JP2016133559A - ペリクル用支持枠 - Google Patents
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Abstract
Description
また、通気孔を通じて、接着剤の溶解液を凹溝内に流し込み、支持枠と透明基板とを接着している接着層を溶解した後に、凹溝内の気圧を高めて、支持枠を透明基板から取り外してもよい。
このように、本発明では、支持枠を透明基板から取り外すときに、枠体を透明基板から離れる方向に押すことができるため、枠体の変形を抑制することができる。したがって、支持枠を再利用することができる。
なお、前記した支持枠では、複数の前記凹溝を前記枠体の周方向に並設し、前記各凹溝に少なくとも一つの前記通気孔を連通させてもよい。
この構成では、通気孔の内周面から枠体の表面までの肉厚と、通気孔の内周面から枠体の裏面までの肉厚とを均等に確保することができるため、枠体の曲げ剛性の低下を抑えることができる。
なお、本実施形態の各図面では、支持枠の構成を分かり易く説明するために、支持枠の各部を適宜に模式的に示している。
以下の説明において、前後左右および表裏とは、支持枠を分かり易く説明するために設定したものであり、支持枠の構成および使用状態を特定するものではない。
本実施形態のペリクルPは、例えば、横の寸法が700mm以上、縦の寸法が400mm以上の大型の液晶パネルの製造に適用することが好ましい。
ペリクルPは、透明基板Mに描かれた回路パターン(図示せず)の全体を囲う支持枠1と、支持枠1の表面に覆設されたペリクル膜2と、を備えている。
枠体10は、前後一対の横枠部11,11と、左右一対の縦枠部12,12と、によって構成されている。横枠部11および縦枠部12の軸断面は長方形に形成されている。
両横枠部11,11は、枠体10の長辺となる部分であり、両縦枠部12,12は、枠体10の短辺となる部分である。
ペリクル膜2は、図2に示すように、接着層4を介して枠体10の表面10aに接着される。ペリクル膜2を枠体10の表面10aに接着したときには、ペリクル膜2によって枠体10の表面10a全体が覆われる。
また、枠体10の裏面10bには粘着剤が付着され、枠体10の裏面10bは粘着層5を介して透明基板Mの表面Maに接着される。
凹溝20は、横枠部11の裏面10bにおいて前後方向の中央(横枠部11の幅方向の中央)に形成されるとともに、縦枠部12の裏面10bにおいて左右方向の中央(縦枠部12の幅方向の中央)に形成されている。
縦枠部12の二つのピット穴21,21は、縦枠部12の前後方向の中央(長手方向の中央)の前後両側に配置されている。
ピット穴21の底面21aは、通気孔30よりも表側に配置されており、通気孔30の軸断面全体がピット穴21の内周面に開口している。
このように、本実施形態の支持枠1では、枠体10の各辺に通気孔30が形成されている。すなわち、凹溝20の各辺に複数の通気孔30が連通しており、凹溝20に対して十二個の通気孔30が連通している。
図3に示すように、前後の横枠部11,11にそれぞれ四つの貫通孔40が形成されている。すなわち、枠体10には八つの貫通孔40が形成されている。
また、横枠部11の四つの貫通孔40のうち、端部寄りの二つの貫通孔40,40は、横枠部11の四つのピット穴21のうち、横枠部11の左側の領域または右側の領域において、隣り合う二つのピット穴21,21の間に配置されている。
前後の横枠部11,11にそれぞれ四つの治具穴50が形成されている。横枠部11の四つの通気孔30のうち、外側の通気孔30の左右両側に二つの治具穴50,50が形成されている。
本実施形態の支持枠1では、治具穴50が横枠部11の左右両端部に形成されているため、治具穴50を横枠部11の左右方向の中央に形成した場合に比べて、治具によって支持枠1を保持したときの横枠部11のたわみを抑制することができる。
ペリクルPを透明基板Mに接着すると、ペリクル膜2と透明基板Mとの間に支持枠1が介在され、透明基板Mの表面Maから離れた位置にペリクル膜2が配置される。
また、ペリクルPでは、支持枠1の枠体10に貫通孔40(図3参照)が形成されている。したがって、枠体10の表裏をペリクル膜2および透明基板Mによって塞いだ状態でも、枠体10の内部空間が貫通孔40を通じて外部空間に連通しているため、枠体10の内部空間と外部空間とに圧力差が生じるのを防ぐことができる。
図2に示すように、ペリクルPが透明基板Mに接着された状態で、各通気孔30を通じて、接着剤の溶解液を凹溝20内に流し込む。これにより、溶解液によって粘着層5が溶解される。
送気装置によって各通気孔30を通じて凹溝20内に空気が送り込まれると、凹溝20内の気圧が高くなる。このようにして、凹溝20内の圧力によって、枠体10を透明基板Mから離れる方向に押すことで、ペリクルPを透明基板Mから引き剥がして取り外すことができる。
これにより、支持枠1を透明基板Mから取り外すときに、枠体10の変形を抑制することができるため、支持枠1を再利用することができる。
そして、支持枠1を繰り返し利用することで、資源を有効利用するとともに、液晶パネルの製造コストを低減することができる。
したがって、凹溝20内に空気を送り込んだときに、枠体10の裏面10b全体に均等に圧力が作用し、凹溝20内の空気の気圧をバランス良く高めることができるため、枠体10の変形をより効果的に抑制することができる。
本実施形態では、図4に示すように、凹溝20が枠体10の全周に連続して形成されているが、複数の凹溝20を枠体10の周方向に並設し、各凹溝20に通気孔30を連通させてもよい。
また、本実施形態では、図5(a)に示すように、通気孔30、貫通孔40および治具穴50が枠体10の高さ方向の中央に形成されているが、枠体10の高さ方向の中央からずれた位置に形成してもよい。
2 ペリクル膜
4 接着層
5 粘着層
6 通気管
10 枠体
10a 表面
10b 裏面
10c 外周面
10d 内周面
11 横枠部
12 縦枠部
20 凹溝
21 ピット穴
21a 底面
30 通気孔
40 貫通孔
50 治具穴
M 透明基板
P ペリクル
Claims (7)
- アルミニウム合金製の枠体を有し、
前記枠体の表面にペリクル膜が接着され、前記枠体の裏面に透明基板が接着されるペリクル用支持枠であって、
前記枠体の裏面には、前記枠体の周方向に延びる凹溝が形成されるとともに、
前記枠体の外周面から前記凹溝の内面に至る通気孔が少なくとも一つ形成されていることを特徴とするペリクル用支持枠。 - 前記枠体の各辺に前記通気孔が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のペリクル用支持枠。
- 前記凹溝の底面には、有底のピット穴が形成されており、
前記通気孔は、前記ピット穴の内周面に開口していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のペリクル用支持枠。 - 前記ピット穴の底面は、前記通気孔よりも前記枠体の表側に形成されていることを特徴とする請求項3に記載のペリクル用支持枠。
- 前記通気孔は、前記枠体の高さ方向の中央に形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のペリクル用支持枠。
- 前記枠体の外周面から内周面に至る貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のペリクル用支持枠。
- 複数の前記凹溝が前記枠体の周方向に並設されており、
前記各凹溝に少なくとも一つの前記通気孔が連通していることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のペリクル用支持枠。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015007022A JP6519190B2 (ja) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | ペリクル用支持枠 |
KR1020177019390A KR102418363B1 (ko) | 2015-01-16 | 2015-10-29 | 펠리클용 지지 프레임 |
PCT/JP2015/080518 WO2016113981A1 (ja) | 2015-01-16 | 2015-10-29 | ペリクル用支持枠 |
EP15877933.0A EP3246753A4 (en) | 2015-01-16 | 2015-10-29 | Support frame for pellicle |
CN201580072967.3A CN107209452B (zh) | 2015-01-16 | 2015-10-29 | 表皮用支承框 |
US15/543,942 US10281814B2 (en) | 2015-01-16 | 2015-10-29 | Support frame for pellicle |
TW104138700A TWI670572B (zh) | 2015-01-16 | 2015-11-23 | 防塵膜用支持框 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015007022A JP6519190B2 (ja) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | ペリクル用支持枠 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016133559A true JP2016133559A (ja) | 2016-07-25 |
JP6519190B2 JP6519190B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=56405538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015007022A Active JP6519190B2 (ja) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | ペリクル用支持枠 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10281814B2 (ja) |
EP (1) | EP3246753A4 (ja) |
JP (1) | JP6519190B2 (ja) |
KR (1) | KR102418363B1 (ja) |
CN (1) | CN107209452B (ja) |
TW (1) | TWI670572B (ja) |
WO (1) | WO2016113981A1 (ja) |
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- 2015-01-16 JP JP2015007022A patent/JP6519190B2/ja active Active
- 2015-10-29 KR KR1020177019390A patent/KR102418363B1/ko active IP Right Grant
- 2015-10-29 CN CN201580072967.3A patent/CN107209452B/zh active Active
- 2015-10-29 EP EP15877933.0A patent/EP3246753A4/en not_active Withdrawn
- 2015-10-29 WO PCT/JP2015/080518 patent/WO2016113981A1/ja active Application Filing
- 2015-10-29 US US15/543,942 patent/US10281814B2/en active Active
- 2015-11-23 TW TW104138700A patent/TWI670572B/zh not_active IP Right Cessation
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CN107209452A (zh) | 2017-09-26 |
EP3246753A4 (en) | 2018-09-05 |
KR20170103819A (ko) | 2017-09-13 |
KR102418363B1 (ko) | 2022-07-06 |
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JP6519190B2 (ja) | 2019-05-29 |
WO2016113981A1 (ja) | 2016-07-21 |
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TWI670572B (zh) | 2019-09-01 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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