JP2016504947A - 干渉撮像におけるサブアパーチャベースの収差測定及び補正用のシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願の方法の理論的分析のために、図3に示されているようなマイケルソン干渉計に基づいたシステムが検討される。本明細書で提示される理論は、任意の干渉計ベースのシステムに有効である。図3に示されているシステムに関し、レーザ源301からの光は、ビームスプリッタ302を通過し、ビームスプリッタ302において光は、2つの経路に分割される。レーザが図に示されているが、周波数掃引源を含む任意の広帯域光源が使用可能である。基準アーム303である1つのアームにおける光は、ミラー304から反射され、且つビームスプリッタに逆に導かれる。サンプルアーム305である第2の経路における光は、4Fテレセントリック撮像システムを形成するレンズL1 306及びL2 307を通過する。レンズを通過した後で、光は、撮像される物体(サンプル)308の方へ導かれる。方法は、限定するわけではないが、生物組織、動物又は植物製品、宝石用原石、真珠、製造された材料のプロセス検査(例えばペイントコーティング、光電池、プラスチックパッケージング)を含む様々なサンプルに適用することが可能である。サンプルは、横方向に延びる構造内容を有するべきである。特に、この方法は、サンプルが厚く、且つ複数の深さから逆に検出器に反射又は散乱をもたらす場合に利点を提供する。
Er(ξ;k)=R(ξ;k)exp[ik(4f+Δz)/c] (3)
これらの式で、Eoは、システムの3次元点広がり関数(PSF)Pで畳み込まれた物体フィールドであり、uは、物体面における点であり、Rは、局所的基準フィールド振幅であり、Δzは、サンプルと基準アームとの間の光路長差を示し、cは、光速度である。
Is(ξ,z)=Δξ2I(mΔξ,nΔξ)=Im,n (4)
この式で、Δξは、両方向において同じであると仮定される検出器画素ピッチであり、m及びnは、画素位置を決定する。サンプルのサイズをM×M画素とする。そのサイズの2倍(2M×2M)のゼロアレイに2D信号を埋め込んだ後で、信号Isの2D離散フーリエ変換(DFT)は、信号をフーリエ面に伝搬させるために、プロセッサによって計算される。即ち、物体のz番目の層に関するフィールド情報を、フィールド情報が取得されたシステムにおける面から、波面を特徴付けることが望ましいシステムにおける面に伝搬させるために計算される。
この式で、Lは、正方形アパーチャの側部の長さであり、λは、中心波長であり、fは、レンズの焦点距離であり、Δxは、瞳面における画素ピッチである。図4に示されているように、N×N画素データ431は、フーリエ面において窓外に置かれ、サイズ2M×2M 432のゼロアレイの中間に埋め込まれ、且つサイズ
GA=S (16)
に従って決定される。
この式で、A=(a20...aZZ)は、決定されるべき係数マトリックスであり、Ns=K×Kは、サブアパーチャの数であり、Ng={[Z(Z+1)/2]−3}≦Nsである。式(16)の最小二乗解は、
A=(GTG)−1GTS (17)
として見つけることができる。
理論的な構成は、コンピュータシミュレーションを用いて示された。収差のあるデータセットが、実際の光学システムからの比較的収差のない取得から所定のオフセットを計算することによって、最初にシミュレートされる。このシミュレートされたデータセットを用いて、現在の方法の態様が適用される。
本出願の実験的検証用の全視野掃引源光学コヒーレンス断層撮影法(FF SS−OCT:full−field swept−source optical coherence tomography)セットアップの概略図が、図11(a)に示されている。システムは、サンプル及び基準アームの両方において、同じタイプの顕微鏡対物レンズ(5×ミトツヨ・プラン・アポ(MitotuyoPlan Apo)近赤外強度補正対物レンズ、NA=0.14、焦点距離f=40mm)1101及び1102を備えた、リニック(Linnik)構成に基づいた単純なマイケルソン干渉計である。図11(b)における2つの異なる図に示されているサンプル1103は、プラスチック層、粉ミルクの膜、及びUSAF解像度試験ターゲット(RTT:resolution test target)からなる。左側の図は、ビーム伝搬方向に垂直なx−y平面図におけるサンプルを示す。右側の図は、ビーム伝搬方向又はZ軸に沿った3つの層を示す。粉ミルクの薄膜は、散乱及び乱反射を生成するために使用された。ランダムな収差を生成する不均一な厚さ及び構造のプラスチック層が、コンパクトディスク(CD)ケース用に使用されるプラスチックを加熱することによって生成された。レンズL1 1105上に入射する掃引レーザ源1104(スーパールム・ブロード・スイーパ(Superlum BroadSweeper)840−M)からの出力ビームは、直径10mmであり、サンプル上の視野は、約2mmである。サンプル上に入射するパワーは、5mWである。RTT面は、撮像しながら合焦された。L2 1112によって形成されたサンプル画像1106は、2.5×の有効倍率を備えたレンズL3及びL4によって形成された望遠鏡1108を用いて、カメラ面1107に転送される。直径4.8mmの円形瞳P1109が、信号を空間的に帯域制限するために、レンズL3及びL4の焦点面に配置される。Mは、基準アームにおけるミラー1110であり、B.S.は、サンプル及び基準アームを分割し組み合わせるビームスプリッタ1111であり、1101及び1102は、5×近赤外顕微鏡対物レンズであり、L1及びL2は、焦点距離f=200mmのレンズであり、L3及びL4は、f=150mm及び75mmのレンズであり、Pは、L3及びL4の焦点面に配置された瞳である。
特許文献
米国特許第7,602501号明細書 ラルストン(Ralston)ら著、「干渉合成アパーチャ顕微鏡検査法(Interferometric Synthetic Aperture Microscopy)」
国際公開第2012/143113号明細書 ヒルマン(Hillman)ら著、「光学断層撮影用の方法(Method for Optical Tomography)」
米国特許出願公開第2011/0134436号明細書 ポドレアニュ(Podoleanu)ら著、「深度解像波面感知用の方法、深度解像波面センサ、並びに光学撮像用の方法及び装置(Method for depth resolved wavefront sensing,depth resolved wavefront sensors and method and apparatus for optical imaging)」
米国特許第7,659,993号明細書 フェイエラベンド(Feierabend)ら著、「波面感知用の方法及び装置(Method and device for wavefront sensing)」
欧州特許第1626257号明細書 デンク(Denk)ら著、「波面感知用の方法及び装置(Method and device for wave−front sensing)」
非特許文献
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Claims (24)
- サンプルに対する干渉撮像データにおける波面を特徴付けるための方法であって、干渉データが、前記サンプル内の横方向構造に関する情報を含み、方法が、
前記横方向構造が位置するサンプルにおける深さに対応する前記干渉データの軸方向の一部分を分離すること、
前記波面が特徴付けられるべき面において、前記軸方向の一部分を横方向の小区分に分割すること、
前記横方向の小区分の少なくとも2つの間の一致を決定すること、
前記一致を用いて、前記波面を特徴付けること、
波面特徴付けを記憶若しくは表示するか又は前記波面特徴付けを後続プロセスへの入力として用いること、
を含む方法。 - 小区分間の一致が、少なくとも2つの小区分に含まれる構造のバージョンを相関させることによって決定される、請求項1に記載の方法。
- 小区分間の一致が、構造を含む、物体深さと光学的にほぼ共役な面において、前記小区分を相関させることによって決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記波面の特徴付けが分割ステップに先立って決定されるべきである面に、前記軸方向の一部分を伝搬させることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記干渉データが、総合的撮像データである、請求項1に記載の方法。
- 前記サンプルが人間の眼である、請求項1に記載の方法。
- 前記干渉撮像データが、全視野光学コヒーレンス断層撮影法撮像データ、ラインフィールド光学コヒーレンス断層撮影法撮像データ、及び飛点光学コヒーレンス断層撮影法撮像データのうちの1つである、請求項1に記載の方法。
- 前記干渉データが、広帯域光源を用いて収集され、分離が、光源のコヒーレンス長さを用いて達成される、請求項1に記載の方法。
- 前記小区分がオーバーラップする、請求項1に記載の方法。
- 前記波面の特徴付けが、小区分間の一致から局所的波面配向の導出を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記波面の特徴付けが、テーラ単項式又はゼルニケ多項式のうちの1つを用いることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記波面の特徴付けを波面補償装置への入力として用いて補償された波面を生成することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記補償された波面が、高パワー又は高解像度が必要とされる診断又は治療様式において用いられる放射ビームにおいて収差を補償するために用いられる、請求項12に記載の方法。
- 波面特徴付けを用いて前記干渉撮像データを補正すること、および低減された収差を備えた前記干渉データから画像を生成することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 所望の補正レベルが達成されるまで、分割ステップ、決定ステップ、及び特徴付けステップを反復することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記軸方向の一部分が、2つの小区分に分割され、波面特徴付けを用いて焦点ぼけが決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記波面の特徴づけを製造プロセスへの入力として用いることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記波面の特徴づけを手術プロセスへの入力として用いることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記サンプル上の測定エリアが、非等平面状であり、異なる波面特徴付けが、前記サンプルの異なる領域用に計算される、請求項1に記載の方法。
- 前記異なる領域が、横断方向において分離される、請求項19に記載の方法。
- 前記異なる領域が、軸方向において分離される、請求項19に記載の方法。
- 位相調整を前記干渉撮像データに適用することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 横方向構造を含む光散乱物体を撮像するための干渉撮像装置であって、
放射ビームを生成するように配置された広帯域光源と、
ビームを基準アーム及びサンプルアームに分離するためのビーム分割器であって、前記サンプルアームが、撮像される前記光散乱物体を含む、前記ビーム分割器と、
撮像される前記光散乱物体上に前記放射ビームを導くための、且つ物体から散乱された光及び前記基準アームから戻る光を組み合わせるための光学系と、
前記組み合わされた光を記録し、該組み合わされた光に応じて信号を生成するための検出器と、
前記横方向構造が位置するサンプルにおける深さに対応する生成信号の軸方向の一部分を分離し、収差が特徴付けられるべき面において、前記軸方向の一部分を横方向の小区分に分割し、且つ前記小区分の少なくとも2つの間の一致を決定するためのプロセッサと、
を備える干渉撮像装置。 - 前記広帯域光源が掃引源である、請求項23に記載の干渉撮像装置。
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