により検出結果に悪影響が及ぶことになる。 For example, if the device casing expands or contracts due to the temperature environment during use, the stress is transmitted to the diaphragm portion, which adversely affects the detection result. In addition, if the device casing is fixed to the object to be measured with a soldering adhesive or a screw, stress may be applied to the device casing at the time of mounting, and the stress may adversely affect the detection result. Will reach.
これに対して、前掲の特許文献6に開示されているように、L字状の板状橋梁部によって、重錘体を片持ち梁構造で支持する加速度センサでは、L字状の板状橋梁部の根端部が装置筐体に固定されるだけなので、装置筐体に生じた応力に基づく検出結果への悪影響はほとんど無視できる。しかしながら、L字状の板状橋梁部の先端部に重錘体を接合する構造を採る必要があるため、構造は複雑にならざるを得ない。また、検出感度を高めるためには、L字状の板状橋梁部を長く、細く、薄くする必要があるため、高感度のセンサほど、脆弱なL字状の板状橋梁部が破損しやすくなる。 On the other hand, as disclosed in the above-mentioned Patent Document 6, in an acceleration sensor that supports a weight body with a cantilever structure by an L-shaped plate-shaped bridge portion, an L-shaped plate-shaped bridge is used. Since the root end of the unit is only fixed to the apparatus housing, the adverse effect on the detection result based on the stress generated in the apparatus housing is almost negligible. However, since it is necessary to adopt a structure in which a weight body is joined to the tip of the L-shaped plate-like bridge portion, the structure has to be complicated. Moreover, in order to increase the detection sensitivity, the L-shaped plate-shaped bridge portion needs to be long, thin, and thin. Therefore, the more sensitive the sensor, the more vulnerable the L-shaped plate-shaped bridge portion is likely to be damaged. Become.
特許文献6には、L字状の板状橋梁部および重錘体の外側に環状構造体を設け、過大な変位を制御するストッパとして機能させる実施例も開示されているが、脆弱なL字状の板状橋梁部が環状構造体の内壁面に接触する可能性があるため、完全な保護機能を果たすことはできない。 Patent Document 6 discloses an embodiment in which an annular structure is provided outside the L-shaped plate-like bridge portion and the weight body, and functions as a stopper for controlling excessive displacement. Since the plate-shaped bridge portion may come into contact with the inner wall surface of the annular structure, it cannot perform a complete protection function.
そこで本発明は、利用環境によって検出結果に悪影響が及ぶことがなく、しかも高い検出感度をもった加速度検出が可能になり、過度の加速度が加わった場合でも損傷を受けにくい加速度センサを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides an acceleration sensor that does not adversely affect the detection result depending on the use environment, enables acceleration detection with high detection sensitivity, and is not easily damaged even when excessive acceleration is applied. With the goal.
(1) 本発明の第1の態様は、
第1の長手方向軸に沿って伸び、可撓性を有する板状橋梁部と、
板状橋梁部の根端部を支持固定する台座と、
板状橋梁部の先端部に直接もしくは間接的に接続された重錘体と、
板状橋梁部の表面の所定位置に生じる伸縮応力を検出する検出素子と、
検出素子の検出結果に基づいて、重錘体に作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、
によって加速度センサを構成し、
重錘体が、板状橋梁部の第1の長手方向軸に関して左脇に位置する左翼重錘部と、板状橋梁部の第1の長手方向軸に関して右脇に位置する右翼重錘部と、を有しているようにしたものである。
(1) The first aspect of the present invention is:
A plate-like bridge portion extending along the first longitudinal axis and having flexibility;
A pedestal for supporting and fixing the root end portion of the plate-like bridge portion;
A weight body connected directly or indirectly to the tip of the plate-like bridge portion;
A detecting element for detecting a stretching stress generated at a predetermined position on the surface of the plate-like bridge portion;
A detection circuit that outputs a detection value of acceleration acting on the weight body based on the detection result of the detection element;
The acceleration sensor is configured by
A left wing weight portion located on the left side with respect to the first longitudinal axis of the plate-like bridge portion; a right wing weight portion located on the right side with respect to the first longitudinal direction axis of the plate-like bridge portion; , And so on.
(2) 本発明の第2の態様は、上述した第1の態様に係る加速度センサにおいて、
板状橋梁部の先端部に重錘体支持部が接続されており、重錘体支持部の下面に重錘体が接続されており、重錘体の重心が板状橋梁部の下方に位置しているようにしたものである。
(2) According to a second aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the first aspect described above,
A weight support part is connected to the tip of the plate-like bridge part, a weight body is connected to the lower surface of the weight support part, and the center of gravity of the weight body is located below the plate-like bridge part. It is what you are doing.
(3) 本発明の第3の態様は、上述した第2の態様に係る加速度センサにおいて、
重錘体支持部が、第1の長手方向軸に直交する第2の長手方向軸に沿って伸びる中央板状部を有し、板状橋梁部の先端部が中央板状部の中央近傍に接続されており、板状橋梁部および中央板状部によりT字状構造体が形成され、
左翼重錘部が中央板状部の左側の下面に接続されており、右翼重錘部が中央板状部の右側の下面に接続されているようにしたものである。
(3) According to a third aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the second aspect described above,
The weight support portion has a central plate-like portion extending along the second longitudinal axis perpendicular to the first longitudinal axis, and the tip of the plate-like bridge portion is located near the center of the central plate-like portion. Connected, and a T-shaped structure is formed by the plate-like bridge portion and the central plate-like portion,
The left wing weight portion is connected to the lower surface on the left side of the central plate-shaped portion, and the right wing weight portion is connected to the lower surface on the right side of the central plate-shaped portion.
(4) 本発明の第4の態様は、上述した第2の態様に係る加速度センサにおいて、
重錘体支持部が、
第1の長手方向軸に直交する第2の長手方向軸に沿って伸び、中央近傍が板状橋梁部の先端部に接続された中央板状部と、
中央板状部の左側から板状橋梁部の左脇に伸びる左翼板状部と、
中央板状部の右側から板状橋梁部の右脇に伸びる右翼板状部と、
を有し、
左翼重錘部が左翼板状部の下面に接続されており、右翼重錘部が右翼板状部の下面に接続されているようにしたものである。
(4) According to a fourth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the second aspect described above,
The weight support part
A central plate-like portion extending along a second longitudinal axis perpendicular to the first longitudinal axis and having a central vicinity connected to the tip of the plate-like bridge portion;
A left wing plate-like portion extending from the left side of the central plate-like portion to the left side of the plate-like bridge portion;
A right wing plate-like portion extending from the right side of the central plate-like portion to the right side of the plate-like bridge portion,
Have
The left wing weight portion is connected to the lower surface of the left wing plate-like portion, and the right wing weight portion is connected to the lower surface of the right wing plate-like portion.
(5) 本発明の第5の態様は、上述した第3または第4の態様に係る加速度センサにおいて、
重錘体が、左翼重錘部と右翼重錘部とを連結する中央重錘部を有し、中央重錘部が中央板状部の下面に接続されているようにしたものである。
(5) According to a fifth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the third or fourth aspect described above,
The weight body has a central weight portion that connects the left wing weight portion and the right wing weight portion, and the central weight portion is connected to the lower surface of the central plate-shaped portion.
(6) 本発明の第6の態様は、上述した第1の態様に係る加速度センサにおいて、
重錘体が、板状橋梁部に接合されている中央重錘部と、中央重錘部に接合されている左翼重錘部と、中央重錘部に接合されている右翼重錘部と、を有し、
中央重錘部は、第1の長手方向軸に直交する第2の長手方向軸に沿って伸び、第1の長手方向軸と第2の長手方向軸との交点近傍において、板状橋梁部の先端部に接合されており、
左翼重錘部は、中央重錘部の第1の長手方向軸に関して左側部分に接合されており、
右翼重錘部は、中央重錘部の第1の長手方向軸に関して右側部分に接合されているようにしたものである。
(6) According to a sixth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the first aspect described above,
The weight body is joined to the plate weight bridge portion, the central weight portion, the left wing weight portion joined to the central weight portion, the right wing weight portion joined to the central weight portion, Have
The central weight portion extends along a second longitudinal axis that is orthogonal to the first longitudinal axis, and near the intersection of the first longitudinal axis and the second longitudinal axis, It is joined to the tip,
The left wing weight part is joined to the left part with respect to the first longitudinal axis of the central weight part,
The right wing weight portion is joined to the right portion with respect to the first longitudinal axis of the central weight portion.
(7) 本発明の第7の態様は、上述した第6の態様に係る加速度センサにおいて、
板状橋梁部の厚みに比べて重錘体の厚みが大きく設定されており、第1の長手方向軸および第2の長手方向軸をそれぞれ水平面上の軸としたときに、中央重錘部の側面の上部に板状橋梁部の先端部が接合されており、重錘体の重心が板状橋梁部の下方に位置するようにしたものである。
(7) According to a seventh aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the sixth aspect described above,
The thickness of the weight body is set larger than the thickness of the plate-like bridge portion, and when the first longitudinal axis and the second longitudinal axis are axes on the horizontal plane, The tip of the plate-like bridge part is joined to the upper part of the side surface, and the center of gravity of the weight body is located below the plate-like bridge part.
(8) 本発明の第8の態様は、上述した第6または第7の態様に係る加速度センサにおいて、
第1の長手方向軸および第2の長手方向軸の双方を含む基準投影平面上に、板状橋梁部、中央重錘部、左翼重錘部、右翼重錘部をそれぞれ投影したときに、
板状橋梁部の投影像が中央重錘部の投影像の中央付近に接合され、板状橋梁部の投影像と中央重錘部の投影像とによってT字型図形が形成され、
左翼重錘部の投影像が中央重錘部の投影像の左端付近に接合され、右翼重錘部の投影像が中央重錘部の投影像の右端付近に接合され、板状橋梁部の投影像と、中央重錘部の投影像と、左翼重錘部の投影像と、右翼重錘部の投影像と、によってE字型図形が形成されているようにしたものである。
(8) According to an eighth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the sixth or seventh aspect described above,
When projecting the plate-like bridge part, the central weight part, the left wing weight part, and the right wing weight part on the reference projection plane including both the first longitudinal axis and the second longitudinal axis,
The projection image of the plate-like bridge portion is joined near the center of the projection image of the central weight portion, and a T-shaped figure is formed by the projection image of the plate-like bridge portion and the projection image of the central weight portion,
The projection image of the left wing weight part is joined near the left end of the projection image of the central weight part, the projection image of the right wing weight part is joined near the right end of the projection image of the center weight part, and the projection of the plate bridge part An E-shaped figure is formed by the image, the projected image of the central weight part, the projected image of the left wing weight part, and the projected image of the right wing weight part.
(9) 本発明の第9の態様は、上述した第1〜第8の態様に係る加速度センサにおいて、
板状橋梁部の根端部に第1の長手方向軸に直交する第3の長手方向軸に沿って伸びる台座接続部が接続されており、この台座接続部が台座に固定されているようにしたものである。
(9) According to a ninth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the first to eighth aspects described above,
A pedestal connection portion extending along a third longitudinal axis perpendicular to the first longitudinal axis is connected to the root end portion of the plate-like bridge portion, and this pedestal connection portion is fixed to the pedestal. It is a thing.
(10) 本発明の第10の態様は、上述した第1〜第9の態様に係る加速度センサにおいて、
台座が、板状橋梁部および重錘体の周囲を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度が作用した場合に、重錘体の一部が環状構造体の一部に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(10) According to a tenth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the first to ninth aspects described above,
The pedestal forms an annular structure that surrounds the plate-shaped bridge portion and the weight body, and when an acceleration exceeding a predetermined magnitude is applied to the acceleration sensor, a part of the weight body is part of the annular structure body. A part is touched so that further displacement is limited.
(11) 本発明の第11の態様は、上述した第1〜第10の態様に係る加速度センサにおいて、
検出素子が、板状橋梁部の表面の伸縮変形が生じる所定位置に固定された複数の圧電素子によって構成されており、
検出回路が、複数の圧電素子のそれぞれに発生した電荷に基づいて加速度の検出値を出力するようにしたものである。
(11) According to an eleventh aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the first to tenth aspects described above,
The detection element is composed of a plurality of piezoelectric elements fixed at predetermined positions at which expansion and contraction of the surface of the plate-like bridge portion occurs.
The detection circuit outputs a detection value of acceleration based on charges generated in each of the plurality of piezoelectric elements.
(12) 本発明の第12の態様は、上述した第11の態様に係る加速度センサにおいて、
検出素子が、板状橋梁部の先端部近傍の左側に配置された先端部左側圧電素子と、板状橋梁部の先端部近傍の右側に配置された先端部右側圧電素子と、板状橋梁部の根端部近傍の左側に配置された根端部左側圧電素子と、板状橋梁部の根端部近傍の右側に配置された根端部右側圧電素子と、を有するようにしたものである。
(12) According to a twelfth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eleventh aspect described above,
The detection element is a left end piezoelectric element disposed on the left side near the front end of the plate-like bridge part, a right end piezoelectric element located on the right side near the front end of the plate-like bridge part, and the plate-like bridge part A root end left side piezoelectric element disposed on the left side near the root end part of the plate, and a root end right side piezoelectric element disposed on the right side near the root end part of the plate-like bridge portion. .
(13) 本発明の第13の態様は、上述した第11または第12の態様に係る加速度センサにおいて、
複数の圧電素子が、板状橋梁部の表面に層状に形成された下層電極と、下層電極の表面に層状に形成された圧電材料層と、圧電材料層の表面に局在的に形成された複数の上層電極からなる上層電極群と、を有し、圧電材料層は、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有するようにしたものである。
(13) According to a thirteenth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eleventh or twelfth aspect described above,
A plurality of piezoelectric elements are locally formed on the surface of the piezoelectric material layer, the lower layer electrode formed in layers on the surface of the plate-like bridge portion, the piezoelectric material layer formed in layers on the surface of the lower layer electrode, and The piezoelectric material layer has a property of causing polarization in the thickness direction by the action of stress that expands and contracts in the layer direction.
(14) 本発明の第14の態様は、上述した第1〜第10の態様に係る加速度センサにおいて、
検出素子が、板状橋梁部の表面の伸縮変形が生じる所定位置に固定された複数のピエゾ抵抗素子によって構成されており、
検出回路が、複数のピエゾ抵抗素子のそれぞれの電気抵抗値に基づいて加速度の検出値を出力するようにしたものである。
(14) According to a fourteenth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the first to tenth aspects described above,
The detection element is composed of a plurality of piezoresistive elements fixed at predetermined positions at which expansion and contraction of the surface of the plate-like bridge portion occurs.
The detection circuit outputs a detection value of acceleration based on each electric resistance value of the plurality of piezoresistive elements.
(15) 本発明の第15の態様は、上述した第14の態様に係る加速度センサにおいて、
板状橋梁部が、シリコン基板によって構成され、各ピエゾ抵抗素子が、板状橋梁部の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって構成されているようにしたものである。
(15) According to a fifteenth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the fourteenth aspect described above,
The plate-like bridge portion is constituted by a silicon substrate, and each piezoresistive element is constituted by a region in which p-type or n-type impurities are implanted into a part of the surface layer of the plate-like bridge portion. .
(16) 本発明の第16の態様は、上述した第1〜第15の態様に係る加速度センサと、この加速度センサを収容する装置筐体と、によって加速度検出装置を構成し、
加速度センサの台座を装置筐体に固定し、装置筐体に加速度が作用したときに、加速度センサの重錘体が板状橋梁部の撓みによって装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体に作用した加速度の検出値とするようにしたものである。
(16) According to a sixteenth aspect of the present invention, an acceleration detection device is constituted by the acceleration sensor according to the first to fifteenth aspects described above and an apparatus housing that houses the acceleration sensor.
The acceleration sensor pedestal is fixed to the device housing, and when acceleration acts on the device housing, the weight of the acceleration sensor is displaced in the device housing by the bending of the plate-like bridge, and the acceleration sensor The output from the detection circuit is used as a detected value of acceleration applied to the apparatus housing.
(17) 本発明の第17の態様は、上述した第1〜第15の態様に係る加速度センサと、この加速度センサを収容する装置筐体と、によって加速度検出装置を構成し、
加速度センサの重錘体を装置筐体に固定し、装置筐体に加速度が作用したときに、加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体に作用した加速度の検出値とするようにしたものである。
(17) According to a seventeenth aspect of the present invention, an acceleration detection device is configured by the acceleration sensor according to the first to fifteenth aspects described above and the device housing that houses the acceleration sensor.
When the acceleration sensor weight is fixed to the device housing and acceleration is applied to the device housing, the base of the acceleration sensor is displaced in the device housing by the bending of the plate-like bridge, The output from the detection circuit is used as a detected value of acceleration applied to the apparatus housing.
(18) 本発明の第18の態様は、XYZ三次元座標系における所定の座標軸方向に作用した加速度の検出を行う加速度センサにおいて、
XY平面を水平面にとり、Z軸正方向を上方向、Z軸負方向を下方向にとった場合に、上から順に主センサ第1層、主センサ第2層、主センサ第3層を積層した主センサ構造体と、
主センサ構造体の所定箇所を支持固定する台座と、
主センサ構造体が発生させた電荷に基づいて、作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、
を設け、
主センサ第2層は、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の層であり、Y軸上に配置され可撓性を有する板状橋梁部と、主センサ第3層を支持するための重錘体支持部と、を有し、
重錘体支持部は、「Y軸と交差しX軸に平行な軸であるX′軸」上に配置された中央板状部を有し、
板状橋梁部は根端部から先端部へとY軸に沿って伸び、中央板状部はY軸と交差するようにX′軸に沿って伸び、中央板状部のY軸と交差する部分近傍に板状橋梁部の先端部が接続されており、板状橋梁部と中央板状部とのXY平面投影像はT字状をなし、
主センサ第1層は、主センサ第2層の板状橋梁部の上面の少なくとも一部分を覆うように形成された圧電素子を有し、
主センサ第3層は、主センサ第2層の重錘体支持部の下面に接続されており、作用した加速度に基づいて板状橋梁部に撓みを生じさせるのに十分な質量をもった重錘体として機能し、
板状橋梁部の両脇について、X座標値が負となる側を左脇、X座標値が正となる側を右脇と定義したときに、主センサ第3層は、板状橋梁部の左脇に位置する左翼重錘部と右脇に位置する右翼重錘部とを有しており、
台座は、板状橋梁部の根端部を支持固定し、
検出回路は、圧電素子に発生した電荷に基づいて加速度の検出値を出力する回路であるようにしたものである。
(18) An eighteenth aspect of the present invention is an acceleration sensor that detects acceleration acting in a predetermined coordinate axis direction in an XYZ three-dimensional coordinate system.
The main sensor first layer, the main sensor second layer, and the main sensor third layer are stacked in order from the top when the XY plane is a horizontal plane, the Z-axis positive direction is the upward direction, and the Z-axis negative direction is the downward direction. A main sensor structure;
A base for supporting and fixing a predetermined portion of the main sensor structure;
A detection circuit that outputs a detection value of the applied acceleration based on the charge generated by the main sensor structure;
Provided,
The main sensor second layer is a flat layer arranged along a plane parallel to the XY plane, and supports the flexible plate-like bridge portion arranged on the Y axis and the main sensor third layer. A weight body support for
The weight support portion has a central plate-like portion arranged on the “X ′ axis that is an axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis”.
The plate-like bridge portion extends from the root end portion to the tip portion along the Y axis, the center plate portion extends along the X ′ axis so as to intersect the Y axis, and intersects the Y axis of the center plate portion. The tip of the plate-like bridge portion is connected in the vicinity of the portion, and the XY plane projection image of the plate-like bridge portion and the central plate-like portion has a T shape,
The main sensor first layer has a piezoelectric element formed so as to cover at least a part of the upper surface of the plate-like bridge portion of the main sensor second layer,
The third layer of the main sensor is connected to the lower surface of the weight body support portion of the second layer of the main sensor, and has a mass having a mass sufficient to cause the plate-like bridge portion to bend based on the applied acceleration. Functions as a weight,
For both sides of the plate-like bridge part, when the side where the X coordinate value is negative is defined as the left side and the side where the X coordinate value is positive is defined as the right side, the third layer of the main sensor It has a left wing weight part located on the left side and a right wing weight part located on the right side,
The pedestal supports and fixes the root end of the plate bridge,
The detection circuit is a circuit that outputs a detection value of acceleration based on the electric charge generated in the piezoelectric element.
(19) 本発明の第19の態様は、上述した第18の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第2層の重錘体支持部が、中央板状部の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の左脇に伸びる左翼板状部と、中央板状部の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の右脇に伸びる右翼板状部と、を更に有し、
左翼重錘部が左翼板状部の下面に接続されており、右翼重錘部が右翼板状部の下面に接続されているようにしたものである。
(19) According to a nineteenth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eighteenth aspect described above,
The weight support part of the second layer of the main sensor has a left wing plate-like portion extending from the left side of the central plate-like portion to the left side of the plate-like bridge portion along the direction parallel to the Y axis, and the right side of the central plate-like portion. A right wing plate-like portion extending to the right side of the plate-like bridge portion along a direction parallel to the Y-axis,
The left wing weight portion is connected to the lower surface of the left wing plate-like portion, and the right wing weight portion is connected to the lower surface of the right wing plate-like portion.
(20) 本発明の第20の態様は、上述した第18または第19の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第3層が、左翼重錘部と右翼重錘部とを連結する中央重錘部を有し、中央重錘部が中央板状部の下面に接続されており、左翼重錘部、右翼重錘部および中央重錘部を有する重錘体のXY平面投影像が「コ」の字状をなすようにしたものである。
(20) According to a twentieth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eighteenth or nineteenth aspect described above,
The third layer of the main sensor has a central weight portion that connects the left wing weight portion and the right wing weight portion, and the central weight portion is connected to the lower surface of the central plate-shaped portion, An XY plane projection image of a weight body having a right wing weight portion and a central weight portion is formed in a “U” shape.
(21) 本発明の第21の態様は、上述した第18〜第20の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第3層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方に位置するようにしたものである。
(21) According to a twenty-first aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eighteenth to twentieth aspects described above,
The center of gravity of the structure constituting the third layer of the main sensor is positioned below the plate-like bridge portion.
(22) 本発明の第22の態様は、上述した第18〜第21の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ構造体が、YZ平面に関して面対称をなし、主センサ第3層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方のYZ平面上に位置しているようにしたものである。
(22) According to a twenty-second aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eighteenth to twenty-first aspects described above,
The main sensor structure is symmetrical with respect to the YZ plane, and the center of gravity of the structure constituting the main sensor third layer is positioned on the YZ plane below the plate-like bridge portion.
(23) 本発明の第23の態様は、上述した第18〜第22の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第1層のXY平面投影像と主センサ第2層のXY平面投影像とが同一形状であり、主センサ第1層の下面の全領域が主センサ第2層の上面の全領域に接合されているようにしたものである。
(23) According to a twenty-third aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eighteenth to twenty-second aspects described above,
The XY plane projection image of the main sensor first layer and the XY plane projection image of the main sensor second layer have the same shape, and the entire area of the lower surface of the main sensor first layer is the entire area of the upper surface of the main sensor second layer. It is made to be joined.
(24) 本発明の第24の態様は、上述した第18〜第23の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第3層のX軸正方向の端部が重錘体支持部のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、主センサ第3層のX軸負方向の端部が重錘体支持部のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、主センサ第3層のY軸正方向の端部が重錘体支持部のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、主センサ第3層のY軸負方向の端部が重錘体支持部のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出しているようにしたものである。
(24) According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the eighteenth to twenty-third aspects described above,
The end of the main sensor third layer in the X-axis positive direction protrudes in the X-axis positive direction from the end of the weight support portion in the X-axis positive direction, and the end of the main sensor third layer in the X-axis negative direction The portion protrudes in the negative X-axis direction from the end in the negative X-axis direction of the weight support part, and the positive Y-axis end of the third layer of the main sensor is the positive Y-axis direction of the weight support part The end of the main sensor third layer protrudes in the Y-axis negative direction from the end of the weight support portion in the Y-axis negative direction. It is what you have.
(25) 本発明の第25の態様は、上述した第18〜第24の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第1層が、板状橋梁部の表面に層状に形成された下層電極と、下層電極の表面に層状に形成された圧電材料層と、圧電材料層の表面に局在的に形成された複数の上層電極からなる上層電極群と、を有する圧電素子を構成し、
圧電材料層が、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有し、
検出回路が、上層電極と下層電極との間の電位差に基づいて加速度の検出値を出力する回路であるようにしたものである。
(25) According to a 25th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 18th to 24th aspects described above,
The main sensor first layer is locally formed on the surface of the plate-like bridge portion, the lower layer electrode formed in a layer shape, the piezoelectric material layer formed in a layer shape on the surface of the lower layer electrode, and the surface of the piezoelectric material layer And an upper electrode group composed of a plurality of upper layer electrodes,
The piezoelectric material layer has the property of causing polarization in the thickness direction by the action of stress that expands and contracts in the layer direction,
The detection circuit is a circuit that outputs a detection value of acceleration based on a potential difference between the upper layer electrode and the lower layer electrode.
(26) 本発明の第26の態様は、上述した第25の態様に係る加速度センサにおいて、
上層電極群が、先端部左側上層電極と、先端部右側上層電極と、根端部左側上層電極と、根端部右側上層電極と、を有し、
先端部左側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
先端部右側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
根端部左側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
根端部右側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置するようにしたものである。
(26) According to a twenty-sixth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the twenty-fifth aspect described above,
The upper layer electrode group includes a tip left upper layer electrode, a tip right upper layer electrode, a root left upper layer electrode, and a root right upper layer electrode.
The projected image of the upper left electrode of the tip on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge is negative.
The projected image of the upper right electrode of the tip on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in the direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge is positive.
The projected image of the upper left electrode of the root end portion on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projection image of the upper right electrode of the root end portion on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is positive. It is a thing.
(27) 本発明の第27の態様は、上述した第26の態様に係る加速度センサにおいて、
検出回路が、下層電極の電位を基準電位として、先端部左側上層電極の電圧をV1,先端部右側上層電極の電圧をV2,根端部左側上層電極の電圧をV3,根端部右側上層電極の電圧をV4としたときに、
作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値を、「電圧V1,V4の和」と「電圧V2,V3の和」との差に基づいて出力し、
作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値を、電圧V1,V2,V3,V4の和に基づいて出力し、
作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値を、「電圧V1,V2の和」と「電圧V3,V4の和」との差に基づいて出力するようにしたものである。
(27) According to a twenty-seventh aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the twenty-sixth aspect described above,
The detection circuit uses the lower layer electrode potential as a reference potential, the tip left upper layer electrode voltage is V1, the tip right upper layer electrode voltage is V2, the root left upper electrode voltage is V3, the root right upper layer electrode is V3 When the voltage of V4 is V4,
The detected value of the X axis direction component αx of the applied acceleration is output based on the difference between “the sum of the voltages V1 and V4” and “the sum of the voltages V2 and V3”.
The detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration is output based on the sum of the voltages V1, V2, V3, V4,
The detected value of the Z-axis direction component αz of the applied acceleration is output based on the difference between the “sum of the voltages V1 and V2” and the “sum of the voltages V3 and V4”.
(28) 本発明の第28の態様は、上述した第27の態様に係る加速度センサにおいて、
加速度が作用しても撓みが生じない部分に形成された参照用圧電素子を更に有し、参照用圧電素子は、参照用下層電極と参照用上層電極とこれらの間に挟まれた圧電材料層とによって構成され、参照用下層電極の電位を基準電位として、参照用上層電極の電圧をV5としたときに、
検出回路が、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値を、「電圧V1,V2,V3,V4の和」と「電圧V5に所定の補正係数kを乗じて得られる値k・V5」との差に基づいて出力するようにしたものである。
(28) According to a twenty-eighth aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the twenty-seventh aspect described above,
The piezoelectric material layer further includes a reference piezoelectric element formed in a portion where no deflection occurs even when acceleration is applied, and the reference piezoelectric element includes a reference lower layer electrode, a reference upper layer electrode, and a piezoelectric material layer sandwiched therebetween. When the potential of the reference lower layer electrode is V5 and the potential of the reference lower layer electrode is V5,
The detection circuit detects the detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration as “the sum of the voltages V1, V2, V3, V4” and “the value k · V5 obtained by multiplying the voltage V5 by a predetermined correction coefficient k”. The output is based on the difference between.
(29) 本発明の第29の態様は、上述した第25〜第28の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第1層の圧電材料層が圧電薄膜によって構成され、主センサ第1層の上層電極および下層電極が金属層によって構成され、主センサ第2層がシリコン基板によって構成され、主センサ第3層が金属基板、セラミック基板、もしくはガラス基板によって構成されているようにしたものである。
(29) According to a 29th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the above 25th to 28th aspects,
The piezoelectric material layer of the first main sensor layer is composed of a piezoelectric thin film, the upper layer electrode and the lower layer electrode of the first main sensor layer are composed of a metal layer, the second main sensor layer is composed of a silicon substrate, The layer is constituted by a metal substrate, a ceramic substrate, or a glass substrate.
(30) 本発明の第30の態様は、上述した第18〜第29の態様に係る加速度センサにおいて、
台座が、XY平面に沿って主センサ構造体を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の水平方向成分が作用した場合に、主センサ第3層が環状構造体の内面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(30) In a 30th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 18th to 29th aspects described above,
When the pedestal forms an annular structure surrounding the main sensor structure along the XY plane, the main sensor third layer has an annular structure when a horizontal component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor. It touches the inner surface of the body and further displacement is limited.
(31) 本発明の第31の態様は、上述した第30の態様に係る加速度センサにおいて、
台座が、第1壁部、第2壁部、第3壁部、第4壁部なる4組の壁部を有する矩形状の方環状構造体をなし、
第1壁部は、主センサ構造体に対してX軸負方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
第2壁部は、主センサ構造体に対してX軸正方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
第3壁部は、主センサ構造体に対してY軸正方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
第4壁部は、主センサ構造体に対してY軸負方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
板状橋梁部の根端部が、第4壁部に支持固定されているようにしたものである。
(31) According to a thirty-first aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the thirtieth aspect described above,
The pedestal comprises a rectangular ring-shaped structure having four sets of wall portions, the first wall portion, the second wall portion, the third wall portion, and the fourth wall portion,
The first wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The second wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The third wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
The fourth wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
The root end portion of the plate-like bridge portion is supported and fixed to the fourth wall portion.
(32) 本発明の第32の態様は、上述した第30または第31の態様に係る加速度センサにおいて、
台座が、上から順に台座第1層、台座第2層、台座第3層を積層した積層構造体によって構成され、台座第1層は板状橋梁部の根端部近傍において主センサ第1層に連なり、台座第2層は板状橋梁部の根端部において主センサ第2層に連なるようにしたものである。
(32) According to a thirty-second aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the thirtieth or thirty-first aspect described above,
The pedestal is constituted by a laminated structure in which a pedestal first layer, a pedestal second layer, and a pedestal third layer are laminated in order from the top, and the pedestal first layer is a main sensor first layer in the vicinity of the root end portion of the plate-like bridge portion. The pedestal second layer is connected to the main sensor second layer at the root end portion of the plate-like bridge portion.
(33) 本発明の第33の態様は、上述した第30または第31の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ第2層が、板状橋梁部の根端部に接続された台座接続部を更に有し、
台座接続部は、Y軸と交差しX軸に平行な所定の配置軸上に配置され、当該配置軸に沿って伸び、
台座の所定箇所の上面には、台座接続部を嵌合するための嵌合溝が形成されており、台座接続部が嵌合溝に嵌合した状態で固定されているようにしたものである。
(33) According to a 33rd aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 30th or 31st aspect described above,
The main sensor second layer further has a pedestal connection portion connected to the root end portion of the plate-like bridge portion,
The pedestal connecting portion is arranged on a predetermined arrangement axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis, and extends along the arrangement axis.
A fitting groove for fitting the pedestal connection portion is formed on the upper surface of a predetermined portion of the pedestal, and the pedestal connection portion is fixed in a state of being fitted into the fitting groove. .
(34) 本発明の第34の態様は、上述した第18〜第33の態様に係る加速度センサと、この加速度センサを収容する装置筐体と、によって加速度検出装置を構成し、
加速度センサの台座を装置筐体に固定し、装置筐体に加速度が作用したときに、加速度センサの主センサ第3層が板状橋梁部の撓みによって装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体に作用した加速度の検出値とするようにしたものである。
(34) According to a thirty-fourth aspect of the present invention, an acceleration detection device is constituted by the acceleration sensor according to the above-described eighteenth to thirty-third aspects and an apparatus housing that accommodates the acceleration sensor.
The acceleration sensor base is fixed to the device housing, and when the acceleration acts on the device housing, the third layer of the main sensor of the acceleration sensor is displaced in the device housing by the bending of the plate-like bridge portion, and the displacement The output from the detection circuit according to the above is used as the detected value of the acceleration acting on the apparatus housing.
(35) 本発明の第35の態様は、上述した第34の態様に係る加速度検出装置において、
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、土台基板と上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ第3層の底面より下方に位置し、台座の底面は土台基板の上面に固定されており、土台基板の上面と主センサ第3層の底面との間に下方空隙部が形成され、
上蓋基板は、加速度センサの主センサ第1層の上面より上方に位置し、上蓋基板の下面と主センサ第1層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、主センサ構造体の一部が土台基板の上面もしくは上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(35) According to a thirty-fifth aspect of the present invention, in the acceleration detection device according to the thirty-fourth aspect described above,
An apparatus housing is disposed so as to surround the periphery of the acceleration sensor, a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper cover substrate that covers the upper side of the acceleration sensor, and a side wall that connects the base substrate and the upper cover substrate. A board, and
The bottom surface of the base of the acceleration sensor is located below the bottom surface of the third layer of the main sensor of the acceleration sensor, the bottom surface of the base is fixed to the top surface of the base substrate, and the top surface of the base substrate and the bottom surface of the main sensor third layer A lower gap is formed between
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor first layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor first layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude is applied to the acceleration sensor, a part of the main sensor structure comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper lid substrate, and further displacement is limited. It was made to do.
(36) 本発明の第36の態様は、上述した第18〜第33の態様に係る加速度センサと、この加速度センサを収容する装置筐体と、によって加速度検出装置を構成し、
加速度センサの主センサ第3層を装置筐体に固定し、装置筐体に加速度が作用したときに、加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体に作用した加速度の検出値とするようにしたものである。
(36) In a thirty-sixth aspect of the present invention, the acceleration sensor according to the above-described eighteenth to thirty-third aspects and an apparatus housing that accommodates the acceleration sensor constitute an acceleration detection apparatus,
The third layer of the main sensor of the acceleration sensor is fixed to the device housing, and when acceleration acts on the device housing, the pedestal of the acceleration sensor is displaced in the device housing by the bending of the plate-like bridge portion, and the displacement The output from the detection circuit according to the above is used as the detected value of the acceleration acting on the apparatus housing.
(37) 本発明の第37の態様は、上述した第36の態様に係る加速度検出装置において、
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、土台基板と上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ第3層の底面より上方に位置し、主センサ第3層の底面は土台基板の上面に固定されており、土台基板の上面と台座の底面との間に下方空隙部が形成され、
上蓋基板は、加速度センサの主センサ第1層の上面より上方に位置し、上蓋基板の下面と主センサ第1層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、台座の一部が土台基板の上面もしくは上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(37) According to a 37th aspect of the present invention, in the acceleration detection device according to the 36th aspect described above,
An apparatus housing is disposed so as to surround the periphery of the acceleration sensor, a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper cover substrate that covers the upper side of the acceleration sensor, and a side wall that connects the base substrate and the upper cover substrate. A board, and
The bottom surface of the base of the acceleration sensor is positioned above the bottom surface of the third layer of the main sensor of the acceleration sensor, and the bottom surface of the third layer of the main sensor is fixed to the top surface of the base substrate. A lower gap is formed between
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor first layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor first layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude is applied to the acceleration sensor, a part of the base comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper cover substrate, and further displacement is limited. It is a thing.
(38) 本発明の第38の態様は、XYZ三次元座標系における所定の座標軸方向に作用した加速度の検出を行う加速度センサにおいて、
XY平面を水平面にとり、Z軸正方向を上方向、Z軸負方向を下方向にとった場合に、主センサ検出層と、その下方に接合された主センサ重錘層と、を有する主センサ構造体と、
主センサ検出層の所定箇所を支持固定する台座と、
主センサ検出層の所定箇所の伸縮変形を検出する複数のピエゾ抵抗素子と、
ピエゾ抵抗素子の電気抵抗値に基づいて、作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、
を備え、
主センサ検出層は、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の層であり、Y軸上に配置され可撓性を有する板状橋梁部と、主センサ重錘層を支持するための重錘体支持部と、を有し、
重錘体支持部は、「Y軸と交差しX軸に平行な軸であるX′軸」上に配置された中央板状部を有し、
板状橋梁部は根端部から先端部へとY軸に沿って伸び、中央板状部はY軸と交差するようにX′軸に沿って伸び、中央板状部のY軸と交差する部分近傍に板状橋梁部の先端部が接続されており、板状橋梁部と中央板状部とのXY平面投影像はT字状をなし、
主センサ重錘層は、主センサ検出層の重錘体支持部の下面に接続されており、作用した加速度に基づいて板状橋梁部に撓みを生じさせるのに十分な質量をもった重錘体として機能し、
板状橋梁部の両脇について、X座標値が負となる側を左脇、X座標値が正となる側を右脇と定義したときに、主センサ重錘層は、板状橋梁部の左脇に位置する左翼重錘部と右脇に位置する右翼重錘部とを有しており、
台座は、板状橋梁部の根端部を支持固定し、
ピエゾ抵抗素子は、板状橋梁部の所定箇所の表面に形成されているようにしたものである。
(38) According to a thirty-eighth aspect of the present invention, in an acceleration sensor that detects acceleration acting in a predetermined coordinate axis direction in an XYZ three-dimensional coordinate system,
A main sensor having a main sensor detection layer and a main sensor weight layer bonded below the main sensor detection layer when the XY plane is a horizontal plane, the Z-axis positive direction is upward, and the Z-axis negative direction is downward. A structure,
A base for supporting and fixing a predetermined portion of the main sensor detection layer;
A plurality of piezoresistive elements that detect expansion and contraction of a predetermined location of the main sensor detection layer;
A detection circuit that outputs a detection value of the applied acceleration based on the electric resistance value of the piezoresistive element;
With
The main sensor detection layer is a flat layer arranged along a plane parallel to the XY plane, and supports the flexible plate-like bridge portion arranged on the Y axis and the main sensor weight layer. A weight body support for,
The weight support portion has a central plate-like portion arranged on the “X ′ axis that is an axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis”.
The plate-like bridge portion extends from the root end portion to the tip portion along the Y axis, the center plate portion extends along the X ′ axis so as to intersect the Y axis, and intersects the Y axis of the center plate portion. The tip of the plate-like bridge portion is connected in the vicinity of the portion, and the XY plane projection image of the plate-like bridge portion and the central plate-like portion has a T shape,
The main sensor weight layer is connected to the lower surface of the weight body support portion of the main sensor detection layer, and has a mass sufficient to cause the plate-like bridge portion to bend based on the applied acceleration. Function as body,
For both sides of the plate-like bridge part, when the side where the X coordinate value is negative is defined as the left side and the side where the X coordinate value is positive is defined as the right side, the main sensor weight layer is It has a left wing weight part located on the left side and a right wing weight part located on the right side,
The pedestal supports and fixes the root end of the plate bridge,
The piezoresistive element is formed on the surface of a predetermined portion of the plate-like bridge portion.
(39) 本発明の第39の態様は、上述した第38の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ検出層の重錘体支持部が、中央板状部の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の左脇に伸びる左翼板状部と、中央板状部の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の右脇に伸びる右翼板状部と、を更に有し、
左翼重錘部が左翼板状部の下面に接続されており、右翼重錘部が右翼板状部の下面に接続されているようにしたものである。
(39) According to a 39th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th aspect described above,
The weight support portion of the main sensor detection layer has a left wing plate-like portion extending from the left side of the central plate-like portion to the left side of the plate-like bridge portion along a direction parallel to the Y axis, and a right side of the central plate-like portion. A right wing plate-like portion extending to the right side of the plate-like bridge portion along a direction parallel to the Y-axis,
The left wing weight portion is connected to the lower surface of the left wing plate-like portion, and the right wing weight portion is connected to the lower surface of the right wing plate-like portion.
(40) 本発明の第40の態様は、上述した第38または第39の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ重錘層が、左翼重錘部と右翼重錘部とを連結する中央重錘部を有し、中央重錘部が中央板状部の下面に接続されており、左翼重錘部、右翼重錘部および中央重錘部を有する重錘体のXY平面投影像が「コ」の字状をなすようにしたものである。
(40) According to a 40th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th or 39th aspect described above,
The main sensor weight layer has a central weight portion that connects the left wing weight portion and the right wing weight portion, and the central weight portion is connected to the lower surface of the central plate-shaped portion. An XY plane projection image of a weight body having a right wing weight portion and a central weight portion is formed in a “U” shape.
(41) 本発明の第41の態様は、上述した第38〜第40の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ重錘層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方に位置するようにしたものである。
(41) According to a 41st aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 40th aspects described above,
The center of gravity of the structure constituting the main sensor weight layer is located below the plate-like bridge portion.
(42) 本発明の第42の態様は、上述した第38〜第41の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ構造体が、YZ平面に関して面対称をなし、主センサ重錘層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方のYZ平面上に位置しているようにしたものである。
(42) According to a forty-second aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the thirty-eighth to forty-first aspects described above,
The main sensor structure is symmetrical with respect to the YZ plane, and the center of gravity of the structure constituting the main sensor weight layer is located on the YZ plane below the plate-like bridge portion.
(43) 本発明の第43の態様は、上述した第38〜第42の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ重錘層のX軸正方向の端部が重錘体支持部のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、主センサ重錘層のX軸負方向の端部が重錘体支持部のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、主センサ重錘層のY軸正方向の端部が重錘体支持部のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、主センサ重錘層のY軸負方向の端部が重錘体支持部のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出しているようにしたものである。
(43) According to a 43rd aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 42nd aspects described above,
The end of the main sensor weight layer in the X-axis positive direction protrudes in the X-axis positive direction from the end of the weight support portion in the X-axis positive direction, and the end of the main sensor weight layer in the X-axis negative direction Part protrudes in the X-axis negative direction from the end of the weight support part in the X-axis negative direction, and the end of the main sensor weight layer in the Y-axis positive direction is the Y-axis positive direction of the weight support part The end of the main sensor weight layer in the negative Y-axis direction protrudes in the negative Y-axis direction from the negative end of the weight support portion in the negative Y-axis direction. It is what you have.
(44) 本発明の第44の態様は、上述した第38〜第43の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ検出層が、シリコン基板によって構成され、各ピエゾ抵抗素子が、板状橋梁部の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって構成されているようにしたものである。
(44) According to a 44th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 43rd aspects described above,
The main sensor detection layer is constituted by a silicon substrate, and each piezoresistive element is constituted by a region in which p-type or n-type impurities are implanted into a part of the surface layer of the plate-like bridge portion. .
(45) 本発明の第45の態様は、上述した第38〜第44の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ検出層が、面方位(100)に相当する面を上面および下面とするシリコン基板によって構成され、
Y軸が、シリコン基板の結晶軸<100>の方向に設定されているようにしたものである。
(45) According to a 45th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 44th aspects described above,
The main sensor detection layer is constituted by a silicon substrate having a surface corresponding to the plane orientation (100) as an upper surface and a lower surface,
The Y axis is set in the direction of the crystal axis <100> of the silicon substrate.
(46) 本発明の第46の態様は、上述した第38〜第45の態様に係る加速度センサにおいて、
作用した加速度のX軸方向成分αxの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rx1,抵抗素子Rx2,抵抗素子Rx3,抵抗素子Rx4が設けられており、
抵抗素子Rx1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rx3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
検出回路が、
抵抗素子Rx1および抵抗素子Rx4を第1の対辺とし、抵抗素子Rx2および抵抗素子Rx3を第2の対辺とするX軸検出用ホイートストンブリッジと、
X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx1,Rx2の接続点と抵抗素子Rx3,Rx4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx2,Rx4の接続点と抵抗素子Rx1,Rx3の接続点との間の電位差を、作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値として出力する出力手段と、
を有するようにしたものである。
(46) According to a 46th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 45th aspects described above,
As a piezoresistive element used for detecting the X-axis direction component αx of the applied acceleration, a resistive element Rx1, a resistive element Rx2, a resistive element Rx3, and a resistive element Rx4 are provided.
The projection image of the resistor element Rx1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative,
The projection image of the resistance element Rx2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rx3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rx4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The detection circuit
A Wheatstone bridge for X-axis detection having the resistance element Rx1 and the resistance element Rx4 as the first opposite side and the resistance element Rx2 and the resistance element Rx3 as the second opposite side;
A bridge voltage power source for applying a bridge voltage between the connection point of the resistance elements Rx1, Rx2 and the connection point of the resistance elements Rx3, Rx4 in the Wheatstone bridge for X-axis detection;
Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Rx2, Rx4 and a connection point of the resistance elements Rx1, Rx3 in the Wheatstone bridge for X-axis detection as a detection value of the X-axis direction component αx of the applied acceleration;
It is made to have.
(47) 本発明の第47の態様は、上述した第38〜第45の態様に係る加速度センサにおいて、
作用した加速度のY軸方向成分αyの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Ry1,抵抗素子Ry2,抵抗素子Ry3,抵抗素子Ry4が設けられており、
抵抗素子Ry1およびRy2のXY平面への投影像は、X軸に平行な方向に伸び、抵抗素子Ry3およびRy4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、
検出回路が、
抵抗素子Ry1および抵抗素子Ry2を第1の対辺とし、抵抗素子Ry3および抵抗素子Ry4を第2の対辺とするY軸検出用ホイートストンブリッジと、
Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry1,Ry3の接続点と抵抗素子Ry2,Ry4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry2,Ry3の接続点と抵抗素子Ry1,Ry4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値として出力する出力手段と、
を有するようにしたものである。
(47) According to a 47th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 45th aspects described above,
As the piezoresistive elements used for detecting the Y-axis direction component αy of the applied acceleration, a resistive element Ry1, a resistive element Ry2, a resistive element Ry3, and a resistive element Ry4 are provided.
The projected images of the resistive elements Ry1 and Ry2 on the XY plane extend in a direction parallel to the X axis, and the projected images of the resistive elements Ry3 and Ry4 on the XY plane extend in a direction parallel to the Y axis.
The detection circuit
A Wheatstone bridge for Y-axis detection having the resistance element Ry1 and the resistance element Ry2 as the first opposite side and the resistance element Ry3 and the resistance element Ry4 as the second opposite side;
A bridge voltage power source for applying a bridge voltage between a connection point of the resistance elements Ry1 and Ry3 and a connection point of the resistance elements Ry2 and Ry4 in the Wheatstone bridge for Y-axis detection;
Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Ry2 and Ry3 and a connection point of the resistance elements Ry1 and Ry4 in the W-axis detection Wheatstone bridge as a detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration;
It is made to have.
(48) 本発明の第48の態様は、上述した第38〜第45の態様に係る加速度センサにおいて、
作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rz1,抵抗素子Rz2,抵抗素子Rz3,抵抗素子Rz4が設けられており、
抵抗素子Rz1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rz3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
検出回路が、
抵抗素子Rz1および抵抗素子Rz2を第1の対辺とし、抵抗素子Rz3および抵抗素子Rz4を第2の対辺とするZ軸検出用ホイートストンブリッジと、
Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz1,Rz3の接続点と抵抗素子Rz2,Rz4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz2,Rz3の接続点と抵抗素子Rz1,Rz4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値として出力する出力手段と、
を有するようにしたものである。
(48) According to a 48th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 45th aspects described above,
As the piezoresistive elements used for detecting the Z-axis direction component αz of the applied acceleration, a resistive element Rz1, a resistive element Rz2, a resistive element Rz3, and a resistive element Rz4 are provided.
The projection image of the resistor element Rz1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rz2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rz3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projection image of the resistor element Rz4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The detection circuit
A Z-axis detection Wheatstone bridge having the resistance element Rz1 and the resistance element Rz2 as a first opposite side and the resistance element Rz3 and the resistance element Rz4 as a second opposite side;
A bridge voltage power source for applying a bridge voltage between a connection point of the resistance elements Rz1 and Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz2 and Rz4 in the Wheatstone bridge for Z-axis detection;
An output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Rz2 and Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz1 and Rz4 in the W axis for detecting the Z axis as a detection value of the Z-axis direction component αz of the applied acceleration;
It is made to have.
(49) 本発明の第49の態様は、上述した第38〜第45の態様に係る加速度センサにおいて、
作用した加速度のX軸方向成分αxの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rx1,抵抗素子Rx2,抵抗素子Rx3,抵抗素子Rx4が設けられており、
作用した加速度のY軸方向成分αyの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Ry1,抵抗素子Ry2,抵抗素子Ry3,抵抗素子Ry4が設けられており、
作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rz1,抵抗素子Rz2,抵抗素子Rz3,抵抗素子Rz4が設けられており、
抵抗素子Rx1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rx3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rz1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rz3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rx1,Rx2,Rx3,Rx4は、それぞれ抵抗素子Rz1,Rz2,Rz3,Rz4よりも、板状橋梁部における外側に配置されており、
抵抗素子Ry1およびRy2のXY平面への投影像は、X軸に平行な方向に伸び、抵抗素子Ry3およびRy4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、
検出回路が、
抵抗素子Rx1および抵抗素子Rx4を第1の対辺とし、抵抗素子Rx2および抵抗素子Rx3を第2の対辺とするX軸検出用ホイートストンブリッジと、
抵抗素子Ry1および抵抗素子Ry2を第1の対辺とし、抵抗素子Ry3および抵抗素子Ry4を第2の対辺とするY軸検出用ホイートストンブリッジと、
抵抗素子Rz1および抵抗素子Rz2を第1の対辺とし、抵抗素子Rz3および抵抗素子Rz4を第2の対辺とするZ軸検出用ホイートストンブリッジと、
X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx1,Rx2の接続点と抵抗素子Rx3,Rx4の接続点との間にブリッジ電圧を印加し、Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry1,Ry3の接続点と抵抗素子Ry2,Ry4の接続点との間にブリッジ電圧を印加し、Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz1,Rz3の接続点と抵抗素子Rz2,Rz4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx2,Rx4の接続点と抵抗素子Rx1,Rx3の接続点との間の電位差を、作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値として出力し、Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry2,Ry3の接続点と抵抗素子Ry1,Ry4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値として出力し、Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz2,Rz3の接続点と抵抗素子Rz1,Rz4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値として出力する出力手段と、
を有するようにしたものである。
(49) According to a 49th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 45th aspects described above,
As a piezoresistive element used for detecting the X-axis direction component αx of the applied acceleration, a resistive element Rx1, a resistive element Rx2, a resistive element Rx3, and a resistive element Rx4 are provided.
As the piezoresistive elements used for detecting the Y-axis direction component αy of the applied acceleration, a resistive element Ry1, a resistive element Ry2, a resistive element Ry3, and a resistive element Ry4 are provided.
As the piezoresistive elements used for detecting the Z-axis direction component αz of the applied acceleration, a resistive element Rz1, a resistive element Rz2, a resistive element Rz3, and a resistive element Rz4 are provided.
The projection image of the resistor element Rx1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative,
The projection image of the resistance element Rx2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rx3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rx4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rz1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rz2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rz3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projection image of the resistor element Rz4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The resistance elements Rx1, Rx2, Rx3, and Rx4 are arranged on the outer side of the plate-like bridge portion than the resistance elements Rz1, Rz2, Rz3, and Rz4, respectively.
The projected images of the resistive elements Ry1 and Ry2 on the XY plane extend in a direction parallel to the X axis, and the projected images of the resistive elements Ry3 and Ry4 on the XY plane extend in a direction parallel to the Y axis.
The detection circuit
A Wheatstone bridge for X-axis detection having the resistance element Rx1 and the resistance element Rx4 as the first opposite side and the resistance element Rx2 and the resistance element Rx3 as the second opposite side;
A Wheatstone bridge for Y-axis detection having the resistance element Ry1 and the resistance element Ry2 as the first opposite side and the resistance element Ry3 and the resistance element Ry4 as the second opposite side;
A Z-axis detection Wheatstone bridge having the resistance element Rz1 and the resistance element Rz2 as a first opposite side and the resistance element Rz3 and the resistance element Rz4 as a second opposite side;
A bridge voltage is applied between a connection point of the resistance elements Rx1 and Rx2 and a connection point of the resistance elements Rx3 and Rx4 in the X-axis detection Wheatstone bridge, and a connection point of the resistance elements Ry1 and Ry3 in the Y-axis detection Wheatstone bridge A bridge voltage is applied between the connection points of the resistance elements Ry2 and Ry4, and a bridge voltage is applied between the connection point of the resistance elements Rz1 and Rz3 and the connection point of the resistance elements Rz2 and Rz4 in the Z-axis detection Wheatstone bridge. A bridge voltage power supply,
The potential difference between the connection point of the resistance elements Rx2 and Rx4 and the connection point of the resistance elements Rx1 and Rx3 in the Wheatstone bridge for X-axis detection is output as a detection value of the X-axis direction component αx of the applied acceleration, and the Y-axis detection Output a potential difference between the connection point of the resistance elements Ry2 and Ry3 and the connection point of the resistance elements Ry1 and Ry4 in the Wheatstone bridge for detection as a detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration. Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Rz2 and Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz1 and Rz4 as a detected value of the Z-axis direction component αz of the applied acceleration;
It is made to have.
(50) 本発明の第50の態様は、上述した第38〜第49の態様に係る加速度センサにおいて、
台座が、XY平面に沿って主センサ構造体を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の水平方向成分が作用した場合に、重錘体が環状構造体の内面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(50) According to a 50th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 38th to 49th aspects described above,
The pedestal forms an annular structure that surrounds the main sensor structure along the XY plane, and when a horizontal component of acceleration that exceeds a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor, the weight body of the annular structure The inner surface is in contact with the inner surface and further displacement is limited.
(51) 本発明の第51の態様は、上述した第50の態様に係る加速度センサにおいて、
台座が、第1壁部、第2壁部、第3壁部、第4壁部なる4組の壁部を有する矩形状の方環状構造体をなし、
第1壁部は、主センサ構造体に対してX軸負方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
第2壁部は、主センサ構造体に対してX軸正方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
第3壁部は、主センサ構造体に対してY軸正方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
第4壁部は、主センサ構造体に対してY軸負方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
板状橋梁部の根端部が、第4壁部に支持固定されているようにしたものである。
(51) According to a 51st aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 50th aspect described above,
The pedestal comprises a rectangular ring-shaped structure having four sets of wall portions, the first wall portion, the second wall portion, the third wall portion, and the fourth wall portion,
The first wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The second wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The third wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
The fourth wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
The root end portion of the plate-like bridge portion is supported and fixed to the fourth wall portion.
(52) 本発明の第52の態様は、上述した第50または第51の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ構造体が、上から順に構造体第1層、構造体第2層、構造体第3層を積層した積層構造体によって構成され、構造体第1層および構造体第2層によって主センサ検出層が構成され、構造体第3層によって主センサ重錘層が構成されており、
台座が、上から順に台座第1層、台座第2層、台座第3層を積層した積層構造体によって構成され、
構造体第1層および台座第1層は、いずれも第1の材料からなり、
構造体第2層および台座第2層は、いずれも第2の材料からなり、
構造体第3層および台座第3層は、いずれも第3の材料からなり、
第1の材料のエッチング特性は、第2の材料のエッチング特性と異なり、第3の材料のエッチング特性は、第2の材料のエッチング特性と異なり、
台座第1層は板状橋梁部の根端部において構造体第1層に連なり、台座第2層は板状橋梁部の根端部において構造体第2層に連なっているようにしたものである。
(52) According to a 52nd aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 50th or 51st aspect described above,
The main sensor structure is constituted by a laminated structure in which a structure first layer, a structure second layer, and a structure third layer are laminated in order from the top, and the main sensor structure is constituted by the structure first layer and the structure second layer. The detection layer is configured, and the main sensor weight layer is configured by the structure third layer,
The pedestal is constituted by a laminated structure in which a pedestal first layer, a pedestal second layer, and a pedestal third layer are laminated in order from the top,
The structure first layer and the pedestal first layer are both made of the first material,
The structure second layer and the pedestal second layer are both made of the second material,
The structure third layer and the pedestal third layer are both made of the third material,
The etching characteristics of the first material are different from the etching characteristics of the second material, the etching characteristics of the third material are different from the etching characteristics of the second material,
The first layer of the pedestal is connected to the first layer of the structure at the root end of the plate-like bridge portion, and the second layer of the pedestal is connected to the second layer of the structure at the root end of the plate-like bridge portion. is there.
(53) 本発明の第53の態様は、上述した第50または第51の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ構造体が、上から順に構造体第1層、構造体第2層、構造体第3層を積層した積層構造体によって構成され、構造体第1層によって主センサ検出層が構成され、構造体第2層および構造体第3層によって主センサ重錘層が構成されており、
台座が、上から順に台座第1層、台座第2層、台座第3層を積層した積層構造体によって構成され、
構造体第1層および台座第1層は、いずれも第1の材料からなり、
構造体第2層および台座第2層は、いずれも第2の材料からなり、
構造体第3層および台座第3層は、いずれも第3の材料からなり、
第1の材料のエッチング特性は、第2の材料のエッチング特性と異なり、第3の材料のエッチング特性は、第2の材料のエッチング特性と異なり、
台座第1層は板状橋梁部の根端部において構造体第1層に連なっているようにしたものである。
(53) According to a 53rd aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 50th or 51st aspect described above,
The main sensor structure is constituted by a laminated structure in which the structure first layer, the structure second layer, and the structure third layer are laminated in order from the top, and the main sensor detection layer is constituted by the structure first layer, The main sensor weight layer is constituted by the structure second layer and the structure third layer,
The pedestal is constituted by a laminated structure in which a pedestal first layer, a pedestal second layer, and a pedestal third layer are laminated in order from the top,
The structure first layer and the pedestal first layer are both made of the first material,
The structure second layer and the pedestal second layer are both made of the second material,
The structure third layer and the pedestal third layer are both made of the third material,
The etching characteristics of the first material are different from the etching characteristics of the second material, the etching characteristics of the third material are different from the etching characteristics of the second material,
The pedestal first layer is connected to the structure first layer at the root end of the plate-like bridge portion.
(54) 本発明の第54の態様は、上述した第50または第51の態様に係る加速度センサにおいて、
主センサ検出層が、板状橋梁部の根端部に接続された台座接続部を更に有し、
台座接続部は、Y軸と交差しX軸に平行な所定の配置軸上に配置され、当該配置軸に沿って伸び、
台座の所定箇所の上面には、台座接続部を嵌合するための嵌合溝が形成されており、台座接続部が嵌合溝に嵌合した状態で固定されているようにしたものである。
(54) According to a 54th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to the 50th or 51st aspect described above,
The main sensor detection layer further has a base connection part connected to the root end part of the plate-like bridge part,
The pedestal connecting portion is arranged on a predetermined arrangement axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis, and extends along the arrangement axis.
A fitting groove for fitting the pedestal connection portion is formed on the upper surface of a predetermined portion of the pedestal, and the pedestal connection portion is fixed in a state of being fitted into the fitting groove. .
(55) 本発明の第55の態様は、上述した第38〜第54の態様に係る加速度センサと、この加速度センサを収容する装置筐体と、によって加速度検出装置にを構成し、
加速度センサの台座を装置筐体に固定し、装置筐体に加速度が作用したときに、加速度センサの主センサ重錘層が板状橋梁部の撓みによって装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体に作用した加速度の検出値とするようにしたものである。
(55) According to a 55th aspect of the present invention, the acceleration sensor according to the above 38th to 54th aspects and an apparatus housing that houses the acceleration sensor constitute an acceleration detection apparatus,
The acceleration sensor pedestal is fixed to the device housing, and when the acceleration acts on the device housing, the main sensor weight layer of the acceleration sensor is displaced in the device housing due to the bending of the plate-like bridge portion. The output from the detection circuit according to the above is used as the detected value of the acceleration acting on the apparatus housing.
(56) 本発明の第56の態様は、上述した第55の態様に係る加速度検出装置において、
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、土台基板と上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ重錘層の底面より下方に位置し、台座の底面は土台基板の上面に固定されており、土台基板の上面と主センサ重錘層の底面との間に下方空隙部が形成され、
上蓋基板は、加速度センサの主センサ検出層の上面より上方に位置し、上蓋基板の下面と主センサ検出層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、主センサ構造体の一部が土台基板の上面もしくは上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(56) According to a 56th aspect of the present invention, in the acceleration detection device according to the 55th aspect described above,
An apparatus housing is disposed so as to surround the periphery of the acceleration sensor, a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper cover substrate that covers the upper side of the acceleration sensor, and a side wall that connects the base substrate and the upper cover substrate. A board, and
The bottom surface of the pedestal of the acceleration sensor is located below the bottom surface of the main sensor weight layer of the acceleration sensor, the bottom surface of the pedestal is fixed to the top surface of the base substrate, and the top surface of the base substrate and the bottom surface of the main sensor weight layer A lower gap is formed between
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor detection layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor detection layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude is applied to the acceleration sensor, a part of the main sensor structure comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper lid substrate, and further displacement is limited. It was made to do.
(57) 本発明の第57の態様は、上述した第38〜第54の態様に係る加速度センサと、この加速度センサを収容する装置筐体と、によって加速度検出装置を構成し、
加速度センサの主センサ重錘層を装置筐体に固定し、装置筐体に加速度が作用したときに、加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体に作用した加速度の検出値とするようにしたものである。
(57) According to a 57th aspect of the present invention, an acceleration detection device includes the acceleration sensor according to the 38th to 54th aspects described above and a device housing that houses the acceleration sensor.
The main sensor weight layer of the acceleration sensor is fixed to the device housing, and when acceleration is applied to the device housing, the base of the acceleration sensor is displaced in the device housing due to the bending of the plate-like bridge portion. The output from the detection circuit according to the above is used as the detected value of the acceleration acting on the apparatus housing.
(58) 本発明の第58の態様は、上述した第57の態様に係る加速度検出装置において、
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、土台基板と上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ重錘層の底面より上方に位置し、主センサ重錘層の底面は土台基板の上面に固定されており、土台基板の上面と台座の底面との間に下方空隙部が形成され、
上蓋基板は、加速度センサの主センサ検出層の上面より上方に位置し、上蓋基板の下面と主センサ検出層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、台座の一部が土台基板の上面もしくは上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたものである。
(58) According to a 58th aspect of the present invention, in the acceleration detecting apparatus according to the 57th aspect described above,
An apparatus housing is disposed so as to surround the periphery of the acceleration sensor, a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper cover substrate that covers the upper side of the acceleration sensor, and a side wall that connects the base substrate and the upper cover substrate. A board, and
The bottom surface of the base of the acceleration sensor is located above the bottom surface of the main sensor weight layer of the acceleration sensor, and the bottom surface of the main sensor weight layer is fixed to the top surface of the base substrate. A lower gap is formed between
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor detection layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor detection layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude is applied to the acceleration sensor, a part of the base comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper cover substrate, and further displacement is limited. It is a thing.
(59) 本発明の第59の態様は、上述した第1〜第15,第18〜第33,第38〜第54の態様に係る加速度センサにおいて、装置筐体の一部を台座として用いるようにしたものである。 (59) According to a 59th aspect of the present invention, in the acceleration sensor according to any of the first to fifteenth, eighteenth to thirty-third, thirty-eighth to fifty-fourth aspects, a part of the device housing is used as a pedestal. It is a thing.
(60) 本発明の第60の態様は、上述した第1〜第15,第18〜第33,第38〜第54の態様に係る加速度センサから、検出回路を除いた加速度センサ用構造体を構成するようにしたものである。 (60) According to a sixty-sixth aspect of the present invention, there is provided an acceleration sensor structure in which the detection circuit is removed from the acceleration sensors according to the first to fifteenth, eighteenth to thirty-third, and thirty-eighth to fourty-fourth aspects. It is configured.
本発明に係る加速度センサでは、長手方向軸に沿って伸びる可撓性を有する板状橋梁部によって、重錘体が片持ち梁構造で支持される。このため、ダイアフラム部の周囲を装置筐体に固定するタイプのセンサのように、温度や実装方法などの利用環境によって検出結果に悪影響が及ぶことを避けることができる。また、重錘体は、板状橋梁部の左脇と右脇とに配置されるため、板状橋梁部に撓みを生じさせるための十分な質量を確保することができる。しかも、板状橋梁部が、左右から重錘体によって保護される構造が採られるため、過度の加速度が加わった場合でも、板状橋梁部が外部部材と接触して損傷を受けることを防ぐことができる。 In the acceleration sensor according to the present invention, the weight body is supported in a cantilever structure by the plate-like bridge portion having flexibility extending along the longitudinal axis. For this reason, it is possible to avoid the detection result from being adversely affected by the use environment such as the temperature and the mounting method, like a sensor of a type that fixes the periphery of the diaphragm portion to the apparatus housing. In addition, since the weight bodies are arranged on the left side and the right side of the plate-like bridge portion, it is possible to secure a sufficient mass for causing the plate-like bridge portion to bend. In addition, since the plate-like bridge part is protected by the weight from the left and right, even if excessive acceleration is applied, the plate-like bridge part is prevented from being damaged due to contact with external members. Can do.
このように、本発明によれば、利用環境によって検出結果に悪影響が及ぶことがなく、しかも高い検出感度をもった加速度検出が可能になり、過度の加速度が加わった場合でも損傷を受けにくい加速度センサを提供することができる。 As described above, according to the present invention, the detection result is not adversely affected by the use environment, the acceleration detection with high detection sensitivity is possible, and the acceleration that is not easily damaged even when excessive acceleration is applied. A sensor can be provided.
以下、本発明を図示する実施形態に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on the illustrated embodiments.
<<< §1. 圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサの構造 >>>
図1は、本発明の一実施形態に係る加速度センサAS(Acceleration Sensorの略)の構成を示す斜視図およびブロック図である。ここで述べる実施形態は、加速度の検出に圧電素子を用いた実施形態である。本発明を実施する上で、加速度の検出に用いる検出素子は、圧電素子に限定されるものではなく、たとえば、ピエゾ抵抗素子等を用いることも可能である(§6参照)。ただ、説明の便宜上、§1〜§4では、圧電素子を用いた実施形態を例にとって本発明の説明を行うことにする。
<<< §1. Structure of acceleration sensor according to embodiment using piezoelectric element >>>
FIG. 1 is a perspective view and a block diagram showing a configuration of an acceleration sensor AS (abbreviation of acceleration sensor) according to an embodiment of the present invention. The embodiment described here is an embodiment using a piezoelectric element for detection of acceleration. In practicing the present invention, the detection element used for detecting the acceleration is not limited to a piezoelectric element, and for example, a piezoresistive element or the like may be used (see §6). However, for convenience of explanation, in §1 to §4, the present invention will be described by taking an embodiment using a piezoelectric element as an example.
図1の斜視図の部分に示されているように、この加速度センサASは、第1層100、第2層200、第3層300を積層した3層構造体を有する。図1の斜視図では、説明の便宜上、これら3層をそれぞれ上下に分離した状態を示すが、実際には、第1層100の下面に第2層200の上面が固着され、第2層200の下面に第3層300の上面が固着されており、3層は相互に接合された構造体になる。
As shown in the perspective view of FIG. 1, the acceleration sensor AS has a three-layer structure in which a
この3層構造体は、ここで述べる実施形態において、根源的な検出機能を果たす。そこで、ここでは、この3層構造体を主センサ構造体MSS(Main Sensor Structureの略)と呼ぶことにし、第1層100を「主センサ第1層」、第2層200を「主センサ第2層」、第3層300を「主センサ第3層」と呼ぶことにする。本実施形態に係る加速度センサASは、この3層からなる主センサ構造体MSSに、更に、台座400(図では、単なるシンボル記号で示す)および検出回路500(図では、ブロックで示す)を付加することにより構成される。
This three-layer structure performs a fundamental detection function in the embodiments described herein. Therefore, here, the three-layer structure is referred to as a main sensor structure MSS (abbreviation of Main Sensor Structure), the
台座400は、主センサ構造体MSSの一部分(図における右端面)を支持固定する役割を果たすが、その具体的な構造については§3で詳述する。なお、§3で述べるように、この圧電素子を用いた実施形態の場合、台座400も、主センサ構造体MSSと同様に3層構造を有するが、台座400を構成する各層については、それぞれ「台座第1層」、「台座第2層」、「台座第3層」と呼んで区別することにする。
The
ここでは図1の斜視図に示すように、主センサ第2層200の右端面の中央位置に原点Oを定義し、奥方向にX軸、左方向にY軸、上方向にZ軸をそれぞれとることにより、XYZ三次元直交座標系を定義する。本願の以下の説明では、図示のとおり、XY平面を水平面にとり、Z軸正方向を上方向、Z軸負方向を下方向にとることを前提として、各構成要素間の上下の関係を述べる。したがって、主センサ構造体MSSは、上から順に主センサ第1層100、主センサ第2層200、主センサ第3層300を積層した構造体ということになる。
Here, as shown in the perspective view of FIG. 1, the origin O is defined at the center position of the right end surface of the
図示の加速度センサASは、このようなXYZ三次元座標系における所定の座標軸方向に作用した加速度の検出を行う機能を有している。なお、図示の座標系は、説明の便宜のために用いる一例であり、座標系の位置は、必ずしも図示の位置である必要はない。たとえば、原点Oは、主センサ第2層200の右端面位置ではなく、主センサ第2層200の重心位置などに定義してもかまわない。ただ、主センサ第2層200の右端面は、台座400によって固定される部分であるため、ここでは説明の便宜上、この右端面の中央位置に原点Oを定義して以下の説明を行う。
The illustrated acceleration sensor AS has a function of detecting acceleration acting in a predetermined coordinate axis direction in such an XYZ three-dimensional coordinate system. The illustrated coordinate system is an example used for convenience of explanation, and the position of the coordinate system is not necessarily the illustrated position. For example, the origin O may be defined not at the position of the right end surface of the main sensor
主センサ第1層100は、検出素子として圧電素子を用いる実施形態に固有の構成要素である。この主センサ第1層100は、図示のとおり、平面形状が「E」の字状をした平板状の構造体であり、その主要部分は圧電材料層105によって構成されている。より具体的には、主センサ第1層100は、圧電材料層105と、その上面の所定領域に形成された上層電極E1〜E5および下面の全領域に形成された下層電極E0、という3層構造体によって構成されている。
The main sensor
ここで、圧電材料層105は、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有している。したがって、圧電材料層105の各部に応力が加わり、撓みが生じることになると、厚み方向に分極が生じ、上層電極E1〜E5および下層電極E0に電荷が発生することになる。
Here, the
下層電極E0は、圧電材料層105の下面全面に形成された1枚の共通電極になっている。これに対し、各上層電極E1〜E5は、圧電材料層105の各所定領域に形成された局在電極になっている。これは、作用する外力の方向によって、圧電材料層105の各部に加わる応力の向き(圧縮方向応力か、伸張方向応力か)が異なり、発生電荷の極性が異なる可能性があるためである。
The lower layer electrode E0 is a common electrode formed on the entire lower surface of the
検出回路500は、こうして発生した電荷に基づいて、作用した加速度の検出値を電気信号として出力する機能を有する。なお、図1では、図示の便宜上、検出回路500に対する配線として、上層電極E4および下層電極E0についての配線しか示されていないが、実際には、すべての電極E0〜E5と検出回路500との間に配線がなされる。
The
図2は、図1に示す主センサ構造体MSSの主センサ第1層100の上面図であり、X軸を図の右方向、Y軸を図の上方向にとった二次元平面図が示されている。なお、図2に示すX軸,Y軸,原点Oは、実際には、この主センサ第1層100の下方(主センサ第2層200の位置)に位置している。上述したとおり、主センサ第1層100は、「E」の字状をした圧電材料層105の上面に5枚の上層電極E1〜E5を形成し、下面に1枚の下層電極E0(図2には現れていない)を形成したものである。
FIG. 2 is a top view of the main sensor
圧電材料層105は、実際には、「E」の字状をした1枚の板状一体構造体であるが、ここでは説明の便宜上、図示のような4つの部分110,120,130,140に分けて考えることにする。いずれの部分も、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の圧電材料層によって構成されている。
The
部分110は、Y軸に沿って伸びる橋梁構造を有する部分であり、ここでは橋梁部圧電層110と呼ぶことにする。この橋梁部圧電層110は、図示のとおり、Y軸に沿って原点Oから先端点T(Y軸上に定義された点)に至る区間に配置された部分ということになる。5枚のうちの4枚の上層電極E1〜E4は、この橋梁部圧電層110の上面に配置されている。なお、実際には、上層電極E1〜E5および下層電極E0には、検出回路500に対する配線がなされるが、ここでは、配線の図示は省略する。
The
部分120は、X′軸(Y軸と交差しX軸に平行な軸)に沿って伸びる部分であり、その中央部分は、先端点Tの位置において橋梁部圧電層110に連なっている。ここでは、この部分120を中央圧電層と呼ぶことにする。橋梁部圧電層110と中央圧電層120とは、平面形状がT字状をなす構造体を構成する。上層電極E5は、この中央圧電層120の上面に配置されている。
The
部分130は、中央圧電層120の左側から図の下方へと伸び、橋梁部圧電層110の左脇に配置された翼状部であり、ここでは、この部分130を左翼圧電層130と呼ぶことにする。一方、部分140は、中央圧電層120の右側から図の下方へと伸び、橋梁部圧電層110の右脇に配置された翼状部であり、ここでは、この部分140を右翼圧電層140と呼ぶことにする。
The
なお、本願では、説明の便宜上、図2に示すように、Y軸を縦方向に描いた上面図を念頭において左右を定義しているため、YZ平面に関してX座標値が負となる側を左側と呼び、Y軸に関してX座標値が正となる側を右側と呼んでいる。このような定義によれば、左翼圧電層130は橋梁部圧電層110の左脇に配置されており、右翼圧電層140は橋梁部圧電層110の右脇に配置されていることになる。もちろん、このような左右の定義は、YZ平面に関する相対的な位置関係を説明するための便宜上の定義であり、絶対的な意味をもつものではない。
In this application, for convenience of explanation, as shown in FIG. 2, the left and right are defined with the top view in which the Y axis is drawn in the vertical direction in mind, so the side where the X coordinate value is negative with respect to the YZ plane is on the left side. The side where the X coordinate value is positive with respect to the Y axis is called the right side. According to such a definition, the left
図2において、橋梁部圧電層110の図の下端(原点Oの近傍)は、左翼圧電層130の下端や右翼圧電層140の下端に比べて下方に伸びているが、これは、図1の斜視図に示されているように、主センサ第2層の原点Oの近傍が台座400に接続されているためである。後述するように、台座400との接続端近傍には応力の集中が見られるため、この応力集中部分に上層電極E3,E4を配置すると、より効率的な検出が可能になる。
In FIG. 2, the lower end (near the origin O) of the bridge
図3は、図1に示す主センサ構造体MSSの主センサ第2層200の上面図であり、やはりX軸を図の右方向、Y軸を図の上方向にとった二次元平面図が示されている。この、図3に示すX軸,Y軸,原点Oは、実際には、この主センサ第2層200の内部に埋もれた位置(厚み方向の中間位置)に配置されている。
FIG. 3 is a top view of the main sensor
この主センサ第2層200も、「E」の字状をした板状構造体であり、ここに示す圧電素子を用いた実施形態の場合、図2に示す主センサ第1層100のXY平面投影像と、図3に示す主センサ第2層200のXY平面投影像とは同一形状であり、主センサ第1層100の下面の全領域が主センサ第2層200の上面の全領域に接合されている。したがって、主センサ第2層200についても、主センサ第1層100と同様に、4つの部分210,220,230,240を定義することができる。いずれの部分も、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の層によって構成されている。もちろん、実際には、この主センサ第2層200は、「E」の字状をした1枚の板状一体構造体であり、上記4つの部分は、この板状一体構造体を、個々の区画に分けて説明するための便宜上のものである。
The main sensor
まず、部分210は、Y軸上に配置され、可撓性を有する橋梁構造を有する部分であり、ここでは、この部分210を板状橋梁部210と呼ぶことにする。この板状橋梁部210は、Y軸に沿って、原点Oから先端点T(Y軸上の1点)まで伸びる薄いビーム状の構造体であり、可撓性を有しているため、様々な方向に変形する性質を有している。ここでは、説明の便宜上、板状橋梁部210の原点Oの近傍を根端部と呼び、先端点Tの近傍を先端部と呼ぶことにする。板状橋梁部210は、根端部から先端部へとY軸に沿って伸びる細長い板状部材ということになる。
First, the
ここで、板状橋梁部210の根端部(原点O近傍)は、台座400(図3には示されていない)に接合されて支持固定される。したがって、台座400を装置筐体などに固定すれば、根端部は固定された状態になる。これに対して、板状橋梁部210の先端部(先端点T近傍)は、板状橋梁部210の変形の自由度の範囲内で変位可能な自由端になる。
Here, the root end portion (near the origin O) of the plate-
図2に示す橋梁部圧電層110は、図3に示す板状橋梁部210の上面に固着される。後述するように、板状橋梁部210は、重錘体の変位により撓みを生じる性質を有し、当該撓みがその上面に固着された橋梁部圧電層110に伝達され、生じた応力に基づいて電荷が発生することになる。
The bridge
一方、部分220,230,240(主センサ第2層200のうち、板状橋梁部210を除く部分)を一括して、ここでは、重錘体支持部と呼ぶことにする。この重錘体支持部は、図示のとおり、先端点Tにおいて板状橋梁部210に連なっている。この重錘体支持部の役割は、文字どおり、重錘体(主センサ第3層300)を支持し、重錘体の変位を板状橋梁部210の先端部(先端点T近傍)に伝達することにある。ここに示す実施形態の場合、重錘体支持部は、中央板状部220、左翼板状部230、右翼板状部240を有する「コ」の字状の部材である。
On the other hand, the
中央板状部220は、Y軸と交差しX軸に平行な軸であるX′軸上に配置された細長い板状部材であり、Y軸と交差するようにX′軸に沿って伸びている。そして、この中央板状部220の中央部分は、先端点Tの位置において板状橋梁部210の先端部に連なっている。すなわち、中央板状部220のY軸と交差する部分近傍に板状橋梁部210の先端部が接続されている。その結果、板状橋梁部210と中央板状部220とのXY平面投影像はT字状をなす。図2に示す中央圧電層120は、図3に示す中央板状部220の上面に固着される。
The central plate-
一方、左翼板状部230は、中央板状部220の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部210の左脇に伸びる板状部材であり、右翼板状部240は、中央板状部220の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部210の右脇に伸びる板状部材である。図2に示す左翼圧電層130は、図3に示す左翼板状部230の上面に固着され、図2に示す右翼圧電層140は、図3に示す右翼板状部240の上面に固着される。
On the other hand, the left wing plate-
図3において、板状橋梁部210の図の下端(根端部)は、左翼板状部230の下端や右翼板状部240の下端に比べて下方に伸びているが、これは、図1の斜視図に示されているように、板状橋梁部210の根端部(原点O近傍)を台座400に接続するためである。重錘体の変位によって板状橋梁部210に加わる応力は、根端部(台座400との接続端近傍)と先端部(中央板状部220との接続端近傍)に集中する。
In FIG. 3, the lower end (root end portion) of the plate-
図4は、図1に示す主センサ構造体MSSの主センサ第3層300の上面図であり、やはりX軸を図の右方向、Y軸を図の上方向にとった二次元平面図が示されている。この、図4に示すX軸,Y軸,原点Oは、実際には、この主センサ第3層300の上方に位置している。主センサ第3層300は、図3に示す重錘体支持部220,230,240の下面に接続されており、作用した加速度に基づいて板状橋梁部210に撓みを生じさせるのに十分な質量をもった重錘体として機能する。この重錘体は、外部から加えられた加速度に基づく力の作用によって変位を生じ、板状橋梁部210に対して、弾性変形を生じさせる役割を果たす。
FIG. 4 is a top view of the main sensor
ここに示す実施形態の場合、主センサ第3層300(重錘体)は、図4に示すとおり、中央重錘部320、左翼重錘部330、右翼重錘部340によって構成されている。中央重錘部320は、X′軸(Y軸と交差しX軸に平行な軸)に沿って伸びる細長い部分であり、左翼重錘部330と右翼重錘部340とを連結する役割を果たす。
In the case of the embodiment shown here, the main sensor third layer 300 (weight body) is constituted by a
また、前述したように、板状橋梁部210の両脇について、X座標値が負となる側を左脇、X座標値が正となる側を右脇と定義すれば、左翼重錘部330は、中央重錘部320の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部210の左脇に伸びる重錘体であり、右翼重錘部340は、中央重錘部320の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部210の右脇に伸びる重錘体である。
Further, as described above, if the side where the X coordinate value is negative is defined as the left side and the side where the X coordinate value is positive is defined as the right side on both sides of the plate-
図4に示す中央重錘部320は、図3に示す中央板状部220の下面に固着され、図4に示す左翼重錘部330は、図3に示す左翼板状部230の下面に固着され、図4に示す右翼重錘部340は、図3に示す右翼板状部240の下面に固着される。結局、左翼重錘部330、中央重錘部320、右翼重錘部340を有する重錘体のXY平面投影像は、「コ」の字状をなすことになる。なお、この主センサ第3層300では、板状橋梁部210の直下の位置に空洞部310が形成されている。この空洞部310の存在により、板状橋梁部210は下方(Z軸負方向)への変位が可能になる。
4 is fixed to the lower surface of the
実際には、この主センサ第3層300は、「コ」の字状をした一体構造体であり、上記3つの部分は、この一体構造体を、個々の区画に分けて説明するための便宜上のものである。
Actually, the
図5は、図1に示す主センサ構造体MSSの側面図である。前述したとおり、実際には、図1に示す主センサ第1層100,主センサ第2層200,主センサ第3層300は、上下方向に積層した状態で相互に接合された3層構造体を構成する。各層の接合には、たとえば、接着剤を用いた接着を行えばよい(後述するように、印刷、蒸着、スパッタ等の方法で層形成を行うこともできる。)。図5は、このような積層状態にある主センサ構造体MSSを、X軸負方向からX軸正方向に向かって観察したときの側面図である。したがって、座標系の原点Oは図の右端に位置し、図の紙面垂直奥方向がX軸正方向、図の左方向がY軸正方向、図の上方向がZ軸正方向になる。
FIG. 5 is a side view of the main sensor structure MSS shown in FIG. As described above, in practice, the main sensor
図5において、主センサ第2層200の部分には、原点Oの近傍に板状橋梁部210の根端部が示されており、この板状橋梁部210の手前に位置する中央板状部220および左翼板状部230が観察される。この主センサ第2層200の上方に位置する主センサ第1層100の部分には、下層電極E0の上面に、橋梁部圧電層110,中央圧電層120,左翼圧電層130が観察され、更にその上面に、上層電極E1,E3,E5が観察される(上層電極E2,E4は、裏に隠れている)。また、主センサ第2層200の下方に位置する主センサ第3層300の部分としては、中央重錘部320および左翼重錘部330が観察される。図の右側に突出した橋梁部圧電層110および板状橋梁部210の右端部(原点O近傍)は、図示されていない台座400に固着されることになる。
In FIG. 5, the root portion of the plate-
図示のとおり、主センサ第1層100は、主センサ第2層200の上面を覆うように形成された圧電素子(圧電材料層105と上下の電極)を構成している。主センサ第2層200の下方には、主センサ第3層300(「コ」の字状をした重錘体)が接合されており、作用した加速度に基づいて重錘体が変位を生じると、主センサ第2層200(特に、板状橋梁部210の部分)に撓みが生じ、その上面に形成されている主センサ第1層100(特に、橋梁部圧電層110)の部分にも撓みが伝達され、各上層電極E1〜E4および下層電極E0に電荷が発生する。
As shown in the figure, the main sensor
図6は、図1に示す主センサ構造体MSSを台座400に固定した状態を示す上面図である。図におけるハッチングは各上層電極の形成領域および台座による固定状態を示すためのものであり、断面を示すものではない。また、括弧書きの符号は、下方に配置されている構成要素を示している。ここで、橋梁部圧電層110の上面に配置された4枚の上層電極E1〜E4の平面形状に注目すると、いずれもY軸方向に伸びる細長い矩形状をした電極になっている。
FIG. 6 is a top view showing a state in which the main sensor structure MSS shown in FIG. The hatching in the figure is for showing the fixed state by the formation region of each upper electrode and the pedestal, and does not show a cross section. Moreover, the code | symbol of parenthesis has shown the component arrange | positioned below. Here, when attention is paid to the planar shape of the four upper layer electrodes E1 to E4 arranged on the upper surface of the bridge
また、4枚の上層電極E1〜E4の配置に着目すると、上層電極E1,E2については、その上端が境界線H(橋梁部圧電層110と中央圧電層120との境界線)に揃う位置に配置され、上層電極E3,E4については、その下端が橋梁部圧電層110の下端に揃う位置(X軸に揃う位置)に配置されている。また、上層電極E1,E3は、橋梁部圧電層110の左側(X座標値が負となる位置)に配置され、上層電極E2,E4は、橋梁部圧電層110の右側(X座標値が正となる位置)に配置されている。
When attention is paid to the arrangement of the four upper layer electrodes E1 to E4, the upper ends of the upper layer electrodes E1 and E2 are aligned at the boundary line H (the boundary line between the
このような上層電極E1〜E4の形状および配置は、§2で述べるように、効率的な検出を行う上で好都合である。図6に示す「コ」の字状部分(中央圧電層120,左翼圧電層130,右翼圧電層140)の下方には、同じく「コ」の字状をした重錘体支持部(中央板状部220,左翼板状部230,右翼板状部240)および重錘体(主センサ第3層:中央重錘部320,左翼重錘部330,右翼重錘部340)が接合されている。そして、当該重錘体の変位に基づく力が先端点Tの近傍に作用すると(後述する図7参照)、橋梁部圧電層110がその支持層である板状橋梁部210とともに撓みを生じることになり、当該撓みに応じて、各上層電極E1〜E4に電荷が発生することになる。
Such shapes and arrangements of the upper layer electrodes E1 to E4 are convenient for efficient detection as described in §2. Below the “U” -shaped portion (the
図示の電極配置は、このような電荷発生を効率的に行うために適したものになっている(詳細は§2で述べる)。検出回路500は、こうして主センサ構造体MSSが発生させた電荷に基づいて、作用した加速度の各座標軸方向成分の検出値をそれぞれ出力する。
The electrode arrangement shown in the figure is suitable for efficiently performing such charge generation (details will be described in Section 2). The
なお、ここに示す実施例では、4枚の上層電極E1〜E4に加えて、更に第5の上層電極E5が設けられている。4枚の上層電極E1〜E4は、撓みを検出するための本来の検出素子としての役割を果たすためのものであるが、上層電極E5は、撓みを検出するためではなく、検出時に発生する様々なノイズ成分を相殺するための参照用に利用される。そこで以下、この第5の上層電極E5を参照用上層電極と呼ぶことにする。図示の例の場合、参照用上層電極E5は、中央圧電層120の上面に配置されているが、参照用上層電極E5は、撓みが生じない部分であれば、どの位置に配置してもかまわない。この参照用上層電極E5の役割についての詳細は§2で述べる。
In the embodiment shown here, in addition to the four upper layer electrodes E1 to E4, a fifth upper layer electrode E5 is further provided. The four upper layer electrodes E1 to E4 serve to serve as the original detection elements for detecting the bending, but the upper layer electrode E5 is not for detecting the bending, but various types that occur at the time of detection. This is used as a reference for canceling noise components. Therefore, hereinafter, the fifth upper layer electrode E5 is referred to as a reference upper layer electrode. In the illustrated example, the reference upper layer electrode E5 is disposed on the upper surface of the central
図7は、図1に示す主センサ構造体MSSを台座400に固定した状態を示す側断面図であり、図6に示す主センサ構造体MSSを中央のYZ平面で切断した断面に相当する。
FIG. 7 is a side sectional view showing a state in which the main sensor structure MSS shown in FIG. 1 is fixed to the
この側断面図では、主センサ第2層200の部分には、原点O(根端部)から先端点T(先端部)に至る板状橋梁部210と、中央板状部220の断面が示されている。また、主センサ第1層100の部分には、橋梁部圧電層110および中央圧電層120と下層電極E0の断面、ならびに、上層電極E2,E4の側面および上層電極E5の断面が示されている。
In this side sectional view, the cross section of the plate-
そして、主センサ第3層300(重錘体)の部分には、中央重錘部320の断面および右翼重錘部340の側面が示されている。右翼重錘部340の手前には、空洞部310が形成されており、板状橋梁部210は、この空洞部310の存在により下方に変位することができる。
In the main sensor third layer 300 (weight body), a cross section of the
なお、図示の実施例の場合、板状橋梁部210の根端部と橋梁部圧電層110の根端部との双方が、台座400に接合され支持固定されているが、台座400に対しては、少なくとも板状橋梁部210の根端部が支持固定されていればよい。要するに、重錘体が、台座400に対して片持ち梁構造で支持されるようにし、板状橋梁部210を介して宙吊り状態になればよい。
In the case of the illustrated embodiment, both the root end portion of the plate-
また、本願では、図面における各部の寸法比は、必ずしも実際の製品の寸法比どおりにはなっておらず、便宜上、実際の寸法比を無視して図面を描いている。そこで、図6および図7には、参考のため、各部の実寸法を符号d1〜d10で示した。これら実寸法d1〜d10の値は、MEMS構造の加速度センサASを構成するのであれば、たとえば、次のような値に設定することができる。もちろん、以下の寸法例は、一実施例として提示したものであり、本発明を実施するにあたり、各部の寸法が下記の寸法値に限定されるものではない。 Further, in the present application, the dimensional ratios of the respective parts in the drawings are not necessarily the same as the actual product dimensional ratios. For convenience, the drawings are drawn ignoring the actual dimensional ratios. Therefore, in FIG. 6 and FIG. 7, the actual dimensions of each part are indicated by reference numerals d1 to d10 for reference. The values of these actual dimensions d1 to d10 can be set to the following values, for example, if they constitute the MEMS structure acceleration sensor AS. Of course, the following dimension examples are presented as examples, and the dimensions of each part are not limited to the following dimension values in carrying out the present invention.
d1=1000μm,d2=200μm,d3=800μm,d4=100μm,d5=50μm,d6=200μm,d7=70μm,d8(圧電材料層105の厚み)=2μm(実用上は2μm以上が好ましい),d9(主センサ第2層200の厚み)=200μm,d10(主センサ第3層300の厚み)=1000μm。下層電極E0および上層電極E1〜E5の厚みは0.01μm。 d1 = 1000 μm, d2 = 200 μm, d3 = 800 μm, d4 = 100 μm, d5 = 50 μm, d6 = 200 μm, d7 = 70 μm, d8 (thickness of the piezoelectric material layer 105) = 2 μm (preferably 2 μm or more in practice), d9 (Thickness of main sensor second layer 200) = 200 μm, d10 (thickness of main sensor third layer 300) = 1000 μm. The thickness of the lower layer electrode E0 and the upper layer electrodes E1 to E5 is 0.01 μm.
なお、上記説明では、便宜上、主センサ第3層300の部分のみを重錘体と呼んでいるが、実際には、主センサ構造体MSSの各構成要素のうち、橋梁部圧電層110および板状橋梁部210を除くすべての部分が全体として重錘体としての役割を果たし、先端点Tに変位を生じさせる機能を有している。たとえば、図6に示す中央圧電層120,左翼圧電層130,右翼圧電層140(主センサ第1層100の構成要素)や、これらの下層に接合された中央板状部220,左翼板状部230,右翼板状部240(主センサ第2層200の構成要素)も、先端点Tに変位を生じさせる役割に寄与するため、重錘体の一部として機能することになる。
In the above description, for convenience, only the main sensor
ただ、図7に示すとおり、主センサ第3層300の厚みは、主センサ第1層100や主センサ第2層200の厚みに比べて大きく設定されており、重錘体としての役割は、主として主センサ第3層300が担うことになる。したがって、ここでは、便宜上、主センサ第3層300の部分を重錘体と呼ぶことにする。
However, as shown in FIG. 7, the thickness of the main sensor
本発明に係る加速度センサASの特徴は、主センサ構造体MSSを構成する板状橋梁部210の左右両脇に重錘体が配置されるようにした点にある。すなわち、図1の斜視図に示されている実施形態に係る加速度センサASの重錘体は、XY平面への投影像を見れば明らかなように、少なくとも、板状橋梁部210の左脇の下方に位置する左翼重錘部330と、板状橋梁部210の右脇の下方に位置する右翼重錘部340と、を有している。このため、板状橋梁部210に対して、加速度に基づいて発生した外力を効率良く伝達することができる。また、§3で詳述するように、この主センサ構造体MSSの外側に、左翼重錘部330および右翼重錘部340の変位を制限する部材を設けることにより、過度の加速度が加わった場合にも、板状橋梁部210の変位を制限することができるようになり、板状橋梁部の損傷を防ぐことができるようになる。
The acceleration sensor AS according to the present invention is characterized in that weight bodies are arranged on both the left and right sides of the plate-
また、ここに示す圧電素子を用いた実施形態では、板状橋梁部210を主センサ第2層200によって構成し、重錘体をその下方に配置された主センサ第3層300によって構成しているため、重錘体(主センサ第3層を構成する構造体)の重心Gが、板状橋梁部210の下方に所定距離をおいて位置することになる。図6および図7には、この重錘体の重心Gをx印で示してある。このように、主センサ構造体MSSとして、板状橋梁部210の下方に、所定距離をおいて重錘体の重心Gが配置される構造を採用すると、重錘体に作用する加速度の各座標軸方向成分に基づいて、板状橋梁部210を効率的に撓ませることができるようになり、効率的な検出が可能になる。また、後述するように、加速度の所定の座標軸成分の検出値に他軸成分が干渉する影響を低減できる。特に、重心Gと板状橋梁部210の下面との間の距離は、できるだけ長くした方が、Y軸方向の加速度に対して板状橋梁部210の撓みを大きくする上で好ましい。
In the embodiment using the piezoelectric element shown here, the plate-
ここに示す実施例の場合、主センサ構造体MSSは、YZ平面に関して面対称な構造をなしているため、主センサ第3層300を構成する構造体(重錘体)の重心が、板状橋梁部210の下方のYZ平面上に位置している。このような対称性をもった構造を採用すると、作用した加速度に基づいて板状橋梁部210に生じる撓みの態様も、座標軸に関して対称性を有するものになるため、加速度の各座標軸方向成分を出力するための検出回路500の構成を単純化することができる。
In the embodiment shown here, the main sensor structure MSS has a plane-symmetric structure with respect to the YZ plane, so that the center of gravity of the structure (weight body) constituting the main sensor
主センサ構造体MSSを構成する各層の材料は、上述した各層としての機能を果たすことができる材質であれば、任意の材料を用いてかまわないが、ここでは、実用上好ましい材料の例をいくつか挙げておくことにする。 The material of each layer constituting the main sensor structure MSS may be any material as long as it can function as each layer described above, but here, some examples of practically preferable materials are used. I will list them.
まず、主センサ第1層100は、外部から加えられた応力に基づいて電荷を発生させる圧電素子としての機能を果たすことができればよいので、層方向に伸縮する応力の作用により厚み方向に分極を生じる性質をもった圧電材料層105の上下両面に、それぞれ電極が形成されていればよい。具体的には、圧電材料層105は、たとえば、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)やKNN(ニオブ酸カリウムナトリウム)などの圧電薄膜によって構成することができる。あるいは、バルク型圧電素子を用いるようにしてもかまわない。各電極E0〜E5は、導電性材料であれば、どのような材料で構成してもかまわないが、実用上は、たとえば、金、白金、アルミニウム、銅などの金属層によって構成すればよい。
First, the main sensor
一方、主センサ第2層200は、主センサ第1層100の支持基板として機能するとともに、板状橋梁部210の部分が可撓性を有する必要がある。このような用途に利用する材質としては、シリコンが最適である。したがって、ここで述べる実施例の場合、主センサ第2層はシリコン基板によって構成されている。図7に示す例の場合、主センサ第2層200の厚みd9は200μmであり、この程度の厚みをもったシリコンからなる板状橋梁部210は、検出を行うのに必要な十分な可撓性を有している。
On the other hand, the main sensor
もちろん、主センサ第2層200として金属基板を利用することも可能である。その場合は、金属基板の上層部分が下層電極E0としての役割を果たすので、この金属基板の上にスパッタ法やゾルゲル法によって圧電薄膜を成膜することにより、主センサ第1層100となる圧電素子を形成することができる。あるいは、金属基板の上にバルク型の圧電材料を接着することも可能である。上層電極は、金属材料を印刷、蒸着、スパッタ等の方法で形成することができる。
Of course, it is also possible to use a metal substrate as the main sensor
ただ、本願発明者は、現時点では、シリコン基板が主センサ第2層200として最適な材料であると考えている。これは、一般に、現在の製造プロセスをよって、金属基板の上面に圧電素子を形成した場合と、シリコン基板の上面に圧電素子を形成した場合とを比較すると、前者の圧電定数に比べて後者の圧電定数の方が3倍程度大きな値になり、後者の方の検出効率が圧倒的に高くなるためである。これは、シリコン基板の上面に圧電素子を形成すると、圧電素子の結晶の配向が揃うためと考えられる。また、主センサ第2層200としてシリコン基板を用いるようにすれば、このシリコン基板上に形成した半導体素子を利用して検出回路500を構成することも可能になる。
However, the present inventor believes that a silicon substrate is an optimal material for the main sensor
主センサ第3層300は、重錘体として機能を果たす構成要素であるため、できるだけ比重の大きな材料を用いるのが好ましい。具体的には、SUS(鉄),銅,タングステンなどの金属基板、あるいは、セラミック基板もしくはガラス基板等を用いて構成すればよい。もちろん、主センサ第3層300をシリコン基板によって構成してもよい。その場合は、SOI(Silicon On Insulator)基板を利用して、たとえば、後述する図44に示す製造プロセスに準じた方法により、材料第3層2003として主センサ第3層300を構成することができる。
Since the main sensor
<<< §2. 圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサの検出動作 >>>
続いて、§1で述べた圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサASの検出動作を説明する。既に述べたとおり、図1に示す加速度センサASは、3層構造体からなる主センサ構造体MSSに台座400および検出回路500を付加することにより構成され、XYZ三次元座標系における所定の座標軸方向に作用した加速度の検出を行う機能を有している。
<<< §2. Detection Operation of Acceleration Sensor According to Embodiment Using Piezoelectric Element >>>
Subsequently, the detection operation of the acceleration sensor AS according to the embodiment using the piezoelectric element described in §1 will be described. As described above, the acceleration sensor AS shown in FIG. 1 is configured by adding the
そこで、ここでは、台座400の部分を動作中のロボットアームの所定箇所に固定し、この加速度センサASに各座標軸方向の加速度成分が加えられたときに、どのような原理で加速度の検出が行われるかについての説明を行うことにする。そのため、以下、XYZ三次元座標系が、台座400(すなわち、ロボットアームの所定箇所)に固定された座標系であり、重錘体がこの座標系内で変位するものとして、この加速度センサASの動作を説明する。
Therefore, here, the principle of acceleration detection is performed when the
図8は、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体(主センサ第3層300)にX軸正方向の力+Fxが作用したときの変形態様を示す上面図である。このような現象は、ロボットアームの動作により、台座400に対してX軸負方向の加速度−αxが作用した場合に生じる。すなわち、台座400に対して加速度−αxが作用すると、重錘体に対しては、慣性力として逆方向の加速度+αxが作用することになる。その結果、XYZ三次元座標系において、重錘体には、図に白抜矢印で示すように、X軸正方向(図の右方向)へ変位させる外力+Fxが作用する。
FIG. 8 is a top view showing a deformation mode when a force + Fx in the positive direction of the X-axis acts on the weight body (main sensor third layer 300) of the main sensor structure MSS shown in FIG. Such a phenomenon occurs when acceleration −αx in the negative direction of the X-axis acts on the
当該外力+Fxは、重錘体の重心Gおよび先端点Tを図の右方向へ変位させる力として作用するので、板状橋梁部210およびその上面に形成された橋梁部圧電層110の先端部は、重錘体とともに図の右方向へ変位する。一方、根端部(原点O近傍)は台座400に固定されているため、XYZ三次元座標系上では変位しない。その結果、板状橋梁部210およびその上面に形成された橋梁部圧電層110は、図示のように湾曲変形する。
The external force + Fx acts as a force for displacing the center of gravity G and the tip point T of the weight body in the right direction in the figure, so that the tip portion of the plate-
このような湾曲変形は、橋梁部圧電層110の4枚の上層電極E1〜E4の各配置位置について、Y軸に沿った方向に関して図示のような伸縮応力を生じさせる。すなわち、橋梁部圧電層110の上層電極E1,E4の配置位置については、上下に向かい合う矢印対で示すように、Y軸方向についての圧縮応力が作用し(丸に「縮」の字で示す)、橋梁部圧電層110の上層電極E2,E3の配置位置については、上下に矢がついた両矢印で示すように、Y軸方向についての伸張応力が作用する(丸に「伸」の字で示す)。
Such bending deformation causes a stretching stress as illustrated in the direction along the Y axis for each of the arrangement positions of the four upper layer electrodes E1 to E4 of the bridge
一方、台座400に対して、X軸正方向の加速度+αxが作用した場合は、重錘体に対しては、慣性力として逆方向の加速度−αxが作用することになる。その結果、XYZ三次元座標系において、重錘体には、図8とは逆に、X軸負方向(図の左方向)へ変位させる外力−Fxが作用する。この場合、各部の伸縮の態様は図8とは逆転したものになる。すなわち、橋梁部圧電層110の上層電極E1,E4の配置位置については伸張応力が作用し、橋梁部圧電層110の上層電極E2,E3の配置位置については圧縮応力が作用する。
On the other hand, when the acceleration + αx in the X-axis positive direction acts on the
なお、中央圧電層120は、その下方に中央板状部220および中央重錘部320が接合されており、肉厚な構造体の一部を形成しているため、加速度が作用した場合にも有意な変形は生じない。したがって、参照用上層電極E5の配置位置については、原理的には、有意な伸縮応力は発生しない。
The central
図9は、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体(主センサ第3層300)にY軸正方向の力+Fyが作用したときの変形態様を示す側断面図である。このような現象は、ロボットアームの動作により、台座400に対してY軸負方向の加速度−αyが作用した場合に生じる。すなわち、台座400に対して加速度−αyが作用すると、重錘体に対しては、慣性力として逆方向の加速度+αyが作用することになる。その結果、XYZ三次元座標系において、重錘体には、図に白抜矢印で示すように、Y軸正方向(図の左方向)へ変位させる外力+Fyが作用する。
FIG. 9 is a side sectional view showing a deformation mode when a force + Fy in the Y-axis positive direction is applied to the weight body (main sensor third layer 300) of the main sensor structure MSS shown in FIG. Such a phenomenon occurs when acceleration −αy in the negative Y-axis direction acts on the
当該外力+Fyは、重錘体の重心Gを図の左方向へ変位させる力として作用するが、重錘体は板状橋梁部210の先端点Tの近傍に接続されているため、重錘体は図9に示すように斜めに傾斜する(図9において、左側が上がり、右側が下がる)。したがって、板状橋梁部210およびその上面に形成された橋梁部圧電層110は、図9に示すように、上方に反るように湾曲変形する。
The external force + Fy acts as a force for displacing the center of gravity G of the weight body in the left direction of the figure. However, since the weight body is connected in the vicinity of the tip point T of the plate-
このような湾曲変形は、橋梁部圧電層110の4枚の上層電極E1〜E4の各配置位置について、Y軸に沿った方向に関して図示のような伸縮応力を生じさせる。すなわち、橋梁部圧電層110の上面に形成された4枚の上層電極E1〜E4の配置位置のすべてについて、左右に向かい合う矢印対で示すように、Y軸方向についての圧縮応力が作用する(丸に「縮」の字で示す)。
Such bending deformation causes a stretching stress as illustrated in the direction along the Y axis for each of the arrangement positions of the four upper layer electrodes E1 to E4 of the bridge
一方、台座400に対してY軸正方向の加速度+αyが作用した場合は、重錘体に対しては、慣性力として逆方向の加速度−αyが作用することになる。その結果、XYZ三次元座標系において、重錘体には、図9とは逆に、Y軸負方向(図の右方向)へ変位させる外力−Fyが作用する。この場合、重錘体は図9とは逆の態様に傾斜し(左側が下がり、右側が上がる)、各部の伸縮の態様は図9とは逆転する。すなわち、橋梁部圧電層110の上面に形成された4枚の上層電極E1〜E4の配置位置のすべてについて、Y軸方向についての伸張応力が作用する。この場合も、参照用上層電極E5の配置位置については、原理的には、有意な伸縮応力は発生しない。
On the other hand, when the acceleration + αy in the Y-axis positive direction acts on the
図10は、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体(主センサ第3層300)にZ軸正方向の力+Fzが作用したときの変形態様を示す側断面図である。このような現象は、ロボットアームの動作により、台座400に対してZ軸負方向の加速度−αzが作用した場合に生じる。すなわち、台座400に対して加速度−αzが作用すると、重錘体に対しては、慣性力として逆方向の加速度+αzが作用することになる。その結果、XYZ三次元座標系において、重錘体には、図に白抜矢印で示すように、Z軸正方向(図の上方向)へ変位させる外力+Fzが作用する。
FIG. 10 is a side sectional view showing a deformation mode when a force + Fz in the positive direction of the Z-axis is applied to the weight body (main sensor third layer 300) of the main sensor structure MSS shown in FIG. Such a phenomenon occurs when an acceleration −αz in the negative Z-axis direction acts on the
当該外力+Fzは、重錘体の重心Gを図の上方向へ変位させる力として作用するが、重錘体は板状橋梁部210の先端点Tの近傍に接続されているため、板状橋梁部210の先端部に対して図の上方へ変位させる力が加わることになる。一方、板状橋梁部210の根端部(原点O近傍)は台座400に固定されている。したがって、XYZ三次元座標系において、板状橋梁部210の根端部を固定状態にしたまま、先端部を上方に移動させる力が加わることになり、板状橋梁部210およびその上面に形成された橋梁部圧電層110は、図10に示すように湾曲変形する。
The external force + Fz acts as a force for displacing the center of gravity G of the weight body in the upward direction in the figure. However, since the weight body is connected in the vicinity of the tip point T of the plate-
このような湾曲変形は、橋梁部圧電層110の4枚の上層電極E1〜E4の各配置位置について、Y軸に沿った方向に関して図示のような伸縮応力を生じさせる。すなわち、橋梁部圧電層110の先端部に配置された上層電極E1,E2の位置については、左右に矢がついた両矢印で示すように、Y軸方向についての伸張応力が作用する(丸に「伸」の字で示す)。これに対して、橋梁部圧電層110の根端部に配置された上層電極E3,E4の位置については、左右に向かい合う矢印対で示すように、Y軸方向についての圧縮応力が作用する(丸に「縮」の字で示す)。
Such bending deformation causes a stretching stress as illustrated in the direction along the Y axis for each of the arrangement positions of the four upper layer electrodes E1 to E4 of the bridge
一方、台座400に対してZ軸正方向の加速度+αzが作用した場合は、重錘体に対しては、慣性力として逆方向の加速度−αzが作用することになる。その結果、XYZ三次元座標系において、重錘体には、図10とは逆に、Z軸負方向(図の下方向)へ変位させる外力−Fzが作用する。この場合、重錘体は図の下方へと移動するので、各部の伸縮の態様は図10とは逆転する。すなわち、橋梁部圧電層110の上層電極E1,E2の配置位置については圧縮応力が作用し、橋梁部圧電層110の上層電極E3,E4の配置位置については伸張応力が作用する。この場合も、参照用上層電極E5の配置位置については、原理的には、有意な伸縮応力は発生しない。
On the other hand, when the acceleration + αz in the Z-axis positive direction acts on the
図11は、図8〜図10の変形態様を踏まえて、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体に各座標軸方向の力が作用したときに、橋梁部圧電層110の上層電極E1〜E4の位置に加わるY軸方向についての伸縮応力を示す表である。図は、各座標軸正方向の力+Fx,+Fy,+Fzが作用したときの伸縮応力を示す表であるが、各座標軸負方向の力−Fx,−Fy,−Fzが作用したときの伸縮応力は、この表における圧縮/伸張の関係を逆転させたものになる。
11 is based on the deformation modes of FIGS. 8 to 10, and when the force in the direction of each coordinate axis acts on the weight body of the main sensor structure MSS shown in FIG. 1, the upper layer electrode E <b> 1 of the bridge
図11の表において、E5の欄は、参照用上層電極E5の伸縮応力を示している。前述したように、参照用上層電極E5は、加速度が作用しても撓みが生じない部分(図1に示す例の場合は、中央圧電層120の上面)に形成されており、原理的には、応力は発生しない。 In the table of FIG. 11, the column E5 indicates the stretching stress of the reference upper layer electrode E5. As described above, the reference upper layer electrode E5 is formed in a portion that does not bend even when an acceleration is applied (in the case of the example shown in FIG. 1, the upper surface of the central piezoelectric layer 120). No stress is generated.
§1で述べたように、圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサASでは、主センサ第1層100が、主センサ第2層200の表面に層状に形成された下層電極E0と、この下層電極E0の表面に層状に形成された圧電材料層105と、この圧電材料層105の表面に局在的に形成された複数の上層電極E1〜E5からなる上層電極群と、を有する圧電素子を構成しており、圧電材料層105は、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有している。
As described in §1, in the acceleration sensor AS according to the embodiment using the piezoelectric element, the main sensor
ここで、圧電材料層105として、層方向に伸張する応力が作用すると、上方に正電荷、下方に負電荷を発生させ、層方向に圧縮する応力が作用すると、上方に負電荷、下方に正電荷を発生させる分極特性を有するものを用いたとすると、重錘体に各座標軸正方向の力+Fx,+Fy,+Fzが作用したとき、上層電極E1〜E4に発生する電荷の極性は、図12(a) の表のようになる。別言すれば、図12(a) の表は、図11の表における「伸張」を「+」、「圧縮」を「−」に置き換えたものになっている。各座標軸負方向の力−Fx,−Fy,−Fzが作用したときの伸縮応力は、この表における+/−の関係を逆転させたものになる。なお、E5の欄は、検出対象となる加速度に起因した電荷の発生がないため、外部からのノイズ成分の混入がない限り0になる。
Here, when a stress extending in the layer direction is applied to the
もちろん、圧電材料層105としては、層方向に伸張する応力が作用すると、上方に負電荷、下方に正電荷を発生させ、層方向に圧縮する応力が作用すると、上方に正電荷、下方に負電荷を発生させる分極特性を有するものを用いることも可能である。そのような分極特性を有する圧電材料層を用いた場合は、上述した場合に対して、+/−の関係が逆転することになる。また、バルク型の圧電素子を用いた場合は、個々の領域ごとに異なる分極特性をもった圧電素子を配置することが可能であり、個々の局在圧電素子P1〜P5(各上層電極E1〜E5によって構成される圧電素子)にそれぞれ任意の分極特性をもたせるようにすることができる。
Of course, the
いずれにしても、検出回路500は、5枚の局在上層電極E1〜E5および1枚の共通下層電極E0に発生した電荷に基づいて所定の演算処理を行うことにより、作用した加速度の各座標軸方向成分αx,αy,αzを求めることができる。図12(b) は、各加速度成分αx,αy,αzを算出するための演算式を示している。この演算式において、E1〜E5は、それぞれ上層電極E1〜E5に発生する電荷量を示し、たとえば、下層電極E0を基準電位(接地電位)にとった場合、当該基準電位に対する各上層電極E1〜E5の電位V1〜V5を示している。検出回路500は、上層電極E1〜E5と下層電極E0との間の電位差に基づいて加速度の検出値を出力する回路ということになる。
In any case, the
図12(b) に示す演算式によって、各座標軸方向成分αx,αy,αzを算出することができる理由は、図12(a) の表に示す発生電荷の極性を参照すれば、容易に理解できよう。図12(a) の表は、負の加速度成分−αx,−αy,−αzが作用したときの表であるため、正の加速度成分+αx,+αy,+αzが作用したときの発生電荷の極性は、図12(a) の表を逆転させたものになる。図12(b) に示す各演算式は、この図12(a) の表の極性を逆転させた表から得られるものである。 The reason why each coordinate axis direction component αx, αy, αz can be calculated by the arithmetic expression shown in FIG. 12B is easily understood by referring to the polarity of the generated charge shown in the table of FIG. I can do it. Since the table of FIG. 12A is a table when negative acceleration components -αx, -αy, and -αz act, the polarity of the generated charges when the positive acceleration components + αx, + αy, + αz act is This is the reverse of the table of FIG. Each arithmetic expression shown in FIG. 12 (b) is obtained from a table obtained by reversing the polarity of the table shown in FIG. 12 (a).
すなわち、X軸正方向の加速度成分+αxが作用した場合、電極E1,E4には正の電荷が発生し、電極E2,E3には負の電荷が発生する。よって、X軸方向成分αxは、αx=E1−E2−E3+E4なる演算式により求めることができる。同様に、Y軸正方向の加速度成分+αyが作用した場合は、電極E1〜E4にはすべて正の電荷が発生する。よって、Y軸方向成分αyは、αy=E1+E2+E3+E4なる演算式により求めることができる(図12(b) の演算式の末尾の項「−k・E5」についての説明は後述)。また、Z軸正方向の加速度成分+αzが作用した場合、電極E1,E2には負の電荷が発生し、電極E3,E4には正の電荷が発生する。よって、Z軸方向成分αzは、αz=−E1−E2+E3+E4なる演算式により求めることができる。 That is, when the acceleration component + αx in the positive direction of the X axis acts, positive charges are generated on the electrodes E1 and E4, and negative charges are generated on the electrodes E2 and E3. Therefore, the X-axis direction component αx can be obtained by an arithmetic expression of αx = E1−E2−E3 + E4. Similarly, when the acceleration component + αy in the Y-axis positive direction is applied, positive charges are generated in the electrodes E1 to E4. Therefore, the Y-axis direction component αy can be obtained by an arithmetic expression of αy = E1 + E2 + E3 + E4 (the description of the term “−k · E5” at the end of the arithmetic expression of FIG. 12B will be described later). When the acceleration component + αz in the positive direction of the Z axis acts, negative charges are generated on the electrodes E1 and E2, and positive charges are generated on the electrodes E3 and E4. Therefore, the Z-axis direction component αz can be obtained by an arithmetic expression of αz = −E1−E2 + E3 + E4.
ここで、3軸成分αx,αy,αzの算出方法に着目する。まず、αxについては、αx=E1−E2−E3+E4なる演算式が用いられ、「E1とE4との和」と「E2とE3との和」の差分がとられている。同様に、αzについては、αz=−E1−E2+E3+E4なる演算式が用いられ、「E1とE2との和」と「E3とE4との和」の差分がとられている。実用上、このような差分演算によって検出値を求めることは非常に重要である。これは、加速度センサを実環境で利用した場合、検出値には、様々な外乱成分に基づく誤差が混入する可能性があるためである。 Here, attention is focused on the calculation method of the triaxial components αx, αy, αz. First, for αx, an arithmetic expression of αx = E1−E2−E3 + E4 is used, and a difference between “sum of E1 and E4” and “sum of E2 and E3” is taken. Similarly, for αz, an arithmetic expression of αz = −E1−E2 + E3 + E4 is used, and a difference between “sum of E1 and E2” and “sum of E3 and E4” is taken. In practice, it is very important to obtain a detection value by such a difference calculation. This is because when the acceleration sensor is used in an actual environment, errors based on various disturbance components may be mixed in the detected value.
たとえば、加速度センサ利用時に、突発的に機械的もしくは電気的なノイズが発生した場合、外乱成分として検出値に影響が及ぶ可能性がある。特に、圧電素子自身は高いインピーダンスをもつ素子であるため、ノイズの影響を受けやすい。このような外乱成分に起因する誤差は、差分検出を行うことにより除去することができる。すなわち、第1グループの検出素子による検出値と、第2グループの検出素子による検出値と、の差を、最終的な検出値として出力する差分検出の手法を採用すれば、第1グループの検出素子と第2グループの検出素子との双方に対して同じように作用した外乱成分は、差分演算によって相殺され、最終的な検出値からは除かれることになる。 For example, when mechanical or electrical noise suddenly occurs when using an acceleration sensor, the detected value may be affected as a disturbance component. In particular, since the piezoelectric element itself is an element having a high impedance, it is easily affected by noise. Such errors due to disturbance components can be removed by performing difference detection. That is, if a difference detection method is used in which the difference between the detection value by the detection element of the first group and the detection value by the detection element of the second group is output as the final detection value, detection of the first group is performed. Disturbance components that have acted in the same way on both the element and the second group of detection elements are canceled out by the difference calculation and removed from the final detection value.
このような観点では、上例の場合、αxおよびαzについては差分検出が行われており、外乱成分に基づく誤差の相殺が可能であるが、αyについては差分検出が行われていないため、外乱成分に基づく誤差の相殺ができないことになる。参照用上層電極E5は、このような問題を解決するために設けられたものである。 From this point of view, in the above example, the difference detection is performed for αx and αz, and the error can be offset based on the disturbance component, but the difference detection is not performed for αy. The error based on the component cannot be canceled. The reference upper layer electrode E5 is provided to solve such a problem.
図6に示すように、参照用上層電極E5は、中央圧電層120の上面に形成されている。図7の側断面図に示すとおり、この中央圧電層120の下方には、中央板状部220および肉厚な中央重錘部320が接合されており、加速度が作用した場合にも、この部分には有意な変形は生じない。したがって、参照用上層電極E5の配置位置については、原理的には、有意な伸縮応力は発生しない。図12(a) の表において、E5の欄がすべて0になっているのはこのためである。しかしながら、加速度センサ利用時に、突発的に機械的もしくは電気的なノイズが発生した場合、外乱成分が参照用上層電極E5の電位を変化させることになる。
As shown in FIG. 6, the reference upper layer electrode E <b> 5 is formed on the upper surface of the central
図12(b) に示すαyについての演算式が、αy=E1+E2+E3+E4−k・E5となっており、末尾に補正項「−k・E5」が付加されている理由は、参照用上層電極E5の発生電荷を利用した差分検出を行うことにより、外乱成分に基づく誤差を相殺するためである。たとえば、突発的に機械的もしくは電気的なノイズが発生し、4組の上層電極E1〜E4から得られる信号成分にノイズ成分が混入した場合、αy=E1+E2+E3+E4なる和演算のみによって検出値αyを求めると、当該ノイズ成分が誤差として含まれてしまう。 The equation for αy shown in FIG. 12B is αy = E1 + E2 + E3 + E4-k · E5, and the correction term “−k · E5” is added at the end of the reference upper layer electrode E5. This is because an error based on the disturbance component is canceled by detecting the difference using the generated charge. For example, when mechanical or electrical noise suddenly occurs and noise components are mixed in signal components obtained from the four sets of upper layer electrodes E1 to E4, the detected value αy is obtained only by the sum operation of αy = E1 + E2 + E3 + E4. Then, the noise component is included as an error.
これに対して、末尾に補正項「−k・E5」を付加した演算式を用いれば、当該ノイズ成分を相殺することができる。すなわち、当該ノイズ成分が、参照用上層電極E5から得られる信号成分にも同じように混入する同相ノイズであれば、差分検出により除去されることになる。なお、補正係数kは、ノイズ成分を相殺するのに適した所定の値に設定しておけばよい。たとえば、5枚の上層電極E1〜E5に対するノイズ成分の影響が均等と考えられる場合は、k=4に設定しておけば、4枚の上層電極E1〜E4に混入したノイズ成分に対して、1枚の参照用上層電極E5に混入したノイズ成分の4倍の値が差し引かれるため、ノイズ成分を相殺することができる。 On the other hand, the noise component can be canceled by using an arithmetic expression with a correction term “−k · E5” added to the end. That is, if the noise component is in-phase noise that is mixed in the signal component obtained from the reference upper layer electrode E5 in the same manner, it is removed by difference detection. Note that the correction coefficient k may be set to a predetermined value suitable for canceling out the noise component. For example, when the influence of noise components on the five upper electrodes E1 to E5 is considered to be equal, if k = 4 is set, the noise components mixed in the four upper electrodes E1 to E4 are Since a value four times the noise component mixed in one reference upper layer electrode E5 is subtracted, the noise component can be canceled out.
なお、図示の例の場合、参照用上層電極E5を中央圧電層120の上面に配置しているが、参照用上層電極E5の配置場所は、加速度が作用しても撓みが生じない部分であればどこでもかまわない。要するに、本来の検出に利用される4組の局在圧電素子P1〜P4(各上層電極E1〜E4によって構成される圧電素子)の他に、加速度が作用しても撓みが生じない部分に形成された参照用圧電素子P5を更に設けるようにし、当該参照用圧電素子P5は、参照用下層電極E0と参照用上層電極E5とこれらの間に挟まれた圧電材料層とによって構成されるようにすればよい。
In the illustrated example, the reference upper layer electrode E5 is disposed on the upper surface of the central
この場合、参照用下層電極E0の電位を基準電位として、各上層電極E1〜E4の電圧をV1〜V4とし、参照用上層電極E5の電圧をV5としたときに、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値を、「電圧V1,V2,V3,V4の和」と「電圧V5に所定の補正係数kを乗じて得られる値k・V5」との差に基づいて求めるようにすれば、差分検出により同相ノイズ成分を除去した検出値が得られることになる。 In this case, when the potential of the reference lower layer electrode E0 is the reference potential, the voltages of the upper layer electrodes E1 to E4 are V1 to V4, and the voltage of the reference upper layer electrode E5 is V5, the Y-axis direction of the applied acceleration If the detection value of the component αy is obtained based on the difference between “the sum of the voltages V1, V2, V3, V4” and “the value k · V5 obtained by multiplying the voltage V5 by a predetermined correction coefficient k”. Thus, a detection value from which the in-phase noise component is removed is obtained by the difference detection.
この図12(b) に示す演算式を用いた検出処理の優れた点は、各座標軸方向成分の検出値から、他軸成分の干渉を排除することができる点である。たとえば、X軸方向成分+αxのみが作用している状態(αy,αzは0の状態)を考えてみよう。この場合、E1,E4は正の値、E2,E3は負の値をとるので、各上層電極の発生電荷の絶対値が等しいという前提であれば、図12(b) のαyおよびαzの算出値は、いずれも正負が相殺されて0になる。これは、加速度のX軸方向成分αxが、αyやαzの検出値として誤って検出されることがないことを示している。 An excellent point of the detection process using the arithmetic expression shown in FIG. 12B is that interference of other axis components can be excluded from the detected values of the respective coordinate axis direction components. For example, consider a state where only the X-axis direction component + αx is acting (a state where αy and αz are 0). In this case, E1 and E4 are positive values, and E2 and E3 are negative values. Therefore, if it is assumed that the absolute values of the generated charges of the upper layer electrodes are equal, calculation of αy and αz in FIG. Both values are zero with the positive and negative values cancelled. This indicates that the X-axis direction component αx of acceleration is not erroneously detected as a detected value of αy or αz.
同様に、Y軸方向成分+αyのみが作用している状態では、E1〜E4はすべて正の値をとるので、やはり各上層電極の発生電荷の絶対値が等しいという前提であれば、図12(b) のαxおよびαzの算出値は、いずれも正負が相殺されて0になる。これは、加速度のY軸方向成分αyが、αxやαzの検出値として誤って検出されることがないことを示している。 Similarly, in a state where only the Y-axis direction component + αy is acting, E1 to E4 all take a positive value, so if it is assumed that the absolute values of the generated charges of the respective upper layer electrodes are equal, FIG. The calculated values of [alpha] x and [alpha] z in b) are both zero with the positive and negative values canceled out. This indicates that the Y-axis direction component αy of acceleration is not erroneously detected as a detected value of αx or αz.
更に、Z軸方向成分+αzのみが作用している状態では、E1,E2は負の値、E3,E4は正の値をとるので、やはり各上層電極の発生電荷の絶対値が等しいという前提であれば、図12(b) のαxおよびαyの算出値は、いずれも正負が相殺されて0になる。これは、加速度のZ軸方向成分αzが、αxやαyの検出値として誤って検出されることがないことを示している。 Further, in the state where only the Z-axis direction component + αz is acting, E1 and E2 take negative values, and E3 and E4 take positive values, so that the absolute value of the generated charge of each upper layer electrode is also assumed to be equal. If there is, the calculated values of αx and αy in FIG. This indicates that the Z-axis direction component αz of acceleration is not erroneously detected as a detected value of αx or αy.
図6に示すとおり、この実施形態に係る主センサ構造体MSSは、YZ平面に関して面対称となる対称構造をなす。また、上層電極E1,E2からなる先端部電極群と、上層電極E3,E4からなる根端部電極群と、の間にも、橋梁部圧電層110の長手方向の中央位置に関して対称性がある。このような対称構造を採用すれば、重錘体が各座標軸方向に変位した場合、対称位置に配置された一対の上層電極に発生する正電荷の絶対値と負電荷の絶対値とが等しくなる。したがって、4枚の上層電極の配置に対称性をもたせておけば、上述したとおり、他軸成分の干渉を相殺することができる。
As shown in FIG. 6, the main sensor structure MSS according to this embodiment has a symmetrical structure that is plane-symmetric with respect to the YZ plane. Also, there is symmetry with respect to the longitudinal center position of the bridge
もっとも、他軸成分を相殺する上では、必ずしも上記対称性を確保する必要はなく、非対称な構造であっても、各上層電極の配置、大きさ、形状を調整することにより、他軸成分の干渉を排除することが可能である。また、必要に応じて、様々な補正演算を施すことにより、他軸成分の干渉を排除することも可能である。ただ、実用上は、主センサ構造体MSSの構造および4組の上層電極E1〜E4の配置について、上記対称性を確保することが、他軸成分の干渉を排除する最も単純な方法である。 However, in order to cancel out the other axis component, it is not always necessary to ensure the symmetry. Even in an asymmetric structure, by adjusting the arrangement, size, and shape of each upper layer electrode, It is possible to eliminate interference. Moreover, it is also possible to eliminate interference of other axis components by performing various correction calculations as necessary. However, practically, ensuring the above-described symmetry with respect to the structure of the main sensor structure MSS and the arrangement of the four sets of upper layer electrodes E1 to E4 is the simplest method for eliminating interference of other axis components.
図6の上面図に示す4枚の上層電極E1〜E4の配置は、上記対称性を確保した配置でありXYZ三次元座標系における加速度の各座標軸方向成分αx,αy,αzをそれぞれ独立して検出するのに都合のよい配置になっている。しかも、これら4枚の上層電極E1〜E4は、加速度検出を効率的に行うという点でも、橋梁部圧電層110の上面の非常に都合のよい位置に配置されている。以下、この点について、より詳細な説明を行う。
The arrangement of the four upper-layer electrodes E1 to E4 shown in the top view of FIG. 6 is an arrangement in which the above symmetry is ensured, and each coordinate axis direction component αx, αy, αz of acceleration in the XYZ three-dimensional coordinate system is independently set. The arrangement is convenient for detection. In addition, these four upper layer electrodes E1 to E4 are arranged at a very convenient position on the upper surface of the bridge
ここでは、図6の上面図に示す4枚の上層電極群E1〜E4を、個々の配置位置に応じて、先端部左側上層電極E1、先端部右側上層電極E2、根端部左側上層電極E3、根端部右側上層電極E4と、と呼ぶことにする。そうすると、先端部左側上層電極E1の主センサ第2層200上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部210の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、先端部右側上層電極E2の主センサ第2層200上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部210の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、根端部左側上層電極E3の主センサ第2層200上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部210の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、根端部右側上層電極E4の主センサ第2層200上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部210の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置する。
Here, the four upper layer electrode groups E1 to E4 shown in the top view of FIG. 6 are arranged in accordance with the respective arrangement positions, the tip left upper layer electrode E1, the tip right upper layer electrode E2, and the root left upper electrode E3. This is referred to as the root end right upper layer electrode E4. As a result, the projected image of the upper left electrode E1 on the upper end of the main sensor
このような4枚の上層電極E1〜E4の固有の配置は、電荷発生を効率的に行うために適したものになっており、検出効率を高めるために効果的である。これは、重錘体に対していずれの座標軸方向の力が作用した場合にも、これら4箇所の配置位置には、Y軸方向に関して大きな応力が発生するためである。これは、図13〜図15に示す応力分布図を見れば明らかである。これらの応力分布図は、§1で述べた実寸法を用いてコンピュータによるFEM(有限要素法)構造解析を行った結果を示すものであり、板状橋梁部210の根端部を固定した状態において、重錘体に特定の座標軸正方向の力が作用した場合に、圧電材料層105に発生するY軸方向応力の分布を示す図になっている。
Such a unique arrangement of the four upper layer electrodes E1 to E4 is suitable for efficient charge generation, and is effective for increasing detection efficiency. This is because, even when a force in any coordinate axis direction acts on the weight body, a large stress is generated in the four arrangement positions in the Y axis direction. This is apparent from the stress distribution diagrams shown in FIGS. These stress distribution diagrams show the results of FEM (finite element method) structural analysis by a computer using the actual dimensions described in §1, and the root end portion of the plate-
図13は、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体にX軸正方向の力+Fxが作用したときに、圧電材料層105に発生するY軸方向応力を示す応力分布図である。この図では、基本的には、図8に示す伸縮態様に基づく応力分布が得られていることがわかる。4枚の上層電極E1〜E4の固有の配置は、このような応力分布図において、顕著な応力が発生する位置に対応している。なお、製造時の誤差により応力分布の左右の対称性が崩れる場合は、他軸成分の干渉を排除した正確な検出値を得るために、若干の補正を行うのが好ましい。
FIG. 13 is a stress distribution diagram showing the Y-axis direction stress generated in the
図14は、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体にY軸正方向の力+Fyが作用したときに、圧電材料層105に発生するY軸方向応力を示す応力分布図である。図9に示す変形態様を参照すればわかるとおり、力+Fyが作用した場合、橋梁部圧電層110のほぼ全領域にわたって、Y軸方向についての圧縮応力が作用することになる。このため、図14に示す応力分布図においても、橋梁部圧電層110のほぼ全領域にわたって強度の圧縮応力が発生することが示されている。4枚の上層電極E1〜E4の固有の配置は、このような応力分布図においても、顕著な応力が発生する位置に対応している。
FIG. 14 is a stress distribution diagram showing the Y-axis direction stress generated in the
図15は、図1に示す主センサ構造体MSSの重錘体にZ軸正方向の力+Fzが作用したときに、圧電材料層105に発生するY軸方向応力を示す応力分布図である。この図では、基本的には、図10に示す伸縮態様に基づく応力分布が得られていることがわかる。4枚の上層電極E1〜E4の固有の配置は、このような応力分布図においても、顕著な応力が発生する位置に対応している。
FIG. 15 is a stress distribution diagram showing the Y-axis direction stress generated in the
このように、図13〜図15に示す応力分布図を見れば、図6に示す4枚の上層電極E1〜E4は、重錘体がいずれの方向に変位した場合にも応力が集中する領域に配置されており、発生電荷を効果的に収集できることがわかる。なお、これらの応力分布図を参照すれば、図6に示す上層電極E1,E2の図面における上端位置は、境界線Hよりも若干図の上方(Y軸正方向)に伸びていてもよいことがわかる。また、図6に示す上層電極E3,E4の図面における下端位置も、図示の位置より若干図の下方(Y軸負方向)に伸びていてもよい。 As described above, when the stress distribution diagrams shown in FIGS. 13 to 15 are seen, the four upper electrodes E1 to E4 shown in FIG. 6 are regions where stress is concentrated when the weight body is displaced in any direction. It can be seen that the generated charges can be collected effectively. Referring to these stress distribution diagrams, the upper end position of the upper layer electrodes E1 and E2 shown in FIG. 6 may extend slightly above the boundary line H (Y-axis positive direction). I understand. Moreover, the lower end position in the drawing of the upper layer electrodes E3 and E4 shown in FIG. 6 may also extend slightly downward (Y-axis negative direction) from the illustrated position.
以上、図13〜図15を参照して、重錘体に各座標軸正方向の力+Fx,+Fy,+Fzが作用した場合の応力分布を説明したが、各座標軸負方向の力−Fx,−Fy,−Fzが作用した場合の応力分布は、圧縮/伸張の分布を逆転させたものになる。結局、図6の上面図に示す4枚の上層電極E1〜E4は、重錘体に対していずれの座標軸方向の力が作用した場合にも、Y軸方向に関して大きな応力が発生する位置に配置されていることになる。また、ある1つの座標軸方向の力のみが作用している状況を想定すると、1つの上層電極が占める領域内には、必ず同一の極性の電荷が発生することになり、同一の電極に逆極性の電荷が発生して、互いに打ち消し合うような現象は生じない。したがって、このような固有の電極配置を採用した加速度センサASは、極めて効率的な検出を行うことが可能である。 As described above, the stress distribution in the case where the forces + Fx, + Fy, + Fz in the positive directions of the respective coordinate axes act on the weight body has been described with reference to FIGS. 13 to 15. The forces −Fx, −Fy in the negative directions of the respective coordinate axes have been described. , -Fz acts, the stress distribution is the reverse of the compression / extension distribution. After all, the four upper layer electrodes E1 to E4 shown in the top view of FIG. 6 are arranged at positions where a large stress is generated in the Y-axis direction when any force in the coordinate axis direction acts on the weight body. Will be. Assuming a situation where only a force in one coordinate axis direction is applied, an electric charge having the same polarity is always generated in a region occupied by one upper electrode, and the reverse polarity is applied to the same electrode. The phenomenon that the charges are generated and cancel each other does not occur. Therefore, the acceleration sensor AS employing such a unique electrode arrangement can perform extremely efficient detection.
図16は、図1に示す加速度センサASに用いる検出回路500の具体的な構成を示す回路図であり、個々の圧電素子P1〜P5に発生した電荷に基づいて、作用した加速度の各座標軸方向成分の検出値αx,αy,αzを出力する機能を有する。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a specific configuration of the
図16(a) において、P1〜P5は、各上層電極E1〜E5の配置領域に形成された局在圧電素子である。すなわち、先端部左側圧電素子P1は、図6に示す先端部左側上層電極E1と下層電極E0と、圧電材料層105のうち上層電極E1の下方に位置する部分と、によって構成される局在圧電素子を示し、先端部右側圧電素子P2は、図6に示す先端部右側上層電極E2と下層電極E0と、圧電材料層105のうち上層電極E2の下方に位置する部分と、によって構成される局在圧電素子を示す。
In FIG. 16A, P1 to P5 are localized piezoelectric elements formed in the arrangement regions of the upper layer electrodes E1 to E5. That is, the tip left piezoelectric element P1 is a localized piezoelectric element constituted by the tip left upper electrode E1 and the lower layer electrode E0 and the portion of the
同様に、根端部左側圧電素子P3は、図6に示す根端部左側上層電極E3と下層電極E0と、圧電材料層105のうち上層電極E3の下方に位置する部分と、によって構成される局在圧電素子を示し、根端部右側圧電素子P4は、図6に示す根端部右側上層電極E4と下層電極E0と、圧電材料層105のうち上層電極E4の下方に位置する部分と、によって構成される局在圧電素子を示す。また、参照用圧電素子P5は、図6に示す参照用上層電極E5と下層電極E0と、圧電材料層105のうち参照用上層電極E5の下方に位置する部分と、によって構成される局在圧電素子を示す。
Similarly, the root end left side piezoelectric element P3 includes the root end left upper layer electrode E3 and the lower layer electrode E0 shown in FIG. 6, and a portion of the
図16(a) に示す回路図上の接地点E0は下層電極、白丸で示すE1〜E5は各上層電極に対応する。各上層電極E1〜E5の発生電荷は、それぞれチャージアンプ501〜505によって電圧V1〜V5に変換される。別言すれば、図16(a) に示す回路は、下層電極E0の電位を基準電位として、先端部左側上層電極E1の電圧V1,先端部右側上層電極E2の電圧V2,根端部左側上層電極E3の電圧V3,根端部右側上層電極E4の電圧V4,参照用上層電極E5の電圧V5をアナログ信号として取り出す役割を果たす。
The ground point E0 on the circuit diagram shown in FIG. 16A corresponds to the lower layer electrode, and E1 to E5 indicated by white circles correspond to the upper layer electrodes. Charges generated by the upper layer electrodes E1 to E5 are converted into voltages V1 to V5 by
一方、図16(b) の回路図に示すとおり、電圧V1〜V5は、アナログ演算器511,512,513の入力段に与えられ、所定の演算処理の対象になる。アナログ演算器511は、図12(b) のαxの式に対応する演算を行う構成要素であり、作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値を、「電圧V1,V4の和」と「電圧V2,V3の和」との差に基づいて出力端子Txに出力する機能を果たす。
On the other hand, as shown in the circuit diagram of FIG. 16 (b), the voltages V1 to V5 are given to the input stages of the
同様に、アナログ演算器512は、図12(b) のαyの式に対応する演算を行う構成要素であり、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値を、原理的には、電圧V1,V2,V3,V4の和に基づいて出力端子Tyに出力する機能を果たす。ただ、上述したとおり、補正項「k・V5」を用いた差分検出を行うようにしているため、実際には、「電圧V1,V2,V3,V4の和」と「電圧V5に所定の補正係数kを乗じて得られる値k・V5」との差に基づいて、検出値αyを出力端子Tyに出力する。
Similarly, the
そして、アナログ演算器513は、図12(b) のαzの式に対応する演算を行う構成要素であり、作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値を、「電圧V1,V2の和」と「電圧V3,V4の和」との差に基づいて出力端子Tzに出力する機能を果たす。
The
前述したように、図12(b) に示す演算式を用いれば、各座標軸方向成分の検出値から、他軸成分の干渉を排除することができるので、出力端子Tx,Ty,Tzから出力される検出値αx,αy,αzは、他軸成分を含まない正確な値になる。もし、製造誤差等により、他軸成分が十分に排除できない場合は、補正演算を行えばよい。 As described above, if the arithmetic expression shown in FIG. 12 (b) is used, interference of other axis components can be excluded from the detected values of the respective coordinate axis direction components, so that they are output from the output terminals Tx, Ty, Tz. The detected values αx, αy, αz are accurate values that do not include other axis components. If other axis components cannot be sufficiently eliminated due to manufacturing errors or the like, correction calculation may be performed.
なお、図16に示す例は、検出回路500をアナログ演算回路によって構成した例であるが、もちろん、検出回路500をデジタル演算回路やマイクロプロセッサによって構成することも可能である。この場合は、各上層電極E1〜E4の電圧V1〜V4をデジタルデータに変換した上で、図12(b) に示す演算式に基づく演算をデジタル演算として実行すればよい。
The example shown in FIG. 16 is an example in which the
<<< §3. 変位制限構造および加速度検出装置 >>>
図1に示す主センサ構造体MSSにおいて、検出効率を高めるためには、板状橋梁部210は、できるだけ薄く、長くするのが好ましい。その理由は、薄くて長い板状橋梁部210を用いれば、可撓性が高まるため、より大きな撓みが生じるようになるためである。板状橋梁部210に大きな撓みが生じれば、圧電材料層105にも大きな撓みが生じ、検出量が増加する。なお、板状橋梁部210の幅を細くすると、大きな撓みを生じさせるメリットは得られるが、圧電材料層105の面積が減少するため、検出量が低下するデメリットが生じてしまう。
<<< §3. Displacement limiting structure and acceleration detection device >>
In the main sensor structure MSS shown in FIG. 1, in order to increase detection efficiency, it is preferable that the plate-
このような事情により、本発明に係る加速度センサASを設計する場合、板状橋梁部210を薄く、長くするのが好ましい。しかしながら、薄くて長い板状橋梁部210は、過度の外力が作用すると破損しやすい。たとえば、図8には、重錘体にX軸正方向の力+Fxが作用したときの主センサ構造体MSSの変形態様が示されているが、過度の力+Fx(過度の加速度−αx)が作用すると、橋梁部圧電層110およびその下層の板状橋梁部210に過度の変形が生じて破損する可能性がある。
Under such circumstances, when designing the acceleration sensor AS according to the present invention, it is preferable to make the plate-
本発明で採用している主センサ構造体MSSの場合、板状橋梁部210の過度の変位を抑制する変位制限構造を容易に付加することができる。それは、重錘体が、板状橋梁部の左脇に位置する左翼重錘部と右脇に位置する右翼重錘部とを有しているためである。たとえば、図6に示す実施例の場合、左翼圧電層130の下方には左翼重錘部330が配置され、右翼圧電層140の下方には右翼重錘部340が配置されており、橋梁部圧電層110の下方に位置する板状橋梁部210が、左翼重錘部330および右翼重錘部340によって左右から保護された形態をとっている。
In the case of the main sensor structure MSS adopted in the present invention, a displacement limiting structure that suppresses excessive displacement of the plate-
したがって、この図6に示す主センサ構造体MSSの右側および左側に何らかの変位制限壁を設ければ、この変位制限壁によって重錘体の左右方向の変位を制限することができる。たとえば、図8の例のように、重錘体にX軸正方向の力+Fxが作用した場合、重錘体は右側の変位制限壁を超えて変位することはできない。同様に、重錘体にX軸負方向の力−Fxが作用した場合、重錘体は左側の変位制限壁を超えて変位することはできない。 Therefore, if any displacement restriction walls are provided on the right and left sides of the main sensor structure MSS shown in FIG. 6, the displacement of the weight body can be restricted by the displacement restriction walls. For example, when the force + Fx in the X-axis positive direction is applied to the weight body as in the example of FIG. 8, the weight body cannot be displaced beyond the right displacement limiting wall. Similarly, when force -Fx in the negative direction of the X-axis acts on the weight body, the weight body cannot be displaced beyond the left displacement limiting wall.
また、図6に示す実施例の場合、中央圧電層120の下方には中央重錘部320が配置されているので、図の上方にも変位制限壁を設けておけば、重錘体にY軸正方向の力+Fyが作用した場合にも、重錘体は上方の変位制限壁を超えて変位することはできない。
In the case of the embodiment shown in FIG. 6, the
結局、図6に示す実施例の場合、橋梁部圧電層110の下方に位置する板状橋梁部210が、「コ」の字型をした重錘体によって取り囲まれ、周囲から保護された状態になっているので、主センサ構造体MSSの外側に何らかの変位制限壁を設ければ、重錘体の過度の変位を制限し、板状橋梁部210の破損を避けることが可能になる。板状橋梁部210は、「コ」の字型をした重錘体によって取り囲まれているため、変位制限壁に直接接触することはない。
After all, in the embodiment shown in FIG. 6, the plate-
変位制限壁としては、たとえば、この主センサ構造体MSSを収容する装置筐体の内壁面を利用することが可能である。ただ、重錘体の外面と変位制限壁の内面との間の空隙寸法を適切な値(正常な検出動作に必要な範囲内で重錘体が自由運動を行い、主センサ構造体MSSに破損が生じるような過度の加速度が加わったときには重錘体の変位を制御するのに適切な値)に設定する上では、専用の変位制限壁を設けるようにするのが好ましい。そこで、ここでは、台座400を変位制限壁として利用した実施形態を説明する。もちろん、台座400が装置筐体を兼ねていてもかまわない。
As the displacement limiting wall, for example, it is possible to use the inner wall surface of the apparatus housing that accommodates the main sensor structure MSS. However, the gap between the outer surface of the weight body and the inner surface of the displacement limiting wall is an appropriate value (the weight body moves freely within the range necessary for normal detection operation, and the main sensor structure MSS is damaged. In order to set the value to an appropriate value for controlling the displacement of the weight body when excessive acceleration is applied, it is preferable to provide a dedicated displacement limiting wall. Therefore, here, an embodiment in which the
本発明に係る加速度センサASでは、板状橋梁部210の根端部が台座400に固定される。たとえば、図1では、固定部を示す単なるシンボル記号として台座400が示されている。また、図6〜図10では、単なる固定面として台座400が示されている。実際、台座400は、板状橋梁部210の根端部を固定して、重錘体を宙吊り状態にする役割を果たすことができれば、どのような構造のものであってもかまわない。以下に述べる実施形態は、主センサ構造体MSSを取り囲む環状構造体を、台座400として用い、当該環状構造体の内壁を変位制限壁として利用した例である。もちろん、この環状構造体からなる台座400自身を、そのまま装置筐体として利用してもかまわない。
In the acceleration sensor AS according to the present invention, the root end portion of the plate-
図17は、台座400として矩形状の環状構造体を用いた加速度センサASを示す上面図である(実際には、加速度センサASから、検出回路500を除いた加速度センサ用構造体の部分のみが示されており、検出回路500は図示が省略されている)。図面中央に描かれている主センサ構造体MSSは、§1および§2で述べた圧電素子を用いた実施形態に係る主センサ構造体であり、その周囲に配置された矩形状の方環状構造体が台座400である。主センサ構造体MSSと台座400とは、原点Oの位置で接合されている。
FIG. 17 is a top view showing the acceleration sensor AS using a rectangular annular structure as the pedestal 400 (actually, only the portion of the acceleration sensor structure excluding the
なお、図17に示す実施例では、参照用電極E5は、台座400側の上面に設けられている。これは、台座400自身が圧電素子を含む構造(後述)になっているため、台座400に参照用圧電素子P5を配置することができることを利用したものである。前述したとおり、参照用圧電素子P5は、加速度のY軸方向成分αyを算出する際に差分検出を行うための構成要素であり、加速度が作用しても撓みが生じない部分であれば、どこに形成してもよい。図示の実施例は、主センサ構造体MSSではなく、台座400側に参照用圧電素子P5を形成した例ということになる。
In the embodiment shown in FIG. 17, the reference electrode E5 is provided on the upper surface on the base 400 side. This utilizes the fact that the reference piezoelectric element P5 can be disposed on the
台座400は、XY平面に沿って主センサ構造体MSSを取り囲む環状構造体をなす。より具体的には、台座400は、第1壁部410、第2壁部420、第3壁部430、第4壁部440なる4組の壁部を有する矩形状の方環状構造体によって構成されている。ここで、第1壁部410は、主センサ構造体MSSに対してX軸負方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、第2壁部420は、主センサ構造体MSSに対してX軸正方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、第3壁部430は、主センサ構造体MSSに対してY軸正方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、第4壁部440は、主センサ構造体MSSに対してY軸負方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成している。そして、主センサ構造体MSSの一部を構成する板状橋梁部210の根端部が、第4壁部440の内面に支持固定されており、この第4壁部440の上面には、参照用上層電極E5が設けられている。
The
このような構造を有する加速度センサASに対して、所定の大きさを超える加速度の水平方向成分(XY平面に平行な成分)が作用した場合、重錘体(主センサ第3層300)がこの環状構造体からなる台座400の内面に接触し、それ以上の変位が制限される。ここで「所定の大きさを超える加速度」とは、変位を制限しないと、主センサ構造体MSSの各部(特に、板状橋梁部210)に損傷が生じる可能性のある加速度ということになる。 When the acceleration component AS having such a structure is subjected to a horizontal component of acceleration exceeding the predetermined magnitude (a component parallel to the XY plane), the weight body (main sensor third layer 300) It contacts the inner surface of the base 400 made of an annular structure, and further displacement is limited. Here, “acceleration exceeding a predetermined magnitude” means acceleration that may cause damage to each part (particularly, the plate-like bridge part 210) of the main sensor structure MSS unless the displacement is limited.
図示の例では、主センサ構造体MSSの左側面と第1壁部410の内面との間には空隙寸法d11が確保されており、主センサ構造体MSSの右側面と第2壁部420の内面との間には空隙寸法d12が確保されている。同様に、主センサ構造体MSSの上側面と第3壁部430の内面との間には空隙寸法d13が確保されており、主センサ構造体MSSの下側面と第4壁部440の内面との間には空隙寸法d14が確保されている。
In the illustrated example, a gap dimension d11 is secured between the left side surface of the main sensor structure MSS and the inner surface of the
したがって、この加速度センサASに過度の加速度が加わり、重錘体にX軸方向の外力成分が作用しても、重錘体の変位は空隙寸法d11,d12の範囲内に制限され、重錘体にY軸方向の外力成分が作用しても、重錘体の変位は空隙寸法d13,d14の範囲内に制限される。このため、板状橋梁部210に生じる撓みの程度を制限することができ、板状橋梁部210の損傷を防ぐことができる。
Therefore, even when an excessive acceleration is applied to the acceleration sensor AS and an external force component in the X-axis direction acts on the weight body, the displacement of the weight body is limited within the range of the gap dimensions d11 and d12. Even if an external force component in the Y-axis direction is applied to this, the displacement of the weight body is limited to the range of the gap dimensions d13 and d14. For this reason, the extent of the bending which arises in the plate-shaped
主センサ構造体MSSと台座400との構造上の関係は、図18〜図20に示す側断面図に詳細に示されている。図18は、図17に示す加速度センサASを切断線18−18に沿って切った断面を示す正断面図である。主センサ構造体MSSは、既に述べたとり、主センサ第1層100,主センサ第2層200,主センサ第3層300を積層した3層構造体からなる。一方、台座400も、台座第1層401,台座第2層402,台座第3層403を積層した3層構造体からなる。
The structural relationship between the main sensor structure MSS and the
ここで、主センサ第1層100と台座第1層401とは、Z軸に関して全く同じ位置に配置され、主センサ第2層200と台座第2層402とは、やはりZ軸に関して全く同じ位置に配置されている。これに対して、主センサ第3層300と台座第3層403とを比較すると、上面はZ軸に関して全く同じ位置に配置されているが、下面は、主センサ第3層300の方が台座第3層403よりも若干上方に位置している。これは、重錘体(中央重錘部320,左翼重錘部330,右翼重錘部340)を台座400の底面より浮かして宙吊り状態にするためである。
Here, the main sensor
図示のとおり、左翼重錘部330の外側面と第1壁部410の内面との間には空隙寸法d11が確保されており、右翼重錘部340の外側面と第2壁部420の内面との間には空隙寸法d12が確保されている。したがって、重錘体は、X軸方向に関して、これら空隙寸法d11,d12の範囲内で変位可能であるが、当該範囲を超える変位は制限される。この実施例では、d11=d12=20μmに設定している。
As illustrated, a gap d11 is secured between the outer surface of the left
図19は、図17に示す加速度センサASを切断線19−19に沿って切った断面を示す側断面図であり、図20は、図17に示す加速度センサASを切断線20−20に沿って切った断面を示す側断面図である。いずれの図にも、主センサ構造体MSSおよび台座400が、3層構造体からなる点が明瞭に示されている。
19 is a side cross-sectional view showing a cross section of the acceleration sensor AS shown in FIG. 17 along the cutting line 19-19. FIG. 20 is a cross-sectional view of the acceleration sensor AS shown in FIG. 17 along the cutting line 20-20. It is a sectional side view which shows the cross section cut off. In both figures, it is clearly shown that the main sensor structure MSS and the
図示のとおり、中央重錘部320の外側面と第3壁部430の内面との間には空隙寸法d13が確保されており、左翼重錘部330および右翼重錘部340の外側面と第4壁部440の内面との間には空隙寸法d14が確保されている。したがって、重錘体は、Y軸方向に関して、これら空隙寸法d13,d14の範囲内で変位可能であるが、当該範囲を超える変位は制限される。この実施例では、d13=d14=15μmに設定している。
As shown in the figure, a gap dimension d13 is secured between the outer surface of the
ここで、主センサ構造体MSSを、主センサ第1層100,主センサ第2層200,主センサ第3層300の3層構造体によって構成する理由は、§2で述べた検出動作を行うためである。すなわち、主センサ第2層200は、可撓性を有する板状橋梁部210を構成するための層であり、主センサ第1層100は、板状橋梁部210に生じる撓みを検出するための圧電素子を構成するための層であり、主センサ第3層300は、板状橋梁部210に外力を作用させる重錘体として機能するための層である。
Here, the reason why the main sensor structure MSS is constituted by the three-layer structure of the main sensor
これに対して、台座400は、板状橋梁部210の根端部を支持固定する固定部材としての役割と、重錘体の過度の変位を制限するための変位制限壁としての役割とを果たせば足りるので、機能上は、敢えて3層構造体にする必要はない。しかしながら、図18〜図20に示す実施例において、台座400を主センサ構造体MSSと同様の3層構造体によって構成している理由は、専ら、製造プロセス上の便宜を図るためである。
On the other hand, the
すなわち、図18に示す実施例の場合、台座400は、上から順に台座第1層401、台座第2層402、台座第3層403を積層した積層構造体によって構成されており、台座第1層401は板状橋梁部210の根端部近傍において主センサ第1層100に連なり、台座第2層402は板状橋梁部210の根端部において主センサ第2層200に連なっている。また、台座第3層403は、主センサ第3層300に対して、物理的には離隔した構成要素になっているが、3層構造体の最下層であり、その上面の位置は同じになっている。
That is, in the case of the embodiment shown in FIG. 18, the
結局、図18に示す実施例の場合、台座第1層401と主センサ第1層100とを同一の材料層から構成することができ、台座第2層402と主センサ第2層200とを同一の材料層から構成することができ、台座第3層403と主センサ第3層300とを同一の材料層から構成することができる。図19および図20には、第4壁部440の上面に形成された参照用上層電極E5が示されているが、台座第1層401は圧電材料層および下層電極層からなる層であるため、参照用上層電極E5の形成領域には、参照用圧電素子P5が形成されることになる。
After all, in the embodiment shown in FIG. 18, the pedestal
図21は、図18に示す加速度センサASの主センサ構造体MSSおよび台座400を構成する材料として用いられる積層材料ブロック1000の側断面図である。この積層材料ブロック1000は、上から順に、材料第1層1001、材料第2層1002、材料第3層1003を積層した3層からなる積層構造体である。図の破線は、台座400となるべき部分を示している。
FIG. 21 is a side sectional view of a
図21において、材料第1層1001は、主センサ第1層100を構成することを意図した層であり、圧電材料層の上下両面に電極となる導電層を形成したものである。同様に、材料第2層1002は、主センサ第2層200を構成することを意図した層であり、たとえば、板状橋梁部210を構成するのに適したシリコン基板によって構成することができる。そして、材料第3層1003は、主センサ第3層300(重錘体)を構成することを意図した層であり、たとえば、十分な質量を確保できるように、SUS等の金属基板によって構成することができる。
In FIG. 21, a material
このような積層材料ブロック1000の各層に対して、それぞれ必要な加工(たとえば、エッチング加工)を施すことにより、図18〜図20に示す主センサ構造体MSSと台座400とを同時進行で構成することができる。このため、製造工程を単純化して量産化を図ることができ、製造コストを低減することができるようになる。なお、具体的な製造工程については、後に、図44に示す製造プロセスを参照して説明する。
The main sensor structure MSS and the
このように、図17に示す加速度センサASでは、主センサ構造体MSSを方環状構造体からなる台座400に収容したため、所定の大きさを超える加速度の水平方向成分(XY平面に平行な成分)が作用した場合、重錘体の変位を制限することが可能である。ここでは更に、所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分(Z軸に平行な成分)が作用した場合にも、重錘体の変位を制限する実施例を述べる。 As described above, in the acceleration sensor AS shown in FIG. 17, since the main sensor structure MSS is accommodated in the base 400 made of a ring-shaped structure, the horizontal component of acceleration exceeding a predetermined size (component parallel to the XY plane). When this acts, it is possible to limit the displacement of the weight body. Here, an embodiment will be described in which the displacement of the weight body is limited even when a vertical component (a component parallel to the Z axis) of acceleration exceeding a predetermined magnitude is applied.
図22は、このような実施例を示す側断面図である。図示の実施例は、図17に示す加速度センサASを、装置筐体600に収容したものであり、本願では、このように装置筐体600を含めた加速度センサASを、便宜上、「加速度検出装置」と呼ぶことにする。すなわち、ここで言う「加速度検出装置」とは、これまで述べてきた加速度センサAS(主センサ構造体MSS、台座400、検出回路500を有する素子)と、この加速度センサASを収容する装置筐体600と、を備える装置ということになる。
FIG. 22 is a side sectional view showing such an embodiment. In the illustrated embodiment, the acceleration sensor AS shown in FIG. 17 is accommodated in the
図示のとおり、加速度センサASの台座400は、装置筐体600に固定されており、装置筐体600を変位させる外力が作用すると、加速度センサASの重錘体300(主センサ第3層)は、板状橋梁部210の撓みによって装置筐体600内で変位する。図示されていない検出回路500は、当該変位によって各圧電素子に発生した電荷に基づいて、装置筐体600に作用した加速度の各座標軸方向成分を出力する処理を行う。
As illustrated, the
より具体的には、装置筐体600は、加速度センサASを下方から支持固定するための土台基板610と、加速度センサASの上方を覆う上蓋基板620と、加速度センサASの周囲を囲うように配置され、土台基板610と上蓋基板620とを連結する側壁板630と、を有している。そして、加速度センサASの台座400(各壁部410〜440)の底面は、加速度センサASの重錘体(主センサ第3層300:320,330,340)の底面より下方に位置し、台座400(各壁部410〜440)の底面は土台基板610の上面に固定されている。
More specifically, the
その結果、土台基板610の上面と重錘体(主センサ第3層300:320,330,340)の底面との間に、空隙寸法d15を有する下方空隙部が形成されている。また、上蓋基板620は、加速度センサASの主センサ第1層100の上面より上方に位置し、上蓋基板620の下面と主センサ第1層100の上面との間に、空隙寸法d16を有する上方空隙部が形成されている。この実施例では、d15=d16=10μmに設定している。
As a result, a lower gap portion having a gap dimension d15 is formed between the upper surface of the
したがって、加速度センサASに対して、所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合には、主センサ構造体ASの一部が土台基板610の上面もしくは上蓋基板620の下面に接触し、それ以上の変位が制限される。かくして、図22に示す加速度検出装置によれば、XYZ三次元座標系において、X軸,Y軸,Z軸のいずれの方向を向いた過度の加速度が作用した場合にも、重錘体の変位を制限することが可能になり、板状橋梁部210の破損を防ぐことができる。
Therefore, when a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor AS, a part of the main sensor structure AS comes into contact with the upper surface of the
図23は、図22に示す加速度検出装置における重錘体と台座の役割を逆にした変形例に係る加速度検出装置の側断面図である。この図23に示す加速度検出装置も、加速度センサAS′と、この加速度センサAS′を収容する装置筐体600と、を備える装置であり、装置筐体600の部分は、図22に示す装置と全く同じである。ただ、図23に示す加速度センサAS′は、図22に示す加速度センサASとは若干構造が異なっている。
FIG. 23 is a side sectional view of an acceleration detection device according to a modification in which the roles of the weight body and the pedestal are reversed in the acceleration detection device shown in FIG. The acceleration detection device shown in FIG. 23 is also a device including an acceleration sensor AS ′ and a
この図23に示す加速度検出装置の場合、加速度センサAS′の主センサ第3層300′(320′,330′,340′)が装置筐体600に固定され、台座400′(410′,420′,430′,440′)が宙吊り状態になっている。このため、装置筐体600に加速度が作用した場合、加速度センサASの台座400′が板状橋梁部210の撓みによって装置筐体600内で変位する。図示されていない検出回路500は、当該変位によって各圧電素子に発生した電荷に基づいて、装置筐体600に作用した加速度の各座標軸方向成分を出力する処理を行う。
In the case of the acceleration detection apparatus shown in FIG. 23, the main sensor
より具体的には、装置筐体600は、加速度センサAS′を下方から支持固定するための土台基板610と、加速度センサAS′の上方を覆う上蓋基板620と、加速度センサAS′の周囲を囲うように配置され、土台基板610と上蓋基板620とを連結する側壁板630と、を有している。そして、加速度センサAS′の台座400′(410′,420′,430′,440′)の底面は、加速度センサAS′の主センサ第3層300′(320′,330′,340′)の底面より上方に位置し、主センサ第3層300′(320′,330′,340′)の底面は土台基板610の上面に固定されている。
More specifically, the
その結果、土台基板610の上面と台座400′(410′,420′,430′,440′)の底面との間に、空隙寸法d17を有する下方空隙部が形成されている。また、上蓋基板620は、加速度センサAS′の主センサ第1層100の上面より上方に位置し、上蓋基板620の下面と主センサ第1層100の上面との間に、空隙寸法d18を有する上方空隙部が形成されている。この実施例では、d17=d18=10μmに設定している。
As a result, a lower gap having a gap dimension d17 is formed between the top surface of the
したがって、加速度センサAS′に対して、所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合には、主センサ構造体AS′の一部が土台基板610の上面もしくは上蓋基板620の下面に接触し、それ以上の変位が制限される。かくして、図23に示す加速度検出装置の場合も、XYZ三次元座標系において、X軸,Y軸,Z軸のいずれの方向を向いた過度の加速度が作用しても、重錘体の変位を制限することが可能になり、板状橋梁部210の破損を防ぐことができる。以上、空隙寸法d11〜d18について具体的な寸法値を例示したが、もちろん、これらの空隙寸法d11〜d18の最適値は、図6および図7に示す各部の寸法値d1〜d10等に応じて定められるべきものである。
Therefore, when a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor AS ′, a part of the main sensor structure AS ′ is placed on the upper surface of the
ここで、図22に示す加速度検出装置と図23に示す加速度検出装置とについて、動作原理を比較すると、前者の場合、主センサ第3層300(320,330,340)が、装置筐体600内に宙吊り状態となった重錘体として機能し、この重錘体の変位が検出されることになるのに対して、後者の場合、台座400′(410′,420′,430′,440′)が、装置筐体600内に宙吊り状態となった重錘体として機能し、この重錘体の変位が検出されることになる。なお、図23に示す加速度検出装置の場合、原理上は、部材300′を台座と呼び、部材400′を重錘体と呼ぶべきであるが、図22に示す加速度検出装置と対比する便宜上、ここでは部材300′を重錘体と呼び、部材400′を台座と呼んでいる。
Here, when the operation principles of the acceleration detection device shown in FIG. 22 and the acceleration detection device shown in FIG. 23 are compared, in the former case, the main sensor third layer 300 (320, 330, 340) is replaced by the
一般論として、主センサ第3層300,300′よりも、その外側を取り囲む台座400,400′の方が、より大きな質量をもった構造体にしやすい。たとえば、図17に示す例において、第1壁部410,第2壁部420,第3壁部430,第4壁部440の壁の厚みを厚くすれば、台座400の質量を増加させることは容易である。このように質量の大きな台座を重錘体として利用すれば、より大きな検出量を確保することができる。したがって、一般論としては、図22に示す構造よりも、図23に示す構造の方が、検出感度を高める上では好ましい。もちろん、図23に示す構造を採用した場合にも、台座400′の各座標軸方向への変位は制限されるので、板状橋梁部210の破損を防ぐ効果が得られることになる。
In general terms, the
<<< §4. 圧電素子を用いた実施形態の変形例 >>>
続いて、これまで述べてきた圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサASについて、いくつかの変形例を述べておく。
<<< §4. Modification of Embodiment Using Piezoelectric Element >>
Subsequently, some modifications of the acceleration sensor AS according to the embodiment using the piezoelectric element described so far will be described.
<4−1.第1の変形例A:3層構造体の平面形状の変形例>
§1で述べた実施形態に係る加速度センサASを構成する主センサ構造体MSSは、図1に示すように、主センサ第1層100,主センサ第2層200,主センサ第3層300を積層させた3層構造体によって構成されている。これら3層の平面形状は、それぞれ図2〜図4に示されている。
<4-1. First Modification A: Modification of Planar Shape of Three-Layer Structure>
As shown in FIG. 1, the main sensor structure MSS constituting the acceleration sensor AS according to the embodiment described in §1 includes a main sensor
ここで、図2と図3とを比較すればわかるとおり、主センサ第1層100の平面形状と主センサ第2層200の平面形状とは全く同一であり、両者のXY平面投影像は重なることになる。これは、シリコン基板からなる主センサ第2層200の上面の全領域に、圧電素子からなる主センサ第1層100を形成する製造プロセスを採ったためである。
Here, as can be seen by comparing FIG. 2 and FIG. 3, the planar shape of the main sensor
もっとも、主センサ第1層100(圧電素子)の役割は、主センサ第2層200とともに撓みを生じさせ、この撓みに基づいて検出を行うことにあるので、原理的には、主センサ第1層100(圧電素子)は、撓みが生じる板状橋梁部210の上面に形成されていれば足りる。図2に示す主センサ第1層100は、橋梁部圧電層110,中央圧電層120,左翼圧電層130,右翼圧電層140の4つの部分によって構成されているが、原理的には、橋梁部圧電層110のみを設ければよく、より細かく言えば、橋梁部圧電層110のうち、上層電極E1〜E4が形成される領域にのみ形成されていればよい。
However, the role of the main sensor first layer 100 (piezoelectric element) is to cause the main sensor
要するに、主センサ第1層100の平面形状と主センサ第2層200の平面形状とは、必ずしも同一である必要はなく、主センサ第1層100は、主センサ第2層200の板状橋梁部210の上面の少なくとも一部分を覆うように形成された圧電素子を有していればよい。
In short, the planar shape of the main sensor
一方、図3と図4とを比較すればわかるとおり、主センサ第2層200の平面形状と主センサ第3層300の平面形状とは、板状橋梁部210の部分を除いて同一になっている。すなわち、図3に示されている主センサ第2層200の各部分を構成する中央板状部220,左翼板状部230,右翼板状部240の平面形状は、それぞれ図4に示されている主センサ第3層300の各部分を構成する中央重錘部320,左翼重錘部330,右翼重錘部340の平面形状と同一である。平面形状における両者の相違は、図3に示されている主センサ第2層200の板状橋梁部210に対応する部分が、図4に示されている主センサ第3層300では、空洞部310になっている点だけである。
On the other hand, as can be seen by comparing FIG. 3 and FIG. 4, the planar shape of the main sensor
このように、主センサ第2層200の平面形状と主センサ第3層300の平面形状とをほぼ同一にすれば、3層の平面形状の外形がほぼ同じになり、主センサ構造体MSSの全体形状を単純化することができる。しかしながら、主センサ第2層200の平面形状と主センサ第3層300の平面形状とは、必ずしもほぼ同一にする必要はない。
Thus, if the planar shape of the main sensor
図24は、図1に示す主センサ構造体MSSの第1の変形例Aに係る主センサ構造体MSSaを示す上面図である。この主センサ構造体MSSaは、図1に示す主センサ構造体MSSと同様に、主センサ第1層100a,主センサ第2層200a,主センサ第3層300aの3層構造体によって構成されているが、各層の平面形状が異なっている。この第1の変形例Aでは、主センサ第1層100aの平面形状と主センサ第2層200aの平面形状とは同一であるが、これらと主センサ第3層300aの平面形状とは大きく異なっている。 FIG. 24 is a top view showing the main sensor structure MSSa according to the first modification A of the main sensor structure MSS shown in FIG. The main sensor structure MSSa is configured by a three-layer structure of a main sensor first layer 100a, a main sensor second layer 200a, and a main sensor third layer 300a, similarly to the main sensor structure MSS shown in FIG. However, the planar shape of each layer is different. In the first modification A, the planar shape of the main sensor first layer 100a and the planar shape of the main sensor second layer 200a are the same, but they are greatly different from the planar shape of the main sensor third layer 300a. ing.
主センサ第1層100aの各部と主センサ第2層200aの各部は、それぞれ同一の平面形状を有している。図24は上面図であるため、主センサ第2層200aは主センサ第1層100aの下層に隠れ、図には現れていないが、括弧書きの符号により、主センサ第1層100aの下方に重なって配置されている主センサ第2層200aの各構成要素が示されている。図から明らかなように、主センサ第3層300aの外周部は、主センサ第1層100aや主センサ第2層200aの外周部から大きく外側に張り出している。 Each part of the main sensor first layer 100a and each part of the main sensor second layer 200a have the same planar shape. Since FIG. 24 is a top view, the main sensor second layer 200a is hidden under the main sensor first layer 100a and does not appear in the figure, but is indicated below the main sensor first layer 100a by the reference numerals in parentheses. Each component of the second layer 200a of the main sensor arranged in an overlapping manner is shown. As is apparent from the drawing, the outer peripheral portion of the main sensor third layer 300a protrudes greatly outward from the outer peripheral portions of the main sensor first layer 100a and the main sensor second layer 200a.
具体的には、中央重錘部320aは、中央圧電層120aや中央板状部220aよりも外側に大きく張り出した構造を有する。また、左翼重錘部330aは、左翼圧電層130aや左翼板状部230aよりも外側に大きく張り出した構造を有し、右翼重錘部340aは、右翼圧電層140aや右翼板状部240aよりも外側に大きく張り出した構造を有する。
Specifically, the
このような構造を有する主センサ構造体MSSaも、YZ平面に関して面対称な構造をなしているため、主センサ第3層300aを構成する構造体(重錘体)の重心Gaは、板状橋梁部210aの下方のYZ平面上に位置している。したがって、重錘体が各座標軸方向について安定して変位する点に変わりはない。
Since the main sensor structure MSSa having such a structure also has a plane-symmetric structure with respect to the YZ plane, the center of gravity Ga of the structure (weight body) constituting the main sensor third layer 300a is a plate-like bridge. It is located on the YZ plane below the
このように、重錘体として機能する主センサ第3層300a(中央重錘部320a,左翼重錘部330a,右翼重錘部340a)の外周部を、主センサ第1層100aや主センサ第2層200aの外周部から大きく外側に張り出させる構造を採用すると、過度の加速度が加わった場合に、主センサ第1層100aおよび主センサ第2層200aを保護する機能を向上させることができる。
As described above, the outer periphery of the main sensor third layer 300a (the
すなわち、図17に示す主センサ構造体MSSの場合、最も損傷が生じやすい板状橋梁部210が、「コ」の字型の構造体によって囲われているため、過度の変位を生じさせる外力が加わっても、板状橋梁部210自体が台座400に接触することはない。しかしながら、図18を見れば明らかなように、主センサ第1層100,主センサ第2層200,主センサ第3層300の外周面の位置は揃っているため、過度の変位を生じさせる外力が加わった場合、これら各層の外周部が台座400の内面に接触することになる。主センサ第1層100および主センサ第2層200は、主センサ第3層300に比べて厚みが小さいため、台座400の内面に接触すると外周部に損傷が生じるおそれがある。
That is, in the case of the main sensor structure MSS shown in FIG. 17, the plate-shaped
これに対して、図24に示す主センサ構造体MSSaの場合、厚みの大きな主センサ第3層300aの外周部を外側に張り出させる構造が採られているため、過度の変位を生じさせる外力が加わると、主センサ第3層300aの外周部が台座400の内面に接触し、それ以上の変位が制限される。したがって、厚みの小さな主センサ第1層100aや主センサ第2層200aの外周面が台座400の内面に接触することを防ぐことができ、外周部に損傷が生じることを防止できる。
On the other hand, in the case of the main sensor structure MSSa shown in FIG. 24, since the structure in which the outer peripheral portion of the main sensor third layer 300a having a large thickness is projected outward is adopted, an external force that causes excessive displacement is adopted. Is applied, the outer periphery of the third layer 300a of the main sensor comes into contact with the inner surface of the
なお、図24に示す主センサ構造体MSSaでは、主センサ第3層300aを図の上下左右すべての方向に張り出させているが、上記保護効果を得る上では、必ずしもすべての方向に張り出させる必要はない。すなわち、重錘体として機能する主センサ第3層300aについて、その外周部の一部が台座400の内面に接触することにより、図の上下方向の変位および図の左右方向の変位を制限することができる構造になっていればよい。
In the main sensor structure MSSa shown in FIG. 24, the main sensor third layer 300a protrudes in all directions of the top, bottom, left, and right in the figure. However, in order to obtain the above-described protective effect, it does not necessarily extend in all directions. There is no need to let them. That is, with respect to the main sensor third layer 300a functioning as a weight body, a part of its outer peripheral portion is in contact with the inner surface of the
具体的には、主センサ第3層300aのX軸正方向の端部が重錘体支持部(220a,230a,240a)のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、主センサ第3層300aのX軸負方向の端部が重錘体支持部(220a,230a,240a)のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、主センサ第3層300aのY軸正方向の端部が重錘体支持部(220a,230a,240a)のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、主センサ第3層300aのY軸負方向の端部が重錘体支持部(220a,230a,240a)のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出しているようにすればよい。 Specifically, the end in the X-axis positive direction of the main sensor third layer 300a protrudes in the X-axis positive direction from the end in the X-axis positive direction of the weight support portions (220a, 230a, 240a). The end of the main sensor third layer 300a in the X-axis negative direction protrudes in the X-axis negative direction from the end of the weight support portion (220a, 230a, 240a) in the X-axis negative direction. The Y-axis positive direction end of the three layers 300a protrudes in the Y-axis positive direction from the Y-axis positive direction ends of the weight support portions (220a, 230a, 240a), and the main sensor third layer 300a The end in the Y-axis negative direction may protrude in the negative Y-axis direction from the end in the negative Y-axis direction of the weight support portions (220a, 230a, 240a).
<4−2.第2の変形例B:重錘体の分離構造>
これまで述べてきた圧電素子を用いた実施形態では、図4に示すとおり、重錘体として機能する主センサ第3層300を、中央重錘部320,左翼重錘部330,右翼重錘部340の3つの部分によって構成していた(図24に示す第1の変形例Aも同様)。しかしながら、本発明では、重錘体として、板状橋梁部210の長手方向軸(Y軸)に関して、左脇に位置する左翼重錘部330と右脇に位置する右翼重錘部340と、を有する主センサ構造体MSSを用いれば、必要な作用効果が得られる。別言すれば、本発明を実施するにあたり、左翼重錘部330と右翼重錘部340とを接続する中央重錘部320は必須のものではない。
<4-2. Second Modification B: Weight Body Separation Structure>
In the embodiment using the piezoelectric element described so far, as shown in FIG. 4, the main sensor
図25は、図1に示す主センサ構造体MSSの第2の変形例Bを示す上面図である。図示の主センサ構造体MSSbは、図1に示す主センサ構造体MSSや図24に示す主センサ構造体MSSaと同様に、主センサ第1層100b,主センサ第2層200b,主センサ第3層300bの3層構造体によって構成されている。ここでも、括弧書きの符号は、下方に配置されている主センサ第2層200bの構成要素を示している。図25に示す主センサ第1層100b(110b,120b,130b,140b)は、図24に示す主センサ第1層100a(110a,120a,130a,140a)と全く同一の構成要素であり、図25に示す主センサ第2層200b(210b,220b,230b,240b)は、図24に示す主センサ第2層200a(210a,220a,230a,240a)と全く同一の構成要素である。 FIG. 25 is a top view showing a second modification B of the main sensor structure MSS shown in FIG. The main sensor structure MSSb shown in the figure is the same as the main sensor structure MSS shown in FIG. 1 and the main sensor structure MSSa shown in FIG. 24. The main sensor first layer 100b, the main sensor second layer 200b, and the main sensor third The layer 300b includes a three-layer structure. Again, the reference numerals in parentheses indicate the components of the main sensor second layer 200b disposed below. The main sensor first layer 100b (110b, 120b, 130b, 140b) shown in FIG. 25 is the same component as the main sensor first layer 100a (110a, 120a, 130a, 140a) shown in FIG. The main sensor second layer 200b (210b, 220b, 230b, 240b) shown in FIG. 25 is the same component as the main sensor second layer 200a (210a, 220a, 230a, 240a) shown in FIG.
図24に示す主センサ構造体MSSaと図25に示す主センサ構造体MSSbとの相違点は、重錘体として機能する主センサ第3層の構造部分のみである。すなわち、図24に示す主センサ構造体MSSaの場合、主センサ第3層300aは、中央重錘部320a,左翼重錘部330a,右翼重錘部340aの3つの部分からなる「コ」の字状の構造体であるが、図25に示す主センサ構造体MSSbの場合、主センサ第3層300bは、左翼重錘部330bおよび右翼重錘部340bの2つの部分からなる構造体であり、両者を接続する中央重錘部は設けられていない。
The main sensor structure MSSa shown in FIG. 24 is different from the main sensor structure MSSb shown in FIG. 25 only in the structure portion of the third layer of the main sensor that functions as a weight body. That is, in the case of the main sensor structure MSSa shown in FIG. 24, the main sensor third layer 300a has a “U” shape composed of three parts: a
左翼重錘部330bは、左翼板状部230b(重錘体支持部)の下面に接合され、右翼重錘部340bは、右翼板状部240b(重錘体支持部)の下面に接合されており、重錘体に生じた変位は、支障なく板状橋梁部210bの先端部に伝達される。
The left
このような構造を有する主センサ構造体MSSbでは、重錘体が、左翼重錘部330bと右翼重錘部340bとの2つの部分に分離しているが、YZ平面に関して面対称な構造をなしているため、重錘体の重心Gbは、板状橋梁部210bの下方のYZ平面上に位置している。したがって、重錘体が各座標軸方向について安定して変位する点に変わりはない。
In the main sensor structure MSSb having such a structure, the weight body is separated into two parts, a left
また、図25に示す主センサ構造体MSSbは、図24に示す主センサ構造体MSSaと同様に、主センサ第1層100bおよび主センサ第2層200bの外周部に比べて、主センサ第3層300bの外周部が外側に張り出す構造をとっているため、厚みの小さな主センサ第1層100bや主センサ第2層200bの外周面が台座400の内面に接触することを防ぐことができ、外周部に損傷が生じることを防止する効果も得られる。
In addition, the main sensor structure MSSb shown in FIG. 25 is similar to the main sensor structure MSSa shown in FIG. 24 in that the third main sensor structure MSSb is larger than the outer periphery of the main sensor first layer 100b and the main sensor second layer 200b. Since the outer peripheral portion of the layer 300b projects outward, it is possible to prevent the outer peripheral surfaces of the main sensor first layer 100b and the main sensor second layer 200b having a small thickness from contacting the inner surface of the
すなわち、図25において、右翼重錘部340bのX軸正方向の端部は、右翼板状部240b(重錘体支持部)のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、左翼重錘部330bのX軸負方向の端部は、左翼板状部230b(重錘体支持部)のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、左翼重錘部330bおよび右翼重錘部340bのY軸正方向の端部は、左翼板状部230bおよび右翼板状部240b(重錘体支持部)のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、左翼重錘部330bおよび右翼重錘部340bのY軸負方向の端部は、左翼板状部230bおよび右翼板状部240b(重錘体支持部)のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出している。
That is, in FIG. 25, the end in the X-axis positive direction of the right
したがって、重錘体に対して、図の上下方向もしくは図の左右方向に過度の変位を生じさせる外力が加わったとしても、常に、主センサ第3層300b(重錘体)の外周部が台座400の内面に接触し、それ以上の変位が制限される。このため、厚みの小さな主センサ第1層100bや主センサ第2層200bの外周面が台座400の内面に接触することを防ぐことができ、外周部に損傷が生じることを防止できる。
Therefore, even if an external force that causes excessive displacement is applied to the weight body in the vertical direction in the figure or the horizontal direction in the figure, the outer peripheral portion of the main sensor third layer 300b (weight body) is always the pedestal. It contacts the inner surface of 400 and further displacement is limited. For this reason, it can prevent that the outer peripheral surface of the main sensor 1st layer 100b and main sensor 2nd layer 200b with small thickness contacts the inner surface of the
<4−3.第3の変形例C:板状橋梁部の接続角>
図26は、図1に示す主センサ構造体MSSの主センサ第2層200における板状橋梁部210の両端の接続角度を示す上面図である。図示のとおり、主センサ第2層200は、板状橋梁部210、中央板状部220、左翼板状部230、右翼板状部240という4つの部分によって構成されている。
<4-3. Third Modification C: Connection Angle of Plate-shaped Bridge>
FIG. 26 is a top view showing a connection angle between both ends of the plate-
ここで、板状橋梁部210は、検出動作に直接的に関与する撓みを生じる中枢部分であり、第1の長手方向軸L1(これまでの説明ではY軸)に沿って伸びる可撓性をもったビーム状の構造体である。これに対して、中央板状部220は、第1の長手方向軸L1に直交する第2の長手方向軸L2(これまでの説明ではX′軸)に沿って伸びる構造体であり、第1の長手方向軸L1に関して左右対称となる位置に配置されている。そして、板状橋梁部210の先端部は、先端点Tにおいて中央板状部220の中央側部に接続されており、両者はT字状の構造体をなす。
Here, the plate-
更に、中央板状部220の左側には左翼板状部230が接続され、右側には右翼板状部240が接続されており、主センサ第2層200は、全体として平面形状が「E」の字状をした平板状の構造体を構成している。図の境界線H′は、これら各部の領域を相互に区分けするための境界線に相当する。
Further, a left wing plate-
このような主センサ第2層200において、板状橋梁部210の先端部(先端点Tの近傍)における中央板状部220に対する接続状態に注目してみると、図示の接続角θ1,θ2は、いずれも90°になる。ここで、接続角θ1は、板状橋梁部210の左側辺と境界線H′とのなす角であり、接続角θ2は、板状橋梁部210の右側辺と境界線H′とのなす角である。このように、接続角θ1,θ2が90°になるのは、第1の長手方向軸L1および第2の長手方向軸L2が互いに直交し、かつ、長方形状の板状橋梁部210が第1の長手方向軸L1を中心軸として配置され、長方形状の中央板状部220が第2の長手方向軸L2を中心軸として配置されているためである。
In the main sensor
同様に、板状橋梁部210の根端部(原点Oの近傍)における台座400に対する接続状態に注目してみると、図示の接続角θ3,θ4は、いずれも90°になる。ここで、接続角θ3は、板状橋梁部210の左側辺と台座400の内側面とのなす角であり、接続角θ4は、板状橋梁部210の右側辺と台座400の内側面とのなす角である。このように、接続角θ3,θ4が90°になるのは、第1の長手方向軸L1が台座400の内側面に直交し、かつ、長方形状の板状橋梁部210が第1の長手方向軸L1を中心軸として配置されているためである。
Similarly, when attention is paid to the connection state with respect to the base 400 at the root end portion (near the origin O) of the plate-
一方、図27は、図1に示す主センサ構造体MSSの第3の変形例Cに係る主センサ第2層200cを示す上面図である。この第3の変形例Cの場合も、主センサ第2層200cは、板状橋梁部210c、中央板状部220c、左翼板状部230c、右翼板状部240cという4つの部分によって構成されているが、これら個々の部分の平面形状は長方形ではなく、変則的な図形になっている。また、板状橋梁部210cは、長手方向軸L1′に沿った方向に伸びる部材であるが、長手方向軸L1′は、台座400の内側面には直交していない。そのため、板状橋梁部210cの先端部についての接続角θ1,θ2および根端部についての接続角θ3,θ4は、90°にはなっていない。
On the other hand, FIG. 27 is a top view showing a main sensor
このように、図27に示す第3の変形例Cに係る変則的な形状を有する主センサ第2層200cを用いて本発明に係る加速度センサを形成した場合にも、加速度の検出を行うことが可能である。すなわち、左翼板状部230cの下面に接合された左翼重錘部330cと、右翼板状部240cの下面に接合された右翼重錘部340cと、を有する重錘体を設ければ、当該重錘体の変位により、板状橋梁部210cに撓みが生じるので、その上面に設けた圧電素子により検出を行うことができる。
As described above, even when the acceleration sensor according to the present invention is formed using the main sensor
したがって、本発明を実施する上で、板状橋梁部と中央板状部とは、必ずしも直交させる必要はなく、必ずしも両者によってT字状の構造体を構成する必要はない。たとえば、図27に示す変形例Cの場合、板状橋梁部210cと中央板状部220cは、Y字に近い形態をなしている。また、板状橋梁部は、必ずしも台座400の内側面に対して直交する形態で接続する必要はない。更に、主センサ構造体の各層を構成する各部分の平面形状は、必ずしも長方形である必要はなく、任意の形状でかまわない。
Therefore, in carrying out the present invention, the plate-like bridge portion and the central plate-like portion do not necessarily need to be orthogonal to each other, and it is not always necessary to form a T-shaped structure by both. For example, in the case of Modification C shown in FIG. 27, the plate-
しかしながら、実用上は、図26に示す例のように、主センサ第2層200の各部を、平面が長方形となる部材によって構成し、板状橋梁部210を、台座400の内側面に直交する第1の長手方向軸L1が中心軸となるように配置し、中央板状部220を、第1の長手方向軸L1に直交する第2の長手方向軸L2が中心軸となるように配置し、板状橋梁部210と中央板状部220とが直交してT字状をなすようにするのが好ましい。このような構成を採ると、接続角θ1〜θ4がすべて90°となり、第1の長手方向軸L1に関して左右対称な構造体を得ることができる。したがって、§3で述べたとおり、各座標軸方向成分の検出値から、他軸成分の干渉を容易に排除することができるようになる。
However, in practice, as in the example shown in FIG. 26, each part of the main sensor
<4−4.第4の変形例D:独立した主センサ部品>
図18に示す加速度センサASは、主センサ構造体MSSの部分と台座400の部分との双方を3層構造体によって構成したため、図21に示すような単一の積層材料ブロック1000を用意して、これに対してエッチングなどの加工処理を施すことにより製造することができるので、量産化に適していることは既に述べたとおりである。
<4-4. Fourth Modification D: Independent Main Sensor Parts>
Since the acceleration sensor AS shown in FIG. 18 includes both the main sensor structure MSS and the base 400 in a three-layer structure, a single
ここで、主センサ構造体MSSを構成する3層構造のうち、主センサ第1層100としては、検出動作を行わせるために圧電素子を用いる必要がある。また、主センサ第2層200としては、シリコン基板を用いるのが適しており、主センサ第3層300としては、金属基板を用いるのが適している。これは、前述したとおり、圧電素子の支持層としてはシリコン基板が最適であり、十分な質量をもった重錘体は、金属基板によって構成するのが最適であるためである。
Here, in the three-layer structure constituting the main sensor structure MSS, the main sensor
特に、量産性を考慮すると、図21に示す積層材料ブロック1000を用意する段階において、材料第2層1002をシリコン基板によって構成し、その上面に下層電極E0となるべき金属層を形成し、その上面に圧電材料層を成膜し、更にその上面に上層電極E1〜E4となるべき金属層を形成することにより、材料第1層1001を形成し、これを金属基板からなる材料第3層1003の上面に接合するのが好ましい。
In particular, considering mass productivity, in the stage of preparing the
しかしながら、現在のところ、シリコン基板上に圧電素子を形成する処理工程には、高度な設備が必要になり、多大なコストがかかる。実際、現在の技術では、シリコン基板上に圧電素子を形成する処理工程には、当該シリコン基板の材料価格の10倍以上の費用がかかる。したがって、図21に示す積層材料ブロック1000を利用して、図18に示す加速度センサASを製造するプロセスは効率的に行うことができたとしても、積層材料ブロック1000の調達コストは比較的高価にならざるを得ない。
However, at present, the processing process for forming a piezoelectric element on a silicon substrate requires advanced equipment and is very expensive. In fact, with the current technology, the process of forming a piezoelectric element on a silicon substrate costs more than 10 times the material price of the silicon substrate. Therefore, even if the process for manufacturing the acceleration sensor AS shown in FIG. 18 can be efficiently performed using the
実際、加速度センサASの検出機能に直接関与する圧電素子は、板状橋梁部210の上面に形成された部分のみであり、それ以外の領域に圧電素子を形成する必要はない。特に、台座400に形成された圧電素子は無駄であり、そもそも台座400にシリコン基板を用いる必要は全くない。そこでここでは、シリコン基板およびその上面に形成される圧電素子の平面的なサイズを大幅に削減し、製造コストの低減を図ることができる変形例を述べる。
Actually, the piezoelectric element directly involved in the detection function of the acceleration sensor AS is only the portion formed on the upper surface of the plate-
図28は、図1に示す主センサ構造体MSSの第4の変形例Dに用いる主センサ部品700dを示す図であり、図28(a) はその上面図、図28(b) はこれを切断線b−bに沿って切断した正断面図である。図28(a) において、括弧書きの符号は、各層の構成要素を示している。ここで述べる第4の変形例Dは、原理的には、これまで述べてきた圧電素子を用いた実施形態と全く同じであるが、具体的な部品構成が若干異なっている。図28に示す主センサ部品700dは、これまで述べてきた圧電素子を用いた実施形態における主センサ構造体MSSから、重錘体の部分を除いた部品としての役割を果たす。
FIG. 28 is a view showing a
図28(a) の上面図に示されているように、主センサ部品700dは、第1の長手方向軸L1に沿って伸びる第1部材710dと、第2の長手方向軸L2に沿って伸びる第2部材720dと、第3の長手方向軸L3に沿って伸びる第3部材730dと、によって構成されている。ここで、第1の長手方向軸L1,第2の長手方向軸L2,第3の長手方向軸L3は、いずれも同一の共通平面上に含まれ、第1の長手方向軸L1と第2の長手方向軸L2とは直交し、第1の長手方向軸L1と第3の長手方向軸L3とは直交する(第2の長手方向軸L2と第3の長手方向軸L3とは平行になる)。
As shown in the top view of FIG. 28 (a), the
図28(b) の正断面図には、第1部材710dを切断線b−bに沿って切断した断面部分のみが示されている。図示のとおり、第1部材710dは、たとえば、シリコンからなる板状橋梁部712dの上面に、金属からなる下層電極E0を形成し、その上面に橋梁部圧電層711dを形成し、更にその上面の所定箇所に上層電極E1〜E5(図には、切断面に位置するE1,E2の断面のみが現れている)を形成した構造を有しており、その層構造および各層の厚み寸法は、図7に示す実施例と同じである。したがって、この実施例の場合、第1部材710dの厚み寸法d19(板状橋梁部712dの下面から上層電極E1〜E5の上面までの寸法)は、4層の各厚みの和、すなわち、0.01+2.00+0.01+200.00=202.02μmになる。
In the front cross-sectional view of FIG. 28 (b), only a cross-sectional portion obtained by cutting the
図示は省略するが、第2部材720dおよび第3部材730dも同様の層構造を有している。すなわち、第2部材720dは、たとえば、シリコンからなる中央板状部722dの上面に、金属からなる下層電極E0を形成し、その上面に中央圧電層721dを形成した構造を有している。また、参照用圧電素子P5を形成するために、中央圧電層721dの上面の所定領域には、参照用上層電極E5が形成されている。一方、第3部材730dは、たとえば、シリコンからなる台座接続部732dの上面に、金属からなる下層電極E0を形成し、その上面に接続部圧電層731dを形成し、更にその上面の所定箇所にボンディングパッドB(図示の例では、5箇所に設けられている)を形成した構造を有している。
Although illustration is omitted, the
ここで、第3部材730dの厚みは、第1部材710dの厚みと同じ寸法d19である(ボンディングパッドBの厚みを上層電極E1〜E5の厚みと同じに設定したため)。また、図示の実施例の場合、第2部材720dの上面には、参照用上層電極E5が形成されているため、第2部材720dの厚みも第1部材710dの厚みと同じ寸法d19である。なお、図示の例の場合、5組のボンディングパッドBと各上層電極E1〜E5との間には配線(図示省略)がなされている。各ボンディングパッドBに対しては、検出回路500からの配線がなされることになる。下層電極E0に対する配線もボンディングパッドを介して行う場合には、下層電極用のボンディングパッドを追加すればよい。
Here, the thickness of the
この第4の変形例Dにおいても、4枚の上層電極E1〜E4は、第1部材710dの図の上端近傍の左右両脇位置と第1部材710dの図の下端近傍の左右両脇位置に形成されており、いずれも応力が集中する領域に配置されている。なお、図13〜図15に示す応力分布図を見れば、図28に示す上層電極E1,E2の図面における上端位置は、第1部材710dと第2部材720dとの境界線を越えて、若干図の上方(第2部材720dの領域)に伸びていてもよいことがわかる。同様に、図28に示す上層電極E3,E4の図面における下端位置は、第1部材710dと第3部材730dとの境界線を越えて、若干図の下方(第3部材730dの領域)に伸びていてもよいことがわかる。
Also in the fourth modification D, the four upper layer electrodes E1 to E4 are located at both the left and right side positions near the upper end of the
一方、図29は、この第4の変形例Dに用いる重錘体300dを示す上面図である。この重錘体300dは、図4に示す重錘体300(主センサ第3層)と同様に、シリコン,金属,ガラス,セラミックスなどの材料によって構成され、中央重錘部320d,左翼重錘部330d,右翼重錘部340dという3つの部分を有する「コ」の字状の構成要素であり、空洞部310dを有する。もちろん、重錘体300dの厚みは、図28に示す第1部材710dに撓みを生じさせるための十分な質量が得られる寸法に設定される。図示の実施例の場合、中央重錘部320dの上面に長方形状の嵌合溝325dが形成されている。この嵌合溝325dは、後述するように、図28に示す主センサ部品700dの第2部材720dを嵌合させて固定するためのものであり、その深さの寸法は、第2部材720dの厚み寸法よりも大きくなるように設定されている。
On the other hand, FIG. 29 is a top view showing a
図30は、この第4の変形例Dに用いる台座400dを示す上面図である。この台座400dは、図17に示す台座400と同様に、第1壁部410d,第2壁部420d,第3壁部430d,第4壁部440dを有する長方形状の構成要素である。ただ、台座400が図18に示すような3層構造体(主センサ構造体MSSと同様の層構造をもつ)によって構成されていたのに対し、図30に示す台座400dは、そのような3層構造をもつ必要はなく、たとえば、金属などの材料からなる単層構造体でかまわない。これは、ここに示す第4の変形例Dの場合、台座400dが、図28に示す主センサ部品700dとは全く別個独立したプロセスで製造されるためである。
FIG. 30 is a top view showing a
なお、図示の実施例の場合、第4壁部440dの上面中央部に、長方形上の嵌合溝445dが形成されている。この嵌合溝445dは、後述するように、図28に示す主センサ部品700dの第3部材730dを嵌合させて固定するためのものであり、その深さの寸法は、第3部材730dの厚み寸法よりも大きくなるように設定されている。
In the illustrated embodiment, a rectangular
図31は、この第4の変形例Dに係る加速度センサASdの全体構成を示す上面図である(ただし、検出回路500を除いた加速度センサ用構造体の部分のみが示され、検出回路500は図示されていない)。この加速度センサASdは、図30に示す台座400dに、図28に示す主センサ部品700dおよび図29に示す重錘体300dを取り付けることにより構成される。
FIG. 31 is a top view showing the entire configuration of the acceleration sensor ASd according to the fourth modification D (however, only the portion of the structure for acceleration sensor excluding the
具体的には、図28に示す主センサ部品700dの第2部材720dを、図29に示す「コ」の字状の重錘体300dの中央重錘部320dに設けられた嵌合溝325dに嵌め込み、第2部材720dの下面を嵌合溝325dの底面に接着する。同様に、この主センサ部品700dの第3部材730dを、図30に示す台座400dの第4壁部440dに設けられた嵌合溝445dに嵌め込み、第3部材730dの下面を嵌合溝445dの底面に接着する。そうすれば、図31に示す加速度センサASdが完成する(実際には、図示されていない検出回路500とボンディングパッドBとの間に配線を行う必要がある。)。
Specifically, the
結局、図31に示す加速度センサASdも、矩形状の台座400dの内部に主センサ構造体MSSdを収容した構成を採り、主センサ構造体MSSdが3層構造体からなる点については、図17に示す圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサASと同様である。ただ、図28に括弧書きの符号で示すとおり、主センサ構造体MSSdを構成する主センサ第2層が、板状橋梁部712dの根端部に接続された台座接続部732dを更に有している。この台座接続部732dは、第1の長手方向軸L1(これまで述べた実施形態におけるY軸)と交差する第3の長手方向軸L3(これまで述べた実施形態におけるX軸に平行な軸)を配置軸として、当該配置軸上に配置され、当該配置軸に沿って伸びる部材である。
After all, the acceleration sensor ASd shown in FIG. 31 also has a configuration in which the main sensor structure MSSd is accommodated in the
図29に示すとおり、重錘体300dの所定箇所の上面には、図28に示す中央板状部722d(第2部材720d)を嵌合させてその下面を接着するための嵌合溝325dが形成されており、中央板状部722dが嵌合溝325dに嵌合した状態で固定される。同様に、図30に示すとおり、台座400dの所定箇所の上面には、台座接続部732d(第3部材730d)を嵌合させてその下面を接着するための嵌合溝445dが形成されており、台座接続部732dが嵌合溝445dに嵌合した状態で固定される。
As shown in FIG. 29, a
なお、図31に示すとおり、ここに示す実施例の場合、嵌合溝325dの平面形状は第2部材720dの平面形状より若干大きくなるように設計されており、第2部材720dが嵌合溝325d内に余裕をもって嵌合する。一方、嵌合溝445dの平面形状は第3部材730dの平面形状に一致するように設計されており、第3部材730dが嵌合溝445d内にぴったり嵌合する形態になっている。もちろん、各嵌合溝325d,445dとそこに嵌合させる部材720d,730dとの平面形状の関係は、必ずしもこの実施例のようにする必要はない。いずれの場合も、溝内に余裕をもって嵌合させるように設計してもよいし、ぴったり嵌合させるように設計してもよい。
As shown in FIG. 31, in the embodiment shown here, the planar shape of the
これに対して、各嵌合溝325d,445dの深さとそこに嵌合させる部材720d,730dの厚みとの関係は、前者の寸法の方が後者の寸法よりも大きくなるように、すなわち、嵌合溝が部材の厚みより深くなるように設計するのが好ましい。これは、主センサ部品700dを破損から保護するための配慮である。主センサ部品700dは、たとえば、シリコン基板,圧電素子層,電極を含む部品であるため、重錘体300dや台座400dに比べて破損しやすい部品である。そこで、部材720d,730dが、嵌合溝325d,445dの内部に完全に埋め込まれるようにすれば、主センサ部品700dが何らかの別部材と接触して破損する可能性を低減することができる。
On the other hand, the relationship between the depth of the
図31に示す実施例の場合、嵌合溝325dの深さ寸法は、第2部材720dの厚み寸法よりも大きくなるように設定されているため、第2部材720dの上面は、中央重錘部320dの上面よりも下方(図の奥方向)に位置し、第2部材720dは重錘体300dの内部に完全に埋め込まれており、外部部材との接触から保護される状態になっている。同様に、嵌合溝445dの深さ寸法は、第3部材730dの厚み寸法よりも大きくなるように設定されているため、第3部材730dの上面(ボンディングパッドBを含めた上面)は、第4壁部440dの上面よりも下方(図の奥方向)に位置し、第3部材730dは台座400dの内部に完全に埋め込まれており、外部部材との接触から保護されている状態になっている。このような構成を採れば、過度の加速度が加わり、各部が大きく変位する事態が生じても、主センサ部品700dが何らかの別部材と接触して破損することを防止できる。
In the case of the embodiment shown in FIG. 31, the depth dimension of the
この第4の変形例Dに係る加速度センサASdの製造プロセスは、図17,図18に示す圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサASの製造プロセスとは異なり、各部品を相互に接着して組み立てる工程が必要になるが、板状橋梁部712dに連なる層をシリコンによって構成した場合でも、シリコン層およびその上面の圧電素子は、図28に示す主センサ部品700dの部分にのみ形成すれば足りる。したがって、シリコン基板およびその上面に形成される圧電素子の平面的なサイズを大幅に削減し、製造コストの低減を図ることができる。
Unlike the manufacturing process of the acceleration sensor AS according to the embodiment using the piezoelectric element shown in FIGS. 17 and 18, the manufacturing process of the acceleration sensor ASd according to the fourth modified example D is bonded to each other. However, even when the layer connected to the plate-
また、この第4の変形例Dの場合、図28に示すとおり、第1の長手方向軸L1に沿って配置された第1部材710d(板状橋梁部712d)と、第2の長手方向軸L2に沿って配置された第2部材720d(中央板状部722d)および第3の長手方向軸L3に沿って配置された第3部材730d(台座接続部732d)とは直交しているため、図26に示す接続角θ1〜θ4を90°にすることができる。したがって、第1の長手方向軸L1に関して左右対称な構造体を得ることができ、各座標軸方向成分の検出値から、他軸成分の干渉を容易に排除することができる。
In the case of the fourth modification D, as shown in FIG. 28, the
<<< §5. 本発明の基本概念 >>>
以上、§1〜§3において、圧電素子を用いた実施形態を説明し、更に§4において、いくつかの変形例を述べた。もちろん、本発明の変形例は§4で述べた変形例に限定されるものではなく、同様の作用効果を奏することができる範囲で、この他にも様々な変形例を実施することが可能である。
<<< §5. Basic concept of the present invention >>
As described above, in §1 to §3, embodiments using piezoelectric elements have been described, and in §4, some modified examples have been described. Of course, the modified example of the present invention is not limited to the modified example described in §4, and various other modified examples can be implemented as long as the same operational effects can be obtained. is there.
たとえば、これまで述べてきた基本的な実施形態やいくつかの変形例では、主センサ構造体MSSを3層構造体によって構成しているが、本発明を実施する上では、必ずしも3層構造体を用いる必要はない。たとえば、主センサ第2層200と主センサ第3層300とを融合させ、板状橋梁部と重錘体とをシリコン基板等で一体に形成するようにしてもかまわない。もちろん、板状橋梁部と重錘体と台座とをシリコンなどの同一材料で一体形成することもできる。
For example, in the basic embodiment and some modifications described so far, the main sensor structure MSS is constituted by a three-layer structure. However, in practicing the present invention, the three-layer structure is not necessarily used. There is no need to use. For example, the main sensor
また、これまでの例では、重錘体を構成する主センサ第3層300を、板状橋梁部より下方に配置しているが、板状橋梁部の下方から上方へと連なる重錘体を設けるようにしてもかまわない。
Further, in the examples so far, the main sensor
ここでは、これまで述べてきた基本的な実施形態および種々の変形例を踏まえて、本発明の基本概念を総括しておく。まず、図32に、本発明に係る加速度センサに用いられる主センサ構造体10の基本構造を示す。この主センサ構造体10は、図1に示す主センサ構造体MSSにおける主センサ第2層200と主センサ第3層300とを融合させた構造体であり、第1の長手方向軸(Y軸)に沿って、根端部(図の原点Oの位置)から先端部へと伸び、可撓性を有する板状橋梁部11と、この板状橋梁部11の先端部に接続された重錘体12,13,14と、を有している。
Here, the basic concept of the present invention will be summarized based on the basic embodiments and various modifications described so far. First, FIG. 32 shows a basic structure of the
ここで、板状橋梁部11の根端部は、台座40に支持固定される。図32には、台座40の実体は示されていないが、台座40は、装置筐体に固定された何らかの部材によって構成すればよい。あるいは、装置筐体の一部を台座として用いてもよい。図32に示す例では、重錘体は、3つの部分12,13,14によって構成され、平面形状が「コ」の字型の部材になっている。ここでは、この3つの部分を、中央重錘部12、左翼重錘部13、右翼重錘部14と呼ぶことにする。
Here, the root end portion of the plate-
重錘体は、図32に示す例のように、板状橋梁部11の先端部に直接接続する形態をとってもよいし、何らかの中間部材を介して間接的に接続する形態をとってもよい。また、左翼重錘部13と右翼重錘部14とを連結する中央重錘体12は必ずしも設ける必要はない。要するに、重錘体が、板状橋梁部11の第1の長手方向軸(Y軸)に関して左脇に位置する左翼重錘部13と、板状橋梁部11の第1の長手方向軸(Y軸)に関して右脇に位置する右翼重錘部14と、を有していればよい。
As shown in the example shown in FIG. 32, the weight body may be directly connected to the tip of the plate-
図32に示す例の場合、重錘体は、板状橋梁部11の先端部に接合されている中央重錘部12と、この中央重錘部12に接合されている左翼重錘部13および右翼重錘部14と、を有している。そして、中央重錘部12は、第1の長手方向軸(Y軸)に直交する第2の長手方向軸(X軸に平行なX′軸)に沿って伸び、第1の長手方向軸(Y軸)と第2の長手方向軸(X′軸)との交点近傍において、板状橋梁部11の先端部に接合されている。また、左翼重錘部13は、中央重錘部12の第1の長手方向軸(Y軸)に関して左側の部分に接合されており、右翼重錘部14は、中央重錘部12の第1の長手方向軸(Y軸)に関して右側部分に接合されている。
In the case of the example shown in FIG. 32, the weight body includes a
この図32に示す主センサ構造体10は、全体を同一材料からなる一体構造体として構成してもよいし、複数の部材を接合した複合体として構成してもかまわない。§1〜§4で述べた種々の実施例は、いずれも複数の部材を接合した複合体として、図32に示す主センサ構造体10に対応する構造体を構成した例である。
The entire
前述したとおり、検出感度を高めるためには、板状橋梁部11は、十分な可撓性が得られるように薄くするのが好ましく、重錘体は、十分な質量が得られるように厚くするのが好ましい。そこで図32に示す例では、板状橋梁部11の厚みに比べて重錘体12,13,14の厚みが大きく設定されており、第1の長手方向軸(Y軸)および第2の長手方向軸(X′軸)をそれぞれ水平面上の軸としたときに、中央重錘部12の側面の上部に板状橋梁部11の先端部が接合されており、重錘体12,13,14の重心が板状橋梁部11の下方に位置するようにしている(重心が板状橋梁部11の上方に位置する構造も理論的には可能であるが、製造工程が困難になる。)。
As described above, in order to increase detection sensitivity, the plate-
結局、図32に示す例の場合、第1の長手方向軸(Y軸)および第2の長手方向軸(X′軸)の双方を含む基準投影平面(XY平面)上に、板状橋梁部11、中央重錘部12、左翼重錘部13、右翼重錘部14をそれぞれ投影すると、板状橋梁部11の投影像が中央重錘部12の投影像の中央付近に接合され、板状橋梁部11の投影像と中央重錘部12の投影像とによってT字型図形が形成されることになる。また、第1の長手方向軸(Y軸)を中心軸として左右を定義すれば、左翼重錘部13の投影像が中央重錘部12の投影像の左端付近に接合され、右翼重錘部14の投影像が中央重錘部12の投影像の右端付近に接合されており、板状橋梁部11の投影像と、中央重錘部12の投影像と、左翼重錘部13の投影像と、右翼重錘部14の投影像と、によってE字型図形が形成されることになる。
After all, in the case of the example shown in FIG. 32, a plate-like bridge portion on the reference projection plane (XY plane) including both the first longitudinal axis (Y axis) and the second longitudinal axis (X ′ axis). 11, when the
本発明に係る加速度センサは、このような主センサ構造体10と、その板状橋梁部11の根端部を支持固定する台座40(装置筐体を台座として用いてもよい)と、板状橋梁部11の表面の所定位置に生じる伸縮応力を検出する検出素子と、この検出素子の検出結果に基づいて、重錘体に作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、を構成要素とするものである。
The acceleration sensor according to the present invention includes such a
このような主センサ構造体10では、根端部が支持された板状橋梁部11の先端部に重錘体が接合されるため、重錘体が片持ち梁構造で支持される。このため、従来型のダイアフラム部の周囲を装置筐体に固定するタイプのセンサのように、温度や実装方法などの利用環境によって検出結果に悪影響が及ぶことを避けることができる。また、重錘体は、板状橋梁部11の左脇と右脇とに配置されるため、板状橋梁部11に撓みを生じさせるための十分な質量を確保することができる。しかも、板状橋梁部11が、左右から重錘体によって保護される構造が採られるため、過度の加速度が加わった場合でも、板状橋梁部11が外部部材と接触して損傷を受けることを防ぐことができる。
In such a
図32には、板状橋梁部11の上面に4組の検出素子D1〜D4を配置した状態が示されている。検出素子D1〜D4は、板状橋梁部11の表面の所定位置に生じる伸縮応力を電気的に検出する機能をもった素子であれば、どのような素子を用いてもかまわない。これまでの実施例は、いずれも検出素子D1〜D4として圧電素子を用いたものであるが、後述する§6では、検出素子としてピエゾ抵抗素子を用いた実施形態を示す。
FIG. 32 shows a state where four sets of detection elements D1 to D4 are arranged on the upper surface of the plate-
圧電素子は、応力の作用により分極を生じる性質をもった検出素子であり、これまで述べてきた実施例では、このような性質を利用して、上層電極と下層電極とにそれぞれ電荷を発生させ、これを電圧に変換して検出を行うものであった。ただ、このような圧電素子による分極作用は、あくまでも動的な応力変化が加えられた場合に生じる過渡現象であり、同一の応力が定常的に加えられている静的状態では、上層電極および下層電極で発生した正負の電荷が結合してしまうため、検出用の電荷として取り出すことはできない。たとえば、地上で静止状態にある加速度センサには、常に重力加速度が作用しているが、検出素子として圧電素子を用いた場合、静止状態では検出用電荷が発生しないため、重力加速度を検出することはできない。したがって、これまで述べてきた圧電素子を用いた実施形態に係る加速度センサは、地震計やロボットアームなどの動的な変化が生じる環境での利用に適したセンサということになる。 Piezoelectric elements are sensing elements that have the property of causing polarization due to the action of stress. In the embodiments described so far, these properties are used to generate charges on the upper layer electrode and the lower layer electrode, respectively. This was converted into a voltage for detection. However, the polarization effect of such a piezoelectric element is a transient phenomenon that occurs only when a dynamic stress change is applied. In a static state where the same stress is constantly applied, the upper electrode and the lower layer Since positive and negative charges generated at the electrodes are combined, they cannot be taken out as detection charges. For example, gravitational acceleration is always acting on an acceleration sensor that is stationary on the ground, but when a piezoelectric element is used as the detection element, no detection charge is generated in the stationary state, so that the gravitational acceleration is detected. I can't. Therefore, the acceleration sensor according to the embodiment using the piezoelectric element described so far is a sensor suitable for use in an environment where a dynamic change occurs such as a seismometer or a robot arm.
これに対して、ピエゾ抵抗素子は、動的であれ静的であり、作用している応力に応じて電気抵抗が変化する性質をもった検出素子である。このため、検出素子としてピエゾ抵抗素子を用いた実施形態に係る加速度センサでは、重力加速度のような静的な加速度の検出も可能になる。このピエゾ抵抗素子を用いた実施形態については、§6で詳述する。このように、本発明に利用可能な検出素子には、それぞれ固有の特徴があるため、実際には、用途に応じて、適切な検出素子を選択するのが好ましい。 On the other hand, a piezoresistive element is a detecting element that is dynamic or static and has a property that electric resistance changes according to an applied stress. For this reason, the acceleration sensor according to the embodiment using a piezoresistive element as the detection element can also detect static acceleration such as gravitational acceleration. An embodiment using this piezoresistive element will be described in detail in Section 6. As described above, since the detection elements that can be used in the present invention have unique characteristics, it is actually preferable to select an appropriate detection element according to the application.
なお、検出素子は、図32に示すように、必ずしも4組を設ける必要はなく、その配置も図示の位置に限定されるものではない。たとえば、ある1軸方向に作用した加速度を検出できればよい1軸型加速度センサであれば、1組の検出素子のみを用いて構成することも可能である。ただ、複数組の検出素子を用いれば、それだけ正確な検出ができ、複数の軸方向成分の検出が可能になるため、実用上は、複数組の検出素子を設けるのが好ましい。図32に示す検出素子D1〜D4は、§1〜§4で述べた種々の実施例における4組の圧電素子P1〜P4に対応するものであり、前述したように、これらの実施例では、加速度の3つの座標軸方向成分αx,αy,αzを検出することができる。 In addition, as shown in FIG. 32, it is not always necessary to provide four sets of detection elements, and the arrangement thereof is not limited to the illustrated position. For example, a single-axis acceleration sensor that only needs to detect acceleration acting in a certain uniaxial direction can be configured using only one set of detection elements. However, if a plurality of sets of detection elements are used, more accurate detection can be performed and a plurality of axial components can be detected. Therefore, in practice, it is preferable to provide a plurality of sets of detection elements. The detection elements D1 to D4 shown in FIG. 32 correspond to the four sets of piezoelectric elements P1 to P4 in the various examples described in §1 to §4. As described above, in these examples, Three coordinate axis direction components αx, αy, αz of acceleration can be detected.
図33は、図32に示す主センサ構造体10を、主センサ検出層200と主センサ重錘層300との2層構造によって構成したものである。図32に示す主センサ構造体が一体構造体であるのに対して、図33に示す主センサ構造体は二層構造体であるが、外形上は全く同一の構造体であるため、ここでは、いずれも同一符号を用いて主センサ構造体10と呼ぶことにする。図33に示す主センサ構造体10は、図1に示す主センサ構造体MSSの一部の構造と全く同じ構造を有する。具体的には、図33に示す主センサ検出層200は、図1に示す主センサ第2層に対応し、図33に示す主センサ重錘層300は、図1に示す主センサ第3層に対応する。
FIG. 33 shows a structure in which the
本発明に係る加速度センサを、量産品として製造する上では、図33に示す例のように、主センサ構造体10を、主センサ検出層200と主センサ重錘層300との2層構造によって構成すると便利である。そうすれば、図3に示すような「E」字状の主センサ検出層200と、図4に示すような「コ」の字状の主センサ重錘層300と、を別個に構成し、両者を積層することにより主センサ構造体10を構成することができる。
When the acceleration sensor according to the present invention is manufactured as a mass-produced product, the
あるいは、図21に示すような積層材料ブロック1000を利用して主センサ構造体10に準じた構造体を形成する場合は、材料第1層1001および材料第2層1002に対しては「E」字状の主センサ検出層200を構成するためのマスクを用いたエッチングを行い、材料第3層1003に対しては「コ」の字状の主センサ重錘層300を構成するためのマスクを用いたエッチングを行えばよい。
Alternatively, when forming a structure conforming to the
図32および図33では、検出素子D1〜D4が、物理的な構造を特定しない概念的な素子として描かれているが、実際には、各検出素子D1〜D4は、物理的な構造物として具現化される。図1に示した実施例は、図33に示す例における検出素子D1〜D4を、圧電素子によって具現化した例であり、図1の主センサ第1層100が、図33の検出素子D1〜D4に相当する。実際の圧電素子は、下層電極と上層電極との間に圧電材料層を挟んだ立体構造を有しているため、図1に示す実施例では、図33に示す2層構造体の上面に、更に、検出素子D1〜D4として機能する主センサ第1層100を付加している。
In FIGS. 32 and 33, the detection elements D1 to D4 are depicted as conceptual elements that do not specify a physical structure, but in reality, each of the detection elements D1 to D4 is represented as a physical structure. Embodied. The embodiment shown in FIG. 1 is an example in which the detection elements D1 to D4 in the example shown in FIG. 33 are embodied by piezoelectric elements, and the main sensor
このように、図1に示した実施例における主センサ第1層100は、図33の検出素子D1〜D4を圧電素子によって具現化するために付加された構成要素であり、本発明の基本概念上は、必ずしも必要な構成要素ではない。たとえば、§6で述べるように、検出素子としてピエゾ抵抗素子を用いる実施形態の場合、図1に示す主センサ第1層100は不要になり、物理的な構造体としては、図1に示す主センサ第2層200(主センサ検出層)と主センサ第3層300(主センサ重錘層)との積層構造体と、板状橋梁部210の根端部を固定する台座400があれば十分である。この場合、ピエゾ抵抗素子は、板状橋梁部210の表層に埋め込まれた構造体として構成することができる。
As described above, the main sensor
§1では、主センサ第2層200における板状橋梁部210以外の部分を、重錘体支持部220,230,240と呼んでいる。この重錘体支持部220,230,240は、板状橋梁部210の先端部に接続されており、その下面には重錘体300が接続されている。その結果、重錘体300の重心Gが、板状橋梁部210の下方に位置する点は、既に述べたとおりである。
In §1, the portions other than the plate-
特に、図1に示す実施形態では、重錘体支持部として、第1の長手方向軸Yに直交する第2の長手方向軸X′に沿って伸びる中央板状部220が設けられており、板状橋梁部210の先端部を中央板状部220の中央近傍に接続し、板状橋梁部210および中央板状部220によりT字状構造体が形成されるようにしている。そして、左翼重錘部330を中央板状部220の左側の下面に接続し、右翼重錘部340を中央板状部220の右側の下面に接続する構造を採用している。
In particular, in the embodiment shown in FIG. 1, a central plate-
より具体的には、図1に示す実施形態の場合、重錘体支持部を、第1の長手方向軸Yに直交する第2の長手方向軸X′に沿って伸び、中央近傍が板状橋梁部210の先端部に接続された中央板状部220と、この中央板状部220の左側から板状橋梁部210の左脇に伸びる左翼板状部230と、中央板状部210の右側から板状橋梁部210の右脇に伸びる右翼板状部240と、によって構成しており、左翼重錘部330を左翼板状部230の下面に接続し、右翼重錘部340を右翼板状部240の下面に接続する構造を採用している。また、重錘体300には、左翼重錘部330と右翼重錘部340とを連結する中央重錘部320を設け、この中央重錘部320を中央板状部220の下面に接続するようにしている。
More specifically, in the case of the embodiment shown in FIG. 1, the weight support portion extends along the second longitudinal axis X ′ orthogonal to the first longitudinal axis Y, and the vicinity of the center is plate-shaped. A central plate-
このような構成を採用すると、板状橋梁部210の周囲を重錘体300によって「コ」の字状に覆うような構造が実現でき、また、重錘体300の重心Gを板状橋梁部210の下方の所定位置に置くことができる。そのため、重錘体300の変位に基づいて板状橋梁部210を効率的に撓ませることができる。また、重錘体300の周囲に何らかの変位制限壁を設けるようにすれば、重錘体300に対して過度の変位を生じさせる外力が作用した場合にも、重錘体300の変位を制限し、板状橋梁部210の破損を防止することができる。
By adopting such a configuration, it is possible to realize a structure in which the periphery of the plate-
実用上は、台座400を重錘体300の変位を制限する変位制限壁として利用するのが好ましい。たとえば、図17に示す実施形態の場合、板状橋梁部210および重錘体300を有する主センサ構造体MSSの周囲を取り囲む環状構造体をなす台座400を用いている。そうすることにより、加速度センサASに対して所定の大きさを超える加速度が作用した場合に、重錘体300の一部が環状構造体からなる台座400の一部に接触し、それ以上の変位を制限することができる。
Practically, it is preferable to use the
なお、図26に示すように、板状橋梁部210と中央板状部220とを直交させ、T字状構造体が形成されるようにすると、重錘体300に各座標軸方向の力が作用した場合、図13〜図15に示すように、板状橋梁部210の先端部の左右両側と根端部の左右両側とに応力集中が見られる。
As shown in FIG. 26, when the plate-
したがって、圧電素子としては、板状橋梁部210の先端部近傍の左側に配置された先端部左側圧電素子P1(上層電極E1の領域に形成される圧電素子)と、板状橋梁部210の先端部近傍の右側に配置された先端部右側圧電素子P2(上層電極E2の領域に形成される圧電素子)と、板状橋梁部210の根端部近傍の左側に配置された根端部左側圧電素子P3(上層電極E3の領域に形成される圧電素子)と、板状橋梁部210の根端部近傍の右側に配置された根端部右側圧電素子P4(上層電極E4の領域に形成される圧電素子)と、を設けるようにすると、効率的な検出が可能になる。
Therefore, as the piezoelectric elements, the left end piezoelectric element P1 (piezoelectric element formed in the region of the upper layer electrode E1) disposed on the left side in the vicinity of the front end of the plate-
また、圧電素子の具体的な構造は、図1に示されているように、板状橋梁部210の表面に層状に形成された下層電極E0と、下層電極E0の表面に層状に形成された圧電材料層105と、圧電材料層105の表面に局在的に形成された複数の上層電極E1〜E4からなる上層電極群と、を有する積層構造を採ればよい。ここで、圧電材料層105は、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有する材料を用いればよい。
Further, as shown in FIG. 1, the specific structure of the piezoelectric element was formed in a layered manner on the surface of the plate-
なお、図1に示す実施例の場合、圧電素子(主センサ第1層100)は、板状橋梁部210(主センサ第2層200)の上面に形成されているが、圧電素子は必ずしも板状橋梁部210の上面に形成する必要はなく、側面や下面に形成することも可能である。もちろん、上面と側面の両方に形成したり、上面,側面,下面のすべてに形成してもかまわない。板状橋梁部210の撓みは、上面だけでなく、側面や下面にも応力を発生させるので、側面や下面に形成された圧電素子によっても検出は可能である。
In the embodiment shown in FIG. 1, the piezoelectric element (main sensor first layer 100) is formed on the upper surface of the plate-like bridge portion 210 (main sensor second layer 200), but the piezoelectric element is not necessarily a plate. It is not necessary to form it on the upper surface of the bridge-
要するに、圧電素子は上面,側面,下面に関わらず、板状橋梁部210の表面に形成されていればよい。たとえば、板状橋梁部210の上面から側面へと連なるように下層電極E0を形成し、この下層電極E0の表面全域に圧電材料層105を形成し、この圧電材料層105の表面の所定箇所(板状橋梁部210の上方だけでなく側方も含めた所定箇所)に局在的に複数の上層電極を形成するようにすれば、板状橋梁部210の上面だけでなく側面にも圧電素子が形成されることになる。この場合、上面に形成された圧電素子だけでなく、側面に形成された圧電素子によっても検出が可能になる。
In short, the piezoelectric element may be formed on the surface of the plate-
ただ、板状橋梁部210の上面だけでなく、側面や下面にも圧電素子を形成するためには、複雑な工程が必要になるため、製造コストは高騰せざるを得ない。したがって、実用上は、これまで述べてきた圧電素子を用いた実施形態やその変形例に示すように、板状橋梁部210の上面に圧電素子を設ける構造を採用し、コスト低減を図るのが好ましい。特に、図21に示すような積層材料ブロック1000を用意し、これに対して所定の加工処理を施す量産プロセスを採る場合、圧電素子は板状橋梁部210の上面に形成せざるを得ない。
However, in order to form a piezoelectric element not only on the upper surface of the plate-
なお、図22に示す例のように、加速度センサASを装置筐体600内に収容して加速度検出装置を構成する場合には、加速度センサASの台座400を装置筐体600に固定し、装置筐体600に加速度が作用したときに、加速度センサASの重錘体300が板状橋梁部210の撓みによって装置筐体600内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路500からの出力を装置筐体600に作用した加速度の検出値とすればよい。
In the case where the acceleration sensor AS is accommodated in the
あるいは、図23に示す例のように、重錘体と台座の役割を逆転させる構成を採ることも可能である。この場合は、台座400′の底面よりも重錘体300′の底面の方が下方に位置する加速度センサAS′を用意し、この加速度センサAS′の重錘体300′を装置筐体600に固定し、装置筐体600を変位させる外力が作用したときに、加速度センサAS′の台座400′が板状橋梁部210の撓みによっ装置筐体600内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路500からの出力を装置筐体600に作用した加速度の検出値とすればよい。
Or it is also possible to take the structure which reverses the role of a weight body and a base like the example shown in FIG. In this case, an acceleration sensor AS ′ is prepared in which the bottom surface of the
もちろん、図28〜図31に示す実施例のように、いくつかの個別部品を組み立てる方法により、加速度センサASを構成することもできる。図28に示す主センサ部品700dの場合、長手方向軸L1に沿って伸びる板状橋梁部712dの根端部に、この長手方向軸L1に直交する長手方向軸L3に沿って伸びる台座接続部732dが接続されており、この台座接続部732dを台座400dに固定することにより、組み立てを行うことができるようにしている。
Of course, the acceleration sensor AS can also be configured by a method of assembling several individual parts, as in the embodiment shown in FIGS. In the case of the
<<< §6. ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態 >>>
§5でも述べたように、本発明の基本概念では、板状橋梁部の表面の所定位置に生じる伸縮応力を電気的に検出することができれば、検出素子としては、どのような素子を用いてもかまわない。これまでは、検出素子を、板状橋梁部の表面の伸縮変形が生じる所定位置に固定された複数の圧電素子によって構成し、検出回路が、これら複数の圧電素子のそれぞれに発生した電荷に基づいて加速度の検出値を出力する実施例を述べてきた。
<<< §6. Embodiment using a piezoresistive element >>
As described in §5, in the basic concept of the present invention, any element can be used as a detection element as long as the expansion and contraction stress generated at a predetermined position on the surface of the plate-like bridge portion can be electrically detected. It doesn't matter. Up to now, the detection element is composed of a plurality of piezoelectric elements fixed at predetermined positions where the surface of the plate-like bridge portion is stretched and deformed, and the detection circuit is based on the charges generated in each of the plurality of piezoelectric elements. Thus, an embodiment for outputting the detected acceleration value has been described.
ここでは、検出素子を、板状橋梁部の表面の伸縮変形が生じる所定位置に固定された複数のピエゾ抵抗素子によって構成し、検出回路が、これら複数のピエゾ抵抗素子のそれぞれの電気抵抗値に基づいて加速度の検出値を出力する実施例を述べることにする。ピエゾ抵抗素子は、作用している応力に応じて電気抵抗が変化する性質をもった検出素子であり、ピエゾ抵抗素子を検出素子として用いた加速度センサでは、重力加速度のような静的な加速度の検出も可能になる。ここでは、特に、板状橋梁部をシリコン基板によって構成し、各ピエゾ抵抗素子を、このシリコン基板からなる板状橋梁部の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって構成した例を述べる。 Here, the detection element is configured by a plurality of piezoresistive elements fixed at predetermined positions where the surface of the plate-like bridge portion is stretched and deformed, and the detection circuit has an electric resistance value of each of the plurality of piezoresistive elements. An embodiment for outputting the detected acceleration value based on the above will be described. A piezoresistive element is a detection element that has the property that its electrical resistance changes according to the applied stress, and an acceleration sensor using the piezoresistive element as a detection element has a static acceleration such as gravitational acceleration. Detection is also possible. Here, in particular, the plate-like bridge portion is constituted by a silicon substrate, and each piezoresistive element is constituted by a region in which p-type or n-type impurities are implanted into a part of the surface layer of the plate-like bridge portion made of this silicon substrate. An example will be described.
図33に示す主センサ構造体10は、既に述べたとおり、主センサ検出層200と、その下方に接合された主センサ重錘層300とを有しており、主センサ検出層200の所定箇所は、台座40によって支持固定される。図33には、概念的な検出素子D1〜D4が描かれているが、ここに示す実施形態の場合、各検出素子はそれぞれピエゾ抵抗素子によって構成されることになる。そして、主センサ検出層200の所定箇所の伸縮変形が、これら複数のピエゾ抵抗素子によって検出される。ここで述べる加速度センサには、これらピエゾ抵抗素子の電気抵抗値に基づいて、作用した加速度の検出値を出力する検出回路が備わっている。
As described above, the
主センサ検出層200は、図1に示す主センサ第2層200と同じ構造を有し、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の層である。図1に示すように、この主センサ検出層200は、Y軸上に配置され可撓性を有する板状橋梁部210と、主センサ重錘層300(主センサ第3層)を支持するための重錘体支持部(220,230,240)と、を有している。重錘体支持部の一部である中央板状部220は、「Y軸と交差しX軸に平行な軸であるX′軸」上に配置されている。
The main
板状橋梁部210は、根端部から先端部へとY軸に沿って伸び、中央板状部220はY軸と交差するようにX′軸に沿って伸び、中央板状部220のY軸と交差する部分近傍に板状橋梁部210の先端部が接続されており、板状橋梁部210と中央板状部220とのXY平面投影像はT字状をなす。
The plate-
一方、主センサ重錘層300は、図1において、主センサ第3層として示されている構成要素である。この主センサ重錘層300は、主センサ検出層200の重錘体支持部(220,230,240)の下面に接続されており、作用した加速度に基づいて板状橋梁部210に撓みを生じさせるのに十分な質量をもった重錘体として機能する。ここで、板状橋梁部210の両脇について、X座標値が負となる側を左脇、X座標値が正となる側を右脇と定義すると、主センサ重錘層300は、板状橋梁部210の左脇に位置する左翼重錘部330と右脇に位置する右翼重錘部340とを有している。
On the other hand, the main
図1に示すとおり、主センサ検出層200の重錘体支持部は、中央板状部220と、この中央板状部220の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部210の左脇に伸びる左翼板状部230と、中央板状部220の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部210の右脇に伸びる右翼板状部240とを有している。そして、左翼重錘部330が左翼板状部230の下面に接続され、右翼重錘部340が右翼板状部240の下面に接続されている。
As shown in FIG. 1, the weight body support portion of the main
また、主センサ重錘層300は、左翼重錘部330と右翼重錘部340とを連結する中央重錘部320を有し、この中央重錘部320は、中央板状部220の下面に接続されている。その結果、左翼重錘部330、右翼重錘部340および中央重錘部320を有する重錘体のXY平面投影像は「コ」の字状をなし、主センサ重錘層300を構成する構造体の重心は、板状橋梁部210の下方に位置する。
The main
このように、図33に示す主センサ構造体10は、図1に示す主センサ検出層200(主センサ第2層)と主センサ重錘層300(主センサ第3層)との2層を接合した構造を有し、YZ平面に関して面対称をなす。したがって、主センサ重錘層300を構成する構造体の重心は、板状橋梁部11の下方のYZ平面上に位置する。ここで、板状橋梁部11の根端部は、台座40によって支持固定され、重錘体として機能する主センサ重錘層300は、板状橋梁部11を用いた片持ち梁構造によって宙吊り状態になる。
As described above, the
この§6で述べる実施形態では、図33に示す検出素子D1〜D4として、ピエゾ抵抗素子を用いている。このピエゾ抵抗素子は、板状橋梁部11の所定箇所の表面に形成されており、当該形成部分に生じる伸縮応力を電気的に検出する役割を果たす。以下、このピエゾ抵抗素子の具体的な配置について説明する。
In the embodiment described in section 6, piezoresistive elements are used as the detection elements D1 to D4 shown in FIG. The piezoresistive element is formed on the surface of a predetermined portion of the plate-
図34は、図33に示す主センサ構造体10に、加速度のX軸方向成分αxの検出に利用するピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4を配置した状態を示す上面図である。図示のとおり、抵抗素子Rx1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、抵抗素子Rx2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、抵抗素子Rx3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、抵抗素子Rx4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置する。図33に示されている検出素子D1〜D4の配置は、これら抵抗素子Rx1〜Rx4の配置に対応するものである。
FIG. 34 is a top view showing a state in which the piezoresistive elements Rx1 to Rx4 used for detecting the X-axis direction component αx of acceleration are arranged in the
同様に、図35は、図33に示す主センサ構造体10に、加速度のY軸方向成分αyの検出に利用するピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4を配置した状態を示す上面図である。図示のとおり、抵抗素子Ry1〜Ry4の配置は、図33に示されている検出素子D1〜D4の配置とは若干異なっており、抵抗素子Ry1のXY平面への投影像は、X軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、抵抗素子Ry2のXY平面への投影像は、X軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、抵抗素子Ry3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、抵抗素子Ry4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置する。
Similarly, FIG. 35 is a top view showing a state in which piezoresistive elements Ry1 to Ry4 used for detecting the Y-axis direction component αy of acceleration are arranged in the
また、図36は、図33に示す主センサ構造体10に、加速度のZ軸方向成分αzの検出に利用するピエゾ抵抗素子Rz1〜Rz4を配置した状態を示す上面図である。図示のとおり、抵抗素子Rz1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、抵抗素子Rz2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、抵抗素子Rz3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、抵抗素子Rz4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部11の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置する。当該配置は、図34に示すピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4の配置と同様であり、図33に示されている検出素子D1〜D4の配置に対応するものである。
FIG. 36 is a top view showing a state where the piezoresistive elements Rz1 to Rz4 used for detecting the Z-axis direction component αz of acceleration are arranged in the
続いて、これら各ピエゾ抵抗素子を用いた加速度検出の原理を説明する。図37は、図33に示す主センサ構造体10に各座標軸方向の力が作用したときに、図34〜図36に示す各ピエゾ抵抗素子に生じる電気抵抗値の増減変化を示す表である。ここでは、各ピエゾ抵抗素子の長手方向に関する電気抵抗値を考えることにする。別言すれば、各ピエゾ抵抗素子には、その長手方向の両端に外部(検出回路500)への配線がなされ、長手方向に流れる電流についての電気抵抗値が検出されるものとする。また、ここでは、長手方向への伸長応力が加わると電気抵抗値が増加し、長手方向への圧縮応力が加わると電気抵抗値が減少するタイプのピエゾ抵抗素子が用いられている場合を例にとって示す。図37に示す表は、このような前提において、電気抵抗値が増加する場合を「+」、減少する場合を「−」で示すものである。
Next, the principle of acceleration detection using each of these piezoresistive elements will be described. FIG. 37 is a table showing an increase / decrease change in the electrical resistance value generated in each piezoresistive element shown in FIGS. 34 to 36 when a force in the direction of each coordinate axis acts on the
まず、重錘体として機能する主センサ重錘層300に対して、X軸正方向の力+Fxが作用した場合(装置筐体に加速度−αxが作用した場合)は、図37の表の左欄に示すような電気抵抗値の変化が生じる。すなわち、ピエゾ抵抗素子Rx1,Rx4の電気抵抗値は減少し、ピエゾ抵抗素子Rx2,Rx3の電気抵抗値は増加する。このような現象が生じることは、力+Fxが作用した場合、図8に示すような変形が生じ、ピエゾ抵抗素子Rx1,Rx4(図8におけるE1,E4に相当)には圧縮応力が作用し、ピエゾ抵抗素子Rx2,Rx3(図8におけるE2,E3に相当)には伸長応力が作用することを考慮すれば、容易に理解できよう。
First, when a force + Fx in the positive direction of the X-axis acts on the main
一方、重錘体として機能する主センサ重錘層300に対して、Y軸正方向の力+Fyが作用した場合(装置筐体に加速度−αyが作用した場合)は、図37の表の中央欄に示すような電気抵抗値の変化が生じる。すなわち、ピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2の電気抵抗値は増加し、ピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4の電気抵抗値は減少する。このような現象が生じることは、力+Fyが作用した場合、図9に示すような変形が生じ、板状橋梁部の上面に形成されているすべてのピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4に対して、Y軸方向についての圧縮応力が作用することを考慮すれば、容易に理解できよう。
On the other hand, when a force + Fy in the Y-axis positive direction acts on the main
すなわち、図35に示すとおり、ピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4は、Y軸方向に伸びる抵抗素子であるため、Y軸方向についての圧縮応力が作用すると、電気抵抗値は減少する。これに対して、ピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2は、Y軸に直交するX軸方向に伸びる抵抗素子であるため、Y軸方向についての圧縮応力が作用すると、電気抵抗値は増加する。この現象は、基本的には、Y軸方向についての圧縮応力によって、X軸方向についての伸長応力が生じる現象として把握することができるが、理論的には、結晶構造を有する抵抗物質についてのピエゾ抵抗効果によって説明することができる。 That is, as shown in FIG. 35, since the piezoresistive elements Ry3 and Ry4 are resistive elements that extend in the Y-axis direction, the electrical resistance value decreases when compressive stress is applied in the Y-axis direction. On the other hand, since the piezoresistive elements Ry1 and Ry2 are resistive elements that extend in the X-axis direction orthogonal to the Y-axis, the electrical resistance value increases when compressive stress is applied in the Y-axis direction. This phenomenon can be basically grasped as a phenomenon in which an elongation stress in the X-axis direction is generated by a compressive stress in the Y-axis direction. This can be explained by the resistance effect.
そして、重錘体として機能する主センサ重錘層300に対して、Z軸正方向の力+Fzが作用した場合(装置筐体に加速度−αzが作用した場合)は、図37の表の右欄に示すような電気抵抗値の変化が生じる。すなわち、ピエゾ抵抗素子Rz1,Rz2の電気抵抗値は増加し、ピエゾ抵抗素子Rz3,Rz4の電気抵抗値は減少する。このような現象が生じることは、力+Fzが作用した場合、図10に示すような変形が生じ、先端部に配置されたピエゾ抵抗素子Rz1,Rz2(図10におけるE2に相当)には伸長応力が作用し、根端部に配置されたピエゾ抵抗素子Rz3,Rz4(図10におけるE4に相当)には圧縮応力が作用することを考慮すれば、容易に理解できよう。
When the force + Fz in the positive Z-axis direction acts on the main
前述したとおり、この図37の表に示す結果は、長手方向への伸長応力が加わると電気抵抗値が増加し、長手方向への圧縮応力が加わると電気抵抗値が減少するタイプのピエゾ抵抗素子を用いた場合を示しており、逆に、伸長応力が加わると電気抵抗値が減少し、圧縮応力が加わると電気抵抗値が増加するタイプのピエゾ抵抗素子を用いた場合は、増減の関係が逆転する。 As described above, the results shown in the table of FIG. 37 show that the electrical resistance value increases when a longitudinal stress is applied, and the electrical resistance value decreases when a compressive stress is applied in the longitudinal direction. In contrast, when a piezoresistive element is used, the electrical resistance value decreases when tensile stress is applied and increases when compressive stress is applied. Reverse.
この図37の表に示す現象を考慮すると、検出回路500として、たとえば、図38(a) 〜(c) に示すようなホイートストンブリッジを利用した回路を用意しておけば、作用した加速度の各座標軸成分αx,αy,αzを検出することができる。すなわち、図34に示すように、ピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4を配置した実施例については、図38(a) に示す検出回路500Xを用意しておけば、X軸方向成分αxを検出することが可能になり、図35に示すように、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4を配置した実施例については、図38(b) に示す検出回路500Yを用意しておけば、Y軸方向成分αyを検出することが可能になり、図36に示すように、ピエゾ抵抗素子Rz1〜Rz4を配置した実施例については、図38(c) に示す検出回路500Zを用意しておけば、Z軸方向成分αzを検出することが可能になる。
Considering the phenomenon shown in the table of FIG. 37, if a circuit using a Wheatstone bridge as shown in FIGS. 38 (a) to (c) is prepared as the
図38(a) に示す検出回路500Xは、抵抗素子Rx1および抵抗素子Rx4を第1の対辺とし、抵抗素子Rx2および抵抗素子Rx3を第2の対辺とするX軸検出用ホイートストンブリッジと、このX軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx1,Rx2の接続点と抵抗素子Rx3,Rx4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源Eと、このX軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx2,Rx4の接続点と抵抗素子Rx1,Rx3の接続点との間の電位差を、作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値として出力する出力手段(図示の例の場合、αx検出用の出力端子Tx1,Tx2)と、を有している。
The
図37の表の左欄に示すように、加速度のX軸方向成分αxが作用すると、X軸検出用ホイートストンブリッジにおいて、第1の対辺を構成する抵抗素子Rx1,Rx4の抵抗値の増減の挙動は相互に同じになり、第2の対辺を構成する抵抗素子Rx2,Rx3の抵抗値の増減の挙動も相互に同じになる。その一方で、第1の対辺と第2の対辺とでは、増減の挙動は逆になっている。したがって、X軸検出用ホイートストンブリッジでは、X軸方向成分αxの絶対値に応じた大きさをもち、X軸方向成分αxの向きに応じた符号をもったブリッジ電圧が、出力端子Tx1,Tx2間に出力されることになり、当該ブリッジ電圧が、加速度のX軸方向成分αxを示す検出値となる。 As shown in the left column of the table of FIG. 37, when the X-axis direction component αx of acceleration acts, in the X-axis detection Wheatstone bridge, the behavior of increase / decrease in the resistance values of the resistance elements Rx1, Rx4 constituting the first opposite side Are the same with each other, and the behaviors of the resistance values of the resistance elements Rx2 and Rx3 constituting the second opposite side are also the same. On the other hand, the increase / decrease behavior is reversed between the first opposite side and the second opposite side. Therefore, in the Wheatstone bridge for X-axis detection, a bridge voltage having a magnitude corresponding to the absolute value of the X-axis direction component αx and having a sign corresponding to the direction of the X-axis direction component αx is between the output terminals Tx1 and Tx2. The bridge voltage becomes a detection value indicating the X-axis direction component αx of acceleration.
このとき、加速度のY軸方向成分αyが作用した場合は、全抵抗素子Rx1〜Rx4の抵抗値が同じように増減するため、ブリッジ回路は平衡状態を維持し、出力端子Tx1,Tx2間の出力は0になる。また、加速度のZ軸方向成分αzが作用した場合は、抵抗素子Rx1,Rx2の抵抗値の増減と、抵抗素子Rx3,Rx4の抵抗値の増減とが逆になるため、やはりブリッジ回路は平衡状態を維持し、出力端子Tx1,Tx2間の出力は0になる。かくして、出力端子Tx1,Tx2間に出力される検出値は、他軸成分の干渉を受けないX軸方向成分αxを示す正しい検出値になる。 At this time, when the Y-axis direction component αy of acceleration acts, the resistance values of all the resistance elements Rx1 to Rx4 increase and decrease in the same way, so that the bridge circuit maintains a balanced state and outputs between the output terminals Tx1 and Tx2. Becomes 0. When the acceleration Z-axis direction component αz is applied, the increase and decrease of the resistance values of the resistance elements Rx1 and Rx2 and the increase and decrease of the resistance values of the resistance elements Rx3 and Rx4 are reversed. And the output between the output terminals Tx1 and Tx2 becomes zero. Thus, the detection value output between the output terminals Tx1 and Tx2 is a correct detection value indicating the X-axis direction component αx that is not subject to interference from other axis components.
また、図38(b) に示す検出回路500Yは、抵抗素子Ry1および抵抗素子Ry2を第1の対辺とし、抵抗素子Ry3および抵抗素子Ry4を第2の対辺とするY軸検出用ホイートストンブリッジと、このY軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry1,Ry3の接続点と抵抗素子Ry2,Ry4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源Eと、このY軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry2,Ry3の接続点と抵抗素子Ry1,Ry4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値として出力する出力手段(図示の例の場合、αy検出用の出力端子Ty1,Ty2)と、を有している。
A
図37の表の中央欄に示すように、加速度のY軸方向成分αyが作用すると、Y軸検出用ホイートストンブリッジにおいて、第1の対辺を構成する抵抗素子Ry1,Ry2の抵抗値の増減の挙動は相互に同じになり、第2の対辺を構成する抵抗素子Ry3,Ry4の抵抗値の増減の挙動も相互に同じになる。その一方で、第1の対辺と第2の対辺とでは、増減の挙動は逆になっている。したがって、Y軸検出用ホイートストンブリッジでは、Y軸方向成分αyの絶対値に応じた大きさをもち、Y軸方向成分αyの向きに応じた符号をもったブリッジ電圧が、出力端子Ty1,Ty2間に出力されることになり、当該ブリッジ電圧が、加速度のY軸方向成分αyを示す検出値となる。 As shown in the middle column of the table of FIG. 37, when the Y-axis direction component αy of acceleration acts, in the Y-axis detection Wheatstone bridge, the behavior of increase / decrease in the resistance values of the resistance elements Ry1, Ry2 constituting the first opposite side Are the same as each other, and the behaviors of the resistance values of the resistance elements Ry3 and Ry4 constituting the second opposite side are also the same. On the other hand, the increase / decrease behavior is reversed between the first opposite side and the second opposite side. Therefore, in the Wheatstone bridge for Y-axis detection, a bridge voltage having a magnitude corresponding to the absolute value of the Y-axis direction component αy and having a sign corresponding to the direction of the Y-axis direction component αy is output between the output terminals Ty1 and Ty2. The bridge voltage is a detected value indicating the Y-axis direction component αy of acceleration.
このとき、加速度のX軸方向成分αxが作用した場合は、抵抗素子Ry1,Ry3の抵抗値の増減と、抵抗素子Ry2,Ry4の抵抗値の増減とが逆になるため、ブリッジ回路は平衡状態を維持し、出力端子Ty1,Ty2間の出力は0になる。また、加速度のZ軸方向成分αzが作用した場合は、全抵抗素子Ry1〜Ry4の抵抗値が同じように増減するため、やはりブリッジ回路は平衡状態を維持し、出力端子Ty1,Ty2間の出力は0になる。かくして、出力端子Ty1,Ty2間に出力される検出値は、他軸成分の干渉を受けないY軸方向成分αyを示す正しい検出値になる。 At this time, when the acceleration X-axis direction component αx acts, the increase and decrease of the resistance values of the resistance elements Ry1 and Ry3 and the increase and decrease of the resistance values of the resistance elements Ry2 and Ry4 are reversed. And the output between the output terminals Ty1 and Ty2 becomes zero. Further, when the acceleration Z-axis direction component αz acts, the resistance values of all the resistance elements Ry1 to Ry4 increase and decrease in the same way, so that the bridge circuit maintains the balanced state and outputs between the output terminals Ty1 and Ty2. Becomes 0. Thus, the detection value output between the output terminals Ty1 and Ty2 is a correct detection value indicating the Y-axis direction component αy that is not subject to interference from other axis components.
そして、図38(c) に示す検出回路500Zは、抵抗素子Rz1および抵抗素子Rz2を第1の対辺とし、抵抗素子Rz3および抵抗素子Rz4を第2の対辺とするZ軸検出用ホイートストンブリッジと、このZ軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz1,Rz3の接続点と抵抗素子Rz2,Rz4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源Eと、このZ軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz2,Rz3の接続点と抵抗素子Rz1,Rz4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値として出力する出力手段(図示の例の場合、αz検出用の出力端子Tz1,Tz2)と、を有している。 A detection circuit 500Z shown in FIG. 38 (c) includes a Z-axis detection Wheatstone bridge having the resistance element Rz1 and the resistance element Rz2 as the first opposite side, and the resistance element Rz3 and the resistance element Rz4 as the second opposite side; A bridge voltage power source E for applying a bridge voltage between a connection point of the resistance elements Rz1 and Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz2 and Rz4 in the Z-axis detection Wheatstone bridge, and a resistance element in the Z-axis detection Wheatstone bridge Output means for outputting the potential difference between the connection point of Rz2 and Rz3 and the connection point of the resistance elements Rz1 and Rz4 as a detection value of the Z-axis direction component αz of the applied acceleration (in the case of the illustrated example, for detecting αz Output terminals Tz1, Tz2).
図37の表の右欄に示すように、加速度のZ軸方向成分αzが作用すると、Z軸検出用ホイートストンブリッジにおいて、第1の対辺を構成する抵抗素子Rz1,Rz2の抵抗値の増減の挙動は相互に同じになり、第2の対辺を構成する抵抗素子Rz3,Rz4の抵抗値の増減の挙動も相互に同じになる。その一方で、第1の対辺と第2の対辺とでは、増減の挙動は逆になっている。したがって、Z軸検出用ホイートストンブリッジでは、Z軸方向成分αzの絶対値に応じた大きさをもち、Z軸方向成分αzの向きに応じた符号をもったブリッジ電圧が、出力端子Tz1,Tz2間に出力されることになり、当該ブリッジ電圧が、加速度のZ軸方向成分αzを示す検出値となる。 As shown in the right column of the table of FIG. 37, when the Z-axis direction component αz of the acceleration acts, the behavior of increase / decrease in the resistance value of the resistance elements Rz1, Rz2 constituting the first opposite side in the Z-axis detection Wheatstone bridge. Are the same as each other, and the behaviors of the resistance values of the resistance elements Rz3, Rz4 constituting the second opposite side are also the same. On the other hand, the increase / decrease behavior is reversed between the first opposite side and the second opposite side. Therefore, in the W-stone bridge for Z-axis detection, a bridge voltage having a magnitude corresponding to the absolute value of the Z-axis direction component αz and having a sign corresponding to the direction of the Z-axis direction component αz is output between the output terminals Tz1 and Tz2. The bridge voltage becomes a detection value indicating the Z-axis direction component αz of acceleration.
このとき、加速度のX軸方向成分αxが作用した場合は、抵抗素子Rz1,Rz4の抵抗値の増減と、抵抗素子Rz2,Rz3の抵抗値の増減とが逆になるため、ブリッジ回路は平衡状態を維持し、出力端子Tz1,Tz2間の出力は0になる。また、加速度のY軸方向成分αyが作用した場合は、全抵抗素子Rz1〜Rz4の抵抗値が同じように増減するため、やはりブリッジ回路は平衡状態を維持し、出力端子Tz1,Tz2間の出力は0になる。かくして、出力端子Tz1,Tz2間に出力される検出値は、他軸成分の干渉を受けないZ軸方向成分αzを示す正しい検出値になる。 At this time, when the acceleration X-axis direction component αx is applied, the increase and decrease of the resistance values of the resistance elements Rz1 and Rz4 and the increase and decrease of the resistance values of the resistance elements Rz2 and Rz3 are reversed. And the output between the output terminals Tz1 and Tz2 becomes zero. When the acceleration Y-axis direction component αy is applied, the resistance values of all the resistance elements Rz1 to Rz4 increase and decrease in the same manner, so that the bridge circuit maintains the balanced state and outputs between the output terminals Tz1 and Tz2. Becomes 0. Thus, the detection value output between the output terminals Tz1 and Tz2 is a correct detection value indicating the Z-axis direction component αz that is not subject to interference from other axis components.
このように、図38に示す検出回路はいずれもブリッジ電圧として検出値を出力する回路であるため、外部環境による影響を受けない正確な検出値を得ることができる。たとえば、センサ利用時の温度環境が変化すると、各ピエゾ抵抗素子の抵抗値の絶対値は温度の影響を受けて変化してしまう。しかしながら、ホイートストンブリッジにおけるブリッジ電圧として検出値を出力すれば、各ピエゾ抵抗素子の抵抗値の絶対値の変化は相互に相殺されるため、検出値に影響が及ぶことを避けることができる。また、上述したとおり、いずれの検出値も他軸成分の干渉を受けない正しい検出値になる。 As described above, since all of the detection circuits shown in FIG. 38 are circuits that output a detection value as a bridge voltage, an accurate detection value that is not affected by the external environment can be obtained. For example, when the temperature environment at the time of using the sensor changes, the absolute value of the resistance value of each piezoresistive element changes under the influence of temperature. However, if the detection value is output as a bridge voltage in the Wheatstone bridge, changes in the absolute value of the resistance value of each piezoresistive element cancel each other, so that it is possible to avoid affecting the detection value. Further, as described above, any detection value is a correct detection value that is not subject to interference from other axis components.
なお、図34に示す4組のピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4は、幅および長さを等しく設定することにより、加速度が作用していない状態において、すべて同一の電気抵抗値を示す素子として構成することができ、加速度が作用していない状態において、図38(a) の検出回路500Xからブリッジ電圧として出力される検出値を0にすることができる。図36に示す4組のピエゾ抵抗素子Rz1〜Rz4についても同様であり、加速度が作用していない状態において、図38(c) の検出回路500Zからブリッジ電圧として出力される検出値を0にすることができる。
Note that the four sets of piezoresistive elements Rx1 to Rx4 shown in FIG. 34 are all configured as elements having the same electrical resistance value when acceleration is not applied by setting the width and length to be equal. The detection value output as a bridge voltage from the
これに対して、図35に示す4組のピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4については、幅および長さを等しく設定することも可能ではあるが、板状橋梁部11は、Y軸に沿って伸びる細長い部材であるため、X軸に平行な方向に伸びるピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2の長さを、Y軸に平行な方向に伸びるピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4と同じ長さに設定することは、設計上、困難である。しかしながら、加速度が作用していない状態において、図38(b) の検出回路500Yからブリッジ電圧として出力される検出値を0にするためには、加速度が作用していない状態において、4組のピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4の電気抵抗値が等しくなるような設計を行うのが好ましい(調整用の抵抗素子をブリッジ回路に組み込むことも可能であるが、回路が複雑になる)。
On the other hand, for the four sets of piezoresistive elements Ry1 to Ry4 shown in FIG. 35, the width and the length can be set equal, but the plate-
そこで、実用上は、ピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4の長さをL、幅をWとした場合に、ピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2の長さをL/n、幅をW/nとする設計を行うのが好ましい。一般に抵抗の長さが1/nになるとその抵抗値は1/n倍になるが、幅が1/nになるとその抵抗値はn倍になるので、長さと幅で抵抗値の相違が相殺されることになり、ピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2の抵抗値をピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4の抵抗値に等しくすることができる。 Therefore, in practice, when the length of the piezoresistive elements Ry3 and Ry4 is L and the width is W, the length of the piezoresistive elements Ry1 and Ry2 is L / n and the width is W / n. Is preferred. Generally, when the length of the resistor becomes 1 / n, the resistance value becomes 1 / n times. However, when the width becomes 1 / n, the resistance value becomes n times, so the difference in resistance value between the length and width cancels. Thus, the resistance values of the piezoresistive elements Ry1 and Ry2 can be made equal to the resistance values of the piezoresistive elements Ry3 and Ry4.
あるいは、ピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2を、それぞれX軸に平行な方向に伸びる複数本の副抵抗素子によって構成し、これら副抵抗素子に対して直列接続するための配線を施して1本のピエゾ抵抗素子を構成するようにしてもかまわない。1本の副抵抗素子の長さはピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4の長さLに及ばなくても、これを複数本直列接続することにより、長さLのピエゾ抵抗素子と同等のふるまいが可能になる。 Alternatively, each of the piezoresistive elements Ry1 and Ry2 is constituted by a plurality of sub-resistive elements extending in a direction parallel to the X axis, and wiring for connecting in series to these sub-resistive elements is applied to provide one piezoresistor. You may make it comprise an element. Even if the length of one sub-resistive element does not reach the length L of the piezoresistive elements Ry3, Ry4, by connecting a plurality of the piezoresistive elements in series, a behavior equivalent to that of the piezoresistive element of length L is possible. Become.
以上述べたとおり、図34に示す実施例は、図38(a) に示す検出回路500Xと併用することにより、作用した加速度のX軸方向成分αxを検出可能な1軸加速度センサとして機能し、図35に示す実施例は、図38(b) に示す検出回路500Yと併用することにより、作用した加速度のY軸方向成分αyを検出可能な1軸加速度センサとして機能し、図36に示す実施例は、図38(c) に示す検出回路500Zと併用することにより、作用した加速度のZ軸方向成分αzを検出可能な1軸加速度センサとして機能する。
As described above, the embodiment shown in FIG. 34 functions as a single-axis acceleration sensor that can detect the X-axis direction component αx of the applied acceleration when used in combination with the
もちろん、板状橋梁部11に、αx検出用のピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4と、αy検出用のピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4と、αz検出用のピエゾ抵抗素子Rz1〜Rz4と、を形成し、図38に示す検出回路500X,500Y,500Zをすべて含む検出回路500を用意すれば、αx,αy,αzの3軸成分をすべて検出可能な3軸加速度センサを作成することもできる。
Of course, αx detecting piezoresistive elements Rx1 to Rx4, αy detecting piezoresistive elements Ry1 to Ry4, and αz detecting piezoresistive elements Rz1 to Rz4 are formed on the plate-
図39は、図32に示す主センサ構造体10(もちろん、図33に示す主センサ構造体10を用いてもかまわない。)に、3軸加速度成分αx,αy,αzを検出するためのピエゾ抵抗素子を配置した実施例を示す上面図である(台座40の部分は、固定状態を示すためにハッチングを施して示した)。この実施例では、板状橋梁部11の上面に合計12組のピエゾ抵抗素子を配置する必要があるため、個々のピエゾ抵抗素子の幅は細くせざるを得ないが、この図39に示す12組のピエゾ抵抗素子は、図34〜図36に示すピエゾ抵抗素子の集合体になっている。したがって、図38に示す検出回路500X,500Y,500Zによって、それぞれ加速度成分αx,αy,αzの検出値を出力することができる。
FIG. 39 shows a piezo for detecting the triaxial acceleration components αx, αy, αz in the
なお、図39に示す例のように、抵抗素子Rx1,Rx2,Rx3,Rx4は、それぞれ抵抗素子Rz1,Rz2,Rz3,Rz4よりも、板状橋梁部11における外側に配置するのが好ましい。これは、図15に示すとおり、力+Fzが作用したときの応力は、板状橋梁部の横幅全体に広がっているため、抵抗素子Rz1,Rz2,Rz3,Rz4を板状橋梁部の中央(Y軸に近い部分)に配置しても問題ないが、図13に示すとおり、力+Fxが作用したときの応力は、板状橋梁部の外側部分に集中するため、抵抗素子Rx1,Rx2,Rx3,Rx4は、板状橋梁部の外側に配置した方が好ましいためである。
As in the example shown in FIG. 39, it is preferable that the resistance elements Rx1, Rx2, Rx3, and Rx4 are arranged outside the plate-
図40は、図39に示す主センサ構造体10を切断線40−40に沿って切断した断面を示す側断面図である。板状橋梁部11は、根端部が原点Oの位置において台座40に支持固定され、Y軸方向に沿って先端部へと伸びている。この板状橋梁部11の先端部には、中央重錘部12が接合され、中央重錘部12には左翼重錘部13(図には現れていない)と右翼重錘部14とが接合されている。図には、板状橋梁部11の上層部分に、ピエゾ抵抗素子Rx1,Rx3の断面が示されている。
40 is a side cross-sectional view showing a cross section of the
図40に示す実施例の場合、一体構造体からなる主センサ構造体10がシリコン基板によって構成されており、その板状橋梁部11の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって、各ピエゾ抵抗素子が形成されている。p型の不純物を注入すると、伸長応力により抵抗値が増加し、圧縮応力により抵抗値が減少するタイプのピエゾ抵抗素子を形成することができ、n型の不純物を注入すると、伸長応力により抵抗値が減少し、圧縮応力により抵抗値が増加するタイプのピエゾ抵抗素子を形成することができる。
In the case of the embodiment shown in FIG. 40, the
もちろん、図33に示すような二層構造からなる主センサ構造体10を用いる場合は、主センサ検出層200をシリコン基板によって構成し、その板状橋梁部11の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって、各ピエゾ抵抗素子を形成すればよい。このようにピエゾ抵抗素子は、シリコン基板からなる板状橋梁部11の表層の一部に埋め込んだ形で形成することができるため、圧電素子を形成する実施例に比べて、加速度センサの物理的構造部の層構成は単純になる。
Of course, when the
<<< §7. ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態の変形例 >>>
最後に、§6で述べたピエゾ抵抗素子を用いた実施形態について、いくつかの変形例を述べておく。まず、図35では、ピエゾ抵抗素子Ry1,Ry2を板状橋梁部11の先端部近傍に配置し、ピエゾ抵抗素子Ry3,Ry4を板状橋梁部11の根端部近傍に配置した例を示した。そして、図39に示す実施例では、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4の配置として、図35の配置をそのまま踏襲している。しかしながら、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4の配置は必ずしも図35に示す例に限定されるものではない。
<<< §7. Modified example of embodiment using piezoresistive element >>
Finally, some modifications of the embodiment using the piezoresistive element described in §6 will be described. First, FIG. 35 shows an example in which the piezoresistive elements Ry1 and Ry2 are arranged in the vicinity of the tip end portion of the plate-
図14を参照すればわかるように、重錘体にY軸方向の力Fyが作用した場合は、板状橋梁部の上面全域にわたって、ほぼ均等な応力が発生する。したがって、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4は、必ずしも先端部近傍や根端部近傍に配置する必要はなく、板状橋梁部11の任意の位置に配置しても、検出感度に大きな差は生じない。要するに、ピエゾ抵抗素子Ry1およびRy2は、そのXY平面への投影像がX軸に平行な方向に伸びるように配置し、ピエゾ抵抗素子Ry3およびRy4は、そのXY平面への投影像が、Y軸に平行な方向に伸びるように配置すれば、配置の場所は、特に限定されない(但し、各検出値に他軸成分の干渉が生じないようにするためには、若干の配慮が必要である)。
As can be seen from FIG. 14, when a force Fy in the Y-axis direction acts on the weight body, a substantially uniform stress is generated over the entire upper surface of the plate-like bridge portion. Therefore, the piezoresistive elements Ry1 to Ry4 do not necessarily have to be arranged in the vicinity of the tip end portion or the root end portion, and even if they are arranged at arbitrary positions on the plate-
図41は、図39に示す実施例におけるピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4の配置を若干変更した例を示す上面図である。この例では、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4は、板状橋梁部11の長手方向に関する中央付近に配置されている。一方、板状橋梁部11の先端部近傍や根端部近傍には、ピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4およびRz1〜Rz4が配置されている。
FIG. 41 is a top view showing an example in which the arrangement of the piezoresistive elements Ry1 to Ry4 in the embodiment shown in FIG. 39 is slightly changed. In this example, the piezoresistive elements Ry <b> 1 to Ry <b> 4 are arranged near the center in the longitudinal direction of the plate-
図13および図15に示す応力分布図を参照すれば、ピエゾ抵抗素子Rx1〜Rx4,Rz1〜Rz4については、応力が集中する先端部近傍や根端部近傍に配置するのが好ましいことがわかる。これに対して、図14の応力分布図を参照すれば、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4については、先端部近傍や根端部近傍でなく、中央付近に配置しても、十分な検出感度が得られることがわかる。しかも、図13および図15に示す応力分布図の中央付近は、ほとんど応力が発生しない空白地帯になっているため、ピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4をこの中央付近に配置すれば、αxやαyといった他軸成分が、検出値αyとして誤検出されるおそれもない。 Referring to the stress distribution diagrams shown in FIG. 13 and FIG. 15, it is understood that the piezoresistive elements Rx1 to Rx4 and Rz1 to Rz4 are preferably arranged in the vicinity of the tip portion and the root end portion where the stress is concentrated. On the other hand, referring to the stress distribution diagram of FIG. 14, sufficient detection sensitivity can be obtained even if the piezoresistive elements Ry1 to Ry4 are arranged not in the vicinity of the tip or root but near the center. I understand that In addition, since the stress distribution diagrams shown in FIGS. 13 and 15 are in the vicinity of the center where there is almost no stress, if the piezoresistive elements Ry1 to Ry4 are arranged in the vicinity of the center, there are others such as αx and αy. There is no possibility that the axis component is erroneously detected as the detection value αy.
図41に示す実施例は、抵抗素子Rx1〜Rx4およびRz1〜Rz4で混雑している先端部近傍および根端部近傍を避け、空きスペースの多い中央付近にピエゾ抵抗素子Ry1〜Ry4を配置することにより、12組の抵抗素子を分散配置させた好ましい例と言える。このような分散配置を採れば、各ピエゾ抵抗素子の幅をより大きく設定することができるようになり、より高感度の検出が可能になる。 In the embodiment shown in FIG. 41, the piezoresistive elements Ry1 to Ry4 are arranged in the vicinity of the center where there is a lot of free space, avoiding the vicinity of the front end and the root end that are congested with the resistance elements Rx1 to Rx4 and Rz1 to Rz4. Thus, it can be said that this is a preferable example in which 12 sets of resistance elements are dispersedly arranged. By adopting such a distributed arrangement, the width of each piezoresistive element can be set larger, and detection with higher sensitivity becomes possible.
なお、板状橋梁部11をシリコン基板によって構成し、各ピエゾ抵抗素子を、このシリコン基板の表層の一部に注入した不純物領域によって構成する場合、各ピエゾ抵抗素子の電気抵抗値の増減の程度は、結晶方位に大きく依存することになる。特に、X軸方向に平行な方向に伸びる抵抗素子Ry1,Ry2は、その長手方向であるX軸ではなく、長手方向に直交するY軸方向に加わる伸縮応力に応じて電気抵抗値が増減する性質を呈する必要がある。この性質は、理論的には、結晶構造を有する抵抗物質についてのピエゾ抵抗効果によって説明することができるが、電気抵抗値の増減の程度は、結晶方位に大きく依存する。
In the case where the plate-
この§6で述べる形態を実施する上では、図33に示す主センサ検出層200を、面方位(100)に相当する面を上面および下面とするシリコン基板によって構成し、Y軸方向が、当該シリコン基板の結晶軸<100>の方向に一致するような設定を行うと、抵抗素子Ry1,Ry2をはじめとする各ピエゾ抵抗素子の電気抵抗値の増減の程度が最も大きくなることが確認できた。図32に示す一体構造型の主センサ構造体10をシリコン基板によって構成した場合も同様である。したがって、実用上は、上記結晶方位に応じた設定を行うのが好ましい。
In practicing the form described in §6, the main
以上、図32もしくは図33に示す主センサ構造体10を利用して、検出素子としてピエゾ抵抗素子を用いた実施形態を述べたが、もちろん、§4で述べた様々な変形例に係る主センサ構造体を利用して、ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態を実施することも可能である。
As described above, the embodiment using the piezoresistive element as the detection element using the
たとえば、§4−1,§4−2において変形例A,Bとして述べた図24や図25に示す主センサ構造体MSSa,MSSbを利用して、ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態を実施する場合、圧電素子を構成するための主センサ第1層100の構成要素(図に100番台の符号で示されている構成要素)は不要になり、主センサ第2層200(図に200番台の符号で示されている構成要素)をシリコン基板によって構成し、板状橋梁部210a,210bの上面の所定箇所に不純物を注入してピエゾ抵抗素子を形成すればよい。
For example, an embodiment using a piezoresistive element is implemented using the main sensor structures MSSa and MSSb shown in FIG. 24 and FIG. 25 described as modified examples A and B in §4-1 and 4-2. In this case, the constituent elements of the main sensor first layer 100 (constituent elements indicated by reference numerals in the figure) for constituting the piezoelectric element are not necessary, and the main sensor second layer 200 (in the figure, in the order of 200 series) is eliminated. The component indicated by the reference numeral) is formed of a silicon substrate, and impurities are injected into predetermined locations on the upper surfaces of the plate-
この場合、主センサ第2層200(図に200番台の符号で示されている構成要素)が主センサ検出層になり、主センサ第3層300(図に300番台の符号で示されている構成要素)が主センサ重錘層になる。そして、主センサ重錘層300のX軸正方向の端部が重錘体支持部(220a,230a,240aもしくは220b,230b,240b)のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、主センサ重錘層300のX軸負方向の端部が重錘体支持部のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、主センサ重錘層300のY軸正方向の端部が重錘体支持部のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、主センサ重錘層300のY軸負方向の端部が重錘体支持部のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出している構造が実現され、板状橋梁部210a,210bを破損から保護する効果が得られる。
In this case, the main sensor second layer 200 (components indicated by reference numerals in the 200th order in the figure) becomes the main sensor detection layer, and the main sensor third layer 300 (indicated by reference numerals in the 300th order in the figure). The component) becomes the main sensor weight layer. Then, the end in the X-axis positive direction of the main
図42は、§3において図17を参照して説明した加速度センサASにおける主センサ構造体MSSを、主センサ構造体800に置き換えることにより構成される変形例Eに係る加速度センサASeを示す上面図である(検出回路は図示省略)。ここで、主センサ構造体800は、これまで述べてきたように、検出素子としてピエゾ抵抗素子を用いた構造体であり、図示のとおり、板状橋梁部810,中央重錘部820,左翼重錘部830,右翼重錘部840を有している。この主センサ構造体800は、図32もしくは図33に示す主センサ構造体10に対応するものであり、図42に示す各構成要素810,820,830,840は、それぞれ図32もしくは図33に示す各構成要素11,12,13,14に対応する。
FIG. 42 is a top view showing an acceleration sensor ASe according to Modification E configured by replacing the main sensor structure MSS in the acceleration sensor AS described with reference to FIG. 17 in §3 with a
主センサ構造体800は、台座400eの内部に収容されている。板状橋梁部810の根端部は、原点Oの位置において台座400eによって支持固定されており、板状橋梁部810の先端部には、中央重錘部820が接合されている。また、中央重錘部820の左側には左翼重錘部830が接合され、中央重錘部820の右側には右翼重錘部840が接合されている。中央重錘部820,左翼重錘部830,右翼重錘部840は、重錘体として機能する。
The
図42には、便宜上、板状橋梁部810の上面に4組のピエゾ抵抗素子R1〜R4が配置されている状態が示されているが、実際には、加速度センサASeの検出機能に応じて、必要な数のピエゾ抵抗素子が必要な位置に配置される。たとえば、X軸方向成分αxを検出する1軸型センサの場合は、図34に示す抵抗素子Rx1〜Rx4が配置され、Y軸方向成分αyを検出する1軸型センサの場合は、図35に示す抵抗素子Ry1〜Ry4が配置され、Z軸方向成分αzを検出する1軸型センサの場合は、図36に示す抵抗素子Rz1〜Rz4が配置される。また、すべての成分を検出する3軸型センサの場合は、図39もしくは図41に示す12組の抵抗素子が配置される。
FIG. 42 shows a state in which four sets of piezoresistive elements R1 to R4 are arranged on the upper surface of the plate-
この図42に示す変形例Eの場合も、台座400eは、XY平面に沿って主センサ構造体800を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサASeに対して所定の大きさを超える加速度の水平方向成分が作用した場合に、重錘体(820,830,840)が環状構造体400eの内面に接触し、それ以上の変位が制限される。このため、板状橋梁部810を破損から保護する効果が得られる。
In the case of the modification E shown in FIG. 42, the
より具体的には、台座400eは、第1壁部410e、第2壁部420e、第3壁部430e、第4壁部440eなる4組の壁部を有する矩形状の方環状構造体をなしている。ここで、第1壁部410eは、主センサ構造体800に対してX軸負方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、第2壁部420eは、主センサ構造体800に対してX軸正方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、第3壁部430eは、主センサ構造体800に対してY軸正方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、第4壁部440eは、主センサ構造体800に対してY軸負方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成している。そして、板状橋梁部810の根端部は、第4壁部440eの内面に支持固定されている。
More specifically, the
§3では、図17に示す加速度センサASを、図18に示すような3層構造体によって構成する例を述べた。図42に示す変形例Eに係る加速度センサASeも、このような3層構造体を利用して構成すると、量産に適した製造プロセスを適用することができる。 In §3, an example is described in which the acceleration sensor AS shown in FIG. 17 is configured by a three-layer structure as shown in FIG. If the acceleration sensor ASe according to Modification E shown in FIG. 42 is also configured using such a three-layer structure, a manufacturing process suitable for mass production can be applied.
図43は、図42に示す加速度センサASeを切断線43−43に沿って切断した断面を示す正断面図である。図示のとおり、主センサ構造体800は、上から順に、構造体第1層801,構造体第2層802,構造体第3層803を積層した3層構造体からなる。一方、台座400eも、上から順に、台座第1層401e,台座第2層402e,台座第3層403eを積層した3層構造体からなる。
43 is a front cross-sectional view showing a cross section of the acceleration sensor ASe shown in FIG. 42 taken along the cutting line 43-43. As shown in the figure, the
ここで、構造体第1層801と台座第1層401eとは、Z軸に関して全く同じ位置に配置され、構造体第2層802と台座第2層402eとは、やはりZ軸に関して全く同じ位置に配置されている。これに対して、構造体第3層803と台座第3層403eとを比較すると、上面はZ軸に関して全く同じ位置に配置されているが、下面は、構造体第3層803の方が台座第3層403eよりも若干上方に位置している。これは、重錘体(中央重錘部820,左翼重錘部830,右翼重錘部840)を台座400eの底面より浮かして宙吊り状態にするためである。
Here, the structure
図示のとおり、左翼重錘部830の外側面と第1壁部410eの内面との間には所定寸法の空隙が確保されており、右翼重錘部840の外側面と第2壁部420eの内面との間にも所定寸法の空隙が確保されている。したがって、重錘体は、X軸方向に関して、これら空隙の寸法の範囲内でのみ変位可能となる。Y軸方向に関しても同様である。
As shown in the figure, a gap of a predetermined dimension is secured between the outer surface of the left
図43に示す例の場合、構造体第1層801および構造体第2層802の2層構造体によって、図33に示す主センサ検出層200が構成され、構造体第3層803によって主センサ重錘層300が構成されている。このため、たとえば、板状橋梁部810は、2層構造体によって構成されている。そして、台座第1層401eは板状橋梁部810の根端部において構造体第1層801に連なっており、台座第2層402eは板状橋梁部810の根端部において構造体第2層802に連なっている。
In the case of the example shown in FIG. 43, the main
このように、図示の例の場合、重錘体(中央重錘部820,左翼重錘部830,右翼重錘部840)は3層構造体によって構成されているが、加速度検出の原理上、重錘体は加速度に起因して生じた外力を板状橋梁部810の先端部に伝達させる役割を果たせばよいので、センサの動作上は、重錘体を3層構造体にする必要はない。同様に、板状橋梁部810は、上記外力を受けて撓みを生じる構造であればよいので、センサの動作上は、2層構造体にする必要はない。台座400eについても、同様であり、センサの動作上は、敢えて3層構造体にする必要はない。
Thus, in the case of the illustrated example, the weight body (the
それにもかかわらず、加速度センサASeの物理的構造部を、図43に示すような3層構造体にしているのは、専ら、製造プロセス上の理由によるものである。図において、構造体第1層801および台座第1層401eは、いずれも第1の材料からなり、同一の厚みを有する層であり、構造体第2層802および台座第2層402eは、いずれも第2の材料からなり、同一の厚みを有する層である。また、構造体第3層803および台座第3層403eは、いずれも第3の材料からなる。
Nevertheless, the reason why the physical structure of the acceleration sensor ASe is a three-layer structure as shown in FIG. 43 is solely due to the reason for the manufacturing process. In the figure, each of the structure
ここで、第1の材料のエッチング特性は、第2の材料のエッチング特性と異なり、第3の材料のエッチング特性は、第2の材料のエッチング特性と異なっている。なお、第1の材料と第3の材料とは同一の材料であってもかまわない。要するに、上方から第1の材料層をエッチングする際に、第2の材料層がエッチストッパとして機能し、下方から第3の材料層をエッチングする際に、第2の材料層がエッチストッパとして機能すればよい。そうすれば、図43に示す物理的構造体を、エッチングプロセスによって容易に形成することが可能になるので、製造工程を単純化して量産化を図ることができ、製造コストを低減させることができる。 Here, the etching characteristics of the first material are different from the etching characteristics of the second material, and the etching characteristics of the third material are different from the etching characteristics of the second material. Note that the first material and the third material may be the same material. In short, the second material layer functions as an etch stopper when etching the first material layer from above, and the second material layer functions as an etch stopper when etching the third material layer from below. do it. Then, the physical structure shown in FIG. 43 can be easily formed by an etching process, so that the manufacturing process can be simplified and mass production can be achieved, and the manufacturing cost can be reduced. .
図44は、図43に示す加速度センサASeを製造するための加工プロセスの一例を示す正断面図である。この加工プロセスでは、図43に示す加速度センサASeの主センサ構造体800および台座400eを構成する材料として、図44(a) に示す積層材料ブロック2000が用いられる。この積層材料ブロック2000は、上から順に、材料第1層2001、材料第2層2002、材料第3層2003を積層した3層からなる積層構造体である。図の破線は、台座400e、板状橋梁部810、そして重錘体820,830,840となるべき部分を示している。
44 is a front sectional view showing an example of a machining process for manufacturing the acceleration sensor ASe shown in FIG. In this machining process, a
前述したとおり、板状橋梁部810は、ピエゾ抵抗素子を形成する都合上、シリコン基板によって構成するのが好ましい。そこで、積層材料ブロック2000としては、SOI(Silicon On Insulator)基板を用いるのが最適である。たとえば、材料第1層2001としてn型シリコン層(活性層)、材料第2層2002として酸化シリコン膜(絶縁層)、材料第3層2003としてn型シリコン層(ベース層)が形成された3層構造を有するSOI基板を積層材料ブロック2000として用意すれば、次のような製造プロセスにより、図43に示す加速度センサASeの物理的構造部を製造することができる。
As described above, the plate-
まず、図44(b) に示すように、用意したSOI基板の材料第1層2001(n型シリコン層)の上面の所定領域(板状橋梁部810となる部分のピエゾ抵抗素子を配置すべき領域)に、p型不純物を注入することにより、ピエゾ抵抗素子を形成する。また、このピエゾ抵抗素子に対して必要な配線層を形成する。図の断面には、ピエゾ抵抗素子R1,R2が形成された状態が示されている。 First, as shown in FIG. 44 (b), a piezoresistive element in a predetermined region (a portion to become the plate-like bridge portion 810) on the upper surface of the material first layer 2001 (n-type silicon layer) of the prepared SOI substrate should be arranged. A piezoresistive element is formed by implanting a p-type impurity into the region. In addition, a necessary wiring layer is formed for the piezoresistive element. The cross section of the figure shows a state in which the piezoresistive elements R1 and R2 are formed.
続いて、図44(c) に示すように、材料第1層2001および材料第2層2002の加工対象領域Q1〜Q4の部分を除去する加工を行う。当該加工は、上方からの2段階のエッチングにより行うことができる。第1段階は、材料第1層2001(n型シリコン層)を除去するエッチングであり、材料第2層2002(酸化シリコン膜)がエッチストッパとして機能する。続く第2段階は、材料第2層2002(酸化シリコン膜)を除去するエッチングであり、材料第3層2003(n型シリコン層)がエッチストッパとして機能する。このように、各材料層のエッチング特性の違いを利用することにより、エッチングの深さを正確に制御することができる。
Subsequently, as shown in FIG. 44 (c), processing for removing the portions of the processing target regions Q1 to Q4 of the material
次に、図44(d) に示すように、、材料第3層2003の下面側の加工対象領域Q5(重錘体820〜840の下方空間を構成する領域)の部分を除去する加工を行う。当該加工は、下方から所定の深さ(たとえば、10μm程度)だけエッチングする加工により行うことができる。深さ10μm程度のエッチングであれば、一般的なフォトリソグラフィの方法を利用可能である。
Next, as shown in FIG. 44 (d), processing is performed to remove the portion of the processing target region Q5 (region constituting the lower space of the
そして最後に、図44(d) に示す構造体の下面側から、所定領域に対して、材料第3層2003を貫通するディープエッチングを行えば、図43の正断面図に示すような最終構造体が得られる。すなわち、材料第3層2003のうち、図44(d) に示す加工対象領域Q1,Q2,Q3,Q4の部分は、エッチングにより完全に除去され、上下に貫通する溝が形成される。一方、材料第3層2003のうち、板状橋梁部810の下方部分は、材料第2層2002(酸化シリコン膜)がエッチストッパとして機能するため、板状橋梁部810の部分は除去されずに残ることになる。ここでも、各材料層のエッチング特性の違いを利用することにより、エッチングの深さを正確に制御することができる。
Finally, if deep etching that penetrates the
このように、図43に示す加速度センサASeの構造体を製造する際に、図44(a) に示すようなSOI基板からなる積層材料ブロック2000を利用すれば、シリコンからなる材料第1層2001に不純物を注入することによりピエゾ抵抗素子を形成することができ、更に、上方からのエッチングや下方からのエッチングを行う際に、エッチング特性が異なる特定の材料層をエッチストッパとして利用することができるため、量産に適した効率的な製造プロセスが可能になる。
As described above, when the structure of the acceleration sensor ASe shown in FIG. 43 is manufactured, if the
なお、図44では、図43に示すピエゾ抵抗素子を用いた加速度センサASeの構造体を製造するための加工プロセスを例示したが、図18に示す圧電素子を用いた加速度センサASの構造体を製造するための加工プロセスも、これに準じた方法で実施することができる。具体的には、図21に示す積層材料ブロック1000における材料第2層1002および材料第3層1003からなる2層構造体を、図44に示す3層構造を有するSOI基板2000によって構成すればよい。
44 illustrates the processing process for manufacturing the structure of the acceleration sensor ASe using the piezoresistive element shown in FIG. 43, the structure of the acceleration sensor AS using the piezoelectric element shown in FIG. The manufacturing process for manufacturing can also be implemented by a method according to this. Specifically, the two-layer structure including the material second layer 1002 and the material
この場合、図44に示すSOI基板2000の材料第1層2001および材料第2層2002の2層部分が、図21に示す積層材料ブロック1000の材料第2層1002としての役割を果たし、図44に示すSOI基板2000の材料第3層2003の部分が、図21に示す積層材料ブロック1000の材料第3層1003としての役割を果たすことになり、エッチング特性が異なる特定の材料層をエッチングストッパとして利用することができる。もちろん、圧電素子を用いた加速度センサASでは、図21に示すとおり、圧電素子を構成するための材料第1層1001(上下の電極層と圧電材料層)を更に付加する必要があるが、SOI基板を用いれば、材料第2層1002の上層部分がシリコン層になるため、その上面に圧電素子を形成するための最適な環境が得られることになる。
In this case, the two layer portions of the material
もちろん、本発明に用いる主センサ構造体は、単一のシリコン基板に対して加工を施すことにより製造することもできるが、上述したように、図44に示す3層構造をもったSOI基板を利用した製造方法を採用すれば、製造工程を単純化して量産化を図ることができ、製造コストを低減することができるようになる。SOI基板の各層の厚みについては、特に制約はないが、ここに示す実施例の場合、材料第1層2001の厚みが5〜30μm、材料第2層2002の厚みが1μm、材料第3層2003の厚みが300μmのSOI基板を用いている。また、材料第1層2001の上面に対して、深さ0.5μm程度までp型不純物を注入することによって、ピエゾ抵抗素子を構成している。
Of course, the main sensor structure used in the present invention can be manufactured by processing a single silicon substrate. However, as described above, an SOI substrate having the three-layer structure shown in FIG. If the manufacturing method used is adopted, the manufacturing process can be simplified to achieve mass production, and the manufacturing cost can be reduced. The thickness of each layer of the SOI substrate is not particularly limited, but in the example shown here, the thickness of the material
ここで、材料第1層2001の厚みは、板状橋梁部810の厚みを定めるものであり、センサの感度を左右する重要なパラメータになる。材料第1層2001の厚みを5μmに設定すると高感度センサが実現でき、30μmに設定すると低感度センサが実現できる。一方、材料第3層2003の厚みは、重錘体の厚みを定めるものであり、やはり、センサの感度を左右する重要なパラメータになる。重錘体を厚くすれば、それだけ質量が増加するため、センサの感度は高くなる。
Here, the thickness of the
また、図42に示す重錘体の長さU(Y軸方向の寸法)もセンサ感度を左右するパラメータになる。長さUを長くするほど、重錘体の質量が増加するため、センサの感度は高くなる。ただ、本願発明者が行った実験によると、重錘体の長さUとセンサ感度との関係には、座標軸に依存した相違があることが確認できた。 Also, the length U (dimension in the Y-axis direction) of the weight body shown in FIG. 42 is a parameter that affects the sensor sensitivity. As the length U is increased, the mass of the weight body increases, and thus the sensitivity of the sensor increases. However, according to an experiment conducted by the present inventor, it was confirmed that there is a difference depending on the coordinate axis in the relationship between the length U of the weight body and the sensor sensitivity.
図45は、図42に示す加速度センサASeにおける重錘体の長さUと各座標軸についての主軸方向感度(加速度の各座標軸方向成分の検出感度)との関係を示すグラフである。図示のとおり、Y軸の検出感度については、重錘体長Uと主軸方向感度との間に線形関係がみられ、長さUに比例して、主軸方向感度も直線的に増加してゆく。ところが、X軸およびZ軸の検出感度については、重錘体長Uと主軸方向感度との間に二次曲線に近い関係がみられ、長さUの2乗にほぼ比例して、主軸方向感度が増加してゆく。 FIG. 45 is a graph showing the relationship between the length U of the weight body in the acceleration sensor ASe shown in FIG. 42 and the principal axis direction sensitivity (detection sensitivity of each coordinate axis direction component of acceleration) for each coordinate axis. As shown in the figure, with respect to the detection sensitivity of the Y axis, a linear relationship is observed between the weight body length U and the sensitivity in the main axis direction, and the main axis direction sensitivity increases linearly in proportion to the length U. However, regarding the detection sensitivity of the X-axis and the Z-axis, a relationship close to a quadratic curve is seen between the weight body length U and the main-axis direction sensitivity, and the main-axis direction sensitivity is almost proportional to the square of the length U. Will increase.
この図45のグラフに示す実験結果は、検出素子としてピエゾ抵抗素子を用いた加速度センサに限らず、圧電素子を用いた加速度センサにおいても確認できた。加速度の各座標軸方向成分αx,αy,αzを検出することができる3軸型の加速度センサの場合、各座標軸についての検出感度ができるだけ等しくなるような設計を行うのが好ましい。図45に示す実験結果を踏まえれば、重錘体の厚みや長さUを調整することにより、3軸の検出感度を任意に調整できることがわかる。したがって、実際に加速度センサを試作する際には、重錘体の厚みや長さUのバリエーションをいろいろと試し、3軸の検出感度をできるだけ均一にする設計を行うようにするのが好ましい。 The experimental results shown in the graph of FIG. 45 were confirmed not only in an acceleration sensor using a piezoresistive element as a detection element but also in an acceleration sensor using a piezoelectric element. In the case of a triaxial type acceleration sensor that can detect the coordinate axis direction components αx, αy, and αz of acceleration, it is preferable to design so that the detection sensitivities for the coordinate axes are as equal as possible. Based on the experimental results shown in FIG. 45, it can be seen that the detection sensitivity of the three axes can be arbitrarily adjusted by adjusting the thickness and length U of the weight body. Therefore, when actually making a prototype of an acceleration sensor, it is preferable to test various variations of the weight and length U of the weight body and to design the triaxial detection sensitivity as uniform as possible.
なお、図43に示す例では、構造体第1層801および構造体第2層802の2層構造体を、図33に示す主センサ検出層200として取り扱い、構造体第3層803を主センサ重錘層300として取り扱っているため、板状橋梁部810が、2層構造体によって構成されているが、構造体第2層802を、主センサ重錘層300の一部として取り扱ってもよい。この場合、構造体第1層801によって主センサ検出層200が構成され、構造体第2層802および構造体第3層803によって主センサ重錘層300が構成されることになる。したがって、板状橋梁部810は、構造体第1層801によってのみ構成される単一層構造体になり、台座第1層401eは板状橋梁部810の根端部において、この構造体第1層801に連なることになる。
In the example shown in FIG. 43, the two-layer structure of the structure
もちろん、ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態について、§4−3で変形例Cとして述べた図27に示す変則的な構造を有する主センサ構造体を採用することも可能である。 Of course, it is also possible to adopt the main sensor structure having the irregular structure shown in FIG. 27 described as the modification C in §4-3 for the embodiment using the piezoresistive element.
同様に、ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態について、§4−4で変形例Dとして述べた図28〜図31に示す独立した主センサ部品を用いた主センサ構造体を採用することも可能である。この場合、主センサ検出層の一部として、板状橋梁部の根端部に接続された台座接続部を更に設け、当該台座接続部は、Y軸と交差しX軸に平行な所定の配置軸上に配置され、当該配置軸に沿って伸びる構造とし、台座の所定箇所の上面には、台座接続部を嵌合するための嵌合溝を形成し、台座接続部を嵌合溝に嵌合した状態で固定すればよい。 Similarly, with respect to the embodiment using the piezoresistive element, it is also possible to adopt the main sensor structure using the independent main sensor parts shown in FIGS. 28 to 31 described as the modified example D in §4-4. is there. In this case, a pedestal connection portion connected to the root end portion of the plate-like bridge portion is further provided as a part of the main sensor detection layer, and the pedestal connection portion has a predetermined arrangement that intersects the Y axis and is parallel to the X axis It is arranged on the shaft and has a structure extending along the arrangement axis, and a fitting groove for fitting the pedestal connection portion is formed on the upper surface of a predetermined position of the pedestal, and the pedestal connection portion is fitted into the fitting groove. What is necessary is just to fix in the state which joined.
また、ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態に係る加速度センサを、図22に示すような形態で装置筐体600に収容して加速度検出装置を構成することも可能である。この場合、当該加速度センサの台座を装置筐体600に固定し、装置筐体600に加速度が作用したときに、加速度センサの主センサ重錘層が板状橋梁部の撓みによって装置筐体600内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体600に作用した加速度の検出値とすることになる。§3で述べたとおり、装置筐体600は、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度成分が作用した場合に、当該変位を制限する役割を果たすことになる。
Further, the acceleration sensor according to the embodiment using the piezoresistive element can be accommodated in the
同様に、ピエゾ抵抗素子を用いた実施形態に係る加速度センサを、図23に示すような形態で装置筐体600に収容して加速度検出装置を構成することも可能である。この場合、当該加速度センサの主センサ重錘層を装置筐体600に固定し、装置筐体600に加速度が作用したときに、加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって装置筐体600内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を装置筐体600に作用した加速度の検出値とすることになる。この場合も、装置筐体600は、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度成分が作用した場合に、当該変位を制限する役割を果たすことになる。
Similarly, the acceleration sensor according to the embodiment using the piezoresistive element can be accommodated in the
10:主センサ構造体
11:板状橋梁部
12:中央重錘部(重錘体)
13:左翼重錘部(重錘体)
14:右翼重錘部(重錘体)
40:台座
100:主センサ第1層
105:圧電材料層
110:橋梁部圧電層
120:中央圧電層
130:左翼圧電層
140:右翼圧電層
200:主センサ第2層/(主センサ検出層)
210,210a,210b,210c:板状橋梁部
220,220a,220b,220c:中央板状部(重錘体支持部)
230,230a,230b,230c:左翼板状部(重錘体支持部)
240,240a,240b,240c:右翼板状部(重錘体支持部)
300,300d:主センサ第3層(重錘体)/(主センサ重錘層)
310,310d:空洞部
320,320a,320d:中央重錘部(重錘体)
325d:嵌合溝
330,330a,330b,330d:左翼重錘部(重錘体)
340,340a,340b,340d:右翼重錘部(重錘体)
400,400d,400e:台座
401,401e:台座第1層
402,402e:台座第2層
403,403e:台座第3層
410,410d,410e:第1壁部
420,420d,420e:第2壁部
430,430d,430e:第3壁部
440,440d,440e:第4壁部
445d:嵌合溝
500,500X,500Y,500Z:検出回路
501〜505:チャージアンプ
511〜513:アナログ演算器
600:装置筐体
610:土台基板
620:上蓋基板
630:側壁板
700d:主センサ部品
710d:第1部材
711d:橋梁部圧電層
712d:板状橋梁部
720d:第2部材
721d:中央圧電層
722d:中央板状部
730d:第3部材
731d:接続部圧電層
732d:台座接続部
800:主センサ構造体
801:構造体第1層
802:構造体第2層
803:構造体第3層
810:板状橋梁部
820:中央重錘部(重錘体)
830:左翼重錘部(重錘体)
840:右翼重錘部(重錘体)
1000:積層材料ブロック
1001:材料第1層
1002:材料第2層
1003:材料第3層
2000:積層材料ブロック(SOI基板)
2001:材料第1層
2002:材料第2層
2003:材料第3層
AS,AS′,ASd,ASe:加速度センサ
B:ボンディングパッド
D1〜D4:検出素子
d1〜d10:各部の実寸法
d11〜d18:空隙寸法
d19:各部の実寸法
E:ブリッジ電圧電源
E0:下層電極
E1:先端部左側上層電極
E2:先端部右側上層電極
E3:根端部左側上層電極
E4:根端部右側上層電極
E5:参照用上層電極
Fx:X軸方向の力
Fy:Y軸方向の力
Fz:Z軸方向の力
G,Ga,Gb:重錘体の重心
H,H′:各部分の境界線
k:補正係数
L1,L2,L3:長手方向軸
L1′:長手方向軸
MSS:主センサ構造体
MSSa:主センサ構造体
MSSb:主センサ構造体
MSSd:主センサ構造体
O:XYZ三次元座標系の原点(根端部)
P1:先端部左側圧電素子(局在圧電素子)
P2:先端部右側圧電素子(局在圧電素子)
P3:根端部左側圧電素子(局在圧電素子)
P4:根端部右側圧電素子(局在圧電素子)
P5:参照用圧電素子(局在圧電素子)
Q1〜Q5:加工対象領域
R1〜R4:ピエゾ抵抗素子
Rx1〜Rx4:ピエゾ抵抗素子(αx検出用)
Ry1〜Ry4:ピエゾ抵抗素子(αy検出用)
Rz1〜Rz4:ピエゾ抵抗素子(αz検出用)
T,T′:先端点(先端部)
Tx,Tx1,Tx2:出力端子(αx検出用)
Ty,Ty1,Ty2:出力端子(αy検出用)
Tz,Tz1,Tz2:出力端子(αz検出用)
U:重錘体の長さ
V1〜V5:電圧
X:XYZ三次元座標系の座標軸
X′:X軸に平行な軸
Y:XYZ三次元座標系の座標軸
Z:XYZ三次元座標系の座標軸
ZL:電力供給を受ける機器の負荷
θ1〜θ4:板状橋梁部の接続角
αx:加速度のX軸方向成分
αy:加速度のY軸方向成分
αz:加速度のZ軸方向成分
10: Main sensor structure 11: Plate-like bridge part 12: Central weight part (weight body)
13: Left wing weight (weight body)
14: Right wing weight (weight)
40: Base 100: Main sensor first layer 105: Piezoelectric material layer 110: Bridge portion piezoelectric layer 120: Central piezoelectric layer 130: Left wing piezoelectric layer 140: Right wing piezoelectric layer 200: Main sensor second layer / (main sensor detection layer)
210, 210a, 210b, 210c: plate-
230, 230a, 230b, 230c: Left wing plate-like part (weight body support part)
240, 240a, 240b, 240c: right wing plate-like part (weight body support part)
300, 300d: main sensor third layer (weight body) / (main sensor weight layer)
310, 310d:
325d: fitting
340, 340a, 340b, 340d: right wing weight part (weight body)
400, 400d, 400e:
830: Left wing weight (weight)
840: Right wing weight (weight)
1000: laminated material block 1001: material first layer 1002: material second layer 1003: material third layer 2000: laminated material block (SOI substrate)
2001: Material first layer 2002: Material second layer 2003: Material third layer AS, AS ′, ASd, ASe: Acceleration sensor B: Bonding pads D1 to D4: Detection elements d1 to d10: Actual dimensions d11 to d18 of each part : Gap size d19: actual size E of each part: bridge voltage power supply E0: lower layer electrode E1: tip left upper layer electrode E2: tip right upper layer electrode E3: root end left upper layer electrode E4: root end right upper layer electrode E5: Reference upper layer electrode Fx: force in the X-axis direction Fy: force in the Y-axis direction Fz: force in the Z-axis direction G, Ga, Gb: center of gravity H of the weight body, H ': boundary line k of each part: correction coefficient L1, L2, L3: Longitudinal axis L1 ′: Longitudinal axis MSS: Main sensor structure MSSa: Main sensor structure MSSb: Main sensor structure MSSd: Main sensor structure O: Origin of the XYZ three-dimensional coordinate system (root edge)
P1: Tip left side piezoelectric element (localized piezoelectric element)
P2: Right end piezoelectric element at the tip (localized piezoelectric element)
P3: Root end left side piezoelectric element (localized piezoelectric element)
P4: Root end right side piezoelectric element (localized piezoelectric element)
P5: Reference piezoelectric element (localized piezoelectric element)
Q1 to Q5: Process target areas R1 to R4: Piezoresistive elements Rx1 to Rx4: Piezoresistive elements (for detecting αx)
Ry1 to Ry4: Piezoresistive elements (for αy detection)
Rz1 to Rz4: Piezoresistive elements (for detecting αz)
T, T ': Tip point (tip part)
Tx, Tx1, Tx2: Output terminal (for detecting αx)
Ty, Ty1, Ty2: Output terminal (for detecting αy)
Tz, Tz1, Tz2: Output terminal (for detecting αz)
U: weight length V1 to V5: voltage X: coordinate axis X ′ of XYZ three-dimensional coordinate system X: axis parallel to X axis Y: coordinate axis of XYZ three-dimensional coordinate system Z: coordinate axis ZL of XYZ three-dimensional coordinate system : Load of equipment to which power is supplied θ1 to θ4: Connection angle αx of plate-shaped bridge portion αx: X-axis direction component of acceleration αy: Y-axis direction component of acceleration αz: Z-axis direction component of acceleration
Claims (60)
前記板状橋梁部の根端部を支持固定する台座と、
前記板状橋梁部の先端部に直接もしくは間接的に接続された重錘体と、
前記板状橋梁部の表面の所定位置に生じる伸縮応力を検出する検出素子と、
前記検出素子の検出結果に基づいて、前記重錘体に作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、
を備え、
前記重錘体は、前記板状橋梁部の前記第1の長手方向軸に関して左脇に位置する左翼重錘部と、前記板状橋梁部の前記第1の長手方向軸に関して右脇に位置する右翼重錘部と、を有していることを特徴とする加速度センサ。 A plate-like bridge portion extending along the first longitudinal axis and having flexibility;
A pedestal for supporting and fixing a root end portion of the plate-like bridge portion;
A weight body directly or indirectly connected to the tip of the plate-like bridge portion;
A detection element for detecting a stretching stress generated at a predetermined position on the surface of the plate-like bridge portion;
A detection circuit that outputs a detection value of acceleration acting on the weight body based on a detection result of the detection element;
With
The weight body is located on the left side with respect to the first longitudinal axis of the plate bridge portion and the left wing weight portion located on the left side with respect to the first longitudinal axis of the plate bridge portion. An acceleration sensor, comprising: a right wing weight portion;
板状橋梁部の先端部に重錘体支持部が接続されており、前記重錘体支持部の下面に重錘体が接続されており、前記重錘体の重心が板状橋梁部の下方に位置していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 1,
A weight body support portion is connected to the tip of the plate-like bridge portion, a weight body is connected to the lower surface of the weight body support portion, and the center of gravity of the weight body is below the plate-like bridge portion. An acceleration sensor characterized by being located in
重錘体支持部が、第1の長手方向軸に直交する第2の長手方向軸に沿って伸びる中央板状部を有し、板状橋梁部の先端部が前記中央板状部の中央近傍に接続されており、前記板状橋梁部および前記中央板状部によりT字状構造体が形成され、
左翼重錘部が前記中央板状部の左側の下面に接続されており、右翼重錘部が前記中央板状部の右側の下面に接続されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 2,
The weight support portion has a central plate-like portion extending along a second longitudinal axis perpendicular to the first longitudinal axis, and the tip of the plate-like bridge portion is near the center of the central plate-like portion And a T-shaped structure is formed by the plate-like bridge portion and the central plate-like portion,
An acceleration sensor, wherein a left wing weight portion is connected to a lower surface on the left side of the central plate-shaped portion, and a right wing weight portion is connected to a lower surface on the right side of the central plate-shaped portion.
重錘体支持部が、
第1の長手方向軸に直交する第2の長手方向軸に沿って伸び、中央近傍が板状橋梁部の先端部に接続された中央板状部と、
前記中央板状部の左側から板状橋梁部の左脇に伸びる左翼板状部と、
前記中央板状部の右側から板状橋梁部の右脇に伸びる右翼板状部と、
を有し、
左翼重錘部が前記左翼板状部の下面に接続されており、右翼重錘部が前記右翼板状部の下面に接続されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 2,
The weight support part
A central plate-like portion extending along a second longitudinal axis perpendicular to the first longitudinal axis and having a central vicinity connected to the tip of the plate-like bridge portion;
A left wing plate-like portion extending from the left side of the central plate-like portion to the left side of the plate-like bridge portion;
A right wing plate-like portion extending from the right side of the central plate-like portion to the right side of the plate-like bridge portion;
Have
An acceleration sensor, wherein a left wing weight portion is connected to a lower surface of the left wing plate-like portion, and a right wing weight portion is connected to a lower surface of the right wing plate-like portion.
重錘体が、左翼重錘部と右翼重錘部とを連結する中央重錘部を有し、前記中央重錘部が中央板状部の下面に接続されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 3 or 4,
An acceleration sensor, wherein the weight body has a central weight portion that connects the left wing weight portion and the right wing weight portion, and the central weight portion is connected to a lower surface of the central plate-like portion. .
重錘体が、板状橋梁部に接合されている中央重錘部と、前記中央重錘部に接合されている左翼重錘部と、前記中央重錘部に接合されている右翼重錘部と、を有し、
前記中央重錘部は、第1の長手方向軸に直交する第2の長手方向軸に沿って伸び、前記第1の長手方向軸と前記第2の長手方向軸との交点近傍において、前記板状橋梁部の先端部に接合されており、
前記左翼重錘部は、前記中央重錘部の前記第1の長手方向軸に関して左側部分に接合されており、
前記右翼重錘部は、前記中央重錘部の前記第1の長手方向軸に関して右側部分に接合されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 1,
A central weight part joined to the plate-like bridge part, a left wing weight part joined to the central weight part, and a right wing weight part joined to the central weight part. And having
The central weight portion extends along a second longitudinal axis orthogonal to the first longitudinal axis, and the plate is near an intersection of the first longitudinal axis and the second longitudinal axis. Is joined to the tip of the bridge
The left wing weight portion is joined to the left portion with respect to the first longitudinal axis of the central weight portion;
The acceleration sensor according to claim 1, wherein the right wing weight portion is joined to a right portion with respect to the first longitudinal axis of the central weight portion.
板状橋梁部の厚みに比べて重錘体の厚みが大きく設定されており、第1の長手方向軸および第2の長手方向軸をそれぞれ水平面上の軸としたときに、中央重錘部の側面の上部に板状橋梁部の先端部が接合されており、前記重錘体の重心が前記板状橋梁部の下方に位置していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 6, wherein
The thickness of the weight body is set larger than the thickness of the plate-like bridge portion, and when the first longitudinal axis and the second longitudinal axis are axes on the horizontal plane, An acceleration sensor, wherein a tip of a plate-like bridge portion is joined to an upper portion of a side surface, and a center of gravity of the weight body is located below the plate-like bridge portion.
第1の長手方向軸および第2の長手方向軸の双方を含む基準投影平面上に、板状橋梁部、中央重錘部、左翼重錘部、右翼重錘部をそれぞれ投影したときに、
板状橋梁部の投影像が中央重錘部の投影像の中央付近に接合され、前記板状橋梁部の投影像と前記中央重錘部の投影像とによってT字型図形が形成され、
左翼重錘部の投影像が中央重錘部の投影像の左端付近に接合され、右翼重錘部の投影像が中央重錘部の投影像の右端付近に接合され、前記板状橋梁部の投影像と、前記中央重錘部の投影像と、前記左翼重錘部の投影像と、前記右翼重錘部の投影像と、によってE字型図形が形成されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 6 or 7,
When projecting the plate-like bridge part, the central weight part, the left wing weight part, and the right wing weight part on the reference projection plane including both the first longitudinal axis and the second longitudinal axis,
The projection image of the plate-like bridge portion is joined near the center of the projection image of the central weight portion, and the T-shaped figure is formed by the projection image of the plate-like bridge portion and the projection image of the central weight portion,
The projection image of the left wing weight part is joined near the left end of the projection image of the central weight part, the projection image of the right wing weight part is joined near the right end of the projection image of the center weight part, and the plate bridge part An acceleration is characterized in that an E-shaped figure is formed by the projected image, the projected image of the central weight portion, the projected image of the left wing weight portion, and the projected image of the right wing weight portion. Sensor.
板状橋梁部の根端部に第1の長手方向軸に直交する第3の長手方向軸に沿って伸びる台座接続部が接続されており、この台座接続部が台座に固定されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 1 to 8,
A pedestal connection portion extending along a third longitudinal axis orthogonal to the first longitudinal axis is connected to the root end portion of the plate-like bridge portion, and this pedestal connection portion is fixed to the pedestal. Acceleration sensor featuring.
台座が、板状橋梁部および重錘体の周囲を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度が作用した場合に、重錘体の一部が前記環状構造体の一部に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 1 to 9,
The pedestal forms an annular structure surrounding the plate-shaped bridge portion and the weight body, and when an acceleration exceeding a predetermined size is applied to the acceleration sensor, a part of the weight body is the annular structure body. An acceleration sensor characterized in that it is in contact with a part of the sensor and further displacement is limited.
検出素子が、板状橋梁部の表面の伸縮変形が生じる所定位置に固定された複数の圧電素子によって構成されており、
検出回路が、前記複数の圧電素子のそれぞれに発生した電荷に基づいて加速度の検出値を出力することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 1 to 10,
The detection element is composed of a plurality of piezoelectric elements fixed at predetermined positions at which expansion and contraction of the surface of the plate-like bridge portion occurs.
An acceleration sensor, wherein the detection circuit outputs an acceleration detection value based on the electric charges generated in each of the plurality of piezoelectric elements.
検出素子が、板状橋梁部の先端部近傍の左側に配置された先端部左側圧電素子と、板状橋梁部の先端部近傍の右側に配置された先端部右側圧電素子と、板状橋梁部の根端部近傍の左側に配置された根端部左側圧電素子と、板状橋梁部の根端部近傍の右側に配置された根端部右側圧電素子と、を有することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 11, wherein
The detection element is a left end piezoelectric element disposed on the left side near the front end of the plate-like bridge part, a right end piezoelectric element located on the right side near the front end of the plate-like bridge part, and the plate-like bridge part Acceleration comprising: a root end left side piezoelectric element disposed on the left side near the root end part of the plate; and a root end right side piezoelectric element disposed on the right side near the root end part of the plate-like bridge portion. Sensor.
複数の圧電素子が、板状橋梁部の表面に層状に形成された下層電極と、前記下層電極の表面に層状に形成された圧電材料層と、前記圧電材料層の表面に局在的に形成された複数の上層電極からなる上層電極群と、を有し、前記圧電材料層は、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 11 or 12,
A plurality of piezoelectric elements are locally formed on the surface of the piezoelectric material layer, the lower layer electrode formed in layers on the surface of the plate-like bridge portion, the piezoelectric material layer formed in layers on the surface of the lower layer electrode, and And an upper electrode group composed of a plurality of upper electrode electrodes, wherein the piezoelectric material layer has a property of causing polarization in the thickness direction by the action of stress that expands and contracts in the layer direction.
検出素子が、板状橋梁部の表面の伸縮変形が生じる所定位置に固定された複数のピエゾ抵抗素子によって構成されており、
検出回路が、前記複数のピエゾ抵抗素子のそれぞれの電気抵抗値に基づいて加速度の検出値を出力することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 1 to 10,
The detection element is composed of a plurality of piezoresistive elements fixed at predetermined positions at which expansion and contraction of the surface of the plate-like bridge portion occurs.
An acceleration sensor, wherein the detection circuit outputs an acceleration detection value based on each electric resistance value of the plurality of piezoresistive elements.
板状橋梁部が、シリコン基板によって構成され、各ピエゾ抵抗素子が、前記板状橋梁部の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって構成されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 14, wherein
The plate-like bridge portion is constituted by a silicon substrate, and each piezoresistive element is constituted by a region in which p-type or n-type impurities are implanted into a part of the surface layer of the plate-like bridge portion. Acceleration sensor.
前記加速度センサの台座を前記装置筐体に固定し、前記装置筐体に加速度が作用したときに、前記加速度センサの重錘体が板状橋梁部の撓みによって前記装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を前記装置筐体に作用した加速度の検出値とすることを特徴とする加速度検出装置。 In the acceleration detection apparatus comprising the acceleration sensor according to any one of claims 1 to 15 and a device housing that houses the acceleration sensor,
The pedestal of the acceleration sensor is fixed to the device housing, and when the acceleration acts on the device housing, the weight body of the acceleration sensor is displaced in the device housing by the bending of the plate-like bridge portion. An acceleration detection device characterized in that an output from a detection circuit corresponding to the displacement is used as a detection value of acceleration applied to the device housing.
前記加速度センサの重錘体を前記装置筐体に固定し、前記装置筐体に加速度が作用したときに、前記加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって前記装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を前記装置筐体に作用した加速度の検出値とすることを特徴とする加速度検出装置。 In the acceleration detection apparatus comprising the acceleration sensor according to any one of claims 1 to 15 and a device housing that houses the acceleration sensor,
The weight body of the acceleration sensor is fixed to the device housing, and when acceleration acts on the device housing, the pedestal of the acceleration sensor is displaced in the device housing due to the bending of the plate-like bridge portion. An acceleration detection device characterized in that an output from a detection circuit corresponding to the displacement is used as a detection value of acceleration applied to the device housing.
XY平面を水平面にとり、Z軸正方向を上方向、Z軸負方向を下方向にとった場合に、上から順に主センサ第1層、主センサ第2層、主センサ第3層を積層した主センサ構造体と、
前記主センサ構造体の所定箇所を支持固定する台座と、
前記主センサ構造体が発生させた電荷に基づいて、作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、
を備え、
前記主センサ第2層は、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の層であり、Y軸上に配置され可撓性を有する板状橋梁部と、前記主センサ第3層を支持するための重錘体支持部と、を有し、
前記重錘体支持部は、「Y軸と交差しX軸に平行な軸であるX′軸」上に配置された中央板状部を有し、
前記板状橋梁部は根端部から先端部へとY軸に沿って伸び、前記中央板状部はY軸と交差するように前記X′軸に沿って伸び、前記中央板状部のY軸と交差する部分近傍に前記板状橋梁部の先端部が接続されており、前記板状橋梁部と前記中央板状部とのXY平面投影像はT字状をなし、
前記主センサ第1層は、前記主センサ第2層の前記板状橋梁部の上面の少なくとも一部分を覆うように形成された圧電素子を有し、
前記主センサ第3層は、前記主センサ第2層の前記重錘体支持部の下面に接続されており、作用した加速度に基づいて前記板状橋梁部に撓みを生じさせるのに十分な質量をもった重錘体として機能し、
前記板状橋梁部の両脇について、X座標値が負となる側を左脇、X座標値が正となる側を右脇と定義したときに、前記主センサ第3層は、前記板状橋梁部の左脇に位置する左翼重錘部と右脇に位置する右翼重錘部とを有しており、
前記台座は、前記板状橋梁部の前記根端部を支持固定し、
前記検出回路は、前記圧電素子に発生した電荷に基づいて加速度の検出値を出力する回路であることを特徴とする加速度センサ。 An acceleration sensor that detects acceleration acting in a predetermined coordinate axis direction in an XYZ three-dimensional coordinate system,
The main sensor first layer, the main sensor second layer, and the main sensor third layer are stacked in order from the top when the XY plane is a horizontal plane, the Z-axis positive direction is the upward direction, and the Z-axis negative direction is the downward direction. A main sensor structure;
A base for supporting and fixing a predetermined portion of the main sensor structure;
A detection circuit for outputting a detection value of the applied acceleration based on the charge generated by the main sensor structure;
With
The second layer of the main sensor is a flat layer disposed along a plane parallel to the XY plane, the plate-shaped bridge portion having flexibility on the Y axis, and the third layer of the main sensor. A weight body support part for supporting
The weight support portion has a central plate-like portion disposed on the “X ′ axis that is an axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis”,
The plate-like bridge portion extends along the Y-axis from the root end portion to the tip portion, and the central plate-like portion extends along the X′-axis so as to intersect the Y-axis. An end portion of the plate-like bridge portion is connected in the vicinity of a portion intersecting the axis, and an XY plane projection image of the plate-like bridge portion and the central plate-like portion has a T shape,
The main sensor first layer has a piezoelectric element formed so as to cover at least a part of the upper surface of the plate-like bridge portion of the main sensor second layer,
The main sensor third layer is connected to the lower surface of the weight support portion of the main sensor second layer, and has a mass sufficient to cause the plate-like bridge portion to bend based on the applied acceleration. It functions as a weight body with
When the side where the X coordinate value is negative is defined as the left side and the side where the X coordinate value is positive is defined as the right side on both sides of the plate-like bridge portion, the third layer of the main sensor is the plate shape It has a left wing weight part located on the left side of the bridge part and a right wing weight part located on the right side,
The pedestal supports and fixes the root end portion of the plate-like bridge portion,
The acceleration sensor according to claim 1, wherein the detection circuit is a circuit that outputs a detection value of acceleration based on a charge generated in the piezoelectric element.
主センサ第2層の重錘体支持部が、中央板状部の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の左脇に伸びる左翼板状部と、中央板状部の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の右脇に伸びる右翼板状部と、を更に有し、
左翼重錘部が前記左翼板状部の下面に接続されており、右翼重錘部が前記右翼板状部の下面に接続されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 18,
The weight support part of the second layer of the main sensor has a left wing plate-like portion extending from the left side of the central plate-like portion to the left side of the plate-like bridge portion along the direction parallel to the Y axis, and the right side of the central plate-like portion. A right wing plate-like portion extending to the right side of the plate-like bridge portion along a direction parallel to the Y-axis,
An acceleration sensor, wherein a left wing weight portion is connected to a lower surface of the left wing plate-like portion, and a right wing weight portion is connected to a lower surface of the right wing plate-like portion.
主センサ第3層が、左翼重錘部と右翼重錘部とを連結する中央重錘部を有し、前記中央重錘部が中央板状部の下面に接続されており、前記左翼重錘部、前記右翼重錘部および前記中央重錘部を有する重錘体のXY平面投影像が「コ」の字状をなすことを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 18 or 19,
The third layer of the main sensor has a central weight portion that connects the left wing weight portion and the right wing weight portion, and the central weight portion is connected to the lower surface of the central plate-shaped portion, and the left wing weight An acceleration sensor, wherein an XY plane projection image of a weight body having a portion, the right wing weight portion, and the central weight portion has a “U” shape.
主センサ第3層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方に位置していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 18 to 20,
An acceleration sensor characterized in that the center of gravity of the structure constituting the third layer of the main sensor is located below the plate-like bridge portion.
主センサ構造体が、YZ平面に関して面対称をなし、主センサ第3層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方のYZ平面上に位置していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 18 to 21,
An acceleration sensor characterized in that the main sensor structure is plane-symmetric with respect to the YZ plane, and the center of gravity of the structure constituting the third layer of the main sensor is located on the YZ plane below the plate-like bridge portion. .
主センサ第1層のXY平面投影像と主センサ第2層のXY平面投影像とが同一形状であり、主センサ第1層の下面の全領域が主センサ第2層の上面の全領域に接合されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 18 to 22,
The XY plane projection image of the main sensor first layer and the XY plane projection image of the main sensor second layer have the same shape, and the entire area of the lower surface of the main sensor first layer is the entire area of the upper surface of the main sensor second layer. An acceleration sensor characterized by being joined.
主センサ第3層のX軸正方向の端部が重錘体支持部のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、主センサ第3層のX軸負方向の端部が重錘体支持部のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、主センサ第3層のY軸正方向の端部が重錘体支持部のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、主センサ第3層のY軸負方向の端部が重錘体支持部のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 18 to 23,
The end of the main sensor third layer in the X-axis positive direction protrudes in the X-axis positive direction from the end of the weight support portion in the X-axis positive direction, and the end of the main sensor third layer in the X-axis negative direction The portion protrudes in the negative X-axis direction from the end in the negative X-axis direction of the weight support part, and the positive Y-axis end of the third layer of the main sensor is the positive Y-axis direction of the weight support part The end of the main sensor third layer protrudes in the Y-axis negative direction from the end of the weight support portion in the Y-axis negative direction. An acceleration sensor.
主センサ第1層が、板状橋梁部の表面に層状に形成された下層電極と、前記下層電極の表面に層状に形成された圧電材料層と、前記圧電材料層の表面に局在的に形成された複数の上層電極からなる上層電極群と、を有する圧電素子を構成し、
前記圧電材料層が、層方向に伸縮する応力の作用により、厚み方向に分極を生じる性質を有し、
検出回路が、前記上層電極と前記下層電極との間の電位差に基づいて加速度の検出値を出力する回路であることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 18 to 24,
The main sensor first layer is locally formed on the surface of the plate-like bridge portion, the lower layer electrode formed in a layer shape, the piezoelectric material layer formed in a layer shape on the surface of the lower layer electrode, and the surface of the piezoelectric material layer An upper layer electrode group composed of a plurality of upper layer electrodes formed,
The piezoelectric material layer has the property of causing polarization in the thickness direction by the action of stress that expands and contracts in the layer direction,
An acceleration sensor, wherein the detection circuit is a circuit that outputs a detection value of acceleration based on a potential difference between the upper layer electrode and the lower layer electrode.
上層電極群が、先端部左側上層電極と、先端部右側上層電極と、根端部左側上層電極と、根端部右側上層電極と、を有し、
前記先端部左側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
前記先端部右側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
前記根端部左側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
前記根端部右側上層電極の主センサ第2層上面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 25,
The upper layer electrode group includes a tip left upper layer electrode, a tip right upper layer electrode, a root left upper layer electrode, and a root right upper layer electrode.
The projected image of the upper left electrode of the tip portion on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip portion of the plate-like bridge portion is negative,
The projection image of the upper right electrode on the right side of the tip portion on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value in the vicinity of the tip portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projected image of the upper left electrode of the root end portion on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis and is located on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative. ,
The projected image of the upper right electrode of the root end portion on the upper surface of the second layer of the main sensor extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value in the vicinity of the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive. An acceleration sensor characterized by that.
検出回路が、下層電極の電位を基準電位として、先端部左側上層電極の電圧をV1,先端部右側上層電極の電圧をV2,根端部左側上層電極の電圧をV3,根端部右側上層電極の電圧をV4としたときに、
作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値を、「電圧V1,V4の和」と「電圧V2,V3の和」との差に基づいて出力し、
作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値を、電圧V1,V2,V3,V4の和に基づいて出力し、
作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値を、「電圧V1,V2の和」と「電圧V3,V4の和」との差に基づいて出力することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 26.
The detection circuit uses the lower layer electrode potential as a reference potential, the tip left upper layer electrode voltage is V1, the tip right upper layer electrode voltage is V2, the root left upper electrode voltage is V3, the root right upper layer electrode is V3 When the voltage of V4 is V4,
The detected value of the X axis direction component αx of the applied acceleration is output based on the difference between “the sum of the voltages V1 and V4” and “the sum of the voltages V2 and V3”.
The detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration is output based on the sum of the voltages V1, V2, V3, V4,
An acceleration sensor that outputs a detected value of a Z-axis direction component αz of applied acceleration based on a difference between “sum of voltages V1 and V2” and “sum of voltages V3 and V4”.
加速度が作用しても撓みが生じない部分に形成された参照用圧電素子を更に有し、前記参照用圧電素子は、参照用下層電極と参照用上層電極とこれらの間に挟まれた圧電材料層とによって構成され、前記参照用下層電極の電位を基準電位として、前記参照用上層電極の電圧をV5としたときに、
検出回路が、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値を、「電圧V1,V2,V3,V4の和」と「前記電圧V5に所定の補正係数kを乗じて得られる値k・V5」との差に基づいて出力することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 27,
The piezoelectric material further includes a reference piezoelectric element formed in a portion where no bending occurs even when acceleration is applied, and the reference piezoelectric element is a piezoelectric material sandwiched between a reference lower layer electrode and a reference upper layer electrode When the potential of the reference lower layer electrode is V5, the potential of the reference lower layer electrode is a reference potential,
The detection circuit detects the detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration as “value k · V5 obtained by multiplying the voltage V5 by a predetermined correction coefficient k” and “the sum of the voltages V1, V2, V3, V4”. The acceleration sensor is characterized in that the output is based on the difference from the acceleration sensor.
主センサ第1層の圧電材料層が圧電薄膜によって構成され、主センサ第1層の上層電極および下層電極が金属層によって構成され、主センサ第2層がシリコン基板によって構成され、主センサ第3層が金属基板、セラミック基板、もしくはガラス基板によって構成されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 25 to 28,
The piezoelectric material layer of the first main sensor layer is composed of a piezoelectric thin film, the upper layer electrode and the lower layer electrode of the first main sensor layer are composed of a metal layer, the second main sensor layer is composed of a silicon substrate, An acceleration sensor characterized in that the layer is formed of a metal substrate, a ceramic substrate, or a glass substrate.
台座が、XY平面に沿って主センサ構造体を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の水平方向成分が作用した場合に、主センサ第3層が前記環状構造体の内面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 18 to 29,
The pedestal forms an annular structure surrounding the main sensor structure along the XY plane, and the main sensor third layer is formed in the annular shape when a horizontal component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor. An acceleration sensor characterized by being in contact with an inner surface of a structure and further limiting displacement.
台座が、第1壁部、第2壁部、第3壁部、第4壁部なる4組の壁部を有する矩形状の方環状構造体をなし、
前記第1壁部は、主センサ構造体に対してX軸負方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
前記第2壁部は、主センサ構造体に対してX軸正方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
前記第3壁部は、主センサ構造体に対してY軸正方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
前記第4壁部は、主センサ構造体に対してY軸負方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
板状橋梁部の根端部が、前記第4壁部に支持固定されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 30, wherein
The pedestal comprises a rectangular ring-shaped structure having four sets of wall portions, the first wall portion, the second wall portion, the third wall portion, and the fourth wall portion,
The first wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The second wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The third wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
The fourth wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
An acceleration sensor, wherein a root end portion of a plate-like bridge portion is supported and fixed to the fourth wall portion.
台座が、上から順に台座第1層、台座第2層、台座第3層を積層した積層構造体によって構成され、前記台座第1層は板状橋梁部の根端部近傍において主センサ第1層に連なり、前記台座第2層は板状橋梁部の根端部において主センサ第2層に連なることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 30 or 31,
The pedestal is constituted by a laminated structure in which a pedestal first layer, a pedestal second layer, and a pedestal third layer are laminated in order from the top, and the pedestal first layer is the main sensor first in the vicinity of the root end portion of the plate-like bridge portion. The acceleration sensor according to claim 1, wherein the second layer of the pedestal is continuous with the second layer of the main sensor at a root end portion of the plate-like bridge portion.
主センサ第2層が、板状橋梁部の根端部に接続された台座接続部を更に有し、
前記台座接続部は、Y軸と交差しX軸に平行な所定の配置軸上に配置され、前記配置軸に沿って伸び、
台座の所定箇所の上面には、前記台座接続部を嵌合するための嵌合溝が形成されており、前記台座接続部が前記嵌合溝に嵌合した状態で固定されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 30 or 31,
The main sensor second layer further has a pedestal connection portion connected to the root end portion of the plate-like bridge portion,
The pedestal connecting portion is disposed on a predetermined arrangement axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis, and extends along the arrangement axis.
A fitting groove for fitting the pedestal connection portion is formed on the upper surface of a predetermined portion of the pedestal, and the pedestal connection portion is fixed in a state of being fitted in the fitting groove. An acceleration sensor.
前記加速度センサの台座を前記装置筐体に固定し、前記装置筐体に加速度が作用したときに、前記加速度センサの主センサ第3層が板状橋梁部の撓みによって前記装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を前記装置筐体に作用した加速度の検出値とすることを特徴とする加速度検出装置。 An acceleration detection device comprising: the acceleration sensor according to any one of claims 18 to 33; and a device housing that houses the acceleration sensor.
When the pedestal of the acceleration sensor is fixed to the device housing, and the acceleration acts on the device housing, the third layer of the main sensor of the acceleration sensor is displaced in the device housing due to the bending of the plate-like bridge portion. Thus, an output from the detection circuit corresponding to the displacement is used as a detected value of acceleration applied to the device casing.
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、前記土台基板と前記上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ第3層の底面より下方に位置し、前記台座の底面は前記土台基板の上面に固定されており、前記土台基板の上面と前記主センサ第3層の底面との間に下方空隙部が形成され、
前記上蓋基板は、加速度センサの主センサ第1層の上面より上方に位置し、前記上蓋基板の下面と前記主センサ第1層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、主センサ構造体の一部が前記土台基板の上面もしくは前記上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度検出装置。 The acceleration detection device according to claim 34,
An apparatus housing is disposed so as to surround a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper lid substrate covering the upper side of the acceleration sensor, and the acceleration sensor, and connecting the base substrate and the upper lid substrate. A side wall plate,
The bottom surface of the pedestal of the acceleration sensor is located below the bottom surface of the third layer of the main sensor of the acceleration sensor, the bottom surface of the pedestal is fixed to the top surface of the base substrate, and the top surface of the base substrate and the main sensor third A lower gap is formed between the bottom of the layer and
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor first layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor first layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor, a part of the main sensor structure comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper lid substrate, and further displacement occurs. An acceleration detection device characterized by being restricted.
前記加速度センサの主センサ第3層を前記装置筐体に固定し、前記装置筐体に加速度が作用したときに、前記加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって前記装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を前記装置筐体に作用した加速度の検出値とすることを特徴とする加速度検出装置。 An acceleration detection device comprising: the acceleration sensor according to any one of claims 18 to 33; and a device housing that houses the acceleration sensor.
The third layer of the main sensor of the acceleration sensor is fixed to the device casing, and when acceleration acts on the device casing, the pedestal of the acceleration sensor is displaced in the device casing by the bending of the plate-like bridge portion. Thus, an output from the detection circuit corresponding to the displacement is used as a detected value of acceleration applied to the device casing.
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、前記土台基板と前記上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ第3層の底面より上方に位置し、前記主センサ第3層の底面は前記土台基板の上面に固定されており、前記土台基板の上面と前記台座の底面との間に下方空隙部が形成され、
前記上蓋基板は、加速度センサの主センサ第1層の上面より上方に位置し、前記上蓋基板の下面と前記主センサ第1層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、台座の一部が前記土台基板の上面もしくは前記上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度検出装置。 The acceleration detection device according to claim 36,
An apparatus housing is disposed so as to surround a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper lid substrate covering the upper side of the acceleration sensor, and the acceleration sensor, and connecting the base substrate and the upper lid substrate. A side wall plate,
The bottom surface of the base of the acceleration sensor is located above the bottom surface of the third layer of the main sensor of the acceleration sensor, and the bottom surface of the third layer of the main sensor is fixed to the top surface of the base substrate. A lower gap is formed between the bottom of the base and
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor first layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor first layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor, a part of the pedestal comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper lid substrate, and further displacement is limited. An acceleration detection device characterized by being configured as described above.
XY平面を水平面にとり、Z軸正方向を上方向、Z軸負方向を下方向にとった場合に、主センサ検出層と、その下方に接合された主センサ重錘層と、を有する主センサ構造体と、
前記主センサ検出層の所定箇所を支持固定する台座と、
前記主センサ検出層の所定箇所の伸縮変形を検出する複数のピエゾ抵抗素子と、
前記ピエゾ抵抗素子の電気抵抗値に基づいて、作用した加速度の検出値を出力する検出回路と、
を備え、
前記主センサ検出層は、XY平面に平行な面に沿って配置された平板状の層であり、Y軸上に配置され可撓性を有する板状橋梁部と、前記主センサ重錘層を支持するための重錘体支持部と、を有し、
前記重錘体支持部は、「Y軸と交差しX軸に平行な軸であるX′軸」上に配置された中央板状部を有し、
前記板状橋梁部は根端部から先端部へとY軸に沿って伸び、前記中央板状部はY軸と交差するように前記X′軸に沿って伸び、前記中央板状部のY軸と交差する部分近傍に前記板状橋梁部の先端部が接続されており、前記板状橋梁部と前記中央板状部とのXY平面投影像はT字状をなし、
前記主センサ重錘層は、前記主センサ検出層の前記重錘体支持部の下面に接続されており、作用した加速度に基づいて前記板状橋梁部に撓みを生じさせるのに十分な質量をもった重錘体として機能し、
前記板状橋梁部の両脇について、X座標値が負となる側を左脇、X座標値が正となる側を右脇と定義したときに、前記主センサ重錘層は、前記板状橋梁部の左脇に位置する左翼重錘部と右脇に位置する右翼重錘部とを有しており、
前記台座は、前記板状橋梁部の前記根端部を支持固定し、
前記ピエゾ抵抗素子は、前記板状橋梁部の所定箇所の表面に形成されていることを特徴とする加速度センサ。 An acceleration sensor that detects acceleration acting in a predetermined coordinate axis direction in an XYZ three-dimensional coordinate system,
A main sensor having a main sensor detection layer and a main sensor weight layer bonded below the main sensor detection layer when the XY plane is a horizontal plane, the Z-axis positive direction is upward, and the Z-axis negative direction is downward. A structure,
A base for supporting and fixing a predetermined portion of the main sensor detection layer;
A plurality of piezoresistive elements that detect expansion and contraction of a predetermined location of the main sensor detection layer;
A detection circuit that outputs a detection value of the applied acceleration based on the electric resistance value of the piezoresistive element;
With
The main sensor detection layer is a plate-like layer arranged along a plane parallel to the XY plane, and has a plate-like bridge portion having flexibility on the Y axis, and the main sensor weight layer. A weight body support part for supporting,
The weight support portion has a central plate-like portion disposed on the “X ′ axis that is an axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis”,
The plate-like bridge portion extends along the Y-axis from the root end portion to the tip portion, and the central plate-like portion extends along the X′-axis so as to intersect the Y-axis. An end portion of the plate-like bridge portion is connected in the vicinity of a portion intersecting the axis, and an XY plane projection image of the plate-like bridge portion and the central plate-like portion has a T shape,
The main sensor weight layer is connected to the lower surface of the weight body support portion of the main sensor detection layer, and has a mass sufficient to cause the plate-like bridge portion to bend based on the applied acceleration. Functions as a weight body,
For both sides of the plate-like bridge portion, when the side where the X coordinate value is negative is defined as the left side and the side where the X coordinate value is positive is defined as the right side, the main sensor weight layer is the plate shape It has a left wing weight part located on the left side of the bridge part and a right wing weight part located on the right side,
The pedestal supports and fixes the root end portion of the plate-like bridge portion,
The acceleration sensor, wherein the piezoresistive element is formed on a surface of a predetermined portion of the plate-like bridge portion.
主センサ検出層の重錘体支持部が、中央板状部の左側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の左脇に伸びる左翼板状部と、中央板状部の右側からY軸に平行な方向に沿って板状橋梁部の右脇に伸びる右翼板状部と、を更に有し、
左翼重錘部が前記左翼板状部の下面に接続されており、右翼重錘部が前記右翼板状部の下面に接続されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 38,
The weight support portion of the main sensor detection layer has a left wing plate-like portion extending from the left side of the central plate-like portion to the left side of the plate-like bridge portion along a direction parallel to the Y axis, and a right side of the central plate-like portion. A right wing plate-like portion extending to the right side of the plate-like bridge portion along a direction parallel to the Y-axis,
An acceleration sensor, wherein a left wing weight portion is connected to a lower surface of the left wing plate-like portion, and a right wing weight portion is connected to a lower surface of the right wing plate-like portion.
主センサ重錘層が、左翼重錘部と右翼重錘部とを連結する中央重錘部を有し、前記中央重錘部が中央板状部の下面に接続されており、前記左翼重錘部、前記右翼重錘部および前記中央重錘部を有する重錘体のXY平面投影像が「コ」の字状をなすことを特徴とする加速度センサ。 40. The acceleration sensor according to claim 38 or 39.
The main sensor weight layer has a central weight portion that connects the left wing weight portion and the right wing weight portion, and the central weight portion is connected to the lower surface of the central plate-shaped portion, and the left wing weight An acceleration sensor, wherein an XY plane projection image of a weight body having a portion, the right wing weight portion, and the central weight portion has a “U” shape.
主センサ重錘層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方に位置していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 40,
An acceleration sensor characterized in that the center of gravity of the structure constituting the main sensor weight layer is located below the plate-like bridge portion.
主センサ構造体が、YZ平面に関して面対称をなし、主センサ重錘層を構成する構造体の重心が、板状橋梁部の下方のYZ平面上に位置していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 41,
An acceleration sensor characterized in that the main sensor structure is plane-symmetric with respect to the YZ plane, and the center of gravity of the structure constituting the main sensor weight layer is located on the YZ plane below the plate-like bridge portion. .
主センサ重錘層のX軸正方向の端部が重錘体支持部のX軸正方向の端部よりもX軸正方向に突き出しており、主センサ重錘層のX軸負方向の端部が重錘体支持部のX軸負方向の端部よりもX軸負方向に突き出しており、主センサ重錘層のY軸正方向の端部が重錘体支持部のY軸正方向の端部よりもY軸正方向に突き出しており、主センサ重錘層のY軸負方向の端部が重錘体支持部のY軸負方向の端部よりもY軸負方向に突き出していることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 42,
The end of the main sensor weight layer in the X-axis positive direction protrudes in the X-axis positive direction from the end of the weight support portion in the X-axis positive direction, and the end of the main sensor weight layer in the X-axis negative direction Part protrudes in the X-axis negative direction from the end of the weight support part in the X-axis negative direction, and the end of the main sensor weight layer in the Y-axis positive direction is the Y-axis positive direction of the weight support part The end of the main sensor weight layer in the negative Y-axis direction protrudes in the negative Y-axis direction from the negative end of the weight support portion in the negative Y-axis direction. An acceleration sensor.
主センサ検出層が、シリコン基板によって構成され、各ピエゾ抵抗素子が、前記板状橋梁部の表層の一部にp型もしくはn型の不純物を注入した領域によって構成されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 43,
The main sensor detection layer is constituted by a silicon substrate, and each piezoresistive element is constituted by a region in which p-type or n-type impurities are implanted into a part of the surface layer of the plate-like bridge portion. Acceleration sensor.
主センサ検出層が、面方位(100)に相当する面を上面および下面とするシリコン基板によって構成され、
Y軸が、前記シリコン基板の結晶軸<100>の方向に設定されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 44,
The main sensor detection layer is constituted by a silicon substrate having a surface corresponding to the plane orientation (100) as an upper surface and a lower surface,
An acceleration sensor, wherein the Y axis is set in the direction of the crystal axis <100> of the silicon substrate.
作用した加速度のX軸方向成分αxの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rx1,抵抗素子Rx2,抵抗素子Rx3,抵抗素子Rx4が設けられており、
抵抗素子Rx1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rx3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
検出回路が、
抵抗素子Rx1および抵抗素子Rx4を第1の対辺とし、抵抗素子Rx2および抵抗素子Rx3を第2の対辺とするX軸検出用ホイートストンブリッジと、
前記X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx1,Rx2の接続点と抵抗素子Rx3,Rx4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
前記X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx2,Rx4の接続点と抵抗素子Rx1,Rx3の接続点との間の電位差を、作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値として出力する出力手段と、
を有することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 45,
As a piezoresistive element used for detecting the X-axis direction component αx of the applied acceleration, a resistive element Rx1, a resistive element Rx2, a resistive element Rx3, and a resistive element Rx4 are provided.
The projection image of the resistor element Rx1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative,
The projection image of the resistance element Rx2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rx3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rx4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The detection circuit
A Wheatstone bridge for X-axis detection having the resistance element Rx1 and the resistance element Rx4 as the first opposite side and the resistance element Rx2 and the resistance element Rx3 as the second opposite side;
A bridge voltage power source for applying a bridge voltage between a connection point of the resistance elements Rx1 and Rx2 and a connection point of the resistance elements Rx3 and Rx4 in the Wheatstone bridge for X-axis detection;
Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Rx2 and Rx4 and a connection point of the resistance elements Rx1 and Rx3 in the Wheatstone bridge for X-axis detection as a detection value of the X-axis direction component αx of the applied acceleration; ,
An acceleration sensor comprising:
作用した加速度のY軸方向成分αyの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Ry1,抵抗素子Ry2,抵抗素子Ry3,抵抗素子Ry4が設けられており、
抵抗素子Ry1およびRy2のXY平面への投影像は、X軸に平行な方向に伸び、抵抗素子Ry3およびRy4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、
検出回路が、
抵抗素子Ry1および抵抗素子Ry2を第1の対辺とし、抵抗素子Ry3および抵抗素子Ry4を第2の対辺とするY軸検出用ホイートストンブリッジと、
前記Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry1,Ry3の接続点と抵抗素子Ry2,Ry4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
前記Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry2,Ry3の接続点と抵抗素子Ry1,Ry4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値として出力する出力手段と、
を有することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 45,
As the piezoresistive elements used for detecting the Y-axis direction component αy of the applied acceleration, a resistive element Ry1, a resistive element Ry2, a resistive element Ry3, and a resistive element Ry4 are provided.
The projected images of the resistive elements Ry1 and Ry2 on the XY plane extend in a direction parallel to the X axis, and the projected images of the resistive elements Ry3 and Ry4 on the XY plane extend in a direction parallel to the Y axis.
The detection circuit
A Wheatstone bridge for Y-axis detection having the resistance element Ry1 and the resistance element Ry2 as the first opposite side and the resistance element Ry3 and the resistance element Ry4 as the second opposite side;
A bridge voltage power source for applying a bridge voltage between a connection point of the resistance elements Ry1 and Ry3 and a connection point of the resistance elements Ry2 and Ry4 in the Wheatstone bridge for Y-axis detection;
Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Ry2 and Ry3 and a connection point of the resistance elements Ry1 and Ry4 in the Y-axis detection Wheatstone bridge as a detected value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration; ,
An acceleration sensor comprising:
作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rz1,抵抗素子Rz2,抵抗素子Rz3,抵抗素子Rz4が設けられており、
抵抗素子Rz1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rz3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
検出回路が、
抵抗素子Rz1および抵抗素子Rz2を第1の対辺とし、抵抗素子Rz3および抵抗素子Rz4を第2の対辺とするZ軸検出用ホイートストンブリッジと、
前記Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz1,Rz3の接続点と抵抗素子Rz2,Rz4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
前記Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz2,Rz3の接続点と抵抗素子Rz1,Rz4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値として出力する出力手段と、
を有することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 45,
As the piezoresistive elements used for detecting the Z-axis direction component αz of the applied acceleration, a resistive element Rz1, a resistive element Rz2, a resistive element Rz3, and a resistive element Rz4 are provided.
The projection image of the resistor element Rz1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rz2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rz3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projection image of the resistor element Rz4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The detection circuit
A Z-axis detection Wheatstone bridge having the resistance element Rz1 and the resistance element Rz2 as a first opposite side and the resistance element Rz3 and the resistance element Rz4 as a second opposite side;
A bridge voltage power source for applying a bridge voltage between a connection point of the resistance elements Rz1 and Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz2 and Rz4 in the Wheatstone bridge for Z-axis detection;
Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Rz2, Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz1, Rz4 in the W-stone detection Wheatstone bridge as a detection value of the Z-axis direction component αz of the applied acceleration; ,
An acceleration sensor comprising:
作用した加速度のX軸方向成分αxの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rx1,抵抗素子Rx2,抵抗素子Rx3,抵抗素子Rx4が設けられており、
作用した加速度のY軸方向成分αyの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Ry1,抵抗素子Ry2,抵抗素子Ry3,抵抗素子Ry4が設けられており、
作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出に用いるピエゾ抵抗素子として、抵抗素子Rz1,抵抗素子Rz2,抵抗素子Rz3,抵抗素子Rz4が設けられており、
抵抗素子Rx1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rx3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rx4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rz1のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz2のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の先端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rz3のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が負となる側に位置し、
抵抗素子Rz4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、板状橋梁部の根端部近傍のX座標値が正となる側に位置し、
抵抗素子Rx1,Rx2,Rx3,Rx4は、それぞれ抵抗素子Rz1,Rz2,Rz3,Rz4よりも、板状橋梁部における外側に配置されており、
抵抗素子Ry1およびRy2のXY平面への投影像は、X軸に平行な方向に伸び、抵抗素子Ry3およびRy4のXY平面への投影像は、Y軸に平行な方向に伸び、
検出回路が、
抵抗素子Rx1および抵抗素子Rx4を第1の対辺とし、抵抗素子Rx2および抵抗素子Rx3を第2の対辺とするX軸検出用ホイートストンブリッジと、
抵抗素子Ry1および抵抗素子Ry2を第1の対辺とし、抵抗素子Ry3および抵抗素子Ry4を第2の対辺とするY軸検出用ホイートストンブリッジと、
抵抗素子Rz1および抵抗素子Rz2を第1の対辺とし、抵抗素子Rz3および抵抗素子Rz4を第2の対辺とするZ軸検出用ホイートストンブリッジと、
前記X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx1,Rx2の接続点と抵抗素子Rx3,Rx4の接続点との間にブリッジ電圧を印加し、前記Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry1,Ry3の接続点と抵抗素子Ry2,Ry4の接続点との間にブリッジ電圧を印加し、前記Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz1,Rz3の接続点と抵抗素子Rz2,Rz4の接続点との間にブリッジ電圧を印加するブリッジ電圧電源と、
前記X軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rx2,Rx4の接続点と抵抗素子Rx1,Rx3の接続点との間の電位差を、作用した加速度のX軸方向成分αxの検出値として出力し、前記Y軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Ry2,Ry3の接続点と抵抗素子Ry1,Ry4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のY軸方向成分αyの検出値として出力し、前記Z軸検出用ホイートストンブリッジにおける抵抗素子Rz2,Rz3の接続点と抵抗素子Rz1,Rz4の接続点との間の電位差を、作用した加速度のZ軸方向成分αzの検出値として出力する出力手段と、
を有することを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 45,
As a piezoresistive element used for detecting the X-axis direction component αx of the applied acceleration, a resistive element Rx1, a resistive element Rx2, a resistive element Rx3, and a resistive element Rx4 are provided.
As the piezoresistive elements used for detecting the Y-axis direction component αy of the applied acceleration, a resistive element Ry1, a resistive element Ry2, a resistive element Ry3, and a resistive element Ry4 are provided.
As the piezoresistive elements used for detecting the Z-axis direction component αz of the applied acceleration, a resistive element Rz1, a resistive element Rz2, a resistive element Rz3, and a resistive element Rz4 are provided.
The projection image of the resistor element Rx1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative,
The projection image of the resistance element Rx2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rx3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rx4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is located on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rz1 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion is negative.
The projected image of the resistor element Rz2 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the tip of the plate-like bridge portion becomes positive.
The projection image of the resistor element Rz3 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion is negative.
The projection image of the resistor element Rz4 on the XY plane extends in a direction parallel to the Y axis, and is positioned on the side where the X coordinate value near the root end portion of the plate-like bridge portion becomes positive.
The resistance elements Rx1, Rx2, Rx3, and Rx4 are arranged on the outer side of the plate-like bridge portion than the resistance elements Rz1, Rz2, Rz3, and Rz4, respectively.
The projected images of the resistive elements Ry1 and Ry2 on the XY plane extend in a direction parallel to the X axis, and the projected images of the resistive elements Ry3 and Ry4 on the XY plane extend in a direction parallel to the Y axis.
The detection circuit
A Wheatstone bridge for X-axis detection having the resistance element Rx1 and the resistance element Rx4 as the first opposite side and the resistance element Rx2 and the resistance element Rx3 as the second opposite side;
A Wheatstone bridge for Y-axis detection having the resistance element Ry1 and the resistance element Ry2 as the first opposite side and the resistance element Ry3 and the resistance element Ry4 as the second opposite side;
A Z-axis detection Wheatstone bridge having the resistance element Rz1 and the resistance element Rz2 as a first opposite side and the resistance element Rz3 and the resistance element Rz4 as a second opposite side;
A bridge voltage is applied between the connection point of the resistance elements Rx1 and Rx2 and the connection point of the resistance elements Rx3 and Rx4 in the X-axis detection Wheatstone bridge, and the connection of the resistance elements Ry1 and Ry3 in the Y-axis detection Wheatstone bridge A bridge voltage is applied between the point and the connection point of the resistance elements Ry2 and Ry4, and the bridge is connected between the connection point of the resistance elements Rz1 and Rz3 and the connection point of the resistance elements Rz2 and Rz4 in the Z-axis detection Wheatstone bridge. A bridge voltage power supply for applying voltage;
A potential difference between a connection point of the resistance elements Rx2 and Rx4 and a connection point of the resistance elements Rx1 and Rx3 in the Wheatstone bridge for X-axis detection is output as a detection value of the X-axis direction component αx of the applied acceleration. In the Wheatstone bridge for axis detection, the potential difference between the connection point of the resistance elements Ry2 and Ry3 and the connection point of the resistance elements Ry1 and Ry4 is output as a detection value of the Y-axis direction component αy of the applied acceleration, and the Z-axis detection Output means for outputting a potential difference between a connection point of the resistance elements Rz2 and Rz3 and a connection point of the resistance elements Rz1 and Rz4 in the Wheatstone bridge as a detected value of the Z-axis direction component αz of the applied acceleration;
An acceleration sensor comprising:
台座が、XY平面に沿って主センサ構造体を取り囲む環状構造体をなし、加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の水平方向成分が作用した場合に、重錘体が前記環状構造体の内面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to any one of claims 38 to 49,
The pedestal forms an annular structure surrounding the main sensor structure along the XY plane, and when a horizontal component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor, the weight body is the annular structure. An acceleration sensor characterized in that it contacts the inner surface of the plate and further displacement is limited.
台座が、第1壁部、第2壁部、第3壁部、第4壁部なる4組の壁部を有する矩形状の方環状構造体をなし、
前記第1壁部は、主センサ構造体に対してX軸負方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
前記第2壁部は、主センサ構造体に対してX軸正方向側に隣接配置され、YZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
前記第3壁部は、主センサ構造体に対してY軸正方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
前記第4壁部は、主センサ構造体に対してY軸負方向側に隣接配置され、XZ平面に平行な平面に沿った壁面を構成し、
板状橋梁部の根端部が、前記第4壁部に支持固定されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 50,
The pedestal comprises a rectangular ring-shaped structure having four sets of wall portions, the first wall portion, the second wall portion, the third wall portion, and the fourth wall portion,
The first wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The second wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the X-axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the YZ plane,
The third wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y axis positive direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
The fourth wall portion is disposed adjacent to the main sensor structure on the Y-axis negative direction side, and constitutes a wall surface along a plane parallel to the XZ plane,
An acceleration sensor, wherein a root end portion of a plate-like bridge portion is supported and fixed to the fourth wall portion.
主センサ構造体が、上から順に構造体第1層、構造体第2層、構造体第3層を積層した積層構造体によって構成され、前記構造体第1層および前記構造体第2層によって主センサ検出層が構成され、前記構造体第3層によって主センサ重錘層が構成されており、
台座が、上から順に台座第1層、台座第2層、台座第3層を積層した積層構造体によって構成され、
前記構造体第1層および前記台座第1層は、いずれも第1の材料からなり、
前記構造体第2層および前記台座第2層は、いずれも第2の材料からなり、
前記構造体第3層および前記台座第3層は、いずれも第3の材料からなり、
前記第1の材料のエッチング特性は、前記第2の材料のエッチング特性と異なり、前記第3の材料のエッチング特性は、前記第2の材料のエッチング特性と異なり、
前記台座第1層は板状橋梁部の根端部において前記構造体第1層に連なり、前記台座第2層は板状橋梁部の根端部において前記構造体第2層に連なっていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 50 or 51,
The main sensor structure is configured by a stacked structure in which a structure first layer, a structure second layer, and a structure third layer are stacked in order from the top, and the structure first layer and the structure second layer A main sensor detection layer is configured, and a main sensor weight layer is configured by the structure third layer,
The pedestal is constituted by a laminated structure in which a pedestal first layer, a pedestal second layer, and a pedestal third layer are laminated in order from the top,
The structure first layer and the pedestal first layer are both made of a first material,
The structure second layer and the pedestal second layer are both made of the second material,
The structure third layer and the pedestal third layer are both made of a third material,
The etching characteristics of the first material are different from the etching characteristics of the second material, the etching characteristics of the third material are different from the etching characteristics of the second material,
The pedestal first layer is connected to the first structure layer at the root end portion of the plate-like bridge portion, and the pedestal second layer is connected to the second structure layer at the root end portion of the plate-like bridge portion. An acceleration sensor characterized by
主センサ構造体が、上から順に構造体第1層、構造体第2層、構造体第3層を積層した積層構造体によって構成され、前記構造体第1層によって主センサ検出層が構成され、前記構造体第2層および前記構造体第3層によって主センサ重錘層が構成されており、
台座が、上から順に台座第1層、台座第2層、台座第3層を積層した積層構造体によって構成され、
前記構造体第1層および前記台座第1層は、いずれも第1の材料からなり、
前記構造体第2層および前記台座第2層は、いずれも第2の材料からなり、
前記構造体第3層および前記台座第3層は、いずれも第3の材料からなり、
前記第1の材料のエッチング特性は、前記第2の材料のエッチング特性と異なり、前記第3の材料のエッチング特性は、前記第2の材料のエッチング特性と異なり、
前記台座第1層は板状橋梁部の根端部において前記構造体第1層に連なっていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 50 or 51,
The main sensor structure is constituted by a laminated structure in which a structure first layer, a structure second layer, and a structure third layer are laminated in order from the top, and the main sensor detection layer is constituted by the structure first layer. A main sensor weight layer is constituted by the structure second layer and the structure third layer;
The pedestal is constituted by a laminated structure in which a pedestal first layer, a pedestal second layer, and a pedestal third layer are laminated in order from the top,
The structure first layer and the pedestal first layer are both made of a first material,
The structure second layer and the pedestal second layer are both made of the second material,
The structure third layer and the pedestal third layer are both made of a third material,
The etching characteristics of the first material are different from the etching characteristics of the second material, the etching characteristics of the third material are different from the etching characteristics of the second material,
The acceleration sensor according to claim 1, wherein the first pedestal layer is connected to the first layer of the structure at a root end portion of the plate-like bridge portion.
主センサ検出層が、板状橋梁部の根端部に接続された台座接続部を更に有し、
前記台座接続部は、Y軸と交差しX軸に平行な所定の配置軸上に配置され、前記配置軸に沿って伸び、
台座の所定箇所の上面には、前記台座接続部を嵌合するための嵌合溝が形成されており、前記台座接続部が前記嵌合溝に嵌合した状態で固定されていることを特徴とする加速度センサ。 The acceleration sensor according to claim 50 or 51,
The main sensor detection layer further has a base connection part connected to the root end part of the plate-like bridge part,
The pedestal connecting portion is disposed on a predetermined arrangement axis that intersects the Y axis and is parallel to the X axis, and extends along the arrangement axis.
A fitting groove for fitting the pedestal connection portion is formed on the upper surface of a predetermined portion of the pedestal, and the pedestal connection portion is fixed in a state of being fitted in the fitting groove. An acceleration sensor.
前記加速度センサの台座を前記装置筐体に固定し、前記装置筐体に加速度が作用したときに、前記加速度センサの主センサ重錘層が板状橋梁部の撓みによって前記装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を前記装置筐体に作用した加速度の検出値とすることを特徴とする加速度検出装置。 In the acceleration detection apparatus provided with the acceleration sensor in any one of Claims 38-54, and the apparatus housing | casing which accommodates this acceleration sensor,
When the pedestal of the acceleration sensor is fixed to the device housing and acceleration is applied to the device housing, the main sensor weight layer of the acceleration sensor is displaced in the device housing by the bending of the plate-like bridge portion. Thus, an output from the detection circuit corresponding to the displacement is used as a detected value of acceleration applied to the device casing.
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、前記土台基板と前記上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ重錘層の底面より下方に位置し、前記台座の底面は前記土台基板の上面に固定されており、前記土台基板の上面と前記主センサ重錘層の底面との間に下方空隙部が形成され、
前記上蓋基板は、加速度センサの主センサ検出層の上面より上方に位置し、前記上蓋基板の下面と前記主センサ検出層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、主センサ構造体の一部が前記土台基板の上面もしくは前記上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度検出装置。 The acceleration detection device according to claim 55,
An apparatus housing is disposed so as to surround a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper lid substrate covering the upper side of the acceleration sensor, and the acceleration sensor, and connecting the base substrate and the upper lid substrate. A side wall plate,
The bottom surface of the pedestal of the acceleration sensor is positioned below the bottom surface of the main sensor weight layer of the acceleration sensor, and the bottom surface of the pedestal is fixed to the top surface of the base substrate, and the top surface of the base substrate and the main sensor weight A lower gap is formed between the bottom of the layer and
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor detection layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor detection layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor, a part of the main sensor structure comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper lid substrate, and further displacement occurs. An acceleration detection device characterized by being restricted.
前記加速度センサの主センサ重錘層を前記装置筐体に固定し、前記装置筐体に加速度が作用したときに、前記加速度センサの台座が板状橋梁部の撓みによって前記装置筐体内で変位するようにし、当該変位に応じた検出回路からの出力を前記装置筐体に作用した加速度の検出値とすることを特徴とする加速度検出装置。 In the acceleration detection apparatus provided with the acceleration sensor in any one of Claims 38-54, and the apparatus housing | casing which accommodates this acceleration sensor,
The main sensor weight layer of the acceleration sensor is fixed to the device housing, and when acceleration is applied to the device housing, the pedestal of the acceleration sensor is displaced in the device housing due to bending of the plate-like bridge portion. Thus, an output from the detection circuit corresponding to the displacement is used as a detected value of acceleration acting on the device casing.
装置筐体が、加速度センサを下方から支持固定するための土台基板と、加速度センサの上方を覆う上蓋基板と、加速度センサの周囲を囲うように配置され、前記土台基板と前記上蓋基板とを連結する側壁板と、を有し、
加速度センサの台座の底面は加速度センサの主センサ重錘層の底面より上方に位置し、前記主センサ重錘層の底面は前記土台基板の上面に固定されており、前記土台基板の上面と前記台座の底面との間に下方空隙部が形成され、
前記上蓋基板は、加速度センサの主センサ検出層の上面より上方に位置し、前記上蓋基板の下面と前記主センサ検出層の上面との間に上方空隙部が形成され、
加速度センサに対して所定の大きさを超える加速度の垂直方向成分が作用した場合に、台座の一部が前記土台基板の上面もしくは前記上蓋基板の下面に接触し、それ以上の変位が制限されるようにしたことを特徴とする加速度検出装置。 The acceleration detection apparatus according to claim 57,
An apparatus housing is disposed so as to surround a base substrate for supporting and fixing the acceleration sensor from below, an upper lid substrate covering the upper side of the acceleration sensor, and the acceleration sensor, and connecting the base substrate and the upper lid substrate. A side wall plate,
The bottom surface of the pedestal of the acceleration sensor is located above the bottom surface of the main sensor weight layer of the acceleration sensor, and the bottom surface of the main sensor weight layer is fixed to the top surface of the base substrate. A lower gap is formed between the bottom of the base and
The upper lid substrate is located above the upper surface of the main sensor detection layer of the acceleration sensor, and an upper gap is formed between the lower surface of the upper lid substrate and the upper surface of the main sensor detection layer,
When a vertical component of acceleration exceeding a predetermined magnitude acts on the acceleration sensor, a part of the pedestal comes into contact with the upper surface of the base substrate or the lower surface of the upper lid substrate, and further displacement is limited. An acceleration detection device characterized by being configured as described above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015228633A JP6010678B1 (en) | 2015-11-24 | 2015-11-24 | Acceleration sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015228633A JP6010678B1 (en) | 2015-11-24 | 2015-11-24 | Acceleration sensor |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016182329A Division JP6058858B1 (en) | 2016-09-16 | 2016-09-16 | Acceleration sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6010678B1 JP6010678B1 (en) | 2016-10-19 |
JP2017096743A true JP2017096743A (en) | 2017-06-01 |
Family
ID=57140248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015228633A Active JP6010678B1 (en) | 2015-11-24 | 2015-11-24 | Acceleration sensor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6010678B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113484541A (en) * | 2021-07-20 | 2021-10-08 | 哈尔滨工程大学 | Broadband high-sensitivity torsion type piezoelectric accelerometer suitable for low frequency |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09304425A (en) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor acceleration sensor, its manufacture, and vehicle control equipment |
JP2011064651A (en) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Seiko Epson Corp | Acceleration detector |
EP2708903A4 (en) * | 2011-05-12 | 2014-10-22 | Murata Manufacturing Co | Angular acceleration detecting element |
CN104838274A (en) * | 2012-12-13 | 2015-08-12 | 株式会社村田制作所 | Angular acceleration sensor and acceleration sensor |
-
2015
- 2015-11-24 JP JP2015228633A patent/JP6010678B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6010678B1 (en) | 2016-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6092326B2 (en) | Torque sensor | |
JP5497969B1 (en) | Force sensor | |
US6378381B1 (en) | Sensor using capacitance element | |
KR102241350B1 (en) | Strain gauge and multiaxial force sensor | |
WO1993002342A1 (en) | Sensor for force, acceleration and magnetism using piezoelectric devices | |
JP6611762B2 (en) | Strain gauge and multi-axis force sensor | |
JP5277038B2 (en) | Force detection device | |
JP6058858B1 (en) | Acceleration sensor | |
JP6611761B2 (en) | Strain gauge and multi-axis force sensor | |
JP6010678B1 (en) | Acceleration sensor | |
JP2016070670A (en) | Sensor device | |
JP3169508U (en) | Sensor that detects the action of external force | |
JP6767559B2 (en) | Strain gauge and multi-axial force sensor | |
JP2007173637A (en) | Sensor module | |
JP5640169B1 (en) | Acceleration sensor | |
JP2006125887A (en) | Acceleration sensor | |
JP4665733B2 (en) | Sensor element | |
JP5221940B2 (en) | Semiconductor element mounting structure | |
JP6244295B2 (en) | Acceleration sensor | |
JP6837113B2 (en) | Strain gauge and multi-axial force sensor | |
JP6836641B2 (en) | Strain gauge and 3-axis force sensor | |
JP2006300905A (en) | Acceleration sensor and method of manufacturing same | |
US20240053378A1 (en) | Physical Quantity Sensor And Inertial Measurement Unit | |
JP2009266898A (en) | Semiconductor element mounting structure | |
JP3089900U (en) | Transducer structure for acceleration sensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160823 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160916 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6010678 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S201 | Request for registration of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |