JP2016216288A - グラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法 - Google Patents
グラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016216288A JP2016216288A JP2015101455A JP2015101455A JP2016216288A JP 2016216288 A JP2016216288 A JP 2016216288A JP 2015101455 A JP2015101455 A JP 2015101455A JP 2015101455 A JP2015101455 A JP 2015101455A JP 2016216288 A JP2016216288 A JP 2016216288A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond substrate
- graphene layer
- manufacturing
- diamond
- graphene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
特にグラフェンは、電子移動度および電子有効質量などの特性において優れており、次世代デバイス用材料としては特筆すべきものがある。また、カーボンナノチューブおよびフラーレンは立体的な構造を有するため、能動素子(主にトランジスタ部分)の材料への適用は構造上困難であるが、これに対し、グラフェンは平面構造であるため、現在行われているSiプロセスで使用されているプレーナー技術がそのまま適用でき、能動箇素子の材料としての応用が可能である。特にダイヤモンド基板上や、ダイヤモンドライクカーボン基板上にグラフェンを作製する手法は、高温等の劣悪環境や、生化学的なデバイスへの適用に大きく貢献することが期待される。
(1)SiCの熱分解法は、SiC基板を高温で熱処理し、基板表面のシリコン原子を飛ばしつつ、基板上で炭素原子を凝集しグラフェンを成長させる方法である。(2)CVD法は、金属触媒を蒸着した基板もしくは金属触媒として働くフォイル(箔)上でメタンなどの炭化水素を熱分解もしくはプラズマ分解してグラフェンを成長させた後、不要になった金属触媒を酸等で除去し、別の基板にグラフェンを転写する方法である。(3)剥離法は、天然グラファイトやHOPG(高配向熱分解黒鉛)などグラファイト結晶から粘着テープでグラファイト・グラフェン片を剥ぎ取り、基板に貼り付ける方法である。
また、特許文献1と同じ発明者等による、炭素材料を含む炭素材料母材に液体の金属を接触させ、金属を加熱することで金属中に炭素材料母材中の炭素を溶解させ、ついで、液体の金属を冷却することで金属中のグラフェン等の炭素を炭素材料母材の表面に析出させ、炭素材料母材の表面をコーティングする炭素材料構造材の製造方法が開示されている(特許文献2)。ここで、炭素材料は、カルビン、ダイヤモンド、アモルファス炭素等から選ばれ、金属は、ガリウム(Ga)、インジウム(In)等から選ばれる。
これらの方法によれば、量産性があり、高品質であると同時に、低製造コストで半導体装置製造に直接使用可能な、グラフェン基板の製造方法または炭素材料構造材の製造方法を提供することができるとされている。
特に、水素ガス雰囲気下で加熱を行うと、ダイヤモンド表面末端を水素化し非ダイヤモンド相に変換することを防ぐ点でより好ましい。
加熱温度(所定の温度)まで昇温した後、0.5〜5時間保持することが好ましい。保持時間が0.5時間を下回ると、相変化が不充分のおそれがあり、5時間を上回ると、グラフェン層が多くなり過ぎるおそれがある。
上記の加熱温度は、用いる金属材の金属種の融点よりかなり低い。金属材をこの温度に加熱することにより、ダイヤモンドを構成する炭素が金属材に固溶し、冷却の課程で飽和量以上の炭素が析出するときにグラフェン層が形成されるメカニズムにより、金属材中にグラフェンが生成する。
急冷は、0.5〜100℃/秒の速度で行うと好ましい。急冷により、ダイヤモンド基板表面にグラフェン層が積層される。グラフェン層は、積層数が少ない、欠陥が低減される、点で好ましい。
0.5℃/秒以上の急冷は装置とコストが膨大になるので実用上不利になり、100℃/秒以上では欠陥が増え膜質が低下するという点で好ましくない。
加熱処理後のダイヤモンド基板のラマンスペクトルを図1に示す。グラフェン形成を示す2700cm−1付近の2Dピーク、および1590cm−1付近のGピークが明確に観察されている。また、その2つのピークの強度比より示されるグラフェン膜の総数は3〜6層程度である。なお、1300〜1400cm−1付近のピークは、基板のダイヤモンドピーク(1330cm−1)、および欠陥に関連するDピーク(1360cm−1)である。
Claims (5)
- ダイヤモンド基板にNi、Fe、Co、CuおよびCrからなる群から選ばれる1または2以上の金属からなる金属材を接触させる工程と、
該金属材を接触させた該ダイヤモンド基板を水素ガスまたは不活性ガス雰囲気下600〜1300℃の温度で加熱した後に急冷する工程と、
を有することを特徴とするグラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法。 - 前記金属の成分を含む原料を堆積法によりダイヤモンド基板に堆積することを特徴とする請求項1記載のグラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法。
- 前記ダイヤモンド基板が化学気相成長法により形成されるダイヤモンド膜であることを特徴とする請求項1記載のグラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法。
- 前記所定の温度まで昇温した後、0.5〜5時間保持することを特徴とする請求項1記載のグラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法。
- 0.5〜100℃/秒の速度で急冷することを特徴とする請求項1記載のグラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015101455A JP6544624B2 (ja) | 2015-05-19 | 2015-05-19 | グラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015101455A JP6544624B2 (ja) | 2015-05-19 | 2015-05-19 | グラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016216288A true JP2016216288A (ja) | 2016-12-22 |
JP6544624B2 JP6544624B2 (ja) | 2019-07-17 |
Family
ID=57580138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015101455A Active JP6544624B2 (ja) | 2015-05-19 | 2015-05-19 | グラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6544624B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112763556A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-05-07 | 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 | 一种多层膜结构的海洋探测器电极及其制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090297854A1 (en) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | Jae-Kap Lee | Aa stacked graphene-diamond hybrid material by high temperature treatment of diamond and the fabrication method thereof |
WO2012086387A1 (ja) * | 2010-12-21 | 2012-06-28 | 日本電気株式会社 | グラフェン基板の製造方法およびグラフェン基板 |
US20120181501A1 (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-19 | Chien-Min Sung | Graphene on Diamond Devices and Associated Methods |
WO2013038130A1 (en) * | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Aberystwyth University | Method for producing graphene |
US20130189444A1 (en) * | 2011-04-07 | 2013-07-25 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of Forming Graphene on A Surface |
WO2013136908A1 (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-19 | 日本電気株式会社 | 炭素材料構造材の製造方法および炭素材料構造材 |
US20140147994A1 (en) * | 2012-04-16 | 2014-05-29 | Uchicago Argonne, Llc | Graphene layer formation on a carbon based substrate |
-
2015
- 2015-05-19 JP JP2015101455A patent/JP6544624B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090297854A1 (en) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | Jae-Kap Lee | Aa stacked graphene-diamond hybrid material by high temperature treatment of diamond and the fabrication method thereof |
WO2012086387A1 (ja) * | 2010-12-21 | 2012-06-28 | 日本電気株式会社 | グラフェン基板の製造方法およびグラフェン基板 |
US20120181501A1 (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-19 | Chien-Min Sung | Graphene on Diamond Devices and Associated Methods |
US20130189444A1 (en) * | 2011-04-07 | 2013-07-25 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of Forming Graphene on A Surface |
WO2013038130A1 (en) * | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Aberystwyth University | Method for producing graphene |
WO2013136908A1 (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-19 | 日本電気株式会社 | 炭素材料構造材の製造方法および炭素材料構造材 |
US20140147994A1 (en) * | 2012-04-16 | 2014-05-29 | Uchicago Argonne, Llc | Graphene layer formation on a carbon based substrate |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J M. GARCIA ET AL.: "Multilayer graphene grown by precipitation upon cooling of nickel on diamond", CARBON, vol. 49, JPN6018039068, 11 November 2010 (2010-11-11), pages 1006 - 1012, ISSN: 0003892368 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112763556A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-05-07 | 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 | 一种多层膜结构的海洋探测器电极及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6544624B2 (ja) | 2019-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101289181B (zh) | 掺杂石墨烯及其制备方法 | |
KR101636442B1 (ko) | 촉매합금을 이용한 그라핀의 제조방법 | |
US8158200B2 (en) | Methods of forming graphene/(multilayer) boron nitride for electronic device applications | |
JP6241318B2 (ja) | グラフェン膜の製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
TWI526559B (zh) | 藉由物理氣相沉積法在基板上成長碳薄膜或無機材料薄膜的方法 | |
Chu et al. | Monolithic graphene oxide sheets with controllable composition | |
JP2011178617A (ja) | グラフェン膜の形成方法 | |
Liang et al. | From solid carbon sources to graphene | |
JP6190562B2 (ja) | グラフェンの成長方法 | |
Xueshen et al. | Thermal annealing of exfoliated graphene | |
CN106006619A (zh) | 一种特定尺寸的石墨烯的制备方法 | |
US20170081782A1 (en) | Transfer-free method for forming graphene layer | |
Narula et al. | Copper induced synthesis of graphene using amorphous carbon | |
Han et al. | High-quality graphene synthesis on amorphous SiC through a rapid thermal treatment | |
JP6544624B2 (ja) | グラフェン層積層ダイヤモンド基板の製造方法 | |
WO2013038130A1 (en) | Method for producing graphene | |
JP2013256408A (ja) | グラフェン構造の製造方法 | |
Piazzi et al. | Laser-induced etching of few-layer graphene synthesized by Rapid-Chemical Vapour Deposition on Cu thin films | |
Obata et al. | High degree reduction and restoration of graphene oxide on SiO2 at low temperature via remote Cu-assisted plasma treatment | |
KR102182163B1 (ko) | 그래핀 및 금속 칼코게나이드의 이종 접합 박막의 제조 방법, 그 박막 및 이를 이용한 쇼트키 장벽 다이오드 및 그 제조 방법 | |
Borah et al. | Role of limited hydrogen and flow interval on the growth of single crystal to continuous graphene by low-pressure chemical vapor deposition | |
KR20190016649A (ko) | 그래핀 박막의 전기적 특성 제어 방법 | |
Oh | CVD graphene synthesis on copper foils and doping effect by nitric acid | |
Chou et al. | From graphene to carbon nanotube: The oxygen effect on the synthesis of carbon nanomaterials on nickel foil during CVD process | |
JP2013237575A (ja) | グラフェン膜の形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190528 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190606 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6544624 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |