JP2016219578A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空処理室と、排気装置と、排気の量を調節するバルブと、バルブを制御する制御部とを備えたプラズマ処理装置にいて、制御部は、真空処理室内にプラズマが形成(着火)された後に予め定められた期間だけバルブの動作をホールドした後、真空処理室内の圧力が所定の値を含む特定の範囲δ内になったことが検出されてから真空処理室内の圧力を所定の値となるようにバルブの動作を調節する。
【選択図】図3
Description
前記制御部は、前記真空処理室内にプラズマが形成された後に予め定められた期間だけ前記バルブの動作を抑制した後、前記真空処理室内の圧力が前記所定の値を含む特定の範囲内になったことが検出されてから前記真空処理室内の圧力を前記所定の値となるように前記バルブの動作を調節することを特徴とするプラズマ処理装置とする。
Claims (5)
- 真空容器と、前記真空容器内部に配置され内側が減圧され当該内側の空間に供給された処理用ガスを用いてプラズマが形成される真空処理室と、前記真空処理室内部を排気する排気装置と、前記真空処理室と前記排気装置との間の排気経路の排気の量を調節するバルブと、少なくとも前記バルブを制御する制御部とを備え、前記真空処理室内に配置される被処理基板を当該真空処理室内に形成したプラズマを用いて前記真空処理室内の圧力が所定の値に調節された状態で処理するプラズマ処理装置であって、
前記制御部は、前記真空処理室内にプラズマが形成された後に予め定められた期間だけ前記バルブの動作を抑制した後、前記真空処理室内の圧力が前記所定の値を含む特定の範囲内になったことが検出されてから前記真空処理室内の圧力を前記所定の値となるように前記バルブの動作を調節することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置であって、
前記予め定められた期間の前記真空処理室内の圧力が一旦上昇した後に前記特定の範囲以上の値の範囲で下降することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置であって、
前記制御部は、前記予め定められた期間の後、前記真空処理室内の圧力が最初に前記特定の範囲内に下降したことを検知してバルブの動作の調節を開始することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載のプラズマ処理装置であって、
前記バルブは、前記真空処理室の内側であって当該真空処理室の下部に配置された排気口を覆って配置され当該排気口に対して近接および開離してこの排気口を通る前記真空処理室からの排気の量を調節することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載のプラズマ処理装置であって、
前記特定の範囲は、+2%以内であることを特徴とするプラズマ処理装置。
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-
2015
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