JP2016110033A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】降伏応力や破断伸度などの機械特性が高く、耐熱性に優れた光学フィルムを提供する。【解決手段】電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の塗膜を乾燥及び光硬化させることにより得られる光学フィルムであって、当該光学フィルムの厚さが１５〜１００μｍであり、ＪＩＳ Ｋ７１２１：１９８７で規定されるガラス転移温度が、１００℃以上であり、 下記式を満たすことを特徴とする光学フィルム。５０（ＭＰａ）≦α≦１００（ＭＰａ）、５（％）≦β≦３０（％）、ただし、α：光学フィルムが降伏点を示す場合は、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏応力σy、光学フィルムが降伏点を示さない場合は、引張破壊応力σB、β：光学フィルムが降伏点を示す場合は、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏ひずみεy、光学フィルムが降伏点を示さない場合は、引張破壊ひずみεBである。【選択図】図１

Description

本発明は、機械特性に優れ、耐熱性に優れた光学フィルムに関する。

各種ディスプレイに用いられる反射防止用途などの光学フィルムには、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を主体とする基材が一般的に用いられている。また、コストなどの観点からアクリル樹脂を用いたフィルムも用いられている。近年ディスプレイにおいては、薄型化が求められ、こうした透明基材も薄型化することが求められている。

特開平１０−２８２３３６号公報 特開２０１３−１５９６９１号公報

従来の光学フィルムに用いられているＴＡＣフィルム、アクリルフィルムでは、ロールｔｏロール工程においてハードコートなどの表面加工を施す際に、フィルムの弾性が十分ではなく、割れなどの問題が発生している。

また、光学フィルムの製造時には、表面に機能層のコーティングを行う時の乾燥工程や、アニーリング処理などの加熱工程が行われる。また、光学フィルムを液晶ディスプレイなどに用いる場合、光源による熱も加わるため、熱による変形・変性が問題となっている。

ＴＮタイプなどの液晶ディスプレイに用いる場合、光学フィルムには、光学的に色味がなく透明であるほかに、複屈折と厚みの差異で表される位相差が０に近いことが求められる。また、入射角による位相差も少ないことが求められている。

ただし、機械強度、耐熱性、光学特性のうち、いずれかが突出しているのではなく、バランス良い光学フィルムが求められている。

それ故に、本発明は、降伏応力や破断伸度などの機械特性が高く、耐熱性に優れた光学フィルムを提供することを目的とする。

本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す手段により前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに到った。

本発明に係る光学フィルムは、電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の塗膜を乾燥及び光硬化させることにより得られるものであって、当該光学フィルムの厚さが１５〜１００μｍであり、ＪＩＳ Ｋ７１２１：１９８７で規定されるガラス転移温度が、１００℃以上であり、下記式を満たす。
５０（ＭＰａ）≦α≦１００（ＭＰａ）
５（％）≦β≦３０（％）
ただし、
α：光学フィルムが降伏点を示す場合は、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏応力σ_y、光学フィルムが降伏点を示さない場合は、引張破壊応力σ_B、
β：光学フィルムが降伏点を示す場合は、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏ひずみε_y、光学フィルムが降伏点を示さない場合は、引張破壊ひずみε_B
である。

この光学フィルムは、十分な機械強度を持つため、フィルムへの表面コーティングなどのハンドリング時に破断などの問題が生じない。また、光学フィルムとして十分な耐熱性を示す。

尚、α、βは、以降の記載を、それぞれ降伏応力、破断伸度と記載する。

また、本発明に係るハードコートフィルムは、光学フィルム上にハードコート層を設けてなるものである。

また、本発明に係る偏光板は、上記のハードコートフィルムを用いたものである。

また、本発明に係る液晶ディスプレイは、上記の偏向板を用いたものである。

本発明によれば、降伏応力や破断伸度などの機械特性が高く、耐熱性に優れた光学フィルムを提供できる。

本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を示す概略断面図（支持体から剥離前）

本発明における光学フィルムの厚さは、近年光学フィルムに薄型化が求められることから、１５〜１００μｍであることが好ましい。光学フィルムの厚さは、より好ましくは２０〜５０μｍである。

また、本発明に係る光学フィルムにおいて、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏応力σｙが５０〜１００ＭＰａで、かつ、引張降伏ひずみε_ｙが５〜３０％であることが好ましい。光学フィルムがこのような特性を持つことで、ハンドリング時における破断などの問題が解消する。更には、光学フィルムの降伏応力が５０〜１００ＭＰａで、かつ、破断伸度が５〜３０％であることが好ましい。光学フィルムの降伏応力が５０ＭＰａ以下である場合、例えばロールｔｏロールで光学フィルムの表面にコーティングする際の搬送時に破断する恐れがある。光学フィルムの破断伸度が５％を下回る場合は、搬送時に破断する恐れがあり、３０％を超える場合は、搬送時にフィルムが変形する恐れがある。

更に、本発明における光学フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７１２１：１９８７で規定されるガラス転移温度が、１００℃以上であることが望ましく、更に望ましくは１２０℃以上である。ガラス転移温度が１００℃以上であれば、光学フィルムとして用いた場合に十分な耐熱性を得ることができる。

本発明における光学フィルムのＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７で規定される全光線反射率は、９０％以上であることが望ましい。全光線反射率は、９１％以上であることが更に望ましい。更に波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの範囲での、ＣＩＥ標準光源Ｃ２の５度入射光に対する透過光が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値が−０．３≦ａ＊≦０．１かつ０≦ｂ＊≦０．５を満たすことが望ましい。ａ＊、ｂ＊値が−０．２≦ａ＊≦０．１かつ０≦ｂ＊≦０．４を満たすことが更に望ましい。このような条件を満たす光学フィルムは、色味が無く光学フィルムとして好適に用いることができる。

本発明の光学フィルムは、特に液晶ディスプレイに用いる場合、光漏れなどの問題を防ぐため、フィルム膜方向に対して入射０°のときの面内方向レタデーションＲｅ（０）の絶対値が２ｎｍ以下であることが好ましく、更には１ｎｍ以下が好ましい。更に視野角依存性を低減するため、フィルム膜方向に対して入射０°及び５０°のときの面内方向レタデーションをそれぞれＲｅ（０）、Ｒｅ（５０）としたとき、その差分の絶対値が３ｎｍ以下であることが望ましく、更には２ｎｍ以下が望ましい。さらに厚み方向レタデーションＲｔｈの絶対値が３ｎｍ以下であることが好ましく、更には２ｎｍ以下が好ましい。このような光学フィルムは視野角の依存性のない低レタデーションフィルムとして、好適に用いることが出来る。

本発明の光学フィルムを形成するために用いる電離放射線硬化型樹脂組成物としては、アクリル系材料が挙げられ、アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートとアルコールおよびアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるようなウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。なお、ここでいう多官能とは、分子内に２個以上の電離放射線により活性を持つ官能基を有することを意味する。

なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。

単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる

２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ−ルジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。

またこれらの他にも、電離放射線硬化型樹脂組成物として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができ、特にその材料を限定しない。

多官能かつ芳香環・脂環構造を持ち、直鎖アルキルが短い電離放射線硬化型樹脂組成物ほど、降伏応力が高く、耐熱性が高い傾向にある。ただし、降伏応力・破断伸度のバランスと、硬化後の内部応力の上昇などによるリタデーションの上昇などを鑑みた場合、二官能或いは三官能アクリレートを好適に用いることができる。

電離放射線硬化型樹脂組成物として、脂環状オレフィン、ジシクロペンタニル骨格、アダマンタン骨格、ノルボルネン骨格、フルオレン骨格、マレイミド骨格を持つ（メタ）アクリレート、或いはこれら骨格からの誘導体など、嵩高い骨格を持つモノマーを加えると、降伏応力が高く、耐熱性が向上し、フィルムに色味がつきにくく、位相差が向上しにくくなる。例として、ＡＣＭＯ（ＫＪケミカルズ）、Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業）、ＤＣＰ−４ＥＯ−Ａ（共栄社化学）、ＨＡＤＭ（三菱ガス化学）、ＯＧＳＯＬ ＥＡ−０２００（大阪ガスケミカル）、Ａ−９３００（新中村化学工業）などが挙げられる。ただし、こうした強度・耐熱性を付与する骨格を持つモノマーのみを用いると、破断伸度が低減する。

一方、芳香族系を含む電離放射線硬化型樹脂組成物を添加すると、破断強度・耐熱性に寄与するが、分子構造による分極率の異方性から位相差の上昇を招き、ｂ＊が上昇する傾向にある。

破断伸度については、単独のモノマー・オリゴマーで硬化した場合に高い破断伸度（５０％以上）を示すものを添加することで付与できる。破断伸度を付与するために添加するモノマー・オリゴマーは、例えば、ＵＡ１２２Ｐ、ＵＦ８００１Ｇ、７０ＰＡ（以上新中村化学工業）、エポキシエステル３００２Ａ（Ｎ）（共栄社化学）などである。ただし、これらのモノマー・オリゴマーを加えすぎると降伏応力が小さくなり、ガラス転移点も低下するため、最終的な破断伸度が１５〜３０％程度になることが好ましい。また、紫外線硬化条件によっても降伏応力・破断伸度はコントロール可能である。硬化初期の塗膜温度が６０℃以下となるように硬化を行い、硬化の熱暴走を防ぐことで破断伸度を付与することができる。

また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化するため、電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部、好ましくは１質量部〜７質量部、更に好ましくは１質量部〜５質量部である。

本発明の光学フィルムを形成するために用いる電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液には、熱可塑性樹脂または熱硬化樹脂を添加しても構わない。熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、テフロン（登録商標）、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタロール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラート、ポリブチレンテレフタラート、ポリフェニレン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミドイミド、ビニルアルコール等を使用することができ、特にその材料を限定しない。熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を使用することができ、特にその材料を限定しない。また、これら材料のフッ化物、スルホン化物、窒化物などの官能基を適宜導入しても構わない。いずれの樹脂を用いる場合においても、ベースとなる電離放射線硬化方樹脂組成物との相溶性・透明性・色味・リタデーションなどを考慮して添加する。

更に、電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、更には、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、水などの中から溶解性、塗工適正、乾燥速度などを考慮し適宜選択される。

また、電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液には、塗工性・フィルムの平滑性の向上などを向上するため、添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤、消泡剤等を加えることもできる。

また、電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液には添加剤として、シリカ微粒子、アクリル微粒子、金属微粒子などを加えることもできる。その他、帯電防止剤など機能材料を加えても構わない。

電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の固形分量は、好ましくは５０〜１００％、より好ましくは７０〜１００％である。固形分量が高くなるほど、乾燥に要する時間が短くなり、生産性が向上する。

電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の粘度は、選択する塗工方法にも依存するが、３０〜２０００ｍＰａ・ｓｅｃ程度が良い。２０００ｍＰａ・ｓｅｃを超えると、塗工の平坦性が担保できない上、塗工液のフィルタリングや、脱泡処理に困難が生じる。３０ｍＰａ・ｓｅｃを下回ると、塗工直後の塗膜の流動性が大きく塗工の平坦性が確保できなくなる。更に好ましくは、塗工液の粘度は５０〜８００ｍＰａ・ｓｅｃ程度が好ましい。

本発明における電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の脱泡処理方法としては、静置処理、遠心分離、膜透過、多軸押出機による脱泡等が挙げられるが、特に限定しない。

図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を示す概略断面図であって、支持体１１から光学フィルム１２を剥離する前の状態を示す図である。

本実施形態に係る光学フィルム１２は、支持体１１上に電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を乾燥及び光硬化させることにより得られるものである。

本発明において、電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の支持体１１への塗工方法は特に限定しないが、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法等既存の塗布方法を利用できる。生産性・フィルムの平滑性・膜厚のばらつき、透明性、低レタデーション性などを考慮すると、ダイコート法を用いたロールｔｏロール方式による溶液流延法ないし溶融流延法が望ましい。

本発明における支持体１１には、ＰＥＴフィルムなどの樹脂フィルムや、平滑かつ平坦なドラム型ロール又はエンドレスベルトなどを用いる。これら支持体には、エンボス加工などの機械加工を施すことで意図的に光学フィルムの表面に凹凸形成をすることも可能である。

支持体１１上に流延ダイから塗工液を流延し、支持体１１上で溶媒を蒸発させて、ウェブを形成した後、ウェブを支持体から剥離し、剥離後のウェブを搬送して乾燥させ、光硬化させた後、得られたフィルムを巻き取り、ロール状の光学フィルムを得る。もしくは、支持体１１上に流延ダイから塗工液を流延し、支持体１１上で溶媒を蒸発させて、光硬化させた後、得られたフィルムを巻き取り、光学フィルムを得ても良い。

本発明において、フィルムへの残留溶剤量が降伏応力・破断伸度に影響を与えるため、乾燥は十分に行う必要がある。乾燥手法に特に制限は無いが、表面の平滑性を保つため、直接乾燥風をウェブに当てないことが好ましい。残留溶剤量が単位面積あたり、５０ｍｇ／ｍ^２以下であれば、降伏応力・破断伸度に対して影響はないが、用途によって求められる残留溶剤量まで低減するように乾燥させる。必要に応じて得られたフィルムに対してアニーリング処理を行う。熱可塑性樹脂の場合、アニーリング処理によりリタデーションが上昇することもあるが、電離放射線硬化型樹脂組成物を用いた場合、三次元架橋されているため、このようなことは起こりにくい。

本発明における光硬化には紫外線を用いる。紫外線源としては、特に限定は無く、メタルハイドロランプ、高圧水銀灯ランプなど、既存の手法で構わない。積算光量・照度は用いる樹脂によって異なるが、通常は紫外線源を搬送ラインに多段数設けておき、複数に分けて照射する。特に一段目の紫外線照射においては、光重合の暴走による内部応力の上昇を低減するため、ウェブの温度が６０℃以下に保たれていることが好ましい。

本発明の光学フィルムは、複数層から形成されても構わない。例えば二層から形成される場合、一層目を支持体に対して塗布乾燥硬化させた後、二層目を塗工・乾燥・硬化させる方式と、一、二層目を同時に重層塗工させた後、同時に乾燥・硬化させる方式とがあるが、いずれの方式を用いても構わない。層ごとに塗工・乾燥・硬化させる場合は、一層目乃至二層目を硬化させる場合、半硬化させると層間の界面の密着性が向上する。多層化する場合は層によって機能性を変化させても構わない。更に三層以上積層する場合も同様である。

本発明の光学フィルムには、用途によっては表面コーティングによる機能層を設けることもできる。例えばハードコート層、反射防止層などの光学層を光学フィルム形成と同時或いは逐次に塗布することも可能である。また、光学フィルムを支持体上に流延ダイから流延し、支持体上で溶媒を蒸発させておき、光硬化する前に、エンボスロールなどで表面に凹凸形成などを施しても構わない。

本発明の光学フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７で規定される全光線反射率が９０％以上であり、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの範囲での、ＣＩＥ標準光源Ｃ２の５度入射光に対する透過光は、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値が−０．３≦ａ＊≦０．１かつ０≦ｂ＊≦０．５を満たすことが好ましい。

この光学フィルムは、透明性に優れており、色味が無いことから、光学フィルムとして好適に用いることが出来る。

また、厚みｄ（ｎｍ）の光学フィルムのフィルム平面内におけるｘ方向屈折率及びｙ方向屈折率をそれぞれＮｘ及びＮｙとし（ただし、Ｎｘ≧Ｎｙ）、厚み方向の屈折率をＮｚとしたとき、下記式１で表される、フィルム膜方向に対して入射０°のときの面内方向レタデーションＲｅ（０）の絶対値が２ｎｍ以下であることが好ましい。
式１： Ｒｅ（０） ＝ （Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ

この光学フィルムは複屈折が十分小さく、光学フィルムとして好適に用いられる。

また、フィルム膜方向に対して入射０°及び５０°のときの面内方向レタデーションをそれぞれＲｅ（０）、Ｒｅ（５０）としたとき、下記式２を満たすことが好ましい。
式２：｜Ｒｅ（５０）−Ｒｅ（０）｜≦３（ｎｍ）

この光学フィルムは、複屈折の視野角依存性が無いことを示しており、光学フィルムとして好適に用いることができる。

また、厚みｄ（ｎｍ）の光学フィルムのフィルム平面内におけるｘ方向屈折率及びｙ方向屈折率をそれぞれＮｘ及びＮｙとし（ただし、Ｎｘ≧Ｎｙ）、厚み方向の屈折率をＮｚとしたとき、下記式３で表される厚み方向レタデーションＲｔｈの絶対値が３ｎｍ以下であることが好ましい。
式３： Ｒｔｈ＝｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜×ｄ

このようなフィルムは複屈折が十分小さく、光学フィルムとして好適に用いられる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するがこれにより本発明が限定的に解釈されるものではない。実施例中の評価には以下の装置・手法を用いた。

降伏応力、破断伸度：引っ張り試験機（ＡＧＳ−５００ＮＸ：島津製作所）、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４にて測定。
ガラス転移点：ＤＳＣ（ＥＸＳＴＡＲ６０００：ＳＩＩ）、ＪＩＳ Ｋ７１２１：１９８７にて測定。
全光線透過率：ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００：日本電色工業社）、ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７にて測定。
色相：Ｕ４１００（日立ハイテク）、ＣＩＥ標準光源Ｃ２の５度入射光に対する透過光
リタデーション：回転検光子法（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ：王子計測機器）にて０〜５０°入射で測定。

光学フィルムを形成するにあたり、下記ウレタンについては、特許文献２を参考に合成した。

［ウレタンの製造］
冷却管、攪拌装置および温度計を取り付けた反応容器に、イソホロンジイソシアネート３１．５質量部およびジブチル錫ジラウレート０．１質量部を仕込み、５０℃にてε−カプロラクトン１ｍｏｌ変性２−ヒドロキシエチルアクリレート６８．４質量部を１時間かけて滴下した後、９０℃で１０時間攪拌して反応を行った。この反応液中の残存イソシアネート量をＦＴ−ＩＲを使用して測定したところ、ウレタン化反応が定量的に行われ、最終的にはイソシアネートがなくなり、下記の化学式で表されるウレタンアクリレート（以下、単に「ウレタン」という）９９．９質量部を得た。

尚、式中のＡは、アクリロイルオキシ基を表す。

（実施例１）
ウレタンを５０質量部、紫光ＵＶ７０００Ｂ（日本合成化学）を５０質量部、ＡＣＭＯ（ＫＪケミカルズ）を３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（実施例２）
ウレタンを５０質量部、紫光ＵＶ７０００Ｂ（日本合成化学）を５０質量部、ＨＡＤＭ（大阪ガスケミカル）を３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をＭＥＫ及びＭＩＢＫの混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（実施例３）
ウレタンを６０質量部、ＵＦ８００１Ｇ（共栄社化学）を４０質量部、ＨＡＤＭ（大阪ガスケミカル）を３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をＭＥＫ及びＭＩＢＫの混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（実施例４）
ウレタンを５０質量部、紫光ＵＶ７０００Ｂ（日本合成化学）を５０質量部、Ｍ１４５ （東亜合成）を３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をＭＥＫ及びＭＩＢＫの混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（実施例５）
Ａ−９３００（新中村化学工業）を７０質量部、紫光ＵＶ７０００Ｂ（日本合成化学）を３０質量部、Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業）を３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をＭＥＫ及びＭＩＢＫの混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（比較例１）
Ａ−９３００（新中村化学工業）を１３０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をＭＥＫ及びＭＩＢＫの混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（比較例２）
ウレタンを７０質量部、Ｍ２０８（東亜合成）を６０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部をＭＥＫ及びＭＩＢＫの混合液に溶解し、塗工液を調整した。この塗工液をＰＥＴフィルム（東レ製：膜厚７５μｍ）の片面にダイコーターを用いて塗布し、１００℃で２００秒間オーブンで乾燥させ、紫外線照射装置を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚４５μｍの光学フィルムを形成させた。得られたフィルムの特性は表１のようになった。

（比較例３）
４０μｍ厚のＴＡＣフィルムを用いた。このフィルムの特性を表１に示す。

比較例１では、破断伸度が３％と小さい為、形成したフィルムの端部に傷が入り易かった。比較例２では、降伏応力が４８．２ＭＰａと小さい為、形成したフィルムの端部に傷が入り易かった。また、ガラス転移点が７０．１℃と低く、実用に向かない。液晶ディスプレイに接着させた際に、Ｒｔｈが７．１と大きい為、わずかに光漏れが起きた。比較例３では、降伏応力が１２５．０ＭＰａと大きく、かつ破断伸度が５％と小さい為、形成したフィルムの端部に傷が入り易かった。液晶ディスプレイに接着させた際に、Ｒｔｈが２２．５ｎｍと大きい為、比較例２に比べ、より光漏れが大きかった。また、｜Ｒｅ（５０）−Ｒｅ（０）｜が７．７ｎｍと大きい為、視る角度により、液晶ディスプレイに表示させた画像の見え方が変化した。

本発明は、光学フィルムなどに利用が可能である。

１１ ・・・支持体
１２ ・・・フィルム

Claims (8)

1. 電離放射線硬化型樹脂組成物からなる塗工液の塗膜を乾燥及び光硬化させることにより得られる光学フィルムであって、
   前記光学フィルムの厚さが１５〜１００μｍであり、
   ＪＩＳ Ｋ７１２１：１９８７で規定されるガラス転移温度が、１００℃以上であり、
   下記式を満たすことを特徴とする光学フィルム。
   ５０（ＭＰａ）≦α≦１００（ＭＰａ）
   ５（％）≦β≦３０（％）
   ただし、
   α：光学フィルムが降伏点を示す場合は、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏応力σ_y、光学フィルムが降伏点を示さない場合は、引張破壊応力σ_B、
   β：光学フィルムが降伏点を示す場合は、ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４で規定される応力−ひずみ曲線における引張降伏ひずみε_y、光学フィルムが降伏点を示さない場合は、引張破壊ひずみε_B
   である。
2. ＪＩＳ Ｋ７３６１：１９９７で規定される全光線反射率が９０％以上であり、
   波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの範囲での、ＣＩＥ標準光源Ｃ２の５度入射光に対する透過光は、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値が−０．３≦ａ＊≦０．１かつ０≦ｂ＊≦０．５を満たすことを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 厚みｄ（ｎｍ）の前記光学フィルムのフィルム平面内におけるｘ方向屈折率及びｙ方向屈折率をそれぞれＮｘ及びＮｙとし（ただし、Ｎｘ≧Ｎｙ）、厚み方向の屈折率をＮｚとしたとき、下記式１で表される、フィルム膜方向に対して入射０°のときの面内方向レタデーションＲｅ（０）の絶対値が２ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の光学フィルム。
   式１： Ｒｅ（０） ＝ （Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ
4. フィルム膜方向に対して入射０°及び５０°のときの面内方向レタデーションをそれぞれＲｅ（０）、Ｒｅ（５０）としたとき、下記式２を満たすことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載光学フィルム。
   式２：｜Ｒｅ（５０）−Ｒｅ（０）｜≦３（ｎｍ）
5. 厚みｄ（ｎｍ）の前記光学フィルムのフィルム平面内におけるｘ方向屈折率及びｙ方向屈折率をそれぞれＮｘ及びＮｙとし（ただし、Ｎｘ≧Ｎｙ）、厚み方向の屈折率をＮｚとしたとき、下記式３で表される厚み方向レタデーションＲｔｈの絶対値が３ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
   式３： Ｒｔｈ＝｜（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｜×ｄ
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム上にハードコート層を設けてなるハードコートフィルム。
7. 請求項６に記載のハードコートフィルムを用いた偏光板。
8. 請求項７に記載の偏向板を用いた液晶ディスプレイ。

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