JP2017026128A - Gate device, processing system, and sealing part replacement method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、処理チャンバ内の領域を選択的に封止するためのゲート装置、このようなゲート装置を備えた処理システムおよびこのようなゲート装置における封止部の交換方法に関する。 The present invention relates to a gate device for selectively sealing a region in a processing chamber, a processing system including such a gate device, and a method for replacing a sealing portion in such a gate device.
半導体の製造工程において、ドライエッチング装置等の腐食性ガスを用いる真空装置が使用されている。このような装置において、処理チャンバ(プロセスチャンバ)内の領域を封止するためのゲート装置におけるシール材は、腐食性ガスへの露出やゲート開閉時の摺動等によって劣化しやすくなっており、シール材の交換を頻繁に行う必要があった。 In a semiconductor manufacturing process, a vacuum apparatus using a corrosive gas such as a dry etching apparatus is used. In such an apparatus, the sealing material in the gate apparatus for sealing the region in the processing chamber (process chamber) is easily deteriorated by exposure to corrosive gas, sliding at the time of opening and closing the gate, and the like. It was necessary to change the sealing material frequently.
これに対し、特許文献1には、シール材として2つ以上のO−リングを使用するようなゲートバルブの封止システムが開示されている。特許文献1に開示されるゲートバルブでは、腐食性ガスに対して露出される、封止性能と共に当該腐食性ガスに対して耐腐食性を有する第1のO−リングと、腐食性ガスに対して露出しない、封止性能と共に耐磨耗性を有する第2のO−リングとが用いられるようになっている。
On the other hand,
しかしながら、特許文献1に開示されるような従来のゲートバルブの封止システムでは、ゲートバルブを長期間使用することによって第1のO−リングの体積が減少すると、第2のO−リングが腐食しやすくなってしまうという問題がある。また、上記のゲートバルブの封止システムでは、第2のO−リングが摩耗劣化すると第1のO−リングの押しつけ力が強くなってしまい第1のO−リングの固着が生じるおそれがある。このように、上記のゲートバルブの封止システムでは、O−リングの交換頻度を十分に低減することができないおそれがある。また、上記のゲートバルブの封止システムでは、何れかのO−リングが摩耗劣化すると、処理チャンバを大気開放してO−リングの交換を行う必要があり、処理チャンバを長期間停止させなければならないという問題がある。
However, in the conventional gate valve sealing system as disclosed in
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、弁体に1つの封止部しか設けられていない場合と比較して封止部の交換頻度を低減することができ、また、封止部の交換を短時間で容易に行うことができるゲート装置、処理システムおよび封止部交換方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such points, and the frequency of replacement of the sealing portion can be reduced as compared with the case where only one sealing portion is provided in the valve body. An object of the present invention is to provide a gate device, a processing system, and a sealing portion replacement method that can easily replace a sealing portion in a short time.
本発明のゲート装置は、複数の平面が設けられ、軸心を中心として回転可能となっている弁体と、前記弁体における各前記平面にそれぞれ設けられた封止部と、前記弁体が収容され、開口が設けられている弁体収容部と、を備え、前記弁体収容部に設けられている前記開口を、複数の前記封止部のうちある一つの前記封止部により選択的に封止することができるようになっていることを特徴とする。 The gate device according to the present invention includes a valve body provided with a plurality of planes and rotatable about an axis, sealing portions provided on the respective planes of the valve body, and the valve body And a valve body housing portion provided with an opening, wherein the opening provided in the valve body housing portion is selectively selected by one sealing portion among the plurality of sealing portions. It is characterized by being able to be sealed.
このようなゲート装置によれば、軸心を中心として回転可能となっている弁体における複数の平面にそれぞれ封止部が設けられており、弁体収容部に設けられている開口を、複数の封止部のうちある一つの封止部により選択的に封止することができるようになっているため、弁体に1つの封止部しか設けられていない場合と比較して封止部の交換頻度を低減することができ、また、弁体を回転させながら当該弁体の各平面に設けられている複数の封止部を順次交換することにより封止部の交換を短時間で容易に行うことができる。 According to such a gate device, the sealing portion is provided on each of a plurality of planes of the valve body that is rotatable about the axis, and a plurality of openings provided in the valve body housing portion are provided. Since it can be selectively sealed by one sealing portion among the sealing portions of the sealing portion, the sealing portion is compared with the case where only one sealing portion is provided in the valve body Replacement frequency can be reduced, and the sealing portion can be easily replaced in a short time by sequentially replacing a plurality of sealing portions provided on each plane of the valve body while rotating the valve body. Can be done.
本発明のゲート装置においては、前記弁体収容部には蓋部が設けられており、前記蓋部を開くことにより前記弁体収容部の内部にアクセスすることができるようになっていてもよい。 In the gate device of the present invention, the valve body housing portion may be provided with a lid portion, and the inside of the valve body housing portion may be accessed by opening the lid portion. .
本発明のゲート装置は、前記軸心を中心として前記弁体を回転させる回転駆動部を更に備えていてもよい。 The gate device of the present invention may further include a rotation drive unit that rotates the valve body about the axis.
本発明のゲート装置は、前記弁体を支持する弁体支持部と、前記弁体収容部内における前記開口に隣接する領域から退避する退避位置、前記弁体収容部内における前記開口に隣接する領域である進出位置および前記弁体収容部に設けられている前記開口を前記封止部により封止する封止位置の間で前記弁体が移動するよう前記弁体支持部を移動させる駆動機構と、を更に備えていてもよい。 The gate device of the present invention includes a valve body support portion that supports the valve body, a retreat position that retreats from a region adjacent to the opening in the valve body housing portion, and a region that is adjacent to the opening in the valve body housing portion. A drive mechanism for moving the valve body support portion so that the valve body moves between a certain advance position and a sealing position where the opening provided in the valve body housing portion is sealed by the sealing portion; May be further provided.
この場合、前記駆動機構は、前記弁体支持部を鉛直方向に沿って移動させることにより前記弁体を前記退避位置と前記進出位置との間で移動させる第1駆動部と、前記弁体支持部を回動させることにより前記弁体を前記進出位置と前記封止位置との間で移動させる第2駆動部とを有していてもよい。 In this case, the drive mechanism moves the valve body support portion along the vertical direction to move the valve body between the retracted position and the advanced position, and the valve body support. You may have the 2nd drive part which moves the said valve body between the said advance position and the said sealing position by rotating a part.
本発明のゲート装置においては、前記封止部はO−リングであってもよい。 In the gate device of the present invention, the sealing portion may be an O-ring.
本発明の処理システムは、被処理物の処理を行う処理チャンバと、上記のゲート装置と、を備え、前記処理チャンバ内の領域と、前記ゲート装置における前記弁体収容部内の領域とが当該弁体収容部に設けられた前記開口を介して連通しており、前記処理チャンバ内の領域と前記ゲート装置における前記弁体収容部内の領域とを連通させる前記開口は、前記ゲート装置における複数の前記封止部のうちある一つの前記封止部により選択的に封止されるようになっていることを特徴とする。 The processing system of the present invention includes a processing chamber for processing an object to be processed and the gate device described above, and a region in the processing chamber and a region in the valve body housing portion in the gate device are the valve. The opening that communicates with the opening provided in the body housing portion, and that communicates the region in the processing chamber and the region in the valve body housing portion in the gate device includes a plurality of the openings in the gate device. It is characterized in that it is selectively sealed by one of the sealing portions.
本発明の封止部交換方法は、複数の平面が設けられ、軸心を中心として回転可能となっている弁体と、前記弁体における各前記平面にそれぞれ設けられた封止部と、前記弁体が収容され、開口が設けられている弁体収容部と、を備え、前記弁体収容部に設けられている前記開口を、複数の前記封止部のうちある一つの前記封止部により選択的に封止することができるようになっているゲート装置における前記封止部の交換方法であって、前記弁体収容部に設けられている蓋部を開く工程と、前記弁体収容部の内部にアクセスして前記封止部の交換を行う工程と、を備えたことを特徴とする。 The sealing part replacement method of the present invention includes a valve body provided with a plurality of planes and capable of rotating around an axis, sealing parts provided respectively on the planes of the valve body, A valve body accommodating portion in which a valve body is accommodated and an opening is provided, and the opening provided in the valve body accommodating portion is defined as one sealing portion among the plurality of sealing portions. A method of replacing the sealing portion in the gate device that can be selectively sealed by the step of opening a lid portion provided in the valve body housing portion, and the valve body housing And a step of accessing the inside of the part and exchanging the sealing part.
このような封止部交換方法によれば、軸心を中心として回転可能となっている弁体における複数の平面にそれぞれ封止部が設けられており、弁体収容部に設けられている開口を、複数の封止部のうちある一つの封止部により選択的に封止することができるようになっているため、弁体に1つの封止部しか設けられていない場合と比較して封止部の交換頻度を低減することができ、また、弁体を回転させながら当該弁体の各平面に設けられている複数の封止部を順次交換することにより封止部の交換を短時間で容易に行うことができる。 According to such a sealing part replacement method, the sealing part is provided on each of a plurality of planes in the valve body that is rotatable about the axis, and the opening provided in the valve body accommodating part. Can be selectively sealed by one sealing portion among a plurality of sealing portions, compared with the case where only one sealing portion is provided in the valve body The replacement frequency of the sealing portion can be reduced, and the replacement of the sealing portion can be shortened by sequentially replacing a plurality of sealing portions provided on each plane of the valve body while rotating the valve body. Can be done easily in time.
本発明の封止部交換方法においては、複数の前記封止部のうちある一つの前記封止部により前記弁体収容部に設けられている前記開口を封止している間に別の前記封止部の交換が行われるようになっていてもよい。 In the sealing part replacement | exchange method of this invention, while sealing the said opening provided in the said valve body accommodating part by the said one sealing part among several said sealing parts, another said The sealing part may be exchanged.
本発明のゲート装置、処理システムおよび封止部交換方法によれば、弁体に1つの封止部しか設けられていない場合と比較して封止部の交換頻度を低減することができ、また、封止部の交換を短時間で容易に行うことができる。 According to the gate device, the processing system, and the sealing portion replacement method of the present invention, the replacement frequency of the sealing portion can be reduced as compared with the case where only one sealing portion is provided in the valve body, and The sealing part can be easily replaced in a short time.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1乃至図6は、本実施の形態による処理システムやこのような処理システムに設けられたゲート装置を示す図である。このうち、図1は、本実施の形態によるゲート装置を備えた処理システムの構成を概略的に示す概略構成図である。また、図2は、本実施の形態によるゲート装置の構成を示す側面図であって、弁体が退避位置に位置しているときの状態を示す図であり、図3は、図2に示すゲート装置を左側から右向きに見たときの構成を示す正面図である。また、図4および図5は、それぞれ、図2に示すゲート装置において弁体が進出位置や封止位置に移動したときの状態を示す図である。また、図6は、図2に示すゲート装置においてシール材の交換を行うために弁体収容部の蓋部を開いたときの状態を示す図である。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 6 are diagrams showing a processing system according to the present embodiment and a gate device provided in such a processing system. Among these, FIG. 1 is a schematic configuration diagram schematically showing a configuration of a processing system including a gate device according to the present embodiment. 2 is a side view showing the configuration of the gate device according to the present embodiment, and shows a state when the valve body is located at the retracted position, and FIG. 3 is shown in FIG. It is a front view which shows a structure when a gate apparatus is seen rightward from the left side. FIGS. 4 and 5 are views showing the state when the valve body moves to the advance position or the sealing position in the gate device shown in FIG. FIG. 6 is a diagram showing a state when the lid of the valve body housing part is opened in order to replace the sealing material in the gate device shown in FIG.
まず、本実施の形態による処理システムの概略的な構成について図1を用いて説明する。図1に示すように、本実施の形態による処理システムは、真空状態に保たれ、腐食性ガスを用いるエッチングチャンバ等の処理チャンバ1と、処理チャンバ1内の領域に基板を入れたり当該領域から基板を取り出したりするための搬送チャンバ2と、外部環境から処理システムに送られた基板を搬送したり処理システムから外部環境に基板を送ったりするための大気搬送ユニット4と、大気搬送ユニット4の近傍に設けられ、基板が集積されるストッカー5とを備えている。また、搬送チャンバ2と大気搬送ユニット4との間にはロードロックチャンバ3が設けられている。ロードロックチャンバ3は、処理チャンバ1内の領域を真空に保持し大気に開放しないことを目的に、処理チャンバ1への処理前、処理後の基板の出し入れを行うようになっている。また、搬送チャンバ2や大気搬送ユニット4には、基板の搬送を行う搬送アーム2a、4aが設けられている。搬送チャンバ2に設けられた搬送アーム2aにより、処理チャンバ1内の領域やロードロックチャンバ3内の領域への基板の出し入れが行われるようになっている。また、大気搬送ユニット4に設けられた搬送アーム4aによりロードロックチャンバ3内の領域への基板の出し入れが行われるようになっている。また、このような搬送アーム4aによりストッカー5に基板を集積したりストッカー5に集積されている基板を取り出したりする動作が行われるようになっている。
First, a schematic configuration of a processing system according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the processing system according to the present embodiment is maintained in a vacuum state, and a
また、図1に示すように、処理チャンバ1と搬送チャンバ2との間にはゲート装置10が設けられている。また、搬送チャンバ2とロードロックチャンバ3との間やロードロックチャンバ3と大気搬送ユニット4との間にもゲート装置10が設けられている。このようなゲート装置10により、処理チャンバ1、搬送チャンバ2およびロードロックチャンバ3内の圧力がそれぞれ制御可能となる。このようなゲート装置10の構成の詳細について図2乃至図6を用いて説明する。なお、以下の説明では処理チャンバ1と搬送チャンバ2との間に設けられたゲート装置10について述べるが、搬送チャンバ2とロードロックチャンバ3との間やロードロックチャンバ3と大気搬送ユニット4との間に設けられるゲート装置10も略同一の構成となっているためその説明を省略する。
As shown in FIG. 1, a
図2は、本実施の形態によるゲート装置10の構成を示す側面図であり、図3は、図2に示すゲート装置10を左側から右向きに見たときの構成を示す正面図である。図2および図3に示すように、本実施の形態によるゲート装置10は、複数(具体的には、3つ)の平面が設けられ、図2の紙面に直交する方向(すなわち、図3における左右方向)に延びる軸心を中心として回転自在となっている弁体20と、弁体20における各平面にそれぞれ設けられたO−リング等のシール材22(封止部)と、弁体20が収容され、処理チャンバ1および搬送チャンバ2にそれぞれ連通する2つの開口14が設けられている弁体収容部12とを備えている。図2に示すように、弁体20の断面は正三角形形状となっており、この弁体20の3つの平面にそれぞれO−リング等のシール材22が設けられている。また、弁体20の両端部にはそれぞれ軸21が取り付けられており、当該軸21は後述する弁体支持部30の上部に取り付けられた軸支持部31によって回転自在に支持されるようになっている。また、本実施の形態によるゲート装置10には、軸21を回転させるステッピングモータ等の回転駆動部24が設けられており、当該回転駆動部24によって軸21が回転させられることにより弁体20が回転するようになっている。図2および図4乃至図6において、弁体20が回転駆動部24によって回転させられるときの当該弁体20の各頂点が通る領域を二点鎖線の円で示す。
FIG. 2 is a side view showing the configuration of the
本実施の形態によるゲート装置10では、弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14(すなわち、図2における右側の開口14)を、複数のシール材22のうちある一つのシール材22により選択的にシール(封止)することができるようになっている。このようなシール材22により開口14のシールが行われる際の動作の詳細については後述する。
In the
また、本実施の形態によるゲート装置10は、弁体20を支持する棒状の弁体支持部30と、弁体支持部30を昇降させる昇降部40と、昇降部40を図2における左右方向に往復移動させるエアシリンダ42とを備えている。弁体支持部30の上部には、軸21を回転自在に支持する軸支持部31が取り付けられており、これらの軸支持部31および弁体支持部30は一体的に移動するようになっている。また、弁体支持部30の下部には昇降部40が設けられており、当該昇降部40が弁体支持部30を昇降させることにより、弁体20は、図2に示すような弁体収容部12内における開口14に隣接する領域から退避する退避位置と、図4に示すような弁体収容部12内における開口14に隣接する領域である進出位置との間で移動するようになっている。ここで、昇降部40は、ラック・アンド・ピニオン等を用いることにより弁体支持部30を機械的に昇降させるようになっている。また、弁体20が図2に示すような退避位置に位置しているときには、搬送チャンバ2の搬送アーム2aによって基板をゲート装置10内の弁体20の上方の領域を通過させながら各開口14を通るようにすることによって処理チャンバ1内の領域に基板を入れたり処理チャンバ1内の領域から基板を取り出したりすることができるようになる。一方、弁体20が図4に示すような進出位置に位置しているときには、弁体20が邪魔となり搬送チャンバ2の搬送アーム2aによって処理チャンバ1内の領域に基板を入れたり処理チャンバ1内の領域から基板を取り出したりすることができなくなる。
Further, the
また、図2等に示すように、弁体収容部12の外部において当該弁体収容部12の底面と弁体支持部30の下端部30aとの間にはベローズ34(伸縮管)が設けられており、昇降部40が弁体支持部30を上方に移動させるとベローズ34が縮むようになっている。
Further, as shown in FIG. 2 and the like, a bellows 34 (expandable tube) is provided between the bottom surface of the valve
また、エアシリンダ42は、弁体20が図4に示すような進出位置に位置しているときに昇降部40を図4における左側に引き寄せるようになっており、昇降部40が図4における左向きに移動すると弁体支持部30は弁体収容部12の底面と同じ高さレベルに位置する軸心32を中心として図4や図5における時計回りの方向に回動する。このことにより、弁体20は、図4に示すような進出位置から、図5に示すような弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14をシール材22によりシール(封止)する封止位置に移動するようになる。このように、弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14がシール材22によりシールされると、処理チャンバ1内を真空状態に維持することができるようになる。
Further, the
このように、本実施の形態によるゲート装置10では、昇降部40およびエアシリンダ42を組み合わせることにより、弁体20が、弁体収容部12内における開口14に隣接する領域から退避する退避位置(図2参照)、弁体収容部12内における開口14に隣接する領域である進出位置(図4参照)および弁体収容部12に設けられている開口14(具体的には、処理チャンバ1側の開口14)をシール材22により封止する封止位置の間で移動するよう、弁体支持部30を移動させる駆動機構が構成されている。また、このような駆動機構において、昇降部40は、弁体支持部30を鉛直方向に沿って移動させることにより弁体20を退避位置と進出位置との間で移動させる第1駆動部として機能し、また、エアシリンダ42は、軸心32を中心として弁体支持部30を回動させることにより弁体20を進出位置と封止位置との間で移動させる第2駆動部として機能するようになっている。
As described above, in the
また、本実施の形態によるゲート装置10では、弁体収容部12の上端部に蓋部16が設けられており、この蓋部16を開くことにより弁体収容部12の内部にアクセスすることができるようになっている。図6は、図2に示すゲート装置10において弁体収容部12の蓋部16を開いたときの状態を示す図である。このように、作業者は蓋部16を開いて弁体収容部12の内部にアクセスすることにより弁体20の各平面に設けられたシール材22を順次交換することができるようになる。なお、シール材22の交換を行う際に、まず弁体20を図5に示すような封止位置に移動させ、複数のシール材22のうちある一つのシール材22により弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14をシールした後に蓋部16を開き、別のシール材22の交換を行ってもよい。この場合には、処理チャンバ1内の領域を密封した状態で(すなわち、処理チャンバ1内を真空状態に保ったままで)、シール材22の交換を行うことができるようになるため、処理チャンバ1内にパーティクルや水蒸気が流入してしまうことを防止することができるようになる。あるいは、弁体20が図4に示すような進出位置に位置しているときに蓋部16を開いて弁体収容部12の内部にアクセスすることにより弁体20の各平面に設けられたシール材22を順次交換してもよい。
Further, in the
以上のような構成からなる本実施の形態によるゲート装置10によれば、軸心(具体的には、軸21)を中心として回転可能となっている弁体20における複数の平面にそれぞれシール材22(封止部)が設けられており、弁体収容部12に設けられている開口14(具体的には、処理チャンバ1側の開口14)を、複数のシール材22のうちある一つのシール材22により選択的に封止することができるようになっている。この場合には、弁体20に1つのシール材22しか設けられていない場合と比較してシール材22の交換頻度を低減することができ、また、弁体20を回転させながら当該弁体20の各平面に設けられているシール材22を順次交換することによりシール材22の交換を短時間で容易に行うことができる。
According to the
また、本実施の形態のゲート装置10においては、上述したように、弁体収容部12には蓋部16が設けられており、蓋部16を開くことにより弁体収容部12の内部にアクセスすることができるようになっている。この場合には蓋部16を開くだけで弁体20の各平面に設けられているシール材22の交換を行うことができるため、シール材22の交換をより容易に行うことができるようになる。
In the
また、本実施の形態のゲート装置10においては、上述したように、弁体収容部12に設けられている開口14をシール材22により封止する軸心(具体的には、軸21)を中心として弁体20を回転させる回転駆動部24が設けられている。このことにより、弁体20に設けられている複数のシール材22について、弁体収容部12に設けられている開口14をシールするシール材22を自動で他のシール材22に切り替えることができるようになる。
Further, in the
また、本実施の形態のゲート装置10においては、上述したように、弁体収容部12内における開口14に隣接する領域から退避する退避位置(図2参照)、弁体収容部12内における開口14に隣接する領域である進出位置(図4参照)および弁体収容部12に設けられている開口14をシール材22によりシール(封止)する封止位置(図5参照)の間で弁体20が移動するよう弁体支持部30を移動させる駆動機構が設けられている。具体的には、このような駆動機構は、弁体支持部30を鉛直方向に沿って移動させることにより弁体20を退避位置と進出位置との間で移動させる第1駆動部としての昇降部40と、軸心32を中心として弁体支持部30を回動させることにより弁体20を進出位置と封止位置との間で移動させる第2駆動部としてのエアシリンダ42とを有している。このことにより、弁体20が退避位置に位置しているときには搬送チャンバ2の搬送アーム2aによって処理チャンバ1内の領域に基板を入れたり処理チャンバ1内の領域から基板を取り出したりすることができるようになり、一方、弁体20を退避位置から進出位置を経て封止位置に移動させることにより弁体収容部12に設けられている開口14をシール材22によりシールすることができるようになる。
Further, in the
また、本実施の形態のゲート装置10においては、上述したように、封止部としてのシール材22はO−リングである。なお、本実施の形態のゲート装置10はこのような態様に限定されることはなく、シール材22としてO−リング以外の他の種類のシール材が用いられるようになっていてもよい。
Moreover, in the
また、本実施の形態のゲート装置10を備えた処理システムにおいては、上述したように、処理チャンバ1内の領域と、ゲート装置10における弁体収容部12内の領域とが当該弁体収容部12に設けられた開口14を介して連通しており、処理チャンバ1内の領域とゲート装置10における弁体収容部12内の領域とを連通させる開口14は、弁体20の複数の平面にそれぞれ設けられたシール材22のうちある一つのシール材22によってシール(封止)されるようになっている。
Further, in the processing system including the
また、本実施の形態のゲート装置10におけるシール材22の交換方法において、複数のシール材22のうちある一つのシール材22により弁体収容部12に設けられている開口14を封止している間に別のシール材22の交換が行われるようになっている。この場合には、処理チャンバ1内の領域を密封した状態で(すなわち、処理チャンバ1内を真空状態に保ったままで)、シール材22の交換を行うことができるようになるため、処理チャンバ1内にパーティクルや水蒸気が流入してしまうことを防止することができるようになる。
Further, in the method of replacing the sealing
なお、本実施の形態によるゲート装置10は、上述したような態様に限定されることはなく、様々な変更を加えることができる。
In addition, the
例えば、ゲート装置10に設けられる弁体は、図2等に示すような断面が正三角形形状となっており3つのシール材22が3つの平面に設けられるような構成のものに限定されることはない。本実施の形態によるゲート装置10における弁体の様々な構成のバリエーションについて図7(a)〜(f)を用いて説明する。図7(a)に示す弁体20aでは、断面が長方形形状となっており、2つのシール材22が2つの平面の各々に設けられるようになっている。また、図7(b)に示す弁体20bでは、断面が正方形形状となっており、4つのシール材22が4つの平面の各々に設けられるようになっている。また、図7(c)に示す弁体20cでは、断面が正五角形形状となっており、5つのシール材22が5つの平面の各々に設けられるようになっている。また、図7(d)に示す弁体20dでは、断面が正六角形形状となっており、6つのシール材22が6つの平面の各々に設けられるようになっている。また、図7(e)に示す弁体20eでは、断面が扇形状となっており、2つのシール材22が2つの平面の各々に設けられるようになっている。また、図7(f)に示す弁体20fでは、断面が台形形状となっており、3つのシール材22が3つの平面の各々に設けられるようになっている。このように、本実施の形態によるゲート装置10に設けられる弁体として、複数の平面を有するとともに複数のシール材22が複数の平面の各々に設けられるものであれば、図2等に示すような形状のもの以外にも様々な形状のものを用いることができる。なお、本実施の形態によるゲート装置10に設けられる弁体として、図7(a)〜(f)に示す形状以外のものが用いられてもよい。
For example, the valve body provided in the
また、図2乃至図6に示すゲート装置10において、弁体収容部12内の雰囲気を加熱する加熱部が設けられていてもよい。弁体収容部12内の雰囲気を加熱部によって加熱することによりこのゲート装置10に隣接する処理チャンバ1内を早く真空状態とすることができるようになる。
Further, in the
また、弁体収容部12内における開口14に隣接する領域から退避する退避位置、弁体収容部12内における開口14に隣接する領域である進出位置および弁体収容部12に設けられている開口14をシール材22によりシール(封止)する封止位置の間で弁体20が移動するよう弁体支持部を移動させる駆動機構は、図2乃至図6に示すような昇降部40およびエアシリンダ42を組み合わせたものに限定されることはない。退避位置、進出位置および封止位置の間で弁体20を移動させる駆動機構の他の構成例について図8および図9を用いて説明する。図8は、変形例に係るゲート装置10aの構成を示す側面図であり、図9は、図8に示すゲート装置10aを左側から右向きに見たときの構成を示す正面図である。なお、図8および図9に示すゲート装置10aを説明するにあたり、図2乃至図6に示すゲート装置10と同じ構成部材については同じ参照符号を付けてその説明を省略する。
Further, a retracted position for retreating from a region adjacent to the
図8および図9に示すように、変形例に係るゲート装置10aにおいては、弁体20の下方に棒状の弁体支持部36が設けられており、この弁体支持部36の上部には、軸21を回転自在に支持する軸支持部31が取り付けられている。また、弁体支持部36には当該弁体支持部36の長手方向に延びる長穴36aが設けられており、この長穴36aには、弁体収容部12に位置固定で設けられたピン部材38が挿入されるようになっている。また、弁体収容部12の外部において当該弁体収容部12の底面と弁体支持部36の下端部36bとの間にはベローズ34(伸縮管)が設けられており、弁体支持部30が上方に移動するとベローズ34が縮むようになっている。
As shown in FIGS. 8 and 9, in the
また、弁体支持部36の下端部36bには棒状の取付部材44が当該下端部36bから下方に延びるよう取り付けられており、この取付部材44の下端部分にはエアシリンダ42の先端部分が回転自在に接続されている。また、図8および図9に示すような変形例に係るゲート装置10aでは、エアシリンダ42自体が昇降可能となっている。そして、エアシリンダ42が昇降することにより、弁体収容部12に対して弁体支持部36が図8における上下方向に移動し、このことにより、弁体20は、図8(a)に示すような弁体収容部12内における開口14に隣接する領域から退避する退避位置と、図8(b)に示すような弁体収容部12内における開口14に隣接する領域である進出位置との間で鉛直方向に沿って移動するようになっている。ここで、弁体収容部12に対して弁体支持部36が図8における上下方向に移動する際に、当該弁体収容部12に位置固定で設けられたピン部材38が弁体支持部36の長穴36a内で相対的に移動するようになる。
Further, a rod-shaped
また、エアシリンダ42は、弁体20が図8(b)に示すような進出位置に位置しているときに取付部材44の下端部分を図8における左側に引き寄せるようになっており、取付部材44の下端部分が図8における左向きに移動すると長穴36a内のピン部材38を中心として弁体支持部36が図8における時計回りの方向に回動する。このことにより、弁体20は、図8(b)に示すような進出位置から、図8(c)に示すような弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14をシール材22によりシール(封止)する封止位置に移動するようになる。このように、弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14がシール材22によりシールされると、処理チャンバ1内を真空状態に維持することができるようになる。
Further, the
図8および図9に示すような変形例に係るゲート装置10aでも、図2乃至図6に示すようなゲート装置10と同様に、軸心(具体的には、軸21)を中心として回転可能となっている弁体20における複数の平面にそれぞれシール材22(封止部)が設けられており、軸心を中心として弁体20を回転させることにより、弁体収容部12に設けられている開口14(具体的には、処理チャンバ1側の開口14)を、複数のシール材22のうちある一つのシール材22により選択的に封止することができるようになっているため、弁体20に1つのシール材22しか設けられていない場合と比較してシール材22の交換頻度を低減することができ、また、弁体20を回転させながら当該弁体20の各平面に設けられているシール材22を順次交換することによりシール材22の交換を短時間で容易に行うことができる。また、図8および図9に示すような変形例に係るゲート装置10aでも、退避位置、進出位置および封止位置の間で弁体20を移動させる駆動機構が設けられているため、弁体20が退避位置に位置しているときには搬送チャンバ2の搬送アーム2aによって処理チャンバ1内の領域に基板を入れたり処理チャンバ1内の領域から基板を取り出したりすることができるようになり、一方、弁体20を退避位置から進出位置を経て封止位置に移動させることにより弁体収容部12に設けられている開口14をシール材22によりシールすることができるようになる。
The
退避位置、進出位置および封止位置の間で弁体20を移動させる駆動機構の更に他の構成例について図10および図11を用いて説明する。図10は、別の変形例に係るゲート装置10bの構成を示す側面図であり、図11は、図10に示すゲート装置10bを左側から右向きに見たときの構成を示す正面図である。なお、図10および図11に示すゲート装置10bを説明するにあたり、図2乃至図6に示すゲート装置10や図8および図9に示すゲート装置10aと同じ構成部材については同じ参照符号を付けてその説明を省略する。
Still another configuration example of the drive mechanism that moves the
図10および図11に示すように、別の変形例に係るゲート装置10bにおいては、弁体20の下方に弁体支持部50が設けられており、この弁体支持部50の上部には、軸21を回転自在に支持する軸支持部31が取り付けられている。また、弁体収容部12の内部において弁体支持部50の下端部50aと弁体収容部12の底面との間にはベローズ52(伸縮管)が設けられており、弁体支持部50が下方に移動するとベローズ52が縮むようになっている。
As shown in FIGS. 10 and 11, in a
また、図10および図11に示すゲート装置10bは、弁体支持部50を昇降させる昇降部54と、昇降部54を図10における左右方向に往復移動させるエアシリンダ42とを備えており、昇降部54が弁体支持部50を昇降させることにより、弁体20は、図10(a)に示すような弁体収容部12内における開口14に隣接する領域から退避する退避位置と、図10(b)に示すような弁体収容部12内における開口14に隣接する領域である進出位置との間で鉛直方向に沿って移動するようになっている。ここで、昇降部54は、ラック・アンド・ピニオン等を用いることにより弁体支持部50を機械的に昇降させるようになっている。
The
また、エアシリンダ42は、弁体20が図10(b)に示すような進出位置に位置しているときに昇降部54の下部を図10における左側に引き寄せるようになっており、昇降部54の下部が図10における左向きに移動すると当該昇降部54および弁体支持部50は一体的に図10における時計回りの方向に回動する。このことにより、弁体20は、図10(b)に示すような進出位置から、図10(c)に示すような弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14をシール材22によりシール(封止)する封止位置に移動するようになる。このように、弁体収容部12に設けられている処理チャンバ1側の開口14がシール材22によりシールされると、処理チャンバ1内を真空状態に維持することができるようになる。
Further, the
図10および図11に示すような変形例に係るゲート装置10bでも、図2乃至図6に示すようなゲート装置10や図8および図9に示すようなゲート装置10aと同様に、軸心(具体的には、軸21)を中心として回転可能となっている弁体20における複数の平面にそれぞれシール材22(封止部)が設けられており、軸心を中心として弁体20を回転させることにより、弁体収容部12に設けられている開口14(具体的には、処理チャンバ1側の開口14)を、複数のシール材22のうちある一つのシール材22により選択的に封止することができるようになっているため、弁体20に1つのシール材22しか設けられていない場合と比較してシール材22の交換頻度を低減することができ、また、弁体20を回転させながら当該弁体20の各平面に設けられているシール材22を順次交換することにより、シール材22の交換を短時間で容易に行うことができる。また、図10および図11に示すような変形例に係るゲート装置10bでも、退避位置、進出位置および封止位置の間で弁体20を移動させる駆動機構が設けられているため、弁体20が退避位置に位置しているときには搬送チャンバ2の搬送アーム2aによって処理チャンバ1内の領域に基板を入れたり処理チャンバ1内の領域から基板を取り出したりすることができるようになり、一方、弁体20を退避位置から進出位置を経て封止位置に移動させることにより弁体収容部12に設けられている開口14をシール材22によりシールすることができるようになる。また、図10および図11に示すような変形例に係るゲート装置10bでは、ベローズ52が弁体収容部12の内部に設けられているため、ベローズが外気に曝される場合と比較してベローズ52が腐食してしまうことを抑制することができるようになる。また、図10および図11に示すような変形例に係るゲート装置10bでは、ベローズ52が伸びている状態のときに昇降部54および弁体支持部50が一体的に回動するため、ベローズ52が摩耗により損傷してしまうことを抑制することができるようになる。
The
1 処理チャンバ
2 搬送チャンバ
2a 搬送アーム
3 ロードロックチャンバ
4 大気搬送ユニット
4a 搬送アーム
5 ストッカー
10、10a、10b ゲート装置
12 弁体収容部
14 開口
16 蓋部
20、20a〜20f 弁体
21 軸
22 シール材
24 回転駆動部
30 弁体支持部
30a 下端部
31 軸支持部
32 軸心
34 ベローズ
36 弁体支持部
36a 長穴
36b 下端部
38 ピン部材
40 昇降部
42 エアシリンダ
44 取付部材
50 弁体支持部
50a 下端部
52 ベローズ
54 昇降部
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記弁体における各前記平面にそれぞれ設けられた封止部と、
前記弁体が収容され、開口が設けられている弁体収容部と、
を備え、
前記弁体収容部に設けられている前記開口を、複数の前記封止部のうちある一つの前記封止部により選択的に封止することができるようになっている、ゲート装置。 A valve body provided with a plurality of planes and rotatable about an axis;
Sealing portions respectively provided on the flat surfaces of the valve body;
A valve body housing portion in which the valve body is housed and an opening is provided;
With
The gate apparatus which can selectively seal the said opening provided in the said valve body accommodating part with the said one sealing part among the said some sealing parts.
前記弁体収容部内における前記開口に隣接する領域から退避する退避位置、前記弁体収容部内における前記開口に隣接する領域である進出位置および前記弁体収容部に設けられている前記開口を前記封止部により封止する封止位置の間で前記弁体が移動するよう前記弁体支持部を移動させる駆動機構と、
を更に備えた、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のゲート装置。 A valve body support part for supporting the valve body;
The retraction position for retreating from the region adjacent to the opening in the valve body housing portion, the advance position that is the region adjacent to the opening in the valve body housing portion, and the opening provided in the valve body housing portion are sealed. A drive mechanism for moving the valve body support portion so that the valve body moves between sealing positions sealed by a stop portion;
The gate device according to any one of claims 1 to 3, further comprising:
請求項1乃至6のいずれか一項に記載のゲート装置と、
を備え、
前記処理チャンバ内の領域と、前記ゲート装置における前記弁体収容部内の領域とが当該弁体収容部に設けられた前記開口を介して連通しており、前記処理チャンバ内の領域と前記ゲート装置における前記弁体収容部内の領域とを連通させる前記開口は、前記ゲート装置における複数の前記封止部のうちある一つの前記封止部により選択的に封止されるようになっている、処理システム。 A processing chamber for processing a workpiece;
The gate device according to any one of claims 1 to 6,
With
The region in the processing chamber communicates with the region in the valve body housing portion of the gate device through the opening provided in the valve body housing portion, and the region in the processing chamber and the gate device The opening that communicates with the region in the valve body housing part in the gate device is selectively sealed by one sealing part among the plurality of sealing parts in the gate device. system.
前記弁体収容部に設けられている蓋部を開く工程と、
前記弁体収容部の内部にアクセスして前記封止部の交換を行う工程と、
を備えた、封止部交換方法。 A valve body that is provided with a plurality of planes and is rotatable around an axis, a sealing portion that is provided on each of the planes of the valve body, the valve body is accommodated, and an opening is provided. A valve body housing portion, and the opening provided in the valve body housing portion can be selectively sealed by one sealing portion among the plurality of sealing portions. A method of replacing the sealing portion in a gate device configured as described above,
Opening the lid portion provided in the valve body housing portion;
A step of accessing the inside of the valve body housing portion and replacing the sealing portion;
The sealing part replacement | exchange method provided with.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6412670B1 (en) * | 2018-04-13 | 2018-10-24 | 株式会社ブイテックス | Gate valve |
KR20200001127A (en) * | 2018-06-27 | 2020-01-06 | 주식회사 에이씨엔 | Mono type gate valve system |
KR20200001128A (en) * | 2018-06-27 | 2020-01-06 | (주) 엔피홀딩스 | Rotary replacement type gate valve system |
WO2019240516A3 (en) * | 2018-06-15 | 2020-02-06 | (주) 엔피홀딩스 | Gate valve system and control method therefor |
KR20200145069A (en) * | 2019-06-20 | 2020-12-30 | (주) 엔피홀딩스 | Gate valve system |
-
2015
- 2015-07-28 JP JP2015148788A patent/JP2017026128A/en active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6412670B1 (en) * | 2018-04-13 | 2018-10-24 | 株式会社ブイテックス | Gate valve |
JP2019183996A (en) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | 株式会社ブイテックス | Gate valve |
WO2019240516A3 (en) * | 2018-06-15 | 2020-02-06 | (주) 엔피홀딩스 | Gate valve system and control method therefor |
KR20200001127A (en) * | 2018-06-27 | 2020-01-06 | 주식회사 에이씨엔 | Mono type gate valve system |
KR20200001128A (en) * | 2018-06-27 | 2020-01-06 | (주) 엔피홀딩스 | Rotary replacement type gate valve system |
KR102072758B1 (en) | 2018-06-27 | 2020-02-03 | (주) 엔피홀딩스 | Rotary replacement type gate valve system |
KR102131283B1 (en) * | 2018-06-27 | 2020-07-07 | 주식회사 에이씨엔 | Mono type gate valve system |
KR20200145069A (en) * | 2019-06-20 | 2020-12-30 | (주) 엔피홀딩스 | Gate valve system |
KR102224594B1 (en) | 2019-06-20 | 2021-03-08 | (주) 엔피홀딩스 | Gate valve system |
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