JP2016153346A - 無アルカリガラス - Google Patents
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Abstract
【課題】高比弾性、かつ、高ヤング率であり、ガラス転移点が高く、コンパクションが低く、フロート成形が容易な無アルカリガラスの提供。
【解決手段】ヤング率が90GPaであり、コンパクションC1が5ppm以下であり、コンパクションC2が50ppm以下であり、酸化物基準の質量%表示で、
SiO2 40〜65、
Al2O3 23.5超〜30、
MgO 2.5〜20、
CaO 2〜30
を含有し、
SiO2 +Al2O3が70以上90以下である無アルカリガラス。
【選択図】なし
【解決手段】ヤング率が90GPaであり、コンパクションC1が5ppm以下であり、コンパクションC2が50ppm以下であり、酸化物基準の質量%表示で、
SiO2 40〜65、
Al2O3 23.5超〜30、
MgO 2.5〜20、
CaO 2〜30
を含有し、
SiO2 +Al2O3が70以上90以下である無アルカリガラス。
【選択図】なし
Description
本発明は、各種フラットパネルディスプレイ(FPD)の製造に用いられるディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金属酸化物を実質上含有せず、フロート成形が可能な、無アルカリガラスに関する。
従来、各種ディスプレイ用基板ガラス、特に表面に金属ないし酸化物薄膜等を形成するものでは、例えば特許文献1に示されるような以下に示す特性が要求されてきた。
(1)アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して膜特性を劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
(2)半導体形成に用いる各種薬品に対して充分な化学耐久性を有すること。特にSiOxやSiNxのエッチングのためのバッファードフッ酸(BHF:フッ酸とフッ化アンモニウムの混合液)、およびITOのエッチングに用いる塩酸を含有する薬液、金属電極のエッチングに用いる各種の酸(硝酸、硫酸等)、レジスト剥離液のアルカリに対して耐久性のあること。
(3)内部および表面に欠点(泡、脈理、インクルージョン、ピット、キズ等)がないこと。
(1)アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して膜特性を劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
(2)半導体形成に用いる各種薬品に対して充分な化学耐久性を有すること。特にSiOxやSiNxのエッチングのためのバッファードフッ酸(BHF:フッ酸とフッ化アンモニウムの混合液)、およびITOのエッチングに用いる塩酸を含有する薬液、金属電極のエッチングに用いる各種の酸(硝酸、硫酸等)、レジスト剥離液のアルカリに対して耐久性のあること。
(3)内部および表面に欠点(泡、脈理、インクルージョン、ピット、キズ等)がないこと。
上記の要求に加えて、近年では、以下のような状況にある。
(4)ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス自身も密度の小さいガラスが望まれる。
(5)ディスプレイの軽量化が要求され、基板ガラスの薄板化が望まれる。
(4)ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス自身も密度の小さいガラスが望まれる。
(5)ディスプレイの軽量化が要求され、基板ガラスの薄板化が望まれる。
(6)これまでのアモルファスシリコン(a−Si)タイプの液晶ディスプレイに加え、若干熱処理温度の高い多結晶シリコン(p−Si)タイプの液晶ディスプレイが作製されるようになってきた(a−Si:約350℃→p−Si:350〜550℃)。
(7)液晶ディスプレイ作製熱処理の昇降温速度を速くして、生産性を上げたり耐熱衝撃性を上げるために、ガラスの線膨張係数の小さいガラスが求められる。
(7)液晶ディスプレイ作製熱処理の昇降温速度を速くして、生産性を上げたり耐熱衝撃性を上げるために、ガラスの線膨張係数の小さいガラスが求められる。
FPDの高精細化、大型化が進むにつれ、製造工程において自重たわみに起因する変形が生じ、歩留まりが低下することが懸念されている。また、大型のFPDの実用強度を十分確保するには、基板ガラスの破壊靭性を向上させることが有用である。
このため、各種ディスプレイ用基板ガラスは、高比弾性、かつ、高ヤング率であることが求められる。
このため、各種ディスプレイ用基板ガラスは、高比弾性、かつ、高ヤング率であることが求められる。
また、近年では薄膜形成工程で高温にさらされる際に、ガラスの変形およびガラスの構造安定化に伴う寸法変化を最小限に抑えるため、ガラスのコンパクションが低いことが求められている。
本発明の目的は、高比弾性、かつ、高ヤング率であり、ガラス転移点が高く、コンパクションが低く、フロート成形が容易な無アルカリガラスを提供することにある。
本発明は、ヤング率が90GPa以上であり、コンパクションC1が5ppm以下であり、コンパクションC2が50ppm以下であり、酸化物基準の質量%表示で、
SiO2 40〜65、
Al2O3 23.5超〜30、
MgO 2.5〜20、
CaO 2〜30
を含有し、
SiO2+Al2O3が70以上90以下である無アルカリガラスを提供する。
SiO2 40〜65、
Al2O3 23.5超〜30、
MgO 2.5〜20、
CaO 2〜30
を含有し、
SiO2+Al2O3が70以上90以下である無アルカリガラスを提供する。
本発明の無アルカリガラスは、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして好適であるが、磁気ディスク用ガラス基板等としても使用できる。但し、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして、ガラス板の大型化や薄板化が求められることを考慮すると、高ヤング率であることから、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして有効である。
次に各成分の組成範囲について説明する。SiO2は65%(質量%、以下特記しないかぎり同じ)超では、ヤング率が低くなってしまう。また、粘性も高くなり、溶解温度の上昇や、清澄時に泡が抜けきらず、気泡が混入するおそれがある。また、ムライトの失透が発生しやすくなり、失透温度TLが上昇してしまう。40%未満では、熱膨張係数が増加してします。また、スピネルの失透が発生しやすくなり、失透温度TLが上昇してしまう。好ましくは42〜63%、さらに好ましくは44〜61%である。
Al2O3はガラスの分相性を抑制し、熱膨脹係数を下げ、ガラス転移点Tgを上げるが、23.5%以下ではこの効果があらわれなくなってしまう。また、ヤング率が低くなり、コンパクションが増加してしまう。Al2O3はSiO2同様ネットワークフォーマーとしてため、30%超では粘性が増加し、溶解温度の上昇、気泡混入のおそれがある。また、ムライト、アノーサイト、スピネルといった失透が発生しやすくなり、失透温度TLを上昇させるおそれがある。好ましくは24〜29%、さらに好ましくは24.5〜28%である。
MgOは、溶解性を向上させ、ヤング率を向上させるため、2.5%以上含有させる必要がある。しかし、20%を超えると、コンパクションが増加してしまう。また、スピネルの失透が発生しやすくなり、失透温度TLが上昇してしまう。好ましくは3〜19%、さらに好ましくは3.5%〜18%である。
CaOは、溶解性を向上させ、MgOと共に含有することで失透の発生を抑制できるため、2%以上含有させる必要がある。しかし、30%を超えると、熱膨張係数が大きくなってしまう。またコンパクションの増加も引き起こしてしまう。好ましくは3〜29%、さらに好ましくは4〜28%である。
SiO2+Al2O3が90%を超えると、ヤング率が低下するほか、ムライトの失透が発生しやすくなり失透温度TLが上昇してしまう。また、ネットワークフォーマーの比率が多くなり過ぎ、粘性が増加し、溶解温度の上昇、気泡混入のおそれがある。また70%未満だと、コンパクションが増加してしまう。また熱膨張係数も増加する。好ましくは72%〜88%、さらに好ましくは74%〜86%である。
本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば以下の成分を含有してもよい。この場合の他の成分は、ヤング率の低下などを抑えるために、好ましくは5%未満、より好ましくは3%未満、さらに好ましくは1%未満、さらにより好ましくは0.5%未満であり、特に好ましくは、実質的に、すなわち不可避的不純物を除き、含有しないことが好ましい。したがって、本発明において、SiO2、Al2O3、CaO、および、MgOの合計含有量は95%以上であることが好ましく、97%以上であることがより好ましく、99%以上であることがさらに好ましく、99.5%以上であることがさらにより好ましい。実質的に、即ち不可避的不純物を除き、SiO2、Al2O3、CaO、および、MgOからなることが特に好ましい。
B2O3は、ガラスの溶解反応性をよくし、また、失透温度TLを低下させるため5%未満含有できる。しかし、多すぎるとヤング率が低下してしまう。したがって3%未満が好ましく、1%未満がさらに好ましく、0.5%未満がさらにより好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。
SrOは、ガラスの失透温度TLを上昇させず溶解性を向上させるため5%未満含有できる。しかし、多すぎると熱膨張係数が増加してしまう。したがって3%未満が好ましく、1%未満がさらに好ましく、0.5%未満がさらにより好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。
BaOは、ガラスの溶解性を向上させるため5%未満含有できる。しかし、多すぎると熱膨張係数が増加してしまう。したがって3%未満が好ましく、1%未満がさらに好ましく、0.5%未満がさらにより好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。
ZrO2は、ガラスのヤング率を向上させるため3%未満含有できる。しかし、多すぎると失透温度TLが上昇してしまう。したがって2%未満が好ましく、1%未満がさらに好ましく、0.5%未満がさらにより好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。
なお、本発明のガラスは、パネル製造時にガラス表面に設ける金属ないし酸化物薄膜の特性劣化を生じさせないために、アルカリ金属酸化物を不純物レベルを超えて(すなわち実質的に)含有しない。また、ガラスのリサイクルを容易にするため、PbO、As2O3、Sb2O3は実質的に含有しないことが好ましい。
本発明の無アルカリガラスは、ヤング率が90GPa以上であるため、破壊靭性が向上しており、ガラス板の大型化や薄板化が求められる各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスに好適である。92GPa以上がより好ましく、94GPa以上がさらに好ましい。
また、本発明の無アルカリガラスは、比弾性(ヤング率/密度)が35GPa・cm3/g以上であるため、自重たわみが低減されている。このため、製造工程において自重たわみに起因する変形が少なく、ガラス板の大型化や薄板化が求められる各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスに好適である。36GPa・cm3/g以上がより好ましく、37GPa・cm3/g以上がさらに好ましい。
本発明の無アルカリガラスは、コンパクションがきわめて低い。
コンパクションとは、加熱処理の際にガラス構造の緩和によって発生するガラス熱収縮率である。本発明においてコンパクションとは、次に説明する方法で測定した値を意味するものとする。
初めに、対象となるガラスを1550℃〜1650℃で溶解した後、溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却する。得られた板状ガラスを研磨加工して100mm×20mm×1mmのガラス板を得る。
次に、得られたガラス板をガラス転移点Tg+70℃まで加熱し、この温度で1分間保持した後、降温速度40℃/分で室温まで冷却する。その後、ガラス板の表面に圧痕を長辺方向に2箇所、間隔A(A=90mm)で打ち、処理前試料とする。
次に処理前試料を450℃まで昇温速度100℃/時間で加熱し、450℃で2時間保持した後、降温速度100℃/時間で室温まで冷却し処理後試料1とする。
そして、処理後試料1の圧痕間距離B1を測定する。
このようにして得たA、B1から下記式を用いてコンパクションC1を算出する。
C1[ppm]=(A−B1)/A×106
また処理前試料を600℃まで昇温速度100℃/時間で加熱し、600℃で1時間保持した後、降温速度100℃/時間で室温まで冷却し処理後試料2とする。
そして、処理後試料2の圧痕間距離B2を測定する。
このようにして得たA、B2から下記式を用いてコンパクションC2を算出する。
コンパクションとは、加熱処理の際にガラス構造の緩和によって発生するガラス熱収縮率である。本発明においてコンパクションとは、次に説明する方法で測定した値を意味するものとする。
初めに、対象となるガラスを1550℃〜1650℃で溶解した後、溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却する。得られた板状ガラスを研磨加工して100mm×20mm×1mmのガラス板を得る。
次に、得られたガラス板をガラス転移点Tg+70℃まで加熱し、この温度で1分間保持した後、降温速度40℃/分で室温まで冷却する。その後、ガラス板の表面に圧痕を長辺方向に2箇所、間隔A(A=90mm)で打ち、処理前試料とする。
次に処理前試料を450℃まで昇温速度100℃/時間で加熱し、450℃で2時間保持した後、降温速度100℃/時間で室温まで冷却し処理後試料1とする。
そして、処理後試料1の圧痕間距離B1を測定する。
このようにして得たA、B1から下記式を用いてコンパクションC1を算出する。
C1[ppm]=(A−B1)/A×106
また処理前試料を600℃まで昇温速度100℃/時間で加熱し、600℃で1時間保持した後、降温速度100℃/時間で室温まで冷却し処理後試料2とする。
そして、処理後試料2の圧痕間距離B2を測定する。
このようにして得たA、B2から下記式を用いてコンパクションC2を算出する。
本発明の無アルカリガラスは、コンパクションC1が5ppm以下である。一方、コンパクションC2が50ppm以下である。好ましくは47ppm以下であり、さらに好ましくは44ppm以下である。
本発明の無アルカリガラスは、ガラス転移点Tgが740℃以上であるため、パネル製造時の熱収縮を抑えられる。また、p−Si TFTの製造方法としてレーザーアニールによる方法を適用することができる。
本発明の無アルカリガラスは、ガラス転移点Tgが740℃以上であるため、製造プロセスにおいてガラスの仮想温度が上昇しやすい用途(例えば、板厚0.7mm以下、好ましくは0.5mm以下、より好ましくは0.3mm以下の有機EL用のディスプレイ用基板または照明用基板、あるいは板厚0.3mm以下、好ましくは0.1mm以下の薄板のディスプレイ用基板または照明用基板)に適している。
板厚0.7mm以下、さらには0.5mm以下、さらには0.3mm以下、さらには0.1mm以下の板ガラスの成形では、成形時の引き出し速度が速くなる傾向があるため、ガラスの仮想温度が上昇し、ガラスのコンパクションが増大しやすい。この場合、高ガラス転移点Tgのガラスであると、コンパクションを抑制することができる。
本発明の無アルカリガラスは、ガラス転移点Tgが740℃以上であるため、製造プロセスにおいてガラスの仮想温度が上昇しやすい用途(例えば、板厚0.7mm以下、好ましくは0.5mm以下、より好ましくは0.3mm以下の有機EL用のディスプレイ用基板または照明用基板、あるいは板厚0.3mm以下、好ましくは0.1mm以下の薄板のディスプレイ用基板または照明用基板)に適している。
板厚0.7mm以下、さらには0.5mm以下、さらには0.3mm以下、さらには0.1mm以下の板ガラスの成形では、成形時の引き出し速度が速くなる傾向があるため、ガラスの仮想温度が上昇し、ガラスのコンパクションが増大しやすい。この場合、高ガラス転移点Tgのガラスであると、コンパクションを抑制することができる。
また、本発明の無アルカリガラスは、粘度ηが102ポイズ(dPa・s)となる温度T2が1730℃以下であり、より好ましくは1710℃以下、さらに好ましくは1690℃以下になっているため溶解が比較的容易である。
また、本発明の無アルカリガラスは、粘度ηが104ポイズ(dPa・s)となる温度T4が1370℃以下であり、より好ましくは1350℃以下、さらに好ましくは1330℃以下になっているため、フロート法による成型が可能である。
本発明の無アルカリガラスは、例えば次のような方法で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標成分になるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し、1550〜1650℃に加熱して溶融する。この溶融ガラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断することによって板ガラスを得ることができる。
以下において例1〜16は実施例、例17〜19は比較例である。各成分の原料を目標組成になるように調合し、白金坩堝を用いて1550〜1650℃の温度で溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを用い撹拌しガラスの均質化を行った。次いで溶解ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
表1〜3には、ガラス組成(単位:質量%)と、密度ρ(g/cm3)、ヤング率E(GPa)(超音波法により測定)、比弾性E/ρ(GPa・cm3/g)、ガラス転移点Tg(単位:℃)、ガラス粘度ηが102ポイズとなる温度T2(単位:℃)、ガラス粘度ηが104ポイズとなる温度T4(単位:℃)、および、コンパクションC1、C2(上述した方法により測定、単位:ppm)を示す。
なお、表1〜3中、括弧書で示した値は計算値である。
なお、表1〜3中、括弧書で示した値は計算値である。
表から明らかなように、実施例のガラスはいずれも、ヤング率が90GPa以上と高く、比弾性が35GPa・cm3/g以上であり、ガラス転移点Tgが740℃以上である。また、T2が1730℃以下であり、T4が1370℃以下である。また、コンパクションC1が5ppm以下であり、コンパクションC2が50ppm以下である。
本発明の無アルカリガラスは、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして好適であるが、磁気ディスク用ガラス基板等としても使用できる。但し、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして、ガラス板の大型化や薄板化が求められることを考慮すると、高ヤング率であること、また薄膜形成工程で高温にさらされる際に、ガラスの変形およびガラスの構造安定化に伴う寸法変化を最小限に抑えることが求められることを考慮するとコンパクションが低いことから、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして有効である。
Claims (5)
- ヤング率が90GPaであり、コンパクションC1が5ppm以下であり、コンパクションC2が50ppm以下であり、
酸化物基準の質量%表示で、
SiO2 40〜65、
Al2O3 23.5超〜30、
MgO 2.5〜20、
CaO 2〜30
を含有し、
SiO2 +Al2O3が70以上90以下である無アルカリガラス。 - 比弾性が35GPa・cm3/g以下である請求項1に記載の無アルカリガラス。
- ガラス転移点が740℃以上である請求項1または2に記載の無アルカリガラス。
- 粘度ηが102ポイズとなる温度T2が1730℃以下である請求項1〜3のいずれかに記載の無アルカリガラス。
- 粘度ηが104ポイズとなる温度T4が1370℃以下である請求項1〜4のいずれかに記載の無アルカリガラス。
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