JP2016126860A - 表示装置、表示装置の製造方法および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】リーク電流の発生を抑制して表示画質を向上させることが可能な表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、発光素子は、基板側から順に、画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とを有し、複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成されたものである。【選択図】図２

Description

本開示は、有機電界発光装置などの表示装置およびその製造方法、ならびにそのような表示装置を備えた電子機器に関する。

近年、有機電界発光（ＥＬ：Electroluminescence）素子を用いた表示装置（有機ＥＬディスプレイ）の開発が進んでいる。この表示装置では、例えば、画素毎に分離して形成された第１電極の上に、発光層を含む有機層と第２電極とが形成される。また、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色発光層のいずれかを含む有機層が画素毎に塗り分けられる。このような有機層は、第１電極同士の間の領域に端面を有して形成される。

ところが、この有機層の端面と、その上に形成される第２電極とが接すると、第１電極同士の間あるいは第１電極と第２電極との間においてリーク電流を生じる。リーク電流の発生は、輝度低下を招き、表示画質の低下につながる。そこで、第１電極同士の間の領域において、有機層の端面が第２電極に対して露出しないように、有機層の端面をＳｉＯ_２からなる絶縁層に埋め込む構造が提案されている（特許文献１）。また、第１電極と第２電極とは互いに交差するように、有機層を挟んで対向配置されている。

特開２００５−２７６６６７号公報

しかしながら、上記特許文献１の手法では、絶縁層（ＳｉＯ_２）の成膜温度が高温であり、位置精度において改善の余地がある。絶縁層の成膜位置精度を向上させて、有機層端面を介した電流リークを抑制することが可能な素子構造の実現が望まれている。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、リーク電流の発生を抑制して表示画質を向上させることが可能な表示装置、表示装置の製造方法および電子機器を提供することにある。

本開示の表示装置は、基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、発光素子は、基板側から順に、画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とを有し、複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共にこの第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成されたものである。

本開示の表示装置の製造方法は、基板上に各々が発光素子を含む複数の画素を形成する際に、基板上に、発光素子として、画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とをこの順に形成し、複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素に第１の有機層を形成した後、第２電極の形成前に、第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に第１の有機層とは異なる第２の有機層を形成する。

本開示の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。

本開示の表示装置および電子機器では、隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成されている。これにより、隣接する第１電極間または第１電極と第２電極との間において、第１の有機層端面を介したリーク電流の発生が抑制される。また、第２の有機層が用いられることで、無機材料が用いられる場合に比べ、成膜温度が低くなり、成膜位置精度が向上する。

本開示の表示装置の製造方法では、隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成される。これにより、隣接する第１電極間または第１電極と第２電極との間において、第１の有機層端面を介したリーク電流の発生が抑制される。また、第２の有機層が用いられることで、無機材料が用いられる場合に比べ、成膜温度が低くなり、成膜位置精度が向上する。

本開示の表示装置、表示装置の製造方法および電子機器では、隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成される。これにより、リーク電流の発生を抑制して、表示画質を向上させることが可能となる。

尚、上記内容は本開示の一例である。本開示の効果は、上述したものに限らず、他の異なる効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。

本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の全体構成を表す図である。 図１に示した画素回路の一例を表す図である。 図１に示した表示装置の構成を表す断面図である。 図３に示した画素分離膜の開口（画素開口）と有機層の形成領域とを表す平面図である。 図３に示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 図５Ａに続く工程を表す断面図である。 図５Ｂに続く工程を表す断面図である。 図５Ｃに続く工程を表す断面図である。 図５Ｄに続く工程を表す断面図である。 有機層成膜時に用いる蒸着装置の一例を表す模式図である。 図６に示した蒸着装置の比較例を表す模式図である。 図６に示した蒸着装置の効果を説明するための模式図である。 比較例１−１に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。 比較例１−２に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。 比較例１−３に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。 比較例１−４に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。 図３に示した表示装置の要部構成を表す断面図である。 変形例１−１に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例１−２に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例１−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例２−１に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例２−２に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例２−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例２−４に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例３−１に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例３−２に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例３−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。 図１３に示した表示装置の画素開口と有機層の形成領域との一例を表す平面図である。 図１３に示した表示装置の画素開口と有機層の形成領域との他の例を表す平面図である。 比較例２に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。 変形例４−１に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例４−２に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例４−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例４−４に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例５−１に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例５−２に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例５−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例５−４に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例５−５に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例５−６に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−１に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−２に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−４に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−５に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−６に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 変形例６−７に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。 スマートフォンの構成を表す斜視図である。 スマートフォンの構成を表す斜視図である。 テレビジョン装置の構成を表す斜視図である。 携帯電話機の構成を表す平面図である。 携帯電話機の構成を表す平面図である。

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（隣接する第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）間の領域に、第２の画素（Ｂ画素）の有機層が形成された表示装置の例）
２．変形例１−１〜１−３（画素開口形状の他の例）
３．変形例２−１〜２−４（有機層を所定のマスクを用いて成膜した場合の例）
４．変形例３−１〜３−４（有機層を他のマスクを用いて成膜した場合の例）
５．第２の実施の形態（第２電極と電気的に接続された補助電極を更に備えた表示装置の例）
６．変形例４−１〜４−４（画素開口形状の他の例）
７．変形例５−１〜５−６（有機層を所定のマスクを用いて成膜した場合の例）
８．変形例６−１〜６−７（有機層を他のマスクを用いて成膜した場合の例）
９．適用例（電子機器の例）

＜第１の実施の形態＞
［構成］
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の構成を表すものである。この表示装置１は、例えば有機ＥＬディスプレイであり、基板（第１基板１１）上の表示領域１１０Ａに、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＩＸＣを有している。各画素ＰＩＸＣは、例えば発光色の異なる複数種類の有機ＥＬ素子１０（１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）（発光素子）のいずれかを含み、Ｒ画素，Ｇ画素およびＢ画素のうちのいずれかのサブピクセルに相当するものである。尚、Ｒ画素，Ｇ画素およびＢ画素の組が１ピクセルに相当する。有機ＥＬ素子１０Ｒは、赤色の光ＬＲ（波長６２０ｎｍ〜７５０ｎｍ）を、有機ＥＬ素子１０Ｇは、緑色の光ＬＧ（波長４９５ｎｍ〜５７０ｎｍ）を、有機ＥＬ素子１０Ｂは、青色の光ＬＢ（波長４５０ｎｍ〜４９５ｎｍ）を、それぞれ発生する。但し、以下では、特に発光色の区別が必要ない場合には、有機ＥＬ素子１０と称して説明を行う。表示領域１１０Ａの周辺には、映像表示用の信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０と、図示しない電源回路とが設けられている。

図２は、画素ＰＩＸＣの回路構成を表したものである。画素ＰＩＸＣは、例えばアクティブ型の画素回路を含み、駆動用のトランジスタＴｒ１および書き込み用のトランジスタＴｒ２と、これらのトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間に配置されたキャパシタＣｓとを有する。第１の電源ライン（Ｖｃｃ）と第２の電源ライン（ＧＮＤ）との間において、有機ＥＬ素子１０のトランジスタＴｒ１に直列に接続されている。信号線駆動回路１２０は、列方向に配置された複数の信号線１２０Ａを通じてトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号を供給する。走査線駆動回路１３０は、行方向に配置された複数の走査線１３０Ａを通じてトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号を順次供給する。

図３は図１に示した表示装置１の断面構成を表すものである。尚、図３では、Ｒ画素，Ｇ画素，Ｂ画素に対応する領域についてのみ示している。表示装置１は、例えば後述の有機層（有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ）で発生した光が第２電極１６側から取り出される、いわゆるトップエミッション方式（上面発光方式）の有機ＥＬディスプレイである。有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、第１基板１１と第２基板１８との間に設けられている。第１基板１１には、上記のトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２等を含む回路層（図３には図示せず）が形成されており、この回路層を覆うように平坦化膜１２が形成されている。平坦化膜１２上には、例えば陽極（アノード）としての第１電極１３が設けられている。第１電極１３は、トランジスタＴｒ１と電気的に接続されている。

有機ＥＬ素子１０は、第１基板１１の側から順に、第１電極１３と、発光層を含む有機層（有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ）と、例えば陰極としての第２電極１６とが積層されたものである。有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂは、画素毎に塗り分けられている（画素毎に分離して形成されている）。この有機ＥＬ素子１０上には、保護膜および接着層などを含む封止層１７を介して第２基板１８が貼り合わされている。以下、各部の構成について説明する。

第１基板１１は、例えばガラス，シリコン（Ｓｉ）ウェハ、樹脂あるいは導電性基板などの上に上記の回路層が形成された駆動基板である。導電性基板としては、例えば表面を酸化シリコン（ＳｉＯ₂）や樹脂等により絶縁化したものが用いられる。回路層に形成されるトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２は、例えば例えばＭＯＳＦＥＴ（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor）により構成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）である。

平坦化膜１２は、第１基板１１の表面を平坦化し、有機ＥＬ素子１０の各層の膜厚を均一に形成するためのものである。平坦化膜１２の構成材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂およびノボラック樹脂などの有機材料、あるいは酸化シリコン（ＳｉＯ₂），窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの無機材料が挙げられる。

第１電極１３は、平坦化膜１２上に、画素毎に電気的に分離して配置されている（平坦化膜１２上に間隔をおいて配置されている）。具体的には、複数の第１電極１３が間隔をおいて配置され、これらの複数の第１電極１３の上に、画素分離膜（隔壁）１４が形成されている。画素分離膜１４は、第１電極１３に対向して開口を有し、この開口において第１電極１３と有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂのいずれかが接している。

第１電極１３の平面形状は、例えば矩形状である。各第１電極１３は、有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂのいずれかに例えば正孔を注入する電極として機能するものである。第１電極１３は、光反射性を有しており、できるだけ高い反射率を有することが発光効率を高める上で望ましい。このような第１電極１３の構成材料としては、例えば銀（Ａｇ）およびアルミニウム（Ａｌ）などの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、第１電極１３は、上述した金属の単体または合金を含む単層膜であってもよいし積層膜であってもよい。あるいは、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等が用いられてもよい。

画素分離膜１４は、発光領域（画素開口）を定義すると共に、第１電極１３を画素毎に電気的に分離するための絶縁膜である。この画素分離膜１４は、例えばＳｉＯ_２などのシリコン酸化物膜、あるいはポリイミドなどから構成されている。この画素分離膜１４の開口部分に、有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが形成され、第１電極１３が形成されている。

有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂは、例えば複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層と、正孔輸送層（ＨＴＬ：Hole Transport Layer）とを含むものである。但し、有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂは、この他にも、例えば正孔注入層（ＨＩＬ：Hole Injection Layer）および電子輸送層（ＥＴＬ：Electron Transport Layer）などを含んでいてもよい。

図４は、本実施の形態の画素分離膜１４の開口（開口Ｈ１ａ，Ｈ１ｂ）と、有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの形成領域とを表したものである。尚、図４中のＩ−Ｉ線における矢視断面の構成が図３の構成に対応している。画素分離膜１４の開口Ｈ１ａ，Ｈ１ｂの開口形状はそれぞれ矩形状である。即ち、本実施の形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの画素のそれぞれが矩形状の領域に形成され、これらのＲ，Ｇ，Ｂの画素の組がストライプ状を成している。ここでは、Ｒ画素およびＧ画素に対応する領域に、開口Ｈ１ａが、Ｂ画素に対応する領域に開口Ｈ１ｂがそれぞれ形成されている。開口Ｈ１ａに対向して有機層１５Ｒ，１５Ｇが形成され、開口Ｈ１ｂに対向して、有機層１５Ｂが形成されている。

本実施の形態では、隣接する２画素（ここでは、Ｒ画素，Ｇ画素：第１の画素）同士の間の領域（開口Ｈ１ａ同士の間の領域）に、有機層１５Ｒ，１５Ｇ（第１の有機層）の各端面を覆って、有機層１５Ｒ，１５Ｇとは異なる有機材料からなる有機層（有機層１５Ｂ１：第２の有機層）が形成されている。有機層１５Ｂ１は、Ｂ画素（第２の画素）の有機層１５Ｂの構成材料を含んでいる。ここでは、図４に示したように、平面視的に、Ｒ画素，Ｇ画素の開口Ｈ１ａを除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂ（斜線部）が形成されている。有機層１５Ｂのうちの開口Ｈ１ａ同士の間の領域において延在する部分が有機層１５Ｂ１に相当する。有機層１５Ｂ１の端部は、テーパ形状を有することが望ましい。第２電極１６の断線を抑制するためである。

第２電極１６は、光透過性を有し、例えば全画素に共通して、表示領域１１０Ａの全面にわたって形成されている。この第２電極１６は、例えば仕事関数の低いリチウム（Ｌｉ），カリウム（Ｋ）などのアルカリ金属、マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ）などのアルカリ土類金属、およびこれらの金属と銀あるいはアルミニウムなどとの合金や混合物等の金属材料から形成されるのが好ましい。陰極における保存安定性と電子注入性とを両立させるために、上記材料で形成した電極を、仕事関数が大きく導電性の高い銀、アルミニウム（Ａｌ）あるいは金（Ａｕ）などで更に被覆してもよい。また、第２電極１８は透明電極であってもよい。この第２電極１８は、例えば真空蒸着法、スパッタ法またはイオンプレーティング法などの公知の方法で形成することができる。

封止層１７は、例えば窒化シリコン、酸化シリコンまたは金属酸化物などから構成された保護膜と、例えば熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から構成された接着層などを含むものである。

第２基板１８は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおいて発生した各色光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。

［製造方法］
上記のような表示装置１は、例えば次のようにして製造することができる。図５Ａ〜図５Ｅは、本実施の形態の表示装置１の製造方法を説明するための模式図である。

まず、第１基板１１上に平坦化層１２を形成した後、この上に、複数の第１電極１３を所定の間隔をおいて形成する。第１電極１３の成膜手法としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法またはイオンプレーティング法等が挙げられる。

この後、図５Ａに示したように、上述した材料よりなる画素分離膜１４を形成する。このとき、画素分離膜１４により、第１電極１３の端部を覆うことで、段差による電気的不具合を緩和することができる。この画素分離膜１４は、例えばＳｉＯ_２をＣＶＤ法などにより成膜した後、あるいはポリイミドを塗布により成膜した後に、フォトリソグラフィ法などによって開口Ｈ１ａ，Ｈ１ｂを形成する。

次に、図５Ｂおよび図５Ｃに示したように、開口Ｈ１ａにおいて第１電極１３を覆うように、有機層１５Ｒ，１５Ｇを順次形成する。このとき、有機層１５Ｒ，１５Ｇは、重畳することのないように、互いに分離したパターンとなるように形成される。これらの有機層１５Ｒ，１５Ｇは、例えば不連続となる部分（Ｒ画素とＧ画素との間の領域）をマスクして、例えば真空蒸着法により有機材料を蒸着させることで形成することができる。あるいは、インクジェット方式により、有機層１５Ｒ，１５Ｇを上記のようなパターンで形成することも可能である。また、有機層１５Ｒ，１５Ｇは、このような形成手法に限らず、エッチングを用いたパターニングによって形成されてもよい。例えば、有機層１５Ｒ，１５Ｇを、列方向に連続的に延在した状態でそれぞれ成膜し、その後、第１電極１３同士の間の部分に形成された有機層１５Ｒ，１５Ｇをエッチングにより選択的に除去するようにしてもよい。エッチング手法としては、例えばレーザーエッチング、フォトリソグラフィを用いたドライエッチングまたはウェットエッチングなどが挙げられる。また、鋭利な針によって有機層１５Ｒ，１５Ｇを部分的に除去することも可能である。但し、これらのエッチング手法の中では、第１電極１３の上に残す有機層１５Ｒ，１５Ｇにダメージを与えないことから、レーザーエッチングが望ましい。

ここで、図６に、上記のような有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを所定のパターンで成膜する際に好適な蒸着装置の構成例について模式的に示す。この蒸着装置は、例えば材料供給源１２０と、ヒータ１２１と、蒸着ベルト１２２と、蒸着ヒータ１２３と、反射板１２４とを備えている。蒸着ベルト１２２は、材料供給源１２０と反射板１２４との間を巡回的に移動可能に構成されている。反射板１２４には溝１２４ａが設けられ、この溝１２４ａを介して蒸着ベルト１２２の一部が、被蒸着基板（第１基板１１）側に露出するように構成されている。このような構成により、材料供給源１２０に貯蔵された有機材料を、ヒータ１２１の熱によって、一旦蒸着ベルト１２２上に蒸着させて薄膜を形成する。この後、形成した薄膜を、反射板１２４の溝１２４ａ付近まで移動させる。反射板１２４の溝１２４ａでは、蒸着ヒータ１２３によって蒸着ベルト１２２上の薄膜が再び加熱され、これにより、被蒸着基板に有機材料を蒸着させることができる。

このように蒸着ベルト１２２を介して段階的に有機材料を蒸着させることで、次のようなメリットがある。即ち、噴出孔（蒸着孔）から有機材料を噴出するような装置では、孔の目詰まりが生じることがあるが、上記のような蒸着ベルト１２２を用いた蒸着装置では、そのような目詰まりが生じない。また、薄膜の有機材料を、再付着あるいは固着を懸念することなく蒸着することができることから、蒸着ヒータ１２３による加熱温度を極限まで低く設定することができる。このため、マスクの温度を低減することが可能となる。

ここで、図７Ａに、比較例として一般的な蒸着装置を用いた場合の噴出孔（蒸着孔１１０３）と成膜エリア（成膜エリア１１０２）との配置関係について、模式的に示す。このように、蒸着孔１１０３から有機材料を噴出するような装置では、蒸着源と被蒸着基板１１０１との間の距離が大きいことから、成膜エリア１１０２の外の領域Ｂにも、蒸着源および蒸着孔１１０３が設けられる。これに対し、図６に示した蒸着装置では、マスク温度の低減が可能なことから、蒸着源と被蒸着基板（第１基板１１）との間の距離を狭くすることができるため、成膜エリア１２５に相応の領域に蒸着ベルト１２２を配置すればよい。これにより、被蒸着基板にマスクを近づけて配置することが可能となり，蒸着材料の材料効率を上げることができる。

加えて、蒸着ベルト１２２のレイアウトは、図示したような上下方向に沿った配置である必要は無く、自在に設定することができる。このため、被蒸着基板を縦にした状態で使用することも可能である。

続いて、図５Ｄに示したように、有機層１５Ｂを形成する。このとき、有機層１５Ｒ，１５Ｂが形成されていない部分に、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆うように（端面が露出しないように）、有機層１５Ｂを成膜する。これにより、Ｒ画素，Ｇ画素間の領域（開口Ｈ１ａ，Ｈ１ｂ間の領域）には、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆って有機層１５Ｂ１が形成される。

この後、図５Ｅに示したように、第２電極９を形成することで、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを形成することができる。最後に、これらの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを覆って封止層１７を形成し、第２基板１８を貼り合わせることで、図３に示した表示装置１を完成する。

［作用，効果］
表示装置１では、図１および図２に示したように、走査線駆動回路１３０から各画素ＰＩＸＣのトランジスタＴｒ２のゲートに走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０からは映像信号が、トランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに供給され、保持される。この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じてトランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これによって、各画素ＰＩＸＣの有機ＥＬ素子１０（１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）に駆動電流Ｉｄが注入される。この駆動電流Ｉｄが、第１電極１３および第２電極１６を通じて、有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの各発光層に注入されることにより、正孔と電子とが再結合し、発光が起こる。

各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂから発生した各色光は、第２電極１６、封止層１７および第２基板１８等を透過し、赤色光ＬＲ，緑色光ＬＧ，青色光ＬＢとして、第２基板１８の上方へ出射する。このようにして、表示装置１では、上面発光方式による映像表示が行われる。

ここで、本実施の形態の比較例（比較例１−１）として、図８Ａに、有機層（有機層１０５）を全画素に共通の層として形成した場合の要部構成について示す。この比較例１−１では、第１基板１０１上に平坦化膜１０２を介して複数の第１電極１０３が配置されている。これらの複数の第１電極１０３上には、開口をもつ画素分離膜１０４が形成され、これらの第１電極１０３と画素分離膜１０４との全面を覆って、白色発光層などを含む有機層１０５が形成されている。この有機層１０５の上に第２電極１０６が形成されている。このような比較例１−１の素子構造では、有機層１０５が全画素に共通して形成されていることから、隣接画素間において有機層１０５を通じて電流リーク（図中の矢印Ｘ）が生じる。

また、図８Ｂには、比較例１−２として、有機層を画素毎に塗り分けて形成した場合の要部構成について示す。この比較例１−２では、有機層１０５Ｒの端面ｅ１と、有機層１０５Ｇの端面ｅ２とが第２電極１０６と接している。この結果、端面ｅ１，ｅ２を介して第１電極１０３と第２電極１０６との間で電流リーク（図中のＸ１，Ｘ２）が生じる。

尚、上記のような電流リークを抑制するために、図８Ｃおよび図８Ｄに示した比較例１−３，１−４のように、画素分離膜１０４に、有機層１０５を分断するような構造を形成することが考えられる。例えば、図８Ｃに示したように、画素分離膜１４の上面に凸部１０４ａを形成し、この凸部１０４ａにおいて、有機層１０５を分断させる。あるいは、図８Ｄに示したように、画素分離膜１４の上面に凹部１０４ｂを形成し、この凹部１０４ｂにおいて、有機層１０５を分断させる。ところが、これらの比較例１−３，１−４ではいずれも、第２電極１０６において断切れ（図中のＸ３，Ｘ４）が生じる虞がある。

これに対し、本実施の形態では、図９に示したように、隣接する２つの画素（ここではＲ画素，Ｇ画素）間の領域において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの各端面ｅ１，ｅ２を覆って、有機層１５Ｂ１が形成されている（図中の領域Ａ）。これにより、隣接する第１電極１３同士の間で、有機層１５Ｒ，１５Ｇを介してリーク電流が生じることが抑制される。また、第２電極１６が有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面ｅ１，ｅ２と導通して、第１電極１３と第２電極１６との間にリーク電流が生じることも抑制される。

これにより、有機層１５Ｒ，１５Ｇのうち、発光させるべき部分（開口Ｈ１ａに対向する部分）に、本来発光に利用される電流の略全てが流れるようになるので、その発光部分の輝度低下を抑制できる。また、発光部を電気容量として用いるような回路動作を行う場合においても、漏れ電流による表示品位の低下が抑制される。

以上説明したように、本実施の形態では、隣接する２以上の第１の画素（ここではＲ画素，Ｇ画素）同士の間の領域に、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆うと共にこれらの有機層１５Ｒ，１５Ｇとは異なる有機層（有機層１５Ｂ１）が形成されている。これにより、隣接する第１電極１３間または第１電極１３と第２電極１６との間において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を介したリーク電流の発生を抑制することができる。また、有機層１５Ｂ１が用いられることで、無機材料が用いられる場合に比べ、成膜温度を低くすることができ、成膜位置精度が向上する。よって、リーク電流の発生を抑制して、表示画質を向上させることが可能となる。

また、本実施の形態では、第１の有機層（有機層１５Ｒ，１５Ｇ）の端面を覆う第２の有機層として、Ｂ画素の有機層１５Ｂを利用している。つまり、有機層１５Ｂ１は、有機層１５Ｂの構成材料を含み、ここでは、有機層１５Ｂが開口Ｈ１ａを除く領域の全域にわたって形成されており、有機層１５Ｂ１が有機層１５Ｂと連続した膜（同一膜）となっている。つまり、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆う有機層として新たな材料を用意して、別途パターン形成する必要がないため、工程数やコストが増大することもない。

尚、上記実施の形態では、隣接する２以上の第１の画素として、Ｒ画素およびＧ画素を例に挙げ、第２の画素としてＢ画素を例に挙げて説明したが、本開示の第１および第２の画素は、この組み合わせに限定されるものではない。但し、第１の画素の有機層よりも、第２の画素の有機層は、電流リーク性が低いことが望ましい。以下の変形例および実施の形態においても同様である。

次に、上記第１の実施の形態の変形例および他の実施の形態について説明する。以下では、上記第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。

＜変形例１−１〜１−３＞
図１０Ａ〜図１０Ｃは、上記第１の実施の形態の変形例１−１〜１−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記実施の形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの全画素が矩形状の領域に形成される場合を例示したが、各画素の形状（画素分離膜の開口形状）は、矩形状に限定されず、また画素毎に異なっていてもよい。本変形例においても、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口には、有機層１５Ｒ，１５Ｇがそれぞれ形成されており、これらの第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口を除く領域の略全域にわたって、有機層１５Ｂが形成されている。

例えば、図１０Ａに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口Ｈ２ａが正方形状または正方形状に近い矩形状で、第２の画素（Ｂ画素）の開口Ｈ２ｂが矩形状であってもよい。この例では、開口Ｈ２ａが列方向に２つ並び、これらの２つの開口Ｈ２ａのそれぞれに隣接して開口Ｈ２ｂが形成されている。

また、図１０Ｂに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）との各開口Ｈ２ａが正方形状または正方形状に近い矩形状であってもよい。

更に、図１０Ｃに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）との各開口Ｈ３が円形状であってもよい。この場合、第２の画素（Ｂ画素）を囲むように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が、例えば多角形状または円形状の外周に沿って配置されている。

＜変形例２−１〜２−４＞
図１１Ａ〜図１１Ｄは、上記第１の実施の形態の変形例２−１〜２−４に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記実施の形態では、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）を、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口を除く略全域にわたって形成したが、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）間の領域において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆って形成されていれば、必ずしも有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面の全てを覆っていなくともよい。

例えば、図１１Ａに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が行状または列状（ここでは列状）の領域にそれぞれ配置（列方向に沿って配置）されている場合には、これらの列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂが形成されていてもよい。
このような有機層１５Ｂは、例えばシャドウマスクと呼ばれるスリット状の開口を有するマスクを用いて形成することができる。

また、本変形例においても、画素開口の形状は矩形状に限定されるものではなく、図１１Ｂに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）では、正方形状の開口Ｈ２ａが形成され、第２の画素（Ｂ画素）では、矩形状の開口Ｈ２ｂが形成されていてもよい。

更に、図１１Ｃおよび図１１Ｄに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）の全てが、正方形状の開口Ｈ２ａを有する場合に、所定のシャドウマスクを用いることで、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が配置された行状の領域と列状の領域とのそれぞれを除く領域に有機層１５Ｂを形成することもできる。

＜変形例３−１〜３−３＞
図１２Ａ〜図１２Ｃは、上記第１の実施の形態の変形例３−１〜３−３に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記実施の形態では、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）を、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口を除く略全域にわたって形成したが、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）間の領域において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆って形成されていれば、必ずしも有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面の全てを覆っていなくともよい。

例えば、図１２Ａに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が行状または列状（ここでは列状）の領域にそれぞれ配置（列方向に沿って配置）されている場合には、これらの列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂが形成されていてもよい。但し、本変形例では、上記変形例２−１（図１１Ａ）と比較して、Ｒ画素同士の間およびＧ画素同士の間の領域において、有機層１５Ｂの非形成領域１５ＢＬが狭くなっている。これにより、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面のほとんどを有機層１５Ｂによって覆うことができる。このような有機層１５Ｂも、例えばシャドウマスクを用いて形成することができる。

また、本変形例においても、画素開口の形状は矩形状に限定されるものではなく、図１２Ｂに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）では、正方形状の開口Ｈ２ａが形成され、第２の画素（Ｂ画素）では、矩形状の開口Ｈ２ｂが形成されていてもよい。

更に、図１２Ｃに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）とにおいて、円形状の開口Ｈ３が形成されていてもよい。

＜第２の実施の形態＞
［構成］
図１３は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の要部構成を表したものである。本実施の形態の表示装置は、上記第１の実施の形態と同様、例えば有機ＥＬディスプレイであり、第１基板１１上の表示領域１１０Ａに、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＩＸＣを有している。また、各画素ＰＩＸＣは、有機ＥＬ素子１０（１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）（発光素子）のいずれかを含み、Ｒ画素，Ｇ画素およびＢ画素のうちのいずれかのサブピクセルに相当するものである。有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、第１基板１１と第２基板１８との間に設けられ、第１基板１１の側から順に、第１電極１３と、有機層（有機層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ）と、第２電極１６とが積層されたものである。この有機ＥＬ素子１０上には、図示しない封止層１７を介して第２基板１８が貼り合わされている。

本実施の形態においても、上記第１の実施の形態と同様、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）間の領域において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面が、有機層１５Ｂ１によって覆われている。これにより、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を介したリーク電流の発生を抑制することができる。

但し、本実施の形態では、第１基板１１上（平坦化膜１２上）の選択的な領域に、第２電極１６と電気的に接続された補助電極１９が形成されている。補助電極１９上には有機層１５Ｂは形成されておらず、第２電極１６と接して形成されている（カソードコンタクト部１９Ｃを有する）。

カソードコンタクト部１９Ｃ（あるいは補助電極１９）の形成箇所は特に限定されないが、例えば図１４Ａおよび図１４Ｂに示したように、カソードコンタクト部１９Ｃは、行方向において隣り合う画素間の領域に配置される。尚、図１４ＡのII−II線における矢視断面構成が、図１３の要部構成に対応している。図１４Ａの例では、Ｂ画素同士の間の領域に、図１４Ｂの例では、Ｒ画素同士の間の領域に、それぞれ配置されている。このように、カソードコンタクト部１９Ｃが配置される場合には、有機層１５Ｂは、平面視的に、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口Ｈ１ａとカソードコンタクト部１９Ｃ（補助電極１９）とを除く領域に形成される。

ここで、図１５に、本実施の形態の比較例（比較例２）に係る表示装置の要部構成について示す。比較例２の表示装置では、第１基板１０１上に、平坦化膜１０２を介して、第１電極１０３と補助電極１０７とが形成されている。有機層は、画素毎に塗り分けられている（有機層１０５Ｒ，１０５Ｇが形成されている）。このような構成において、第１基板１０１の全面にわたって、共通電子輸送層（電荷ブロック層）１０８が形成される。この比較例２の表示装置では、有機層１０５Ｒ，１０５Ｇと第２電極１０６との間に共通電子輸送層１０８が介在することにより、リーク電流の発生は抑制できるものの、補助電極１０７と第２電極１０６との間にも共通電子輸送層１０８が介在することとなる。このため、良好なカソードコンタクトを確保することができない。

これに対し、本実施の形態では、所定のマスクを用いて有機層１５Ｂを形成することにより、補助電極１９上には有機層１５ｂが形成されない。このため、補助電極１９と第２電極１６とを電気的に接続することができ、良好なカソードコンタクトを実現できる。

＜変形例４−１〜４−４＞
図１６Ａ〜図１６Ｄは、上記第２の実施の形態の変形例４−１〜４−４に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記第２の実施の形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの全画素が矩形状の領域に形成される場合を例示したが、各画素の形状（画素分離膜の開口形状）は、矩形状に限定されず、また画素毎に異なっていてもよい。また、カソードコンタクト部１９Ｃの形成位置も上述したものに限定されない。本変形例においても、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口には、有機層１５Ｒ，１５Ｇがそれぞれ形成されており、これらの第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口と、カソードコンタクト部１９Ｃとを除く領域の略全域にわたって、有機層１５Ｂが形成されている。

例えば、図１６Ａおよび図１６Ｂに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）では、正方形状の開口Ｈ２ａが形成され、第２の画素（Ｂ画素）では、矩形状の開口Ｈ２ｂが形成されていてもよい。また、カソードコンタクト部１９Ｃは、図１６Ａに示したように、列方向において隣合う開口Ｈ２ｂ同士の間（Ｂ画素同士の間）の領域に形成されていてもよいし、図１６Ｂに示したように、第１の画素の開口Ｈ２ａに隣接した位置に形成されていてもよい。あるいは、図１６Ｃに示したような位置に形成されていてもよい。

更に、図１６Ｄに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）とにおいて、円形状の開口Ｈ３が形成されていてもよい。

＜変形例５−１〜５−６＞
図１７Ａ〜図１７Ｆは、上記第２の実施の形態の変形例５−１〜５−６に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記第２の実施の形態では、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）を、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口とカソードコンタクト部１９Ｃとを除く略全域にわたって形成したが、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）間の領域において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆って形成されていればよく、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面の全てを覆っていなくともよい。

例えば、図１７Ａに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が行状または列状（ここでは列状）の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部１９Ｃが、隣合う開口Ｈ１ｂ同士の間の領域に形成されている場合には、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）を含む列状の領域と、カソードコンタクト部１９Ｃを含む行状の領域とを除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂが形成される。このような有機層１５Ｂは、例えばシャドウマスクと呼ばれるスリット状の開口を有するマスクを用いて形成することができる。

また、図１７Ｂに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が行状または列状（ここでは列状）の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部１９Ｃが、隣合う開口Ｈ１ａ同士の間の領域に形成されている場合には、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）を含む列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂが形成される。

更に、図１７Ｃおよび図１７Ｄに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）では、正方形状の開口Ｈ２ａが形成され、第２の画素（Ｂ画素）では、矩形状の開口Ｈ２ｂが形成されていてもよい。また、カソードコンタクト部１９Ｃは、図１７Ｃに示したように、開口Ｈ２ｂ同士の間の領域に形成されていてもよいし、図１７Ｄに示したように、開口Ｈ２ａに隣接した位置に形成されていてもよい。

あるいは、図１７Ｅおよび図１７Ｆに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）の全てが、正方形状の開口Ｈ２ａを有する場合に、所定のシャドウマスクを用いることで、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が配置された行状および列状の領域と、カソードコンタクト部１９Ｃとのそれぞれを除く領域に有機層１５Ｂを形成することもできる。

＜変形例６−１〜６−７＞
図１８Ａ〜図１８Ｇは、上記第２の実施の形態の変形例６−１〜６−７に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記第２の実施の形態では、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）を、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）の開口とカソードコンタクト部１９Ｃとを除く略全域にわたって形成したが、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層１５Ｂ（１５Ｂ１）の形成領域は、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）間の領域において、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面を覆って形成されていればよく、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面の全てを覆っていなくともよい。

例えば、図１８Ａに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が行状または列状（ここでは列状）の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部１９Ｃが、開口Ｈ１ｂ同士の間の領域に形成されている場合には、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）を含む列状の領域と、カソードコンタクト部１９Ｃを含む行状の領域とを除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂが形成される。但し、本変形例では、上記変形例５−１（図１７Ａ）と比較して、Ｒ画素同士の間およびＧ画素同士の間の領域において、有機層１５Ｂの非形成領域１５ＢＬが狭くなっている。これにより、有機層１５Ｒ，１５Ｇの端面のほとんどを有機層１５Ｂによって覆うことができる。このような有機層１５Ｂも、例えば所定のシャドウマスクを用いて形成することができる。

また、図１８Ｂに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が行状または列状（ここでは列状）の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部１９Ｃが、Ｒ画素同士の間の領域に形成されている場合には、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）を含む列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層１５Ｂが形成される。但し、カソードコンタクト部１９Ｃの形成されていない、Ｇ画素同士の間の領域では、有機層１５Ｂの非形成領域１５ＢＬが狭くなっている。

更に、本変形例においても、図１８Ｃおよび図１８Ｄに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）では、正方形状の開口Ｈ２ａが形成され、第２の画素（Ｂ画素）では、矩形状の開口Ｈ２ｂが形成されていてもよい。また、カソードコンタクト部１９Ｃは、図１８Ｃに示したように、隣合う開口Ｈ２ｂ同士の間の領域に形成されていてもよいし、図１８Ｄに示したように、第１の画素の開口Ｈ２ａに隣接した位置に形成されていてもよい。

あるいは、図１８Ｅおよび図１８Ｆに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）の全てが、正方形状の開口Ｈ２ａを有する場合に、所定のシャドウマスクを用いることで、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）が配置された行状および列状の領域と、カソードコンタクト部１９Ｃとのそれぞれを除く領域に有機層１５Ｂを形成することもできる。

加えて、図１８Ｇに示したように、第１の画素（Ｒ画素，Ｇ画素）と第２の画素（Ｂ画素）とにおいて、円形状の開口Ｈ３が形成されていてもよい。

このように、本開示の第１の画素、第２の画素、補助電極、および第２の画素の有機層のレイアウト等は、様々なものが挙げられる。また、上述した例に限定されるものでもない。例えば、図６に示した蒸着装置や所定のシャドウマスクを用いた蒸着法、あるいは印刷技術などを用いることで、様々なレイアウトを実現することができる。

＜適用例＞
上記実施の形態および変形例において説明した表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するあらゆる分野の電子機器に用いることができる。特に、中型および小型の電子機器に好適に用いることができる。以下にその一例を示す。

図１９Ａおよび図１９Ｂは、スマートフォン２２０の外観を表したものである。このスマートフォン２２０は、例えば、表側に表示部２２１および操作部２２２を有し、裏側にカメラ２２３を有しており、表示部２２１に上記実施の形態の表示装置１が搭載されている。

図２０は、テレビジョン装置２５０の外観を表したものである。このテレビジョン装置２５０は、例えば、本体部２５１とスタンド２５２とを有している。本体部２５１に、上記実施の形態の表示装置１が搭載されている。

図２１Ａおよび図２１Ｂは、携帯電話機２９０の外観を表したものである。この携帯電話機２９０は、例えば、上側筐体２９１と下側筐体２９２とを連結部（ヒンジ部）２９３で連結したものであり、ディスプレイ２９４，サブディスプレイ２９５，ピクチャーライト２９６およびカメラ２９７を有している。ディスプレイ２９４またはサブディスプレイ２９５に、上記実施の形態の表示装置１が搭載されている。

以上、実施の形態および変形例を挙げて説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、本開示の第１の画素としてＲ画素およびＧ画素を、第２の画素としてＢ画素をそれぞれ例に挙げて説明したが、第１および第２の画素の組み合わせはこれに限定されるものではない。

更に、上記実施の形態等に記載した各層の材料および厚み等は列挙したものに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよい。また、表示装置では、上述した全ての層を備えている必要はなく、あるいは上述した各層に加えて更に他の層を備えていてもよい。また、上記実施の形態等において説明した効果は一例であり、本開示の効果は、他の効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。

なお、本開示は以下のような構成であってもよい。
（１）
基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とを有し、
前記複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域において、第１の有機層の端面を覆うと共に前記第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成された
表示装置。
（２）
前記第２の有機層は、前記第１の画素とは異なる発光色の第２の画素に形成された有機層の構成材料を含む
上記（１）に記載の表示装置。
（３）
前記第２の有機層の端部は、テーパ形状を有し、
前記第２電極は、前記複数の画素の全域にわたって形成されている
上記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）
前記複数の第１電極の上に形成されると共に、前記第１電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を備え、
前記第２の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第１の画素に対応する第１の開口を除く領域に形成されている
上記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の表示装置。
（５）
前記基板上の選択的な領域に形成され、前記第２電極と電気的に接続された補助電極を更に備え、
前記第２の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第１の開口とを除く領域に形成されている
上記（４）に記載の表示装置。
（６）
前記複数の第１の画素は、行状または列状の領域に配置され、
前記第２の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に形成されている
上記（４）または（５）に記載の表示装置。
（７）
前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
上記（４）〜（６）のいずれか１つに記載の表示装置。
（８）
基板上に各々が発光素子を含む複数の画素を形成する際に、
前記基板上に、前記発光素子として、前記画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とをこの順に形成し、
前記複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素に第１の有機層を形成した後、前記第２電極の形成前に、前記第１の画素同士の間の領域に、前記第１の有機層の端面を覆うと共に前記第１の有機層とは異なる第２の有機層を形成する
表示装置の製造方法。
（９）
前記第２の有機層は、前記第１の画素とは異なる発光色の第２の画素に形成された有機層の構成材料を含む
上記（８）に記載の表示装置の製造方法。
（１０）
前記第２の有機層の端部は、テーパ形状を有する
上記（８）または（９）に記載の表示装置の製造方法。
（１１）
前記第１電極の形成後で前記第１の有機層の形成前に、前記第１電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を形成し、
前記第２の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第１の画素に対応する第１の開口を除く領域に形成される
上記（８）〜（１０）のいずれか１つに記載の表示装置の製造方法。
（１２）
前記基板上の選択的な領域に、前記第２電極と電気的に接続される補助電極を形成し、
前記第２の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第１の開口とを除く領域に形成される
上記（１１）に記載の表示装置の製造方法。
（１３）
前記複数の第１の画素は、行状または列状の領域に配置され、
前記第２の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に配置される
上記（１１）または（１２）に記載の表示装置の製造方法。
（１４）
前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
上記（１１）〜（１３）のいずれか１つに記載の表示装置の製造方法。
（１５）
基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とを有し、
前記複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に前記第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成された
表示装置を備えた電子機器。

１…表示装置、１０，１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機ＥＬ素子、１１…第１基板、１２…平坦化膜、１３…第１電極、１４…画素分離膜、１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ，１５Ｂ１…有機層、１６…第２電極、１７…封止層、１８…第２基板、１９…補助電極、１９Ｃ…カソードコンタクト部、Ｈ１ａ，Ｈ１ｂ，Ｈ２ａ，Ｈ２ｂ，Ｈ３…開口、ＰＩＸＣ…画素。

Claims (15)

1. 基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
   前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とを有し、
   前記複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域において、第１の有機層の端面を覆うと共に前記第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成された
   表示装置。
2. 前記第２の有機層は、前記第１の画素とは異なる発光色の第２の画素に形成された有機層の構成材料を含む
   請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第２の有機層の端部は、テーパ形状を有し、
   前記第２電極は、前記複数の画素の全域にわたって形成されている
   請求項１に記載の表示装置。
4. 前記複数の第１電極の上に形成されると共に、前記第１電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を備え、
   前記第２の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第１の画素に対応する第１の開口を除く領域に形成されている
   請求項１に記載の表示装置。
5. 前記基板上の選択的な領域に形成され、前記第２電極と電気的に接続された補助電極を更に備え、
   前記第２の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第１の開口とを除く領域に形成されている
   請求項４に記載の表示装置。
6. 前記複数の第１の画素は、行状または列状の領域に配置され、
   前記第２の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に形成されている
   請求項４に記載の表示装置。
7. 前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
   請求項４に記載の表示装置。
8. 基板上に各々が発光素子を含む複数の画素を形成する際に、
   前記基板上に、前記発光素子として、前記画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とをこの順に形成し、
   前記複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素に第１の有機層を形成した後、前記第２電極の形成前に、前記第１の画素同士の間の領域に、前記第１の有機層の端面を覆うと共に前記第１の有機層とは異なる第２の有機層を形成する
   表示装置の製造方法。
9. 前記第２の有機層は、前記第１の画素とは異なる発光色の第２の画素に形成された有機層の構成材料を含む
   請求項８に記載の表示装置の製造方法。
10. 前記第２の有機層の端部は、テーパ形状を有する
    請求項８に記載の表示装置の製造方法。
11. 前記第１電極の形成後で前記第１の有機層の形成前に、前記第１電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を形成し、
    前記第２の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第１の画素に対応する第１の開口を除く領域に形成される
    請求項８に記載の表示装置の製造方法。
12. 前記基板上の選択的な領域に、前記第２電極と電気的に接続される補助電極を形成し、
    前記第２の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第１の開口とを除く領域に形成される
    請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
13. 前記複数の第１の画素は、行状または列状の領域に配置され、
    前記第２の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に配置される
    請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
14. 前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
    請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
15. 基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
    前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第１電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第２電極とを有し、
    前記複数の画素のうち隣接する２以上の第１の画素同士の間の領域に、第１の有機層の端面を覆うと共に前記第１の有機層とは異なる第２の有機層が形成された
    表示装置を備えた電子機器。