JP2016507009A - 非導電性ポリマー上に第一の金属層を成膜する方法 - Google Patents

非導電性ポリマー上に第一の金属層を成膜する方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2016507009A
JP2016507009A JP2015557356A JP2015557356A JP2016507009A JP 2016507009 A JP2016507009 A JP 2016507009A JP 2015557356 A JP2015557356 A JP 2015557356A JP 2015557356 A JP2015557356 A JP 2015557356A JP 2016507009 A JP2016507009 A JP 2016507009A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
conductive polymer
layer
forming
alloy layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015557356A
Other languages
English (en)
Inventor
ナルスケヴィツィウス レオナス
ナルスケヴィツィウス レオナス
バラナウスカス ミコラス
バラナウスカス ミコラス
タマサウスカイテ タマシウナイテ ロレタ
タマサウスカイテ タマシウナイテ ロレタ
ギリエネ オナ
ギリエネ オナ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Atotech Deutschland GmbH and Co KG
Original Assignee
Atotech Deutschland GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Atotech Deutschland GmbH and Co KG filed Critical Atotech Deutschland GmbH and Co KG
Publication of JP2016507009A publication Critical patent/JP2016507009A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • C23C18/24Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1655Process features
    • C23C18/166Process features with two steps starting with addition of reducing agent followed by metal deposition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1675Process conditions
    • C23C18/168Control of temperature, e.g. temperature of bath, substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28Sensitising or activating
    • C23C18/30Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

本発明は、エッチング、活性化、及び非導電性ポリマー上への第一の金属層又は金属合金層の成膜に関する。非導電性ポリマーは、60〜80容積%の硫酸中で0.75〜3.6g/Lの過マンガン酸イオンを含む水溶液でエッチングされ、貴金属を含有する溶液で活性化され、浸漬型めっき又は無電解(自己触媒)めっきにより第一の金属層又は金属合金層を成膜される。得られた第一の金属層又は金属合金層は非導電性ポリマー上で高い接着性を有し、その上に一層以上の追加の金属層及び/又は金属合金層を電気めっきするためのめっき基材として機能する。

Description

発明の分野
本発明は、湿式化学金属化前の非導電性ポリマーの表面の製造に関し、非導電性ポリマー上の装飾又は機能的金属被覆が必要とされる様々な産業分野で使用できる。
発明の背景
湿式化学金属化の伝統的技術は、クロム酸溶液を用いて非導電性ポリマーの表面をエッチングする工程、貴金属を含む溶液を用いた触媒的活性化工程、及び湿式化学金属化により第一の金属層、通常は銅又はニッケル(合金)の第一の層を得る工程からなる。
エッチングは、非導電性ポリマーの表面に、活性剤水溶液から十分な量の貴金属を吸着させ、かつ第一の金属層と非導電性ポリマーとの間の良好な接着を確実にするために重要である、親水性を付与するために必要である。
貴金属を含む溶液を用いた活性化は、非導電性ポリマーの表面上に第一の金属層又は金属合金層の湿式化学成膜を開始させるために行われる。次いで、この第一の金属層は電気めっきにより、その上に一層以上の金属層を成膜するためのめっき基材として機能する。
従来技術の主な欠点は、非導電性ポリマーの表面をエッチングするために使用されるクロム酸(六価クロム)の発癌性である。
米国特許出願公開第2005/0199587 A1号明細書は、20g/L〜70g/Lの過マンガン酸カリウムを含む、非導電性ポリマー用の酸性エッチング溶液を開示する。過マンガン酸カリウムの最適濃度は、約50g/Lである。過マンガン酸イオンの濃度が20g/L未満の時、溶液は有用ではないが、濃度の上限は過マンガン酸カリウムの溶解度によって制限される。エッチング後、活性化は、錯化剤としてのアミンを含有するパラジウム塩溶液を用いて行われ、その後に、非導電性ポリマーは還元剤、例えば、ホウ水素化物溶液、次亜リン酸塩溶液又はヒドラジン溶液で処理される。
(約50g/L及び約40容積%の硫酸又はリン酸が推奨される)エッチング溶液中の過マンガン酸塩が高濃度の場合、過マンガン酸塩は特に例えば、37℃の高められた温度で容易に分解する。この温度で、エッチング溶液は4〜6時間後に有用でなくなる。その時、非導電性ポリマーの濡れ性は、活性剤水溶液から十分な量の貴金属を吸着するのに十分な高さではない。また、非導電性ポリマーと一層以上のめっきされた金属層との間の接着性が著しく低下する。また、不溶性過マンガン酸塩解離産物はエッチング溶液中で富化され、めっきされる表面を汚染し得る。
特許LT 5645 Bは、非導電性ポリマー上への第一の金属層の塗布方法を開示する。第一の工程で塗布されるエッチング水溶液は、70〜90質量%の硫酸及び0.0001〜0.01質量%(0.001〜0.1g/L)の過マンガン酸塩を含む。パラジウムイオン及び尿素を含むイオノゲン活性剤溶液は第二の工程で塗布され、第一の金属層の湿式化学成膜がこれに続く。
文献「PEEKの過マンガン酸によるエッチング」(R.H.Olley、D.C.Bassett、D.J.Blundell、ポリマー、27:344〜348、1986年)には、1質量%(10g/L)の過マンガン酸カリウム、5容積部(56容積%)の濃硫酸、2容積部の85%オルトリン酸、及び2容積部の水を含む、ポリ(アリール−エーテル−エーテル−ケトン)(PEEK)用のエッチング溶液が開示されている。しかし、この文献には、活性化工程もその上への第一の金属層の成膜工程も開示されていない。このエッチング溶液は、本発明の例4(比較例)で使用した。
ポリマー表面の金属化方法は、欧州特許出願公開第1001052 A2号明細書に開示される。ポリマー表面は、酸化剤を含む「弱」酸性溶液でエッチングされる。次に、表面をコバルト、銀、スズ及び鉛の塩から選択される金属塩の水溶液を用いて活性化し、続いてその表面に硫化物溶液を接触させ、第一の金属層を成膜する。
本発明の課題
本発明の課題は、十分に高い接着性を有する非導電性ポリマーへ、第一の金属層又は金属合金層を接着させ、それによって発癌性物質の使用を回避するための方法を提供することである。
発明の概要
本課題は、非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法であって、
(i)非導電性ポリマーを提供する工程と、
(ii)前記非導電性ポリマーを、60〜80容積%の硫酸中で0.75〜3.6g/Lの過マンガン酸イオンを含む液体と接触させる工程と、
(iii)エッチングされた非導電性ポリマーを、貴金属を含有する活性剤溶液と接触させる工程と、及び
(iv)活性化された非導電性ポリマー上に、湿式化学法により第一の金属層又は金属合金層を成膜する工程と、
をこの順序で含む方法によって解決される。
これにより、非導電性ポリマーへの十分な接着性を有する第一の金属層又は金属合金層が得られる。次いで、この第一の金属層又は金属合金層は、電気めっきによりその上に成膜される追加の金属層及び/又は金属合金層に適しためっき基材として機能する。
発明の詳細な説明
種々の用途のための基材材料として使用される非導電性ポリマーは、その上に成膜される少なくとも一種の金属層又は金属合金層からなる金属コーティングを必要とする。この種の典型的な用途は例えば、装飾目的のための金属コーティングを必要とするシャワーヘッド又は自動車部品である。別の重要な例としては例えば、ガラス繊維を充填したエポキシ樹脂の上面上に金属の電気回路を必要とする、プリント回路基板等の電子部品である。
ポリマーに関する非導電性という用語は、本明細書では電気伝導性ではないものと定義される。従って、電気めっき等の湿式化学成膜法によるこのような非導電性ポリマー上への一層以上の金属層の成膜は、本発明の方法による非導電性ポリマー表面の調製を必要とする。
湿式化学的方法により一層以上の金属層を被覆され得る非導電性ポリマー材料は例えば、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー(ABS)、ポリカーボネート(PC)、ABS−PC複合体(ABC−PCブレンドとも呼ばれる)、ポリアミド(PA)、及びエポキシ樹脂である。
非導電性ポリマーは、本発明の第一の工程において、60〜80容積%硫酸中で0.75〜3.6g/Lの過マンガン酸イオンを含有するエッチング溶液を用いて処理される。
過マンガン酸塩源は、過マンガン酸のアルカリ金属塩及び過マンガン酸のアルカリ土類金属塩から選択される。好ましくは、この目的のために過マンガン酸のアルカリ金属塩が利用される。最も好ましい過マンガン酸イオン源は、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム及びそれらの混合物である。
非導電性ポリマーと接触する時、エッチング溶液は好ましくは10〜40℃の範囲、より好ましくは20〜30℃の範囲内の温度に保たれる。
接触時間は好ましくは1〜20分、より好ましくは2〜10分の範囲である。
エッチング溶液は例えば、60〜80容積%の硫酸中に1〜4.7g/Lの過マンガン酸カリウムを溶解させることにより製造される。1g/L未満の過マンガン酸カリウムを使用する場合、エッチング効率が低下する。すなわち、非導電性ポリマーの上面上への第一の金属層又は金属合金層の接着は十分ではない。同じことが、過マンガン酸イオン濃度が高すぎる場合にも当てはまる。また、3.6g/Lを超える過マンガン酸イオン濃度は、安全上の懸念を引き起こす。
エッチング溶液は例えば、1.0g/Lの過マンガン酸カリウムを含有する溶液を添加することにより補充されてよい。
このようなエッチング溶液を用いた非導電性ポリマーのエッチング時間は、処理される非導電性ポリマー材料に応じて決めてよく、通常の実験で決定することができる。
貯蔵及び使用中のエッチング溶液の安定性を高めるために、低濃度の過マンガン酸イオン(0.75〜3.6g/L)の溶液が、60〜80容積%の硫酸中で使用される。このようなエッチング溶液は、十分な安定性及び非導電性ポリマーをエッチングするための十分な能力を有する。
本発明によるエッチング溶液の貯蔵及び使用についての安定性は密度によって決まり、1.7〜1.82g/mlの密度範囲、より具体的には1.72〜1.8g/mlの範囲で十分である。
本発明の一実施形態ではリン酸が使用され、(硫酸の濃度に応じて)エッチング溶液の密度を(比重計で測定される)1.7〜1.82g/mlの望ましい範囲、より具体的には1.72〜1.8g/mlの範囲に調節する。リン酸は、オルトリン酸、メタリン酸、ポリリン酸及びこれらの混合物の形態でエッチング溶液に添加できる。
次に、エッチングされた非導電性ポリマーは、貴金属を含有する活性剤溶液を用いて活性化される。貴金属は好ましくは銀、金、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及びこれらの混合物からなる群から選択される。貴金属は、イオンの形態で、及び/又はコロイドとして、活性剤溶液中に存在する。貴金属イオンは、活性剤溶液に、水溶性貴金属塩、例えば、貴金属塩化物、貴金属酢酸塩及び貴金属硫酸塩として添加される。パラジウムが最も好ましい貴金属である。
本発明の一実施形態では、活性剤溶液はパラジウムイオンを含む。パラジウムイオン源は水溶性パラジウム塩、例えば、塩化パラジウム、硫酸パラジウム、及び酢酸パラジウムから選択される。
この種の活性剤溶液中の貴金属イオン、好ましくはパラジウムイオンの濃度は好ましくは10〜500mg/L、より好ましくは35〜250mg/Lの範囲である。
非導電性ポリマーを、貴金属イオン、好ましくはパラジウムイオンを含む溶液と、1〜10分間、より好ましくは3〜6分間、好ましくは接触させる。貴金属イオン、好ましくはパラジウムイオンを含む溶液の温度は、エッチングされた非導電性ポリマーを活性化するために20〜60℃、より好ましくは40〜50℃の範囲の温度に好ましくは保持される。
非導電性ポリマーと活性剤溶液とを接触させた後、非導電性ポリマーと還元剤を含む溶液とを接触させることにより、非導電性ポリマー上に成膜されたパラジウムイオンは、金属状態に還元される。
本発明の還元剤は例えば、次亜リン酸イオン、ボラン化合物及びヒドラジンである。
好適な次亜リン酸イオン源は例えば、次亜リン酸のナトリウム塩及びカリウム塩並びにこれらの各々の水和物である。
好適なボラン化合物は例えば、ホウ水素化ナトリウム及びジメチルアミノボランである。
非導電性ポリマーは、還元剤を含む溶液と1〜10分間、より好ましくは3〜6分間、好ましくは接触させる。還元剤を含む溶液の温度は、この目的のために25〜60℃、より好ましくは30〜50℃の範囲の温度に好ましくは保持される。
非導電性ポリマーはその後、浸漬型めっき反応又は無電解(自己触媒)めっきにより、その上に第一の金属層又は金属合金層を成膜させるために適合させる。
本発明の第二の実施形態では、エッチングされた非導電性ポリマーは、貴金属コロイド、好ましくはパラジウムコロイドを含む溶液を用いて活性化される。
コロイド形態中の貴金属の濃度、好ましくはコロイド形態におけるパラジウムの濃度は、好ましくは50〜500mg/L、より好ましくは150〜250mg/Lの範囲である。このような活性剤溶液は、好ましくは酸性である。最も好ましい酸は塩酸である。水/酸混合物中の塩酸の濃度は好ましくは2〜30質量%、より好ましくは5〜15質量%の範囲である。
本発明の一実施形態では、前記コロイド状活性剤溶液は、水と酸の混合物に、スズ(II)塩と一緒に所望のパラジウム濃度でパラジウム塩を添加することにより製造される。スズイオンの濃度は好ましくは2〜50g/L、より好ましくは20〜25g/Lの範囲である。このようなコロイド状パラジウム活性剤溶液は、米国特許第3011920号明細書及び米国特許第3682671号明細書に開示される。
次に、非導電性ポリマーは、好ましくは水ですすがれる。
次いで、第一の金属層又は金属合金層は、好ましくは浸漬型めっき又は無電解(自己触媒)めっきである湿式化学成膜法によって、活性化された非導電性ポリマー上に成膜される。
活性化された非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜させるのに適した浸漬型めっき浴組成物は、金属イオン用の少なくとも1つの供給源及び前記金属イオン用の少なくとも一つの錯化剤を含む。好ましくは、このような浸漬型めっき浴組成物は、ホルムアルデヒド又は次亜リン酸イオンなどの強力な還元剤を含まない。
好ましくは銅、ニッケル、金、パラジウム、及び他の貴金属、又はそれらの合金は、浸漬型めっきにより、活性化された非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層として成膜される。最も好ましくは、浸漬型めっきにより第一の金属層として成膜される第一の金属層は、銅又はニッケルである。
金属イオン源は好ましくは、金属硫酸塩及び金属酢酸塩等の水溶性金属塩である。金属イオン源の濃度は好ましくは0.1〜50g/L、より好ましくは0.5〜15g/Lの範囲である。
少なくとも一つの錯化剤は好ましくは、アミン、アルカノールアミン、カルボン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシルカルボン酸及びアミノカルボン酸を含む群から選択される。最も好ましくは少なくとも一つの錯化剤はエタノールアミン、EDTA、酒石酸、クエン酸及びN、N、N’、N’−テトラキス−(2−ヒドロキシプロピル)−エチレンジアミン及びそれらの塩からなる群から選択される。少なくとも一つの錯化剤の濃度は、好ましくは0.1〜3.0mol/L、より好ましくは0.5〜1.5mol/Lの範囲である。
めっき中に、浸漬型めっき浴組成物は好ましくは30〜65℃、より好ましくは50〜60℃の範囲の温度に維持される。
活性化された非導電性ポリマー上に浸漬型めっきにより成膜された第一の金属層又は金属合金層はその後、電気めっきによりその上に一層以上の追加の金属層及び/又は金属合金層を成膜させるためのめっき浴として機能する。
活性化された非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜させるのに適した無電解(自己触媒)めっき浴組成物は、金属イオン源、還元剤、少なくとも一種の錯化剤、及び少なくとも一種の安定化剤を含む。
好適な金属イオン源は、硫酸塩及び酢酸塩等の水溶性金属塩である。
無電解めっきにより銅層を成膜させるための好適な還元剤は、例えばホルムアルデヒドであり、ニッケル合金層を成膜するためには例えば次亜リン酸ナトリウムとして添加された次亜リン酸塩(Ni−P合金)及びジメチルアミノボラン等のボラン化合物(Ni−B合金)である。
好適な錯化剤は例えば、アミン、エタノールアミン等のアルカノールアミン、酢酸等のカルボン酸、コハク酸等のポリカルボン酸、クエン酸等のヒドロキシルカルボン酸、EDTA等のアミノカルボン酸、及びそれらの各々の塩である。
このようなめっき浴組成物はその技術分野で公知であり、めっき浴温度及びめっき時間等のめっきパラメータは、当業者によって所望の用途に応じて最適化できる。
任意に、非導電性ポリマーは、上記の各プロセス工程の間に例えば水ですすぐ。
次いで、電気めっきにより、第一の金属層又は金属合金層上に一層以上の追加の金属層及び/又は金属合金層を成膜することができる。
実施例
本発明をここで以下の実施例を参照して説明するが、これらに制限されるものではない。
ABS衛生バルブカバーからなる基材を、過マンガン酸イオン及び硫酸を含有する様々な水溶液を用いて、20℃の温度で4分間、エッチングした。
次いで、パラジウムイオンを含有する活性剤水溶液中にエッチングされた基材を浸し、続いて次亜リン酸イオンを含有する水溶液を用いたパラジウムイオンの還元により、エッチングされた基材を活性化させた(Covertron(登録商標)活性剤(200mg/L パラジウムイオン)及びCovertron(登録商標)還元剤、共にAtotech Deutschland GmbHの製品である)。
次に、活性化された基材上に、無電解(自己触媒)めっきにより、Ni−P合金層を成膜した(40℃で10分間、Adhemax(登録商標) Ni LFS、Atotech Deutschland GmbHの製品)。
接着強度を評価するために、第一の金属層は、酸性電気めっき浴から得られた第二の金属層として銅を用いて厚くした(室温で70分間、Cupracid(登録商標) HT、Atotech Deutschland GmbHの製品)。
次いで、めっきされた基材から追加の熱処理なしに、11mm幅の第一の金属層及び電気めっきされた銅の第二の金属層からなる金属層を互いに剥がすために必要な力を測定した。各例について、引っ張り長さは25mmであり、引っ張り速度を200mm/分に設定した。インストロン社製の引っ張り強度試験機5542を使用した。
例1
80容積%の硫酸及び3g/Lの過マンガン酸ナトリウムを含む溶液(80容積%硫酸中の3g/Lの過マンガン酸ナトリウム)を、ABS基材材料をエッチングするために使用した。
測定された接着性は、1.4N/mmであった。
例2
62.5容積%の硫酸及び2.8g/Lの過マンガン酸ナトリウムを含む溶液(62.5容積%硫酸中の2.8g/Lの過マンガン酸ナトリウム)を、ABS基材材料をエッチングするために使用した。
測定された接着性は、1.49N/mmであった。
例3(比較例)
56容積%の硫酸及び10g/L(1質量%)の過マンガン酸ナトリウムを含む溶液(56容積%硫酸中の10g/L(1質量%)の過マンガン酸ナトリウム)を、ABS基材材料をエッチングするために使用した。
測定された接着性は、1.04N/mmであった。
例4(比較例)
85容積%の硫酸及び3g/Lの過マンガン酸ナトリウムを含む溶液(85容積%硫酸中の3g/Lの過マンガン酸ナトリウム)を、ABS基材材料をエッチングするために使用した。
測定された接着性は、0.11N/mmであった。

Claims (14)

  1. 非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法であって、
    (i)非導電性ポリマーを提供する工程と、
    (ii)前記非導電性ポリマーを、60〜80容積%の硫酸中で0.75〜3.6g/Lの過マンガン酸イオンを含むエッチング溶液と接触させる工程と、
    (iii)エッチングされた非導電性ポリマーを、貴金属を含有する活性剤溶液と接触させる工程と、及び
    (iv)湿式化学法により、活性化された非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する工程と、
    をこの順序で含む方法。
  2. 前記非導電性ポリマーは、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー、ポリカーボネート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー−ポリカーボネートブレンド、ポリアミド、及びエポキシ樹脂からなる群から選択される、請求項1に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  3. 前記エッチング溶液の温度は10〜40℃の範囲である、請求項1又は2に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  4. 過マンガン酸イオン源は、過マンガン酸のアルカリ金属塩及び過マンガン酸のアルカリ土類金属塩からなる群から選択される、非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  5. 過マンガン酸イオン源は、過マンガン酸ナトリウム及び過マンガン酸カリウムからなる群から選択される、請求項1〜4の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  6. 前記エッチング溶液は更にリン酸を含有する、請求項1〜5の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  7. 前記エッチング溶液の密度は、リン酸を用いて1.70〜1.82g/mlの範囲に調節される、請求項1〜6の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  8. 前記貴金属は、銀、金、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1〜7の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  9. 前記活性剤溶液はパラジウムイオンを含む水溶液である、請求項1〜8の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  10. 前記パラジウムイオンの濃度は10〜500mg/Lの範囲である、請求項9に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  11. 前記活性剤溶液はコロイド状パラジウムを含む水溶液である、請求項1〜8の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  12. 前記コロイド状パラジウムの濃度は50〜500mg/Lの範囲である、請求項11に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  13. 前記第一の金属層は、無電解(自己触媒)めっき又は浸漬型めっきにより成膜される、請求項1〜12の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
  14. 第一の金属層又は金属合金層は、銅、ニッケル及びニッケル合金を含む群から選択される、請求項1〜13の何れか1項に記載の非導電性ポリマー上に第一の金属層又は金属合金層を成膜する方法。
JP2015557356A 2013-02-13 2014-01-15 非導電性ポリマー上に第一の金属層を成膜する方法 Pending JP2016507009A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13155083.2A EP2767614A1 (en) 2013-02-13 2013-02-13 Method for depositing a first metallic layer onto non-conductive polymers
EP13155083.2 2013-02-13
PCT/EP2014/050657 WO2014124773A2 (en) 2013-02-13 2014-01-15 Method for depositing a first metallic layer onto non-conductive polymers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016507009A true JP2016507009A (ja) 2016-03-07

Family

ID=47740839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015557356A Pending JP2016507009A (ja) 2013-02-13 2014-01-15 非導電性ポリマー上に第一の金属層を成膜する方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9551073B2 (ja)
EP (1) EP2767614A1 (ja)
JP (1) JP2016507009A (ja)
KR (1) KR20150118173A (ja)
CN (1) CN104995335A (ja)
WO (1) WO2014124773A2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170008309A (ko) 2014-07-10 2017-01-23 오꾸노 케미칼 인더스트리즈 컴파니,리미티드 수지 도금 방법
LT2015105A (lt) 2015-12-18 2017-06-26 Vmti Fiziniå² Ir Technologijos Mokslå² Centras Plastikų paviršiaus adhezinio paruošimo prieš metalizavimą būdas
CN106947960A (zh) * 2017-04-12 2017-07-14 合肥学院 一种3d打印用聚合物/金属复合粉体材料的制备方法
CN106903306A (zh) * 2017-04-12 2017-06-30 合肥学院 一种缺陷诱导化学镀工艺制备3d打印用金属颗粒/聚合物复合粉体的方法
KR20200010507A (ko) * 2017-05-25 2020-01-30 바스프 에스이 폴리머체 및 금속 도금을 포함하는 물품
CN109160488A (zh) * 2018-08-27 2019-01-08 浙江大学 在非导电衬底上进行电子束/离子束聚焦刻蚀及显微成像的方法
EP3670698B1 (en) * 2018-12-17 2021-08-11 ATOTECH Deutschland GmbH Aqueous alkaline pre-treatment solution for use prior to deposition of a palladium activation layer, method and use thereof
CN114457325B (zh) * 2021-12-30 2023-12-08 安徽中科元贞科技有限责任公司 一种镀镍高分子微球的镍层厚度控制方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007122869A1 (ja) * 2006-04-18 2007-11-01 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. 樹脂成形体に対するエッチング処理用組成物
WO2008132926A1 (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Ebara-Udylite Co., Ltd. エッチング液およびこれを用いたプラスチック表面の金属化方法
JP2010535935A (ja) * 2007-08-10 2010-11-25 エントン インコーポレイテッド プラスチック表面のための無クロム酸洗

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3011920A (en) 1959-06-08 1961-12-05 Shipley Co Method of electroless deposition on a substrate and catalyst solution therefor
US3682671A (en) 1970-02-05 1972-08-08 Kollmorgen Corp Novel precious metal sensitizing solutions
US4054693A (en) * 1974-11-07 1977-10-18 Kollmorgen Technologies Corporation Processes for the preparation of resinous bodies for adherent metallization comprising treatment with manganate/permanganate composition
DE59909392D1 (de) 1998-11-13 2004-06-09 Lpw Chemie Gmbh Verfahren zur Metallisierung einer Kunststoffoberfläche
MXPA01004811A (es) * 1998-11-13 2002-09-18 Enthone Omi Inc Proceso para metalizar una superficie de plastico.
US20050199587A1 (en) 2004-03-12 2005-09-15 Jon Bengston Non-chrome plating on plastic
LT5645B (lt) 2008-07-18 2010-03-25 Chemijos Institutas, , Plastikų ėsdinimo kompozicija
LT2008082A (lt) * 2008-10-28 2010-05-25 Chemijos Institutas Poliimido ir kitų plastikų ėsdinimo būdas

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007122869A1 (ja) * 2006-04-18 2007-11-01 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. 樹脂成形体に対するエッチング処理用組成物
US20090092757A1 (en) * 2006-04-18 2009-04-09 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Composition for etching treatment of resin molded article
WO2008132926A1 (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Ebara-Udylite Co., Ltd. エッチング液およびこれを用いたプラスチック表面の金属化方法
JP2010535935A (ja) * 2007-08-10 2010-11-25 エントン インコーポレイテッド プラスチック表面のための無クロム酸洗
US20110140035A1 (en) * 2007-08-10 2011-06-16 Enthone Inc. Chromium-free pickle for plastic surfaces

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LT 2008 082A, JPN7017001906, 25 May 2010 (2010-05-25), LT, ISSN: 0003845589 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150118173A (ko) 2015-10-21
US20150368806A1 (en) 2015-12-24
EP2767614A1 (en) 2014-08-20
US9551073B2 (en) 2017-01-24
WO2014124773A2 (en) 2014-08-21
WO2014124773A3 (en) 2014-12-31
CN104995335A (zh) 2015-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016507009A (ja) 非導電性ポリマー上に第一の金属層を成膜する方法
JP5177426B2 (ja) 樹脂成形体に対するエッチング処理用組成物
Barker Electroless deposition of metals
JP4117016B1 (ja) 無電解パラジウムめっき液
US20050266165A1 (en) Method for metallizing plastic surfaces
CN110724943A (zh) 铜表面化学镀镍前无钯活化液及制备方法和镀镍方法
TW200302878A (en) Electroless gold plating solution
JP2014534340A (ja) レーザー・ダイレクト・ストラクチャリング基板上に銅を無電解堆積するための活性剤水溶液およびその方法
JP4792045B2 (ja) パラジウム層を堆積する方法およびこのためのパラジウム浴
CA2875323C (en) Process for metallizing nonconductive plastic surfaces
JP2013091833A (ja) 還元型無電解銀めっき液及び還元型無電解銀めっき方法
WO2014042829A1 (en) Direct electroless palladium plating on copper
JP2015513617A (ja) 非導電性プラスチック表面の金属化方法
JP2004197221A (ja) 合成物質電気メッキ用基板の活性化方法
EP2928984A1 (en) Process for metallizing nonconductive plastic surfaces
MX2007006537A (es) Estabilizacion y desempeno de procesos autocataliticos no electroliticos.
JP5371465B2 (ja) 非シアン無電解金めっき液及び導体パターンのめっき方法
JP2014031576A (ja) 印刷回路基板の製造方法
CN105051254B (zh) 供无电电镀的铜表面活化的方法
WO2010023895A1 (ja) 無電解めっき用センシタイジング液および無電解めっき方法
JP4081576B2 (ja) 無電解めっき皮膜の形成方法、それに用いる置換触媒溶液、並びにプリント配線基板及び放熱めっき部材
WO2022043889A1 (en) Method for electroless nickel deposition onto copper without activation with palladium
JP6159205B2 (ja) 無電解めっき用触媒液
JP4357901B2 (ja) 無電解めっき用パラジウム触媒液及び触媒化処理方法
JP2002348673A (ja) ホルムアルデヒドを使用しない無電解銅めっき方法および該方法に使用される無電解銅めっき液

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171010

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20171225

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180730