JP2016115863A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
9 制御部
10 チャンバー
20 スピンチャック
30,60,65 上面処理液ノズル
33,63,68 ノズル基台
40 処理カップ
70 カメラ
71 照明部
91 判定部
92 記憶部
100 基板処理装置
PA 撮像領域
SP 吐出判定領域
W 基板
Claims (10)
- 基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内にて基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部の周囲を取り囲むカップと、
処理液を吐出するノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の上方の処理位置と前記カップよりも外側の待機位置との間で前記ノズルを移動させる駆動部と、
前記処理位置の前記ノズルから処理液が吐出されているときには当該処理液が映り込み、かつ、前記ノズルからの処理液吐出が停止されているときには前記基板保持部に保持された基板の表面が映り込む判定領域を撮像する撮像部と、
前記撮像部が前記判定領域を撮像して取得した判定画像に基づいて前記ノズルからの処理液吐出を判定する判定部と、
を備え、
前記判定部は、前記判定画像に含まれる画素の輝度値の散布度が所定の閾値よりも小さいときには前記ノズルから処理液が吐出されていると判定し、前記散布度が前記閾値よりも大きいときには前記ノズルから処理液が吐出されていないと判定することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記散布度は標準偏差であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2記載の基板処理装置において、
前記撮像部は、前記判定領域を連続撮像して複数の判定画像を取得し、
前記判定部は、前記複数の判定画像のうち所定数の判定画像にて継続して前記散布度が前記閾値よりも小さいときには前記ノズルから処理液が吐出されていると判定することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記ノズルからの処理液吐出が停止されているときに前記基板保持部に保持された基板の表面にて反射されて前記撮像部によって撮像される前記チャンバー内の部位に模様を形成することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
前記模様は市松模様であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
前記模様は格子模様であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
前記模様は縞模様であることを特徴とする基板処理装置。 - 新たな処理対象となる基板をチャンバー内に搬入して基板保持部に保持する保持工程と、
前記基板保持部に新たな処理対象となる基板が保持された後、前記基板保持部の周囲を取り囲むカップよりも外側の待機位置から前記基板保持部に保持された基板の上方の処理位置に向けて処理液を吐出するノズルを移動させるノズル移動工程と、
前記処理位置の前記ノズルから処理液が吐出されているときには当該処理液が映り込み、かつ、前記ノズルからの処理液吐出が停止されているときには前記基板保持部に保持された基板の表面が映り込む判定領域を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程にて前記判定領域を撮像して取得した判定画像に基づいて前記ノズルからの処理液吐出を判定する判定工程と、
を備え、
前記判定工程では、前記判定画像に含まれる画素の輝度値の散布度が所定の閾値よりも小さいときには前記ノズルから処理液が吐出されていると判定され、前記散布度が前記閾値よりも大きいときには前記ノズルから処理液が吐出されていないと判定されることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項8記載の基板処理方法において、
前記散布度は標準偏差であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項8または請求項9記載の基板処理方法において、
前記撮像工程では、前記判定領域を連続撮像して複数の判定画像を取得し、
前記判定工程では、前記複数の判定画像のうち所定数の判定画像にて継続して前記散布度が前記閾値よりも小さいときには前記ノズルから処理液が吐出されていると判定することを特徴とする基板処理方法。
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