JP2016141008A - 剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の剥離フィルム1は、ポリエステルフィルムからなる基材11と、基材11の一方の表面11a上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層12とを具備し、基材11は、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であり、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であり、剥離剤層12は、厚さが0.05μm以上0.35μm以下であり、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層12の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であることを特徴とする。【選択図】図1
Description
本発明は、剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法に関し、詳しくは、ポリエステルフィルムを基材とする剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法に関する。
剥離剤層を有する剥離フィルムは、粘着材料の粘着面を保護するように粘着剤層に積層されたり、樹脂膜やセラミックグリーンシートを製膜するためのキャリアとして使用されている(例えば、特許文献1参照)。この特許文献1に記載の剥離フィルムは、ポリエステルフィルムの一方の表面上に設けられる離型層がシリカ粒子などの不活性微粒子を含有する。この剥離フィルムは、離型層に含まれる不活性微粒子によって離型層の表面粗さが適度に粗くなるので、剥離フィルムをロール状に巻き取った際に生じる剥離フィルムの表裏が密着する貼り付き現象(以下、「ブロッキング」ともいう)を防ぐことが可能となる。
しかしながら、特許文献1に記載の剥離フィルムにおいては、離型層に不活性微粒子を含有するので、表面粗さが高くなり耐ブロッキング性に優れる一方、粘着剤に対する剥離力としては、不活性微粒子の影響で剥離力が高くなり、目的に応じた剥離力の制御と耐ブロッキング性の両立が困難であった。このため、特許文献1に記載の剥離フィルムにおいては、離型層の形成に用いられる離型層形成用組成物の種類が制限されて、剥離フィルムとして十分な性能が得られない場合があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の剥離フィルムは、ポリエステルフィルムからなる基材と、前記基材の一方の表面上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層とを具備し、前記基材は、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であり、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であり、前記剥離剤層は、厚さが0.05μm以上0.35μm以下であり、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であることを特徴とする。
この剥離フィルムによれば、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるので、基材の表面及び剥離剤層の表面粗さが適度な範囲となり、基材上に設けられた剥離剤層の表面を平滑にすることができると共に、適度な耐ブロッキング性が得られる。そして、剥離剤層の厚さが0.05μm以上0.35μm以下であるので、剥離剤層の厚みムラによる剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層表面の外観(塗工面状態)を損なうことなく、耐ブロッキング性が向上する。さらに、剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であるので、適度な粘弾性体となり、剥離剤層に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルムを実現できる。
本発明の剥離フィルムにおいては、前記剥離剤層形成用組成物が、オルガノポリシロキサンを含有することが好ましい。この構成により、粘着剤に対して適度な剥離性が得られる。
本発明の剥離フィルムにおいては、前記基材の厚さが、10μm以上150μm以下であることが好ましい。使用用途に依るが、この構成により、基材の加工性が向上すると共に、基材のコストを低減することが可能となる。
本発明の剥離フィルムの製造方法は、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるポリエステルフィルムからなる基材上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが0.05μm以上0.35μm以下の剥離剤層を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下の剥離フィルムを得る工程を含むことを特徴とする。
この剥離フィルムの製造方法によれば、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるので、基材の表面及び剥離剤層の表面粗さが適度な範囲となり、基材上に設けられた剥離剤層の表面を平滑にすることができると共に、優れた耐ブロッキング性が得られる。そして、剥離剤層の厚さが0.05μm以上0.35μm以下であるので、剥離剤層の厚みムラによる剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層表面の外観を損なうことなく、耐ブロッキング性が向上する。さらに、剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であるので、適度な粘弾性体となり、剥離剤層に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルムを実現できる。
本発明によれば、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法を実現できる。
以下、本発明の一実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、適宜変更して実施可能である。
(剥離フィルム1)
図1は、本発明の一実施の形態に係る剥離フィルム1の模式断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る剥離フィルム1は、ポリエステルフィルムからなる基材11と、この基材11の一方の主面11a上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層12とを備える。この剥離フィルム1は、コア材にロール状に巻き取って保管することが可能である。
図1は、本発明の一実施の形態に係る剥離フィルム1の模式断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る剥離フィルム1は、ポリエステルフィルムからなる基材11と、この基材11の一方の主面11a上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層12とを備える。この剥離フィルム1は、コア材にロール状に巻き取って保管することが可能である。
本実施の形態に係る剥離フィルム1は、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層12の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下である。この剥離フィルム1においては、剥離剤層12の凝着エネルギーが15mJ/m2以上35mJ/m2以下であるので、剥離剤層12が適度な粘弾性体となり、剥離剤層12に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、剥離フィルム1は、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れ、ロール状で使用される剥離フィルムとして好適に用いることが可能となる。上述した効果を得る観点から、剥離剤層12の凝着エネルギーは、15mJ/m2以上であり、16mJ/m2以上が好ましく、18mJ/m2以上がより好ましく、また35mJ/m2以下であり、30mJ/m2以下が好ましく、25mJ/m2以下がより好ましい。以上を考慮すると、剥離剤層12の凝着エネルギーは、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であり、16mJ/m2以上30mJ/m2以下が好ましく、18mJ/m2以上25mJ/m2以下がより好ましい。
本実施の形態においては、剥離剤層12の凝着エネルギーは、例えば、原子間力顕微鏡であるプローブ顕微鏡(商品名:SPM−9700、島津製作所社製)にシリコンプローブ(Team nanotec製、LRCH曲率半径250nm、バネ定数0.2N/m)を取り付け、600m/sでタッピングを実施して得られたフォースカーブに基づいてJKR 2点法に準拠して算出したものである。以下、本実施の形態に係る剥離フィルム1の各種構成要素について詳細に説明する。
剥離フィルム1の厚さとしては、10μm以上が好ましく、15μm以上がより好ましく、200μm以下が好ましく、125μm以下がより好ましい。
(基材11)
基材11としては、各種ポリエステルフィルムを用いることが可能である。ポリエステルフィルムは、耐熱性に優れており、またPP(ポリプロピレン)やPE(ポリエチレン)のようなフィッシュアイが少なく、品質的に優れている。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルムが好ましい。また、ポリエステルフィルムとしては、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
基材11としては、各種ポリエステルフィルムを用いることが可能である。ポリエステルフィルムは、耐熱性に優れており、またPP(ポリプロピレン)やPE(ポリエチレン)のようなフィッシュアイが少なく、品質的に優れている。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルムが好ましい。また、ポリエステルフィルムとしては、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
基材11としては、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であるものを用いる。基材11の算術平均粗さRaが5nm以上であることにより、基材11の表面及び剥離剤層12の表面が適度に粗くなり、耐ブロッキング性が向上する。また、基材11の算術平均粗さRaが40nm以下であることにより、基材11の表面及び剥離剤層12の表面が適度に平滑になるので、基材11上に設けられた剥離剤層12の表面を平滑にすることができる。上述した効果を得る観点から、基材11の算術平均粗さRaとしては、5nm以上であり、10nm以上が好ましく、15nm以上がより好ましく、また40nm以下であり、38nm以下が好ましく、37nm以下がより好ましい。以上を考慮すると、基材11の算術平均粗さRaとしては、5nm以上40nm以下であり、10nm以上38nm以下が好ましく、15nm以上37nm以下がより好ましい。
また基材11としては、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるものを用いる。基材11の最大突起高さRpが50nm以上であることにより、基材11の表面及び剥離剤層12の表面が適度に粗くなり、耐ブロッキング性が向上する。また、基材11の最大突起高さRpが1000nm以下であることにより、基材11の表面及び剥離剤層12の表面が適度に平滑になるので、基材11上に設けられた剥離剤層12の表面を平滑にすることができる。上述した効果を得る観点から、基材11の最大突起高さRpとしては、50nm以上であり、100nm以上が好ましく、150nm以上がより好ましく、また1000nm以下であり、500nm以下が好ましく、300nm以下がより好ましい。以上を考慮すると、基材11の最大突起高さRpとしては、50nm以上1000nm以下であり、100nm以上500nm以下が好ましく、150nm以上300nm以下がより好ましい。
基材11の厚さT1は、用途に応じて適宜変更可能である。基材11の厚さT1は、剥離フィルム1の強度を維持する観点、及び剥離フィルム1に積層された層の抜き加工適性及びその他使用時のハンドリング性を確保する観点から、10μm以上が好ましく、20μm以上がより好ましく、30μm以上が更に好ましく、また200μm以下が好ましく、150μm以下がより好ましく、125μm以下が更に好ましい。以上を考慮すると、基材11の厚さT1は、10μm以上200μm以下が好ましく、20μm以上150μm以下がより好ましく、30μm以上125μm以下が更に好ましい。
(剥離剤層12)
剥離剤層12は、例えば、離型剤を含む剥離剤層形成用組成物の硬化物で形成される。剥離剤層形成用組成物としては、剥離剤層12上に積層される任意の層を剥離フィルム10から剥離させる機能を剥離剤層12に付与できるものであれば特に制限はない。離型剤としては、例えばシリコーン樹脂、長鎖アルキル樹脂、及びアルキド樹脂などが挙げられる。
剥離剤層12は、例えば、離型剤を含む剥離剤層形成用組成物の硬化物で形成される。剥離剤層形成用組成物としては、剥離剤層12上に積層される任意の層を剥離フィルム10から剥離させる機能を剥離剤層12に付与できるものであれば特に制限はない。離型剤としては、例えばシリコーン樹脂、長鎖アルキル樹脂、及びアルキド樹脂などが挙げられる。
シリコーン系離型剤としては、付加反応型シリコーン、縮合反応型シリコーン、エネルギー線硬化性シリコーンが挙げられる。また、剥離力を調整するために、無官能のポリジメチルシロキサン、フェニル変性シリコーン、シリコーンレジン、シリカ、セルロース系化合物を添加剤として用いても良い。
剥離フィルム1においては、剥離剤層形成用組成物が、オルガノポリシロキサンを含有することが好ましい。これにより、粘着剤に対して適度な剥離性が得られる。
剥離剤層12の厚さT2は、0.05μm以上0.35μm以下である。剥離剤層12の厚さT2が0.05μm以上であることにより、剥離剤層12の厚みムラによる剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層12の表面の平滑性が適度に向上して剥離フィルム1の外観が向上する。また、剥離剤層12の厚さT2が0.35μm以下であることにより、剥離剤層12の表面粗さが適度に粗くなり、剥離フィルム1の耐ブロッキング性が向上する。上述した効果を得る観点から、剥離剤層12の厚さT2は、0.05μm以上であり、0.075μm以上が好ましく、0.10μm以上がより好ましく、また0.35μm以下であり、0.325μm以下が好ましく、0.30μm以下がより好ましい。以上を考慮すると、剥離剤層12の厚さT2は、0.05μm以上0.35μm以下であり、0.075μm以上0.325μm以下が好ましく、0.10μm以上0.30μm以下がより好ましい。
また、剥離剤層形成用組成物としては、市販品である、ビニルメチルシロキサンユニットを含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、VDT−954、Gelest社製)、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)、及びビニル基を有するMQレジン(東レ・ダウコーニング社製、商品名「SD7292」、固形分71質量%)などをトルエンなどの有機溶剤で所定濃度となるように希釈した溶液に、白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を所定量添加したものを用いることができる。
(剥離フィルムの製造方法)
本実施の形態に係る剥離フィルムの製造方法は、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるポリエステルフィルムからなる基材11上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが0.05μm以上0.35μm以下の剥離剤層12を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層12の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下の剥離フィルム1を得る工程を含む。
本実施の形態に係る剥離フィルムの製造方法は、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるポリエステルフィルムからなる基材11上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが0.05μm以上0.35μm以下の剥離剤層12を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層12の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下の剥離フィルム1を得る工程を含む。
本実施の形態に係る剥離フィルムの製造方法においては、剥離剤層12は、例えば、剥離剤層形成用組成物を基材11の一方の面に従来公知の塗工方法で塗工した後、所定の温度で加熱して乾燥及び硬化させることによって形成する。ここでは、剥離剤層形成用組成物は、有機溶媒で希釈したものを基材11上に塗工してもよい。有機溶媒としては、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル及び酢酸ブチルなどの脂肪酸エステル、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン、ヘキサン、及びヘプタンなどの脂肪族炭化水素などが挙げられる。
剥離剤層形成用組成物の塗工方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ゲートロールコート法、及びダイコート法などが挙げられる。これらの中でも、グラビアコート法及びバーコート法が好ましい。また、剥離剤層形成用組成物の加熱・乾燥方法としては、例えば、熱風乾燥炉などで熱乾燥する方法などが挙げられる。乾燥温度は、例えば、90℃以上150℃以下である。また、乾燥時間は、例えば、10秒間〜5分間であることが好ましい。
剥離剤層形成用組成物の塗布厚は、0.05μm以上0.35μm以下であることが好ましい。剥離剤層形成用組成物の塗布厚は、0.05μm以上であれば、剥離剤層12の厚みムラに起因した剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層12の表面の平滑性が向上して剥離フィルム1の表面の外観が向上する。また、剥離剤層形成用組成物の塗布量は、0.35μm以下であれば、耐ブロッキング性が向上する。
以上説明したように、上記実施の形態によれば、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるので、基材11の表面11a及び剥離剤層12の表面粗さが適度な範囲となるので、基材11上に設けられた剥離剤層12の表面12aを平滑にすることができると共に、耐ブロッキング性が向上する。そして、剥離剤層12の厚さが0.05μm以上0.35μm以下であるので、剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層12の表面12aの外観を損なうことなく、耐ブロッキング性が向上する。さらに、剥離剤層12の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であるので、適度な粘弾性体となり、剥離剤層12に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム1を実現できる。
以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例及び比較例によって何ら限定されるものではない。
<表面粗さ>
表面粗さは、算術平均粗さRa及び最大突起高さRpを測定して評価した。算術平均粗さRa及び最大突起高さRpは、表面粗さ測定機(商品名:SV3000S4(触針式)、ミツトヨ社製)を使用し、JIS B0601−1994に準拠して測定した。カットオフ値などは以下の条件とした。λc=0.25mm、λs=0.0025mm、基準長さ=2.5mm、評価長さ=10mm、レンジ=80、走査速度=1.0mm/s
表面粗さは、算術平均粗さRa及び最大突起高さRpを測定して評価した。算術平均粗さRa及び最大突起高さRpは、表面粗さ測定機(商品名:SV3000S4(触針式)、ミツトヨ社製)を使用し、JIS B0601−1994に準拠して測定した。カットオフ値などは以下の条件とした。λc=0.25mm、λs=0.0025mm、基準長さ=2.5mm、評価長さ=10mm、レンジ=80、走査速度=1.0mm/s
<凝着エネルギー>
剥離剤層12の凝着エネルギーは、まず、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムをステンレス性の試料台に両面テープで固定し、プローブ顕微鏡(商品名:SPM−9700、島津製作所社製)にシリコンプローブ(Team nanotec製、LRCH曲率半径250nm、バネ定数0.2N/m)を取り付けた後、600m/sでタッピングを実施してフォースカーブを得た。得られたフォースカーブの形状から、JKR 2点法に準拠して剥離剤層の凝着エネルギーを算出した。
剥離剤層12の凝着エネルギーは、まず、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムをステンレス性の試料台に両面テープで固定し、プローブ顕微鏡(商品名:SPM−9700、島津製作所社製)にシリコンプローブ(Team nanotec製、LRCH曲率半径250nm、バネ定数0.2N/m)を取り付けた後、600m/sでタッピングを実施してフォースカーブを得た。得られたフォースカーブの形状から、JKR 2点法に準拠して剥離剤層の凝着エネルギーを算出した。
<耐ブロッキング性>
耐ブロッキング性は、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅1290mm、長さ6000mのロール状に巻き上げて剥離フィルムロールとして40℃の環境下に7日間保管した後、剥離フィルムロールの外観を目視にて観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○(ブロッキング無し):保管前後で色目に変化がなかったもの
△(ブロッキング若干有り):半分以下の領域の色目が異なったもの
×(ブロッキング有り):過半の領域に亘って色目が異なったもの
耐ブロッキング性は、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅1290mm、長さ6000mのロール状に巻き上げて剥離フィルムロールとして40℃の環境下に7日間保管した後、剥離フィルムロールの外観を目視にて観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○(ブロッキング無し):保管前後で色目に変化がなかったもの
△(ブロッキング若干有り):半分以下の領域の色目が異なったもの
×(ブロッキング有り):過半の領域に亘って色目が異なったもの
<帯電性>
帯電性は、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅1290mm、長さ6000mのロール状に巻き上げて剥離フィルムロールとして40℃の環境下に7日間保管した後、剥離フィルムロールから剥離フィルムを繰り出す際の帯電量を防爆型静電気電位測定器(商品名:KSD−0108、春日電機社製)を使用して測定した。評価基準を以下に示す。
A:帯電量5kV未満
B:帯電量5kV以上10kV未満
C:帯電量10kV以上
帯電性は、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅1290mm、長さ6000mのロール状に巻き上げて剥離フィルムロールとして40℃の環境下に7日間保管した後、剥離フィルムロールから剥離フィルムを繰り出す際の帯電量を防爆型静電気電位測定器(商品名:KSD−0108、春日電機社製)を使用して測定した。評価基準を以下に示す。
A:帯電量5kV未満
B:帯電量5kV以上10kV未満
C:帯電量10kV以上
<外観>
外観は、剥離剤層の表面の外観を観察して評価した。実施例及び比較例で得られた剥離フィルム(重面側)に、アクリル系粘着剤(商品名:BPS5127、トーヨーケム社製)を乾燥後に20μmの厚さになるように塗布した後、105℃で2分間乾燥させた。次に、剥離フィルム(商品名:PET381130、リンテック社製)を貼り合わせて、両面粘着シート(ノンキャリアフィルム)を作製した。次に、それぞれの両面粘着シートの軽面剥離フィルム(PET381130)を剥がし、露出した剥離剤層を黒アクリル板(三菱レイヨン社製)に貼り合わせた。その後、重面剥離フィルムを剥がし、蛍光灯の光を反射させて剥離剤層の表面を観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○:写り込んだ蛍光灯の像が歪まずに見えた
×:写り込んだ蛍光灯の像が歪んで見えた
外観は、剥離剤層の表面の外観を観察して評価した。実施例及び比較例で得られた剥離フィルム(重面側)に、アクリル系粘着剤(商品名:BPS5127、トーヨーケム社製)を乾燥後に20μmの厚さになるように塗布した後、105℃で2分間乾燥させた。次に、剥離フィルム(商品名:PET381130、リンテック社製)を貼り合わせて、両面粘着シート(ノンキャリアフィルム)を作製した。次に、それぞれの両面粘着シートの軽面剥離フィルム(PET381130)を剥がし、露出した剥離剤層を黒アクリル板(三菱レイヨン社製)に貼り合わせた。その後、重面剥離フィルムを剥がし、蛍光灯の光を反射させて剥離剤層の表面を観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○:写り込んだ蛍光灯の像が歪まずに見えた
×:写り込んだ蛍光灯の像が歪んで見えた
<剥離剤層形成用組成物Aの調製>
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Aを調製した。
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Aを調製した。
<剥離剤層形成用組成物Bの調製>
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、ビニル基を有するMQレジン(固形分71質量%、商品名:SD7292、東レ・ダウコーニング社製)を固形分換算で15質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Bを調製した。
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、ビニル基を有するMQレジン(固形分71質量%、商品名:SD7292、東レ・ダウコーニング社製)を固形分換算で15質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Bを調製した。
<剥離剤層形成用組成物Cの調製>
ビニルメチルシロキサンユニットを12.0mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−954、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)4.0質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Cを調製した。
ビニルメチルシロキサンユニットを12.0mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−954、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)4.0質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Cを調製した。
<剥離剤層形成用組成物Dの調製>
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、重剥離添加剤(固形分30質量%、商品名:BY24−4980、東レ・ダウコーニング社製)を固形分換算で10質量部とを、トルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Dを調製した。
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、重剥離添加剤(固形分30質量%、商品名:BY24−4980、東レ・ダウコーニング社製)を固形分換算で10質量部とを、トルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Dを調製した。
<剥離剤層形成用組成物Eの調製>
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、重剥離添加剤(固形分30質量%、商品名:BY24−4980、東レ・ダウコーニング社製)を固形分換算で5質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Eを調製した。
ビニルメチルシロキサンユニットを0.5mol%含有するオルガノポリシロキサン(商品名:VDT−163、Gelest社製)30質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン(商品名:HMS−993、Gelest社製)0.35質量部と、重剥離添加剤(固形分30質量%、商品名:BY24−4980、東レ・ダウコーニング社製)を固形分換算で5質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が1.0質量%となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒(固形分2質量%、商品名:cata PL−50T、信越化学社製)を2質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Eを調製した。
(実施例1)
基材としては、表面及び裏面が同粗度のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚さ38μm、算術平均粗さRa:20nm、最大突起高さRp:200nm)を用いた。次に、この基材の一方の面に、剥離剤層形成用組成物Aを乾燥後の厚みが0.1μmとなるようにバーコーターにて塗布した後、120℃で1分間乾燥して剥離剤層を設けて剥離フィルムを得た。
基材としては、表面及び裏面が同粗度のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚さ38μm、算術平均粗さRa:20nm、最大突起高さRp:200nm)を用いた。次に、この基材の一方の面に、剥離剤層形成用組成物Aを乾燥後の厚みが0.1μmとなるようにバーコーターにて塗布した後、120℃で1分間乾燥して剥離剤層を設けて剥離フィルムを得た。
(実施例2)
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:9nm、最大突起高さRp:95nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:9nm、最大突起高さRp:95nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(実施例3)
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Bを用いたこと、及び乾燥後の厚みが0.15μmとなるようにバーコーターにて剥離剤層形成用組成物Bを塗布したこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Bを用いたこと、及び乾燥後の厚みが0.15μmとなるようにバーコーターにて剥離剤層形成用組成物Bを塗布したこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(実施例4)
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(実施例5)
剥離剤の塗工量を0.3μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
剥離剤の塗工量を0.3μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(実施例6)
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:37nm、最大突起高さRp:600nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:37nm、最大突起高さRp:600nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(比較例1)
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(比較例2)
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:9nm、最大突起高さRp:95nmとしたこと以外は、比較例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:9nm、最大突起高さRp:95nmとしたこと以外は、比較例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(比較例3)
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:4nm、最大突起高さRp:22nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:4nm、最大突起高さRp:22nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(比較例4)
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Eを用いたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
剥離剤層形成用組成物Aに代えて剥離剤層形成用組成物Eを用いたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(比較例5)
剥離剤の塗工量を0.4μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
剥離剤の塗工量を0.4μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
(比較例6)
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:70nm、最大突起高さRp:1200nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
基材を厚さ38μm、算術平均粗さRa:70nm、最大突起高さRp:1200nmとしたこと以外は、実施例1と同様にして剥離フィルムを作製した。
表1から分かるように、基材の算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であり、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であり、剥離剤層の厚さが0.05μm以上0.35μm以下であり、剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下である場合には、いずれも優れた耐ブロッキング性、帯電性及び外観の評価となることが分かる(実施例1−6)。
これに対して、剥離剤層の凝着エネルギーが、35mJ/m2を超える場合には、いずれも耐ブロッキング性が著しく低下することが分かる(比較例1、2、4)。この結果は、剥離剤層の凝着エネルギーが大きくなり過ぎたために、剥離剤層の粘弾特性のバランスが悪くなり、弾性項に対して粘性項の影響が強くなってブロッキングが発生したためと考えられる。また、基材の算術平均粗さRaが5nm未満及び最大突起高さRpが50nm未満となる場合(比較例3)にも、耐ブロッキング性が著しく低下することが分かる(比較例3)。この結果は、基材が平滑すぎて剥離剤層の表面が過度に平滑となったためにブロッキングが発生したためと考えられる。さらに、剥離剤層の厚さが0.35μmを超える場合にも、耐ブロッキング性が著しく低下することが分かる(比較例5)。この結果は、剥離剤層の厚さが厚すぎて表面が過度に平滑となったためにブロッキングが発生したためと考えられる。また、基材の算術平均粗さRaが40nm超え及び最大突起高さRpが1000nm超えの場合には、耐ブロッキング性が良好となる一方、外観の評価が悪化することが分かる(比較例6)。この結果は、剥離フィルムの剥離剤層の表面の表面粗さが粗くなり過ぎたためと考えられる。
1 剥離フィルム
11 基材
11a 表面
12 剥離剤層
12a 表面
11 基材
11a 表面
12 剥離剤層
12a 表面
Claims (4)
- ポリエステルフィルムからなる基材と、
前記基材の一方の表面上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層とを具備し、
前記基材は、算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であり、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であり、
前記剥離剤層は、厚さが0.05μm以上0.35μm以下であり、
原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下であることを特徴とする、剥離フィルム。 - 前記剥離剤層形成用組成物が、オルガノポリシロキサンを含有する、請求項1に記載の剥離フィルム。
- 前記基材の厚さが、10μm以上150μm以下である、請求項1又は請求項2に記載の剥離フィルム。
- 算術平均粗さRaが5nm以上40nm以下であって、最大突起高さRpが50nm以上1000nm以下であるポリエステルフィルムからなる基材上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが0.05μm以上0.35μm以下の剥離剤層を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、15mJ/m2以上35mJ/m2以下の剥離フィルムを得る工程を含むことを特徴とする、剥離フィルムの製造方法。
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