JP2017092241A - 処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】開閉弁を閉じる時の液だれを防止する処理液供給装置およびその制御方法を提供する。【解決手段】開閉弁１７を閉状態にする前に、処理液流路７０をサックバック弁１９のニードル６２で絞るだけでなく、開閉弁１７のダイアフラム４６でも絞ることで、サックバック弁１９に送られる処理液の圧力を抑制でき、サックバック弁１９の前後で圧力差を抑制できる。その結果、処理液へのエアの混入を抑制できる。また、ダイアフラム４６の移動速度を上げて開閉弁１７を閉状態にする際に、ダイアフラム４６の移動量が少なくなり、ダイアフラム４６の移動に伴って押し出される処理液を減少させ、開閉弁１７を閉じる。【選択図】図６

Description

本発明は、半導体基板、液晶表示用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板を処理する基板処理装置において、基板に対して処理液を供給する処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法に関する。

従来の処理液供給装置は、図１０のように、処理液として現像液を吐出する吐出ノズル１１１と、現像液供給源１１３と、現像液供給源１１３から吐出ノズル１１１に現像液を送るための配管１１５とを備えている。配管１１５には、ポンプＰおよび開閉弁１１７が介在して設けられている。

開閉弁１１７は、現像液の吐出とその停止を行うものである。開閉弁１１７は、気体供給部１４７により、気体を出し入れすることで駆動される。また、開閉弁１１７は、流量調整ができるように構成されている。すなわち、操作者が開閉弁１１７の流量調整ハンドル１１８を回転させることで、開閉弁１１７が開状態において、任意の流量の現像液を流すことができる。

なお、従来の処理液供給装置は、処理液として例えばフォトレジスト液を供給する場合、吐出ノズル１１１と開閉弁１１７との間の配管１１５に介在してサックバック弁が設けられている（例えば特許文献１参照）。これにより、吐出ノズルからフォトレジスト液が垂れ落ちる「液だれ」を防止している。

特許第５４４２２３２号公報

フォトレジスト液だけでなく現像液を供給する場合においても、基板上等への現像液の液だれを防止することが望まれている。また、流路を流れる現像液の流量が多いと、開閉弁で流路を速く閉じた際に、現像液による衝撃であるウォーターハンマで現像液がちぎれて、現像液がポタポタと液だれする。そのため、開閉弁を閉じる時の現像液の液だれを防止することが望まれている。また、上述のように、現像液の流量調整は、操作者が感覚的に流量調整ハンドル１１８を回転させることによって行われるので、流量調整が難しい。そのため、処理液の流量調整を容易にできることが望ましい。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、開閉弁を閉じる時の液だれを防止する処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法を提供することを目的とする。また、処理液の液だれ防止と処理液の流量調整を合理的な構成で行える処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法を提供する。

発明者は、上記の問題を解決するために鋭意研究した結果、次のような知見を得た。開閉弁の下流に流量調整弁が設けられる構成において、処理液流路を開閉弁で閉じる際に、流量調整弁で処理液流路を絞ることで、処理液の流量を少なくする。これにより、開閉弁を閉じる時の処理液の衝撃で生じる液だれを防止することができる。しかしながら、まだ、液だれが生じる可能性がある。すなわち、開閉弁の第１弁体で処理液流路を絞らず、開閉弁よりも下流に設けられた流量調整弁の第２弁体で処理液流路を絞って処理液の流量を少なくすると、流量調整弁の前後で圧力差が大きくなる。これにより、流量調整弁を通過する処理液にエアが混入する可能性がある。エアが混入すると、開閉弁を速く閉じた際に、処理液が振動して、液だれが生じ易くなる。また、開閉弁を閉じる際の第１弁体の移動距離が長いと、その長い分の処理液が押し出され、液だれが生じ易くなる。

このような知見に基づく本発明は、次のような構成をとる。
すなわち、本発明に係る処理液供給装置は、処理液を流通させる処理液流路と、前記処理液流路を開閉する開閉弁であって、開閉を実行する第1弁体と、前記第1弁体を移動させる第１駆動部とを有する前記開閉弁と、前記開閉弁よりも下流に設けられた流量調整弁であって、前記処理液流路の絞りを調整する第２弁体と、前記第２弁体を移動させる第２駆動部とを有する前記流量調整弁と、前記処理液流路を前記開閉弁で閉じる際に、前記処理液流路を前記第２弁体で絞るために前記第２弁体を移動し始め、また、前記処理液流路を前記第１弁体で絞るために前記第１弁体を移動し始め、前記第１弁体を移動し始めた後であって、予め設定された位置に前記第２弁体が到達したときに、前記第１弁体の移動速度を上げて前記開閉弁を閉状態にする制御部と、を備えていることを特徴とするものである。

本発明に係る処理液供給装置によれば、開閉弁を閉状態にする前に、処理液流路を流量調整弁の第２弁体で絞るだけでなく、開閉弁の第１弁体でも絞る。開閉弁を閉状態にする前に、開閉弁の第１弁体で絞らず、流量調整弁の第２弁体で処理液流路を絞って処理液の流量を少なくすると、処理液が流量調整弁を通過する前後で圧力差が大きくなる。これにより、流量調整弁を通過する処理液にエアが混入する可能性がある。エアが混入すると、開閉弁を閉状態にした際に、処理液が振動して、処理液の液だれが生じ易くなる。しかしながら、開閉弁の第１弁体でも絞ることで、流量調整弁に送られる処理液の圧力を抑制でき、流量調整弁の前後で圧力差を抑制できる。その結果、処理液へのエアの混入を抑制することができる。また、第１弁体の移動速度を上げて開閉弁を閉状態にする際に、第１弁体の移動量が少なくなるので、第１弁体の移動に伴って押し出される処理液の量が減少する。よって、開閉弁を閉じる時の処理液の液だれを更に防止できる。

また、上述の処理液供給装置において、前記制御部は、前記第２弁体を移動し始めてから予め設定された位置に前記第２弁体が到達するまでの間、開閉弁を通過できる処理液の許容流量を、流量調整弁を通過する処理液の設定流量以上に調整することが好ましい。開閉弁の許容流量が流量調整弁の設定流量以上に調整されることにより、流量調整弁による流量調整を邪魔せずに、第１弁体で処理液流路を絞ることができる。

また、上述の処理液供給装置において、前記制御部は、前記処理液流路を前記第２弁体で絞るために前記第２弁体を移動し始め、その後で、前記処理液流路を前記第１弁体で絞るために前記第１弁体を移動し始めることが好ましい。これにより、開閉弁の許容流量を流量調整弁の設定流量以上にする調整を容易にすることができる。

また、上述の処理液供給装置において、前記第１駆動部は、モータであることが好ましい。これにより、第１弁体の位置変更が容易である。また、前記第２駆動部は、モータであることが好ましい。これにより、第２弁体の位置変更が容易であり、処理液の流量調整を容易にできる。

また、上述の処理液供給装置において、前記流量調整弁は、前記第２弁体と連動して前記開閉弁よりも下流の下流側処理液流路の体積を変化させる体積変化部を更に備えていることが好ましい。これにより、流量調整弁は、サックバック機能を有することできる。

例えば、処理液流路を開閉弁で閉じている際に、第２駆動部で第２弁体と連動する体積変化部を移動させて下流側処理液流路の体積を大きくすれば、サックバックでき、処理液の液だれを防止できる。また、処理液流路を開閉弁で開いている際に、第２駆動部で弁体を移動させて処理液の流量を調整すれば、操作者の感覚により調整されていた処理液の流量調整を第２駆動部によって容易に調整できる。また、同一の第２駆動部で、処理液の液だれ防止と処理液の流量調整との両方ができるので、個別に駆動部等を設ける構成に比べて、構成の無駄を省き、省スペースなものにすることができる。そのため、基板ごとに異なる流量で処理液を供給でき、また、同一基板において、処理液の流量を途中で変えることができる。

また、上述の処理液供給装置の一例において、前記制御部は、前記処理液流路を前記開閉弁で閉じている際に、前記第２駆動部で前記第２弁体と連動する前記体積変化部を往復移動させる。例えば、処理液として現像液を吐出する吐出ノズルの先端部を純水に浸し、純水を吸引させたり、吸引した純水を一定時間保持したり、吸引した純水を押し出したりすることにより、吐出ノズル先端を洗浄させることができる。

また、上述の処理液供給装置において、前記処理液流路は、単一部品で構成されていることが好ましい。これにより、開閉弁とサックバック機能を有する流量調整弁を一体とした構成とすることができ、簡易な構成とすることができる。

また、上述の処理液供給装置の一例は、前記流量調整弁よりも下流に設けられ、配管を介在して前記処理液流路と接続し、前記処理液を吐出する吐出ノズルを更に備えていることである。これにより、開閉弁を閉じる時の衝撃による、吐出ノズルからの処理液の液だれを防止できる。

本発明に係る処理液供給装置の制御方法は、処理液を流通させる処理液流路と、前記処理液流路を開閉する開閉弁であって、開閉を実行する第1弁体と、前記第1弁体を移動させる第１駆動部とを有する前記開閉弁と、前記開閉弁よりも下流に設けられた流量調整弁であって、前記処理液流路の絞りを調整する第２弁体と、前記第２弁体を移動させる第２駆動部とを有する前記流量調整弁と、を備える処理液供給装置の制御方法であって、前記処理液流路を前記開閉弁で閉じる際に、前記処理液流路を前記第２弁体で絞るために前記第２弁体を移動し始め、また、前記処理液流路を前記第１弁体で絞るために前記第１弁体を移動し始める工程と、前記第１弁体を移動し始めた後であって、予め設定された位置に前記第２弁体が到達したときに、前記第１弁体の移動速度を上げて前記開閉弁を閉状態にする工程と、を備えていることを特徴とするものである。

本発明に係る処理液供給装置の制御方法によれば、開閉弁を閉状態にする前に、処理液流路を流量調整弁の第２弁体で絞るだけでなく、開閉弁の第１弁体でも絞る。開閉弁を閉状態にする前に、開閉弁の第１弁体で絞らず、流量調整弁の第２弁体で処理液流路を絞って処理液の流量を少なくすると、処理液が流量調整弁を通過する前後で圧力差が大きくなる。これにより、流量調整弁を通過する処理液にエアが混入する可能性がある。エアが混入すると、開閉弁を閉状態にした際に、処理液が振動して、処理液の液だれが生じ易くなる。しかしながら、開閉弁の第１弁体でも絞ることで、流量調整弁に送られる処理液の圧力を抑制でき、第２弁体の前後で圧力差を抑制できる。その結果、処理液へのエアの混入を抑制することができる。また、第１弁体の移動速度を上げて開閉弁を閉状態にする際に、第１弁体の移動量が少なくなるので、第１弁体の移動に伴って押し出される処理液の量が減少する。よって、開閉弁を閉じる時の処理液の液だれを更に防止できる。

本発明に係る処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法によれば、開閉弁を閉状態にする前に、処理液流路を流量調整弁の第２弁体で絞るだけでなく、開閉弁の第１弁体でも絞る。開閉弁の第１弁体でも絞ることで、流量調整弁に送られる処理液の圧力を抑制でき、流量調整弁の前後で圧力差を抑制できる。その結果、処理液へのエアの混入を抑制することができる。また、第１弁体の移動速度を上げて開閉弁を閉状態にする際に、第１弁体の移動量が少なくなるので、第１弁体の移動に伴って押し出される処理液の量が減少する。よって、開閉弁を閉じる時の処理液の液だれを更に防止できる。

実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。 実施例１に係る、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁とを示す縦断面図である。 実施例１に係る、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁との動作を説明するためのタイミング図である。 （ａ）は、処理液供給部の動作を説明するための図であって、基板に対する吐出ノズルの位置を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）の位置関係における吐出量（流量）の一例を示す図であり、（ｃ）は、（ａ）の位置関係における吐出量（流量）の他例を示す図である。 実施例２に係る、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁との動作を説明するためのタイミング図である。 実施例３に係る、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁とを示す縦断面図である。 実施例３に係る、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁との動作を説明するためのタイミング図である。 変形例に係る、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁とを示す縦断面図である。 変形例に係る処理液供給部の動作を説明するための図である。 従来の処理液供給部の概略構成を示すブロック図である。

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１は、基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。図２は、開閉弁と、流量調整機能を有するサックバック弁とを示す縦断面図である。

＜基板処理装置１の構成＞
図１を参照する。基板処理装置１は、略水平姿勢で基板Ｗを保持して回転させる保持回転部２と、処理液を供給する処理液供給部３とを備えている。処理液は、例えばフォトレジスト液等の塗布液、現像液、溶剤、または純水等のリンス液が用いられる。処理液供給部３は、本発明の処理液供給装置に相当する。

保持回転部２は、例えば真空吸着により基板Ｗの裏面を保持するスピンチャック４と、スピンチャック４を略垂直方向の回転軸ＡＸ周りに回転させ、モータ等で構成される回転駆動部５とを備えている。保持回転部２の周りには、基板Ｗの側方を囲うように、上下移動可能なカップ６が設けられている。

処理液供給部３は、基板Ｗに対して処理液を吐出する吐出ノズル１１と、処理液を貯留するタンクなどで構成される処理液供給源１３と、処理液供給源１３から吐出ノズル１１まで処理液を送るための処理液配管１５とを備えている。処理液配管１５には、処理液供給源１３から順番に、ポンプＰ、開閉弁１７および、流量調整機能を有するサックバック弁１９が介在されている。なお、処理液配管１５には、その他の構成を介在させてもよい。例えば、ポンプＰと開閉弁１７との間には、フィルタ（図示しない）が介在されてもよい。なお、処理液配管１５は、本発明の配管に相当する。

吐出ノズル１１は、ノズル移動機構２１により、基板Ｗの外側の待機ポット２３と基板Ｗ上方の吐出位置との間で移動される。ノズル移動機構２１は、支持アームおよびモータ等で構成されている。なお、吐出ノズル１１は、サックバック弁１９よりも下流に設けられ、処理液配管１５を介在して後述する処理液流路７０と接続する。

ポンプＰは、処理液を吐出ノズル１１に送り出すためのものである。開閉弁１７は、処理液の供給と処理液の供給停止を行う。サックバック弁１９は、開閉弁１７の動作と組み合わせることで処理液をサックバック（吸引）し、また、処理液の流量を調整する。開閉弁１７とサックバック弁１９は、後で詳細な説明を行う。なお、流量調整機能を有するサックバック弁１９は、サックバック機能を有する流量調整弁とも言える。

処理液供給部３は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）などで構成された制御部３１と、基板処理装置１を操作するための操作部３３とを備えている。制御部３１は、基板処理装置１の各構成を制御する。操作部３３は、液晶モニタなどの表示部と、ＲＯＭ（Read-only Memory）、ＲＡＭ（Random-Access Memory）、およびハードディスク等の記憶部と、キーボード、マウス、および各種ボタン等の入力部とを備えている。記憶部には、開閉弁１７およびサックバック弁１９を制御するための条件や、その他、基板処理条件が記憶されている。

＜開閉弁１７と、流量調整機能を有するサックバック弁１９＞
次に、開閉弁１７およびサックバック弁１９の詳細な構成を説明する。図２を参照する。開閉弁１７は、後述する上流側流路４３、開閉室内流路５０、連結流路５１、弁室内流路６３、下流側流路６７からなる処理液流路７０を開閉させる。サックバック弁１９は、開閉弁１７の動作と組み合わせて、処理液をサックバックし、また、処理液の流量を調整する。

〔開閉弁１７の構成〕
開閉弁１７は、処理液配管１５の経路途中に設けられており、上流側流路４３、開閉室４１の開閉室内流路５０、およびサックバック弁１９の弁室６１と連通する連結流路５１を直列に連結して構成されている。処理液配管１５は、上流側継手部７１により開閉室４１に取り付けられており、開閉弁１７の上流側流路４３と流路接続している。開閉弁１７は、後述するようにその開閉動作によって開閉室４１内において、処理液の流れを流通状態と遮断状態とに切り替える。

上流側流路４３の端部は開閉室４１の開閉室内流路５０の底部に連通接続されている。なお、処理液配管１５の他端部はポンプＰに接続されている。よって、ポンプＰから送り出された処理液は上流側流路４３を通過して開閉室４１の開閉室内流路５０に流れ込む。

開閉室４１は中空の箱状部材であり、その内部にはピストン４２と、バネ４７と、隔壁４５と、弁体としてのダイアフラム４６とが設けられている。ピストン４２は、開閉室４１の内部にて図面の縦方向に沿って摺動自在に構成されている。バネ４７は、ピストン４２の上面と開閉室４１の上部内壁面との間に配置されている。なお、ダイアフラム４６は、開閉を実行するものであり、本発明の第１弁体に相当する。

隔壁４５は開閉室４１の内部を上下に仕切る平板状の部材であって、その中央部にはピストン４２が貫通している。ピストン４２は隔壁４５に対して摺動自在ではあるものの、ピストン４２と隔壁４５との接触部分は完全にシールされており、気体配管４８ａから開閉室４１に空気が送り込まれたときにその空気が隔壁４５よりも下側（ダイアフラム４６側）に漏れることはない。

ダイアフラム４６の周縁部は開閉室４１の内壁面に固設されている。ダイアフラム４６の中央部はピストン４２の下端部と固設されている。

開閉室４１の開閉室内流路５０の底部中央には第１弁座４４が設けられている。連結流路５１は、開閉室４１の第１弁座４４と後述するサックバック弁１９の弁室６１の弁室内流路６３とを連通接続する。

開閉室４１の側壁には、気体供給部４８からの気体を吸気および排気させるための吸排気口４９が設けられている。気体供給部４８は、制御部３１により制御される。気体供給部４８は、気体供給源、気体開閉弁およびスピードコントローラ等（いずれも図示しない）で構成される。気体供給部４８は、制御部３１の制御によって気体配管４８ａを通じて吸排気口４９に気体を供給することができ、また、吸排気口４９から気体を排気させることができる。

以上のような開閉弁１７の構成において、気体供給部４８から吸排気口４９を介して開閉室４１内部に気体が供給されると、ピストン４２がバネ４７の弾性力に抗して押し上げられた状態（図２の実線で示す状態）となる。ピストン４２が押し上げられると、それに固設されたダイアフラム４６が変形されて第１弁座４４から離間する。

図２の実線で示すように、弁体であるダイアフラム４６が第１弁座４４から離間すると、上流側流路４３、開閉室内流路５０、連結流路５１とがそれぞれ連通状態となり、ポンプＰから送り出された処理液は上流側流路４３から開閉室内流路５０、連結流路５１、後述する弁室内流路６３、下流側流路６７を経て吐出ノズル１１に到達し、吐出ノズル１１から基板Ｗに向けて処理液が吐出されることとなる。すなわち、図２の実線で示す状態が、処理液流路７０が開放されて処理液が流通する状態である。すなわち、処理液流路７０を開閉弁１７で開けている状態（開状態）である。

逆に、気体供給部４８から吸排気口４９を介して開閉室４１内部に気体が排気されると、開閉室４１内の圧力が低くなり、バネ４７の復元力に抗してピストン４２を押し上げる圧力が存在しなくなる。このため、バネ４７の復元力によって図２の点線で示すようにピストン４２が押し下げられる。ピストン４２が押し下げられると、それに固設されたダイアフラム４６が図２の点線で示すように変形されて第１弁座４４に密着する。

図２に示すように、弁体であるダイアフラム４６が第１弁座４４に密着すると、開閉室流路５０と連結流路５１とが遮断された状態となり、ポンプＰから送り出された処理液は、連結流路５１側へと流れることができず、処理液の流れが停止する。すなわち、処理液流路７０を開閉弁１７で閉じている状態（閉状態）になる。

このように、気体供給部４８、ピストン４２、バネ４７等が弁体としてのダイアフラム４６を作動させる作動手段として機能するものである。

〔流量調整機能を有するサックバック弁１９の構成〕
サックバック弁１９は、図２のように、開閉弁１７よりも下流に設けられている。サックバック弁１９は、中空の箱状部材である弁室６１と、弁室６１内部を図２の上下方向に移動可能に設けられたニードル６２と、下流側流路６７とを備えている。

弁室６１内部には、処理液を流通させる弁室内流路６３が設けられている。また、弁室６１の弁室内流路６３の底部中央にはニードル６２を受ける第２弁座６４が設けられており、第２弁座６４には、例えば、処理液が流れる開口部６４ａが設けられている。開口部６４ａは、下流側流路６７と流路接続している。処理液配管１５は、下流側継手部７２により弁室６１に取り付けられており、サックバック弁１９の下流側流路６７と流路接続している。第２弁座６４がニードル６２を受けると、ニードル６２で開口部６４ａが塞がれる。これにより、弁室内流路６３と下流側流路との流路間が閉じられる。

また、ニードル６２は、弁室内流路６３と下流側流路６７との間に形成される流路幅（開口部６４ａの開口具合）、換言すれば処理液流路７０の絞りを調整するように構成されている。すなわち、ニードル６２は、第２弁座６４の開口部６４ａとの隙間を調整することで、その隙間を流れる処理液の流量を調整できるようになっている。

また、サックバック弁１９は、ニードル６２の先端部に取り付けられたダイアフラム６６と、ニードル６２を図２の上下方向に駆動させるモータ（電動機）６８とを備えている。ダイアフラム６６の周縁部は、弁室６１内部の側壁６１ａに固定されており、ダイアフラム６６は、ニードル６２の移動方向を横切るように弁室６１内部を隔てている。

また、ダイアフラム６６は、図２のように、ニードル６２と連動する。これにより、ダイアフラム６６は、開閉弁１７よりも下流の連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を変化させることできる。つまり、ニードル６２の移動により、第２弁座６４との隙間の調整と、連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積の変化が同時に行われる。

ニードル６２は、本発明の第２弁体に相当し、ダイアフラム６６は、本発明の体積変化部に相当する。モータ６８は、第２駆動部に相当する。

モータ６８は、制御部３１により、例えばパルス数が与えられて制御される。モータ６８の回転は、図示しない機構で変換されて、ニードル６２に上下方向の駆動力が与えられる。例えば、制御部３１は、開閉弁１７が閉状態のときに、モータ６８でニードル６２と連動するダイアフラム６６を移動させて連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を大きくし、サックバックする。また、制御部３１は、開閉弁１７が開状態のときに、モータ６８でニードル６２を移動させて処理液の流量を調整する。なお、モータ６８には、ニードル６２の上下方向の正確な移動量を得られるように、ロータリーエンコーダ等の図示しないセンサが取り付けられていることが好ましい。

また、開閉弁１７とサックバック弁１９は、隣り合わせに配置されている。そのため、開閉弁１７とサックバック弁１９は、一体的に構成されて、簡易な構成となっている。また、開閉弁１７の上流側流路４３と、サックバック弁１９の下流側流路６７と、開閉室内流路５０と弁室内流路６３とを連結する連結流路５１とは、単一部品で構成されてもよい。この場合、例えば、図２の破線Ｌの下側の開閉室４１および弁室６１のように、開閉室４１の一部と、弁室６１の一部とが単一部品で構成されてもよい。

また、上流側流路４３、開閉室内流路５０、連結流路５１、弁室内流路６３および下流側流路６７は、処理液を流通させる処理液流路７０を形成する。なお、連結流路５１、弁室内流路６３および下流側流路６７は、本発明の下流側処理液流路に相当する。

＜基板処理装置１の動作＞
次に、基板処理装置１の動作のうち、特に、処理液供給部３の動作について説明する。図３は、開閉弁１７と流量調整機能を有するサックバック弁１９の動作を説明するためのタイミング図である。制御部３１は、予め設定された吐出条件（レシピ）に基づき、基板処理装置１の各構成を制御する。

本発明では、開閉弁１７の開閉に応じて、サックバック弁１９のモータ６８でニードル６２を移動させることで、処理液のサックバック（液だれ防止）と流量調整を行っている。この際、サックバックすると流量調整が乱れ、流量調整するとサックバックが乱れる。本発明は、その点を考慮した動作となっている。

なお、サックバック弁１９において、モータ６８でニードル６２を昇降させるが、上昇は、ニードル６２と第２弁座６４とが離れる動作であり、下降は、ニードル６２と第２弁座６４とが近づく動作である。また、図３および後述する図５、図７において、ニードル６２位置が“０”とは、処理液が流通するか否かに関わらず、ニードル６２と第２弁座６４とが最も接近した位置を示す。

まず、図１の基板処理装置１において、図示しない搬送機構により保持回転部２に基板Ｗが搬送される。保持回転部２は、基板Ｗの裏面を保持し、保持した基板Ｗを回転させる。また、ノズル移動機構２１は、基板Ｗ外側の待機ポット２３から基板Ｗ上方の吐出位置に吐出ノズル１１を移動させる。制御部３１は、開閉弁１７およびサックバック弁１９を制御して、吐出ノズル１１から処理液を吐出する。なお、ポンプＰは、駆動されており、開閉弁１７が開状態になると、処理液供給源１３に貯留された処理液が送り出されて、吐出ノズル１１から吐出される。

図３の時間ｔ０において、開閉弁１７は、開状態であり、吐出ノズル１１より処理液が吐出されている。また、開閉弁１７が開いている際に、サックバック弁１９では、モータ６８でニードル６２を位置ＮＡに移動させて、位置ＮＡに対応する処理液の流量に調整させている。

制御部３１は、吐出ノズル１１からの処理液の吐出を停止させる際において、開閉弁１７を閉状態にさせる前に、流量を少なくして、より確実に液だれを防止する動作を行う。すなわち、時間ｔ１において、制御部３１は、モータ６８でニードル６２をサックバック基準位置ＳＢ０に移動させて、処理液の流量を少なくさせる。その後、時間ｔ２において、制御部３１は、処理液流路７０の開閉室内流路５０と連結流路５１間を開閉弁１７で閉じ、閉状態にする。

更に、時間ｔ３において、制御部３１は、モータ６８でニードル６２をサックバック実行位置ＳＢ１に移動させて、サックバックを行う。言い換えると、制御部３１は、モータ６８でニードル６２と連動するダイアフラム６６を移動させて、連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を大きくする。これにより、吐出ノズル１１の先端内部の処理液がサックバック（吸引）される。なお、時間ｔ２と時間ｔ３は、同じタイミングであってもよい。時間ｔ２が時間ｔ３よりも少々遅れてもよい。また、サックバックは、ニードル６２の移動量ＳＤが設定されている。移動量ＳＤは、一定であってもよく、変化させてもよい。

基板Ｗへの処理液の吐出が終了し、保持回転部２上の基板Ｗの入れ替えを行う。すなわち、図１の保持回転部２は、基板Ｗの回転を停止し、基板Ｗの保持を解除する。ノズル移動機構２１は、吐出ノズル１１を基板Ｗの外側の待機ポット２３に移動させる。そして、図示しない搬送機構により、基板Ｗが入れ替えられる。上述のように、保持回転部２は、基板Ｗの裏面を保持し、保持した基板Ｗを回転させる。また、ノズル移動機構２１は、基板Ｗ外側の待機ポット２３から基板Ｗ上方の吐出位置に吐出ノズル１１を移動させる。

再度、吐出ノズル１１から処理液を吐出する。本発明のサックバック弁１９の構造上、サックバック動作のためにニードル６２が移動する。ニードル６２が移動すると、再度の流量調整が必要となる。制御部３１は、時間ｔ４において、連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を大きくした状態のニードル６２のサックバック実行位置ＳＢ１から、予め設定された流量になる位置に、モータ６８でニードル６２を移動させて、時間ｔ５において、開閉弁１７を開ける。

時間ｔ４の動作について、２つの制御例を説明する。２つの制御例とは、位置ＮＢに上昇させる場合と、位置ＮＣに下降させる場合である。

まず、サックバック実行位置ＳＢ１から位置ＮＢにニードル６２を上昇させる場合について説明する。制御部３１は、時間ｔ４において、サックバック実行位置ＳＢ１から位置ＮＢに、モータ６８でニードル６２を上昇させる。ニードル６２を上昇させると、ニードル６２と連動するダイアフラム６６も上昇する。そのため、更にサックバックされることになる。その状態で、時間ｔ５において、制御部３１は、処理液流路７０を開閉弁１７で開けて、吐出ノズル１１から処理液を吐出する。処理液流路７０を開閉弁１７で開ける際に、サックバック実行位置ＳＢ１から上昇させるので、吐出ノズル１１から処理液が押し出されず、更にサックバックされる。そのため、液だれの心配がない。

次に、サックバック実行位置ＳＢ１から位置ＮＣにニードル６２を下降させる場合について説明する。制御部３１は、時間ｔ４において、サックバック実行位置ＳＢ１から位置ＮＣに、モータ６８でニードル６２を下降させる。ニードル６２を下降させるので、処理液を押し出すことになる。そのため、ニードル６２の下降量によっては、吐出ノズル１１から処理液が吐出される可能性がある。

そこで、制御部３１は、予め設定された流量Ｆとなる位置ＮＣにニードル６２を下降させる際に、モータ６８により、予め設定された流量Ｆになるようにニードル６２の移動速度を変更する。すなわち、ニードル６２の位置ＮＣでの流量Ｆと同じまたは近づけた流量Ｆになるように、ニードル６２の下降速度（図３の勾配８１参照）を調整する。続けて、時間ｔ５において、制御部３１は、処理液流路７０を開閉弁１７で開けて、吐出ノズル１１から処理液を吐出する。ニードル６２の下降速度を調整し、続けて、開閉弁１７を開状態にさせるので、予め設定された流量Ｆの処理液を連続して自然に流すことができる。

所定時間、吐出ノズル１１から処理液を吐出した後、上述のように、時間ｔ６において、サックバック弁１９のニードル６２をサックバック基準位置ＳＢ０に下降させて、流量を少なく調整した後、時間ｔ７において、開閉弁１７を閉状態にさせる。時間ｔ８において、サックバック弁１９のニードル６２をサックバック実行位置ＳＢ１に上昇させて、ニードル６２と連動するダイアフラム６６を上昇させることで、サックバックさせる。

次に、図４（ａ）〜図４（ｃ）を参照して、同一基板Ｗ内で吐出流量を変更させる場合について説明する。本発明によれば、図３の位置ＮＡと位置ＮＢのように、異なる基板Ｗ毎に、または、複数の基板がセットになっている場合はセット毎に、流量調整が容易である。更に、同一基板Ｗ内においても流量調整が容易である。

図４（ａ）は、基板Ｗに対する吐出ノズル１１の位置を示す図である。そして、図４（ｂ）は、図４（ａ）の位置関係における吐出量（流量）の一例を示す図である。吐出ノズル１１から処理液を吐出しつつ、ノズル移動機構２１により、基板Ｗの中心Ｃから基板Ｗの端部Ｅに吐出ノズル１１を移動させる場合がある。この場合、端部Ｅから例えば５０ｍｍの幅に対して、図４（ｂ）のように、吐出量を増やしてもよい。また、必要によっては、減らしてもよい。また、図４（ｃ）のような傾斜で、吐出ノズル１１から処理液を吐出させてもよい。

本実施例によれば、処理液流路７０を開閉させる開閉弁１７よりも下流には、弁室内流路６３と下流側流路６７との間に形成される流路幅（開口部６４ａの開口具合）を調整するニードル６２と、ニードル６２と連動し、開閉弁１７よりも下流の連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を変化させるダイアフラム６６が設けられている。ニードル６２は、モータ６８で駆動される。制御部３１は、処理液流路７０を開閉弁１７で閉じている際に、モータ６８でニードル６２と連動するダイアフラム６６を移動させて連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を大きくする。そのため、サックバックでき、処理液の液だれを防止できる。また、制御部３１は、処理液流路７０を開閉弁１７で開いている際に、モータ６８でニードル６２を移動させて処理液の流量を調整する。そのため、操作者の感覚により調整されていた処理液の流量調整をモータ６８によって容易に調整できる。また、同一のモータ６８で、処理液の液だれ防止と処理液の流量調整ができるので、個別にモータ６８等を設ける構成に比べて、構成の無駄を省き、省スペースなものにすることができる。そのため、基板Ｗごとに異なる流量で処理液を供給でき、また、同一基板Ｗにおいて、処理液の流量を途中で変えることができる。

また、本実施例によれば、開閉弁１７は主に開閉に用いられ、サックバック弁１９は、詳細な調整が行える構成になっている。そのため、例えば、開閉弁１７を簡易なものを選択することができる。

また、モータ６８は、サックバック弁１９のニードル６２を駆動するので、複数回に分けて、すなわち多段階にサックバックさせることが容易である。また、流量調整のためのニードル６２位置の変えることが容易である。

また、制御部３１は、モータ６８でニードル６２をサックバック基準位置ＳＢ０に移動させて処理液の流量を少なくさせた後、処理液流路７０を開閉弁１７で閉じ、更に、モータ６８でニードル６２と連動するダイアフラム６６を移動させて処理液流路７０の体積を大きくする。これにより、処理液流路７０を開閉弁１７で閉じる際に、処理液の流量が少なくなっているので、処理液の流量が多いことで生じる処理液の液だれを抑えることができる。すなわち、より確実に液だれを防止できる。

また、制御部３１は、連結流路５１から弁室内流路６３、下流側流路６７までの流路体積を大きくした状態のニードル６２の位置から、予め設定された流量になる位置に、モータ６８でニードル６２を移動させて、処理液流路７０を開閉弁１７で開ける。サックバックさせるとニードル６２の位置が変動するが、処理液流路７０を開閉弁１７で開けた際に、予め設定された流量の処理液を供給することができる。

また、処理液流路７０を開閉弁１７で開ける際における、予め設定された流量になる位置へのニードル６２の移動は、上昇である。処理液流路７０を開閉弁１７で開ける際に、ニードル６２を上昇させて予め設定された流量するので、処理液が押し出されず、更にサックバックされる。そのため、液だれする心配がない。

また、予め設定された流量となる位置にニードル６２を下降させる際に、モータ６８により、予め設定された流量になるようにニードル６２の下降速度（図３の勾配８１参照）を変更する。例えば、予め設定された流量となる位置にニードル６２を下降させる際であって、吐出ノズル１１より処理液が吐出してしまうときに、ニードル６２の下降速度を変更して予め設定された流量で吐出ノズル１１より吐出する。これにより、ニードル６２の移動により吐出する処理液の流量を、処理液流路７０を開閉弁１７で開けている時の流量に近づけることができる。

また、処理液供給部３は、サックバック弁１９よりも下流に設けられ、処理液配管１５を介在して処理液流路７０と接続し、処理液を吐出する吐出ノズル１１を更に備えている。これにより、吐出ノズル１１内に処理液を吸引でき、また、吐出ノズル１１から吐出する処理液を流量調整できる。

次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。

実施例１では、図３の時間ｔ１のように、開閉弁１７を閉状態にさせる前に、サックバック弁１９のニードル６２をサックバック基準位置ＳＢ０に下降させていた。この点、サックバック基準位置ＳＢ０に下降させる動作を必要としない場合は、ニードル６２を移動させずに、開閉弁１７を閉状態にさせてもよい。

図５の時間ｔ１１において、サックバック弁１９のニードル６２の位置ＮＡを下降せずに、開閉弁１７を閉状態にする。時間ｔ１２において、予め設定された移動量ＳＤで、ニードル６２を位置ＳＢ２に上昇させる。すなわち、ニードル６２に連動するダイアフラム６６を上昇させて、サックバックさせる。基板Ｗの入れ替えが行われた後、ニードル６２を位置ＮＡよりも低い位置ＮＣで、再度、吐出ノズル１１から処理液を吐出する。

この場合の動作例を説明する。ノズル移動機構２１により、吐出ノズル１１を待機ポット２３に移動させる。この状態で、時間ｔ１３において、ニードル６２を位置ＮＣに下降させる。この際、吐出ノズル１１から処理液が押し出されても、待機ポット２３で回収される。そして、時間ｔ１５において、ニードル６２を移動量ＳＤで位置ＳＢ３に上昇させる。すなわち、ニードル６２と連動するダイアフラム６６により、サックバックさせる。図５の時間ｔ１４〜時間ｔ１５の符号８３のように、開閉弁１７を開状態にさせて、処理液をダミーディスペンスさせてもよい。

その後、ノズル移動機構２１により、待機ポット２３から基板Ｗ上方へ吐出ノズル１１が移動される。時間ｔ１６において、ニードル６２を下降させて流量調整し、時間ｔ１７において、開閉弁１７を開状態にさせて吐出ノズル１１から処理液を吐出させる。また、時間ｔ１８において、開閉弁１７を閉状態にさせて吐出ノズル１１からの処理液吐出を停止させ、時間ｔ１９において、ニードル６２に連動するダイアフラム６６により、サックバックさせる。

また、時間ｔ１３において、上述のように、基板Ｗ上において、ニードル６２の位置ＮＣでの流量Ｆと同じまたは近づけた流量Ｆになるように、ニードル６２の下降速度（図３、図５の勾配８１参照）を調整して、吐出ノズル１１から処理液を押し出しつつ、流量調整させてもよい。そして、続けて、開閉弁１７を開状態にさせてもよい。

次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。

実施例１では、図３の時間ｔ１のように、流量調整機能を有するサックバック弁１９のニードル６２をサックバック基準位置ＳＢ０に下降させて、処理液の流量を少なく調整した後、時間ｔ２において、開閉弁１７を閉状態にさせていた。この動作により、より確実に液だれが防止できるものの、まだ、液だれが生じる可能性がある。

すなわち、図３において、開閉弁１７を閉状態にする前に、サックバック弁１９のニードル６２で処理液の流量を少なく調整している。処理液流路７０をニードル６２で絞ったときの絞りの大きさが微小である場合、サックバック弁１９を通過する前後での圧力差が大きくなる。これにより、サックバック弁１９を通過した処理液にエアが混入し易くなる。処理液にエアが混入すると、時間ｔ２において、開閉弁１７を閉状態にした際に、処理液が振動して、液だれが生じ易くなる。また、開閉弁１７を閉じる際のダイアフラム４６の移動距離が長いと、その長い分の処理液が押し出され、それにより、液だれが生じ易くなる。

そこで、制御部３１は、処理液流路７０を開閉弁１７で閉じる際に、処理液流路７０をサックバック弁１９のニードル６２で絞るためにニードル６２を下降し始め、また、処理液流路７０を開閉弁１７のダイアフラム４６で絞るためにダイアフラム４６を下降し始める。そして、制御部３１は、ダイアフラム４６を下降し始めた後であって、予め設定された位置にニードル６２が到達したときに、ダイアフラム４６の下降速度を上げて開閉弁１７を閉状態にする。

なお、図６のように、本実施例の開閉弁１７のダイアフラム４６およびピストン４２は、モータ（電動機）８４により移動される。モータ８４を用いることで、ダイアフラム４６の位置変更が容易である。モータ８４は、本発明の第１駆動部に相当する。なお、サックバック弁１９は、サックバック機能を有する流量調整弁とも言える。

図７を参照して、動作を説明する。時間ｔ３０において、開閉弁１７は閉状態（ＯＦＦ）であり、サックバック弁１９のニードル６２は、サックバック実行位置ＳＢ１に存在している。ニードル６２がサックバック実行位置ＳＢ１に存在しているので、サックバックが実行されて、吐出ノズル１１内に処理液を吸い込んだ状態になっている。

時間ｔ３１において、開閉弁１７のダイアフラム４６を、開状態（ＯＮ）の予め設定された位置にモータ８４で上昇させる。また、サックバック実行位置ＳＢ１から位置ＮＢに、モータ６８でニードル６２を上昇させる。これらにより、吐出ノズル１１から処理液が基板Ｗに吐出される。

所定量の処理液を基板Ｗに吐出した後、処理液流路７０を開閉弁１７で閉じる。この際、まず、時間ｔ３２において、処理液流路７０をニードル６２で絞るためにニードル６２を下降し始める。ニードル６２の下降は、予め設定されたサックバック基準位置ＳＢ０にニードル６２が到達するまで（時間ｔ３５）の間で行われる。なお、サックバック基準位置ＳＢ０にニードル６２が到達することとは、サックバック弁１９を通過する設定流量が予め設定された流量になることとも言える。なお、図７において、ニードル６２の下降速度は、一定であるが、可変であってもよい。

また、時間ｔ３２において、ニードル６２を下降し始め、その後、時間ｔ３３において、ダイアフラム４６を下降し始めている。すなわち、ニードル６２の下降の開始に遅れて、ダイアフラム４６の下降を開始させている。ニードル６２を下降するだけでなくダイアフラム４６も下降させることで、サックバック弁１９に送られる処理液の圧力が小さくなる。これにより、上述のサックバック弁１９の前後で圧力差が大きくなることを抑制できる。

また、ニードル６２を移動し始めてから予め設定されたサックバック基準位置ＳＢ０にニードル６２が到達するまでの間、開閉弁１７を通過できる許容流量は、サックバック弁１９を通過する設定流量以上に調整される。なお、開閉弁１７の許容流量は、サックバック弁１９のニードル６２で処理液流路７０を絞っていないときに流すことができる流量である。

例えば、時間ｔ３４において、サックバック弁１９の設定流量が２００ｍＬ／ｍｉｎである場合、開閉弁１７の許容流量は２００ｍＬ／ｍｉｎ以上に調整される。これにより、サックバック弁１９による流量調整を邪魔しないで、ダイアフラム４６で絞ることができる。

なお、上述の説明では、開閉弁１７の許容流量は、サックバック弁１９の設定流量以上に調整されていたが、開閉弁１７の許容流量は、サックバック弁１９の設定流量よりも大きくなるように調整してもよい。これにより、サックバック弁１９による流量調整をダイアフラム４６が邪魔しない効果をより確実なものにできる。

また、開閉弁１７の許容流量とサックバック弁１９の設定流量との比較は、次のように行ってもよい。処理液流路７０をダイアフラム４６で絞ったときの絞りの大きさ（断面積）が、処理液流路７０をニードル６２で絞ったときの絞りの大きさ（断面積）以上に、または、処理液流路７０をニードル６２で絞ったときの絞りの大きさ（断面積）よりも大きくなるように調整されてもよい。また、開閉弁１７を通過する前の処理液の圧力が、サックバック弁１９を通過する前の処理液の圧力以上に、または、サックバック弁１９を通過する前の処理液の圧力より大きくなるように調整されてもよい。

因みに、処理液の吐出時においても、開閉弁１７の許容流量は、サックバック弁１９の設定流量以上に調整される。例えば、時間ｔ３１から時間ｔ３２までの間において、サックバック弁１９の設定流量が１Ｌ／ｍｉｎの場合、開閉弁１７の許容流量は１Ｌ／ｍｉｎ以上に調整される。

時間ｔ３５において、サックバック基準位置ＳＢ０にニードル６２が到達したときに、ダイアフラム４６の移動速度を上げて、開閉弁１７は閉状態（ＯＦＦ）にされる。開閉弁１７で閉じる際に、ダイアフラム４６を低速で下降させて、その後、ダイアフラム４６を高速で下降させている。なお、ダイアフラム４６の下降は、３段階以上に変化してもよい。また、サックバック基準位置ＳＢ０にニードル６２を下降させる動作は、予め設定された速度で予め設定された時間、ニードル６２を下降させることで行ってもよい。

時間ｔ３５の処理液流路７０を閉状態にした後、時間ｔ３６において、ニードル６２をサックバック実行位置ＳＢ１に上昇させてサックバックを実行する。

本実施例によれば、開閉弁１７を閉状態にする前に、処理液流路７０をサックバック弁１９のニードル６２で絞るだけでなく、開閉弁１７のダイアフラム４６でも絞る。開閉弁１７を閉状態にする前に、開閉弁１７のダイアフラム４６で絞らずに、サックバック弁１９のニードル６２で処理液流路７０を絞って処理液の流量を少なくすると、処理液がサックバック弁１９を通過する前後で圧力差が大きくなる。これにより、サックバック弁１９を通過する処理液にエアが混入する可能性がある。エアが混入すると、開閉弁１７を閉状態にした際に、処理液が振動して、処理液の液だれが生じ易くなる。しかしながら、開閉弁１７のダイアフラム４６でも絞ることで、サックバック弁１９に送られる処理液の圧力を抑制できるので、サックバック弁１９の前後で圧力差を抑制できる。また、ダイアフラム４６の移動速度を上げて開閉弁１７を閉状態にする際に、ダイアフラム４６の移動量が少なくなるので、ダイアフラム４６の移動に伴って押し出される処理液の量が減少する。よって、開閉弁１７を閉じる時の処理液の液だれを更に防止できる。すなわち、開閉弁１７を閉状態にする際の液切れの精度を向上できる。

また、ニードル６２を移動し始めてから予め設定された位置にニードル６２が到達するまでの間、開閉弁１７を通過する処理液の許容流量は、サックバック弁１９を通過する処理液の設定流量以上に調整される。開閉弁１７の許容流量は、サックバック弁１９の設定流量以上に調整されることにより、サックバック弁１９による流量調整を邪魔せずに、ダイアフラム４６で処理液流路７０を絞ることができる。

また、処理液流路７０をニードル６２で絞るためにニードル６２を移動し始め、その後で、処理液流路７０をダイアフラム４６で絞るためにダイアフラム４６を移動し始める。これにより、開閉弁１７の許容流量をサックバック弁１９の設定流量以上にする調整を容易にすることができる。

なお、本実施例において、開閉弁１７を閉状態にする前に、ニードル６２の下降を開始した後、ダイアフラム４６の下降を開始させていた。この点、ダイアフラム４６およびニードル６２の下降を同じタイミングで行ってもよい。また、ダイアフラム４６の下降を開始した後、ニードル６２の下降を開始させてもよい。ただし、ダイアフラム４６の下降は、ニードル６２による流量調整を邪魔しないように、開閉弁１７の許容流量は、サックバック弁１９の設定流量以上に調整される。

また、本実施例において、ダイアフラム４６およびニードル６２を移動させるために、モータ６８，８４が設けられているが、ダイアフラム４６およびニードル６２の位置変更がモータのように容易であれば、他の駆動部であってもよい。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した各実施例では、サックバック弁１９の体積変化部として、ダイアフラム６６が設けられていた。この点、図８のように、ニードル８２には、ニードル８２の移動方向を横切るように隔壁８２ａが設けられ、隔壁８２ａは、Ｏリングなどの気密保持部材８２ｂを介在させて、弁室６１内部の側壁に接して移動可能であってもよい。

（２）上述した各実施例および変形例（１）において、例えば処理液として現像液を用いる場合がある。これにより、現像液の液だれを防止し、現像液を流量調整できる。図９のように、制御部３１は、ノズル移動機構２１により、吐出ノズル１１を待機ポット２３等に移動させて、純水等が滞留する容器８５に吐出ノズル１１の先端部を浸す。そして、制御部３１は、上流側流路４３を閉じている際に、サックバック弁１９のモータ６８でニードル６２と連動するダイアフラム６６を往復移動させる。吐出ノズル１１の先端部を純水に浸し、純水を吸引させたり、吸引した純水をそのまま一定時間保持したり、吸引した純水を押し出したりすることで、吐出ノズル１１先端を洗浄させることができる。図９において、符号８６が現像液層であり、符号８７が空気などの気体層であり、そして、符号８８が純水である。

（３）上述した実施例１，２および各変形例では、開閉弁１７は、エアオペレートバルブであったが、サックバック弁１９のようにモータ駆動であってもよい。

（４）上述した各実施例および各変形例では、開閉弁１７の弁体は、ダイアフラム４６で構成するようにしていたが、サックバック弁１９のニードル６２のように、流量調整可能であってもよい。また、開閉弁１７は、図２のような構成であるが、他の既知の構成であってもよい。

（５）上述した各実施例および各変形例では、図３のように、サックバック基準位置ＳＢ０は、処理液を流している。必要によっては、サックバック基準位置ＳＢ０は、処理液を流通させないようにしてもよい。

（６）上述した各実施例および各変形例では、サックバック弁１９の内の各流路は、単一部品で構成されていたが、個別の部品であってもよい。すなわち、開閉弁１７とサックバック弁１９とが個別に構成される。この場合、開閉弁１７とサックバック弁１９は、処理液配管１５を介在して接続される。

（７）上述した各実施例および各変形例では、開閉弁１７の下流には、流量調整機能を有するサックバック弁１９が設けられている。必要により、サックバック弁１９は、サックバック機能を有さない流量調整弁であってもよい。

１ … 基板処理装置
３ … 処理液供給部
１１ … 吐出ノズル
１５ … 処理液配管
１７ … 開閉弁
１９ … サックバック弁
３１ … 制御部
４３ … 上流側流路
５０ … 開閉室内流路
５１ … 連結流路
６２，８２ … ニードル
６３ … 弁室内流路
６６ … ダイアフラム
６７ … 下流側流路
６８，８４ … モータ
７０ … 処理液流路
８１ … 勾配
ｔ０〜ｔ８，ｔ１１〜ｔ１９，ｔ３０〜ｔ３６ … 時間

Claims (10)

1. 処理液を流通させる処理液流路と、
   前記処理液流路を開閉する開閉弁であって、開閉を実行する第1弁体と、前記第1弁体を移動させる第１駆動部とを有する前記開閉弁と、
   前記開閉弁よりも下流に設けられた流量調整弁であって、前記処理液流路の絞りを調整する第２弁体と、前記第２弁体を移動させる第２駆動部とを有する前記流量調整弁と、
   前記処理液流路を前記開閉弁で閉じる際に、前記処理液流路を前記第２弁体で絞るために前記第２弁体を移動し始め、また、前記処理液流路を前記第１弁体で絞るために前記第１弁体を移動し始め、前記第１弁体を移動し始めた後であって、予め設定された位置に前記第２弁体が到達したときに、前記第１弁体の移動速度を上げて前記開閉弁を閉状態にする制御部と、を備えていることを特徴とする処理液供給装置。
2. 請求項１に記載の処理液供給装置において、
   前記制御部は、前記第２弁体を移動し始めてから予め設定された位置に前記第２弁体が到達するまでの間、前記開閉弁を通過できる処理液の許容流量を、前記流量調整弁を通過する処理液の設定流量以上に調整することを特徴とする処理液供給装置。
3. 請求項２に記載の処理液供給装置において、
   前記制御部は、前記処理液流路を前記第２弁体で絞るために前記第２弁体を移動し始め、その後で、前記処理液流路を前記第１弁体で絞るために前記第１弁体を移動し始めることを特徴とする処理液供給装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の処理液供給装置において、
   前記第１駆動部は、モータであることを特徴とする処理液供給装置。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の処理液供給装置において、
   前記第２駆動部は、モータであることを特徴とする処理液供給装置。
6. 請求項１から５のいずれかに記載の処理液供給装置において、
   前記流量調整弁は、前記第２弁体と連動して前記開閉弁よりも下流の下流側処理液流路の体積を変化させる体積変化部を更に備えていることを特徴とする処理液供給装置。
7. 請求項６に記載の処理液供給装置において、
   前記制御部は、前記処理液流路を前記開閉弁で閉じている際に、前記第２駆動部で前記第２弁体と連動する前記体積変化部を往復移動させることを特徴とする処理液供給装置。
8. 請求項６から７のいずれかに記載の処理液供給装置において、
   前記処理液流路は、単一部品で構成されていることを特徴とする処理液供給装置。
9. 請求項１から８のいずれかに記載の処理液供給装置において、
   前記流量調整弁よりも下流に設けられ、配管を介在して前記処理液流路と接続し、前記処理液を吐出する吐出ノズルを更に備えていることを特徴とする処理液供給装置。
10. 処理液を流通させる処理液流路と、
    前記処理液流路を開閉する開閉弁であって、開閉を実行する第1弁体と、前記第1弁体を移動させる第１駆動部とを有する前記開閉弁と、
    前記開閉弁よりも下流に設けられた流量調整弁であって、前記処理液流路の絞りを調整する第２弁体と、前記第２弁体を移動させる第２駆動部とを有する前記流量調整弁と、を備える処理液供給装置の制御方法であって、
    前記処理液流路を前記開閉弁で閉じる際に、前記処理液流路を前記第２弁体で絞るために前記第２弁体を移動し始め、また、前記処理液流路を前記第１弁体で絞るために前記第１弁体を移動し始める工程と、
    前記第１弁体を移動し始めた後であって、予め設定された位置に前記第２弁体が到達したときに、前記第１弁体の移動速度を上げて前記開閉弁を閉状態にする工程と、を備えていることを特徴とする処理液供給装置の制御方法。
    

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