JP2017091693A - 表示装置の製造方法及び表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示装置の製造方法は、複数の下部電極30が形成される表示領域A及び表示領域を囲む周辺領域Eを含む樹脂層23に、表示領域を囲んで樹脂層を分断する帯状の溝40を形成する工程と、樹脂層の上と溝の内側に、複数の下部電極の上に載るように、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層33を形成する工程と、少なくとも溝の底面に有機エレクトロルミネッセンス層の一部を島状に残し、溝の底面が表示領域を囲んで連続して露出するように、パルスレーザを照射して、有機エレクトロルミネッセンス層を除去する工程と、有機エレクトロルミネッセンス層の上に、上部電極34を形成する工程と、有機エレクトロルミネッセンス層を覆うように、封止層35を形成する工程と、を有する。
【選択図】図4
Description
Claims (8)
- 複数の下部電極が形成される表示領域及び前記表示領域を囲む周辺領域を含む樹脂層に、前記表示領域を囲んで前記樹脂層を分断する帯状の溝を形成する工程と、
前記樹脂層の上と前記溝の内側に、前記複数の下部電極の上に載るように、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層を形成する工程と、
少なくとも前記溝の底面に前記有機エレクトロルミネッセンス層の一部を島状に残し、前記溝の前記底面が前記表示領域を囲んで連続して露出するように、パルスレーザを照射して、前記有機エレクトロルミネッセンス層を除去する工程と、
前記有機エレクトロルミネッセンス層の上に、上部電極を形成する工程と、
前記有機エレクトロルミネッセンス層を覆うように、封止層を形成する工程と、
を有する表示装置の製造方法。 - 前記有機エレクトロルミネッセンス層を形成する工程において、前記周辺領域に形成され、前記上部電極に電源を供給する共通電極の上に、前記有機エレクトロルミネッセンス層が形成され、
前記有機エレクトロルミネッセンス層を除去する工程において、前記共通電極の上で前記有機エレクトロルミネッセンス層が除去され、
前記上部電極を形成する工程において、前記上部電極は、前記共通電極の上に載るように形成される、
請求項1に記載の表示装置の製造方法。 - 前記有機エレクトロルミネッセンス層を除去する工程において、前記溝を囲む帯領域で、前記有機エレクトロルミネッセンス層が除去され、
前記上部電極を形成する工程において、前記周辺領域のうち前記帯領域を避けて前記帯領域で囲まれる領域に前記上部電極が形成され、
前記封止層を形成する工程において、前記エレクトロルミネッセンス層が除去された前記帯領域の面に載るように、前記封止層が形成される、
請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法。 - 前記有機エレクトロルミネッセンス層を形成する工程において、前記有機エレクトロルミネッセンス層は、前記周辺領域に設けられる端子の上に形成され、
前記封止層を形成する工程において、前記封止層は、前記端子を覆うように形成され、
前記封止層を形成する工程の後、前記端子の上に形成された前記有機エレクトロルミネッセンス層及び前記封止層をエッチングにより除去する工程をさらに有する、
請求項3に記載の表示装置の製造方法。 - 前記有機エレクトロルミネッセンス層を形成する工程において、前記有機エレクトロルミネッセンス層は、前記周辺領域に設けられる端子の上に形成され、
前記上部電極を形成する工程において、前記周辺領域のうち前記溝を囲む帯領域を避けて前記帯領域で囲まれる領域に前記上部電極が形成され、
前記封止層を形成する工程において、前記封止層は、前記端子を覆うように形成され、
前記封止層を形成する工程の後、前記溝を囲む帯領域に形成された前記有機エレクトロルミネッセンス層及び前記封止層と、前記端子の上に形成された前記有機エレクトロルミネッセンス層及び前記封止層とをレーザを照射して除去する工程をさらに有する、
請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法。 - 複数の下部電極が形成される表示領域及び前記表示領域を囲む周辺領域を含み、前記表示領域を囲んだ部分を分断する帯状の溝を有する樹脂層と、
前記複数の下部電極の上に載るように、前記表示領域及び前記周辺領域に形成され、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層と、
前記有機エレクトロルミネッセンス層の上に形成される上部電極と、
前記有機エレクトロルミネッセンス層を覆うように形成される封止層と、を有し、
前記有機エレクトロルミネッセンス層は、前記溝の内側と外側を分断しているが、前記溝の底面に島状に残っている、
表示装置。 - 前記溝の底面において、前記有機エレクトロルミネッセンス層は平面視において波型に除去されている、
請求項6に記載の表示装置。 - 前記エレクトロルミネッセンス層が前記島状に残っている箇所について、前記溝を横断する方向に測った前記エレクトロルミネッセンス層の除去幅の合計は、前記エレクトロルミネッセンス層が前記島状に残っていない箇所について、前記溝を横断する方向に測った前記エレクトロルミネッセンス層の除去幅より広い、
請求項7に記載の表示装置。
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