JP2016103633A - Substrate transfer apparatus - Google Patents
Substrate transfer apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016103633A JP2016103633A JP2015222115A JP2015222115A JP2016103633A JP 2016103633 A JP2016103633 A JP 2016103633A JP 2015222115 A JP2015222115 A JP 2015222115A JP 2015222115 A JP2015222115 A JP 2015222115A JP 2016103633 A JP2016103633 A JP 2016103633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- magnetic
- unit
- guide
- transport
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 139
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims description 130
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 26
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 8
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、基板搬送装置に係り、特に、基板が載置されたトレイを非接触方式で搬送する基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transport apparatus, and more particularly to a substrate transport apparatus that transports a tray on which a substrate is placed in a non-contact manner.
一般に、液晶表示装置(Liquid Crystal Display device:LCD)、プラズマ表示装置(Plasma Display Panel device:PDP)、電界放出表示装置(Field Emission Display device:FED)、電気発光表示装置(Electroluminescence Display device:ELD)などのフラットパネル表示装置(Flat Panel Display device:FPD)は、基板の上に複数の工程を行って製造する。すなわち、基板の上に蒸着工程、フォトリソグラフィ工程、エッチング工程が複数回繰り返し行われ、これらに加えて、洗浄、貼り合わせ、切断などの工程が行われてフラットパネル表示装置が製造される。 Generally, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device (PDP), a field emission display device (FED), an electroluminescent display device (DED), an electroluminescent display device (DED), an electroluminescent display device (DED), an electroluminescent display device (DED), an electroluminescent display device (DED), A flat panel display device (FPD) is manufactured by performing a plurality of processes on a substrate. That is, a vapor deposition process, a photolithography process, and an etching process are repeatedly performed on the substrate a plurality of times, and in addition to these processes, processes such as cleaning, bonding, and cutting are performed to manufacture a flat panel display device.
この種のフラットパネル表示装置の製造工程は、最適な環境が造成された複数のチャンバーの内部において行われる。このために、基板をトレイに載置した後、トレイを垂直に又は斜めに立てて複数のチャンバーの内部を通るように搬送するインライン方法が考えられている。 The manufacturing process of this type of flat panel display device is performed inside a plurality of chambers in which an optimum environment has been created. For this purpose, an in-line method is conceived in which after the substrate is placed on the tray, the tray is vertically or obliquely conveyed so as to pass through a plurality of chambers.
基板を搬送する搬送装置は、基板が載置されるトレイと、トレイの下部と接触されてモーターにより回転することによりトレイに推力を提供する駆動ローラーとを備える。すなわち、従来の搬送装置は、チャンバーの下側に設けられた駆動ローラーとトレイの下部とが接触され、駆動ローラーの回転力を用いてトレイを移動させる。この種の搬送装置の例が特許文献1に開示されている。 A transport device that transports a substrate includes a tray on which the substrate is placed, and a driving roller that is brought into contact with a lower portion of the tray and rotates by a motor to provide thrust to the tray. That is, in the conventional transport device, the driving roller provided on the lower side of the chamber is brought into contact with the lower portion of the tray, and the tray is moved using the rotational force of the driving roller. An example of this type of conveying apparatus is disclosed in Patent Document 1.
ところが、駆動ローラーとトレイ下部との間の摩擦力が増え、その結果、粉塵(particle)が発生するという問題がある。粉塵は搬送される基板に付着されて表示装置の不良を発生させ、高仕様及び高性能デバイスの開発に伴い、デバイスの不良を発生させる原因となる。なお、チャンバーの内部を真空引きするための真空ポンプの内部に粉塵が流入し、これは、真空ポンプの故障の発生につながる。 However, there is a problem that the frictional force between the driving roller and the lower part of the tray is increased, and as a result, particles are generated. The dust adheres to the substrate to be transported to cause a display device failure, and causes a device failure with the development of a high specification and high performance device. In addition, dust flows into the inside of the vacuum pump for evacuating the inside of the chamber, which leads to the failure of the vacuum pump.
特許文献1:大韓民国公開特許第2003−0068292号公報 Patent Document 1: Korean Patent No. 2003-0068292
本発明の目的は、トレイと接触されずに基板の搬送を行うことから、粉塵の発生を防ぐことのできる基板搬送装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a substrate transport apparatus that can prevent generation of dust because the substrate is transported without being in contact with the tray.
本発明の他の目的は、トレイを磁気浮上させて搬送することから、粉塵の発生を防ぐことのできる基板搬送装置を提供することである。 Another object of the present invention is to provide a substrate transport apparatus that can prevent dust from being generated by magnetically levitating and transporting a tray.
本発明の一態様による基板搬送装置は、基板が載置されるトレイと、前記トレイの下側に設けられ、前記トレイを磁気浮上させ、磁気力を用いて搬送する磁気搬送ユニットと、前記トレイと接触されずに前記トレイの搬送をガイドするガイドユニットとを備える。 A substrate transport apparatus according to an aspect of the present invention includes a tray on which a substrate is placed, a magnetic transport unit that is provided below the tray, magnetically levitates the tray, and transports using a magnetic force, and the tray And a guide unit that guides conveyance of the tray without being in contact with the tray.
好ましくは、本発明の一態様による基板搬送装置は、前記トレイの下側に接触されて設けられた接触領域と、前記接触領域の両側面から下側に延びた延長領域と、を有する搬送基台をさらに備える。 Preferably, the substrate transport apparatus according to one aspect of the present invention includes a transport base having a contact area provided in contact with the lower side of the tray and an extended area extending downward from both side surfaces of the contact area. A stand is further provided.
また、好ましくは、前記磁気搬送ユニットは、前記搬送基台の一領域に設けられて前記トレイを磁気浮上させる磁気浮上部と、前記磁気浮上部の下側に設けられて磁気力を用いて前記磁気浮上されたトレイを一方向に搬送する磁気搬送部とを備える。 Preferably, the magnetic transport unit is provided in a region of the transport base and magnetically levitates the tray, and is provided below the magnetic levitator and uses the magnetic force. A magnetic transport unit that transports the magnetically levitated tray in one direction.
さらに、好ましくは、前記磁気浮上部は、前記搬送基台に接触され、少なくとも一つのマグネットを有する第1磁気浮上手段と、前記第1磁気浮上手段から離隔され、少なくとも一つのマグネットを有して前記第1磁気浮上手段と引力及び斥力の少なくともいずれか一方が働く第2磁気浮上手段とを備える。 Further preferably, the magnetic levitation unit is in contact with the conveyance base and has at least one magnet, and is separated from the first magnetic levitation unit and has at least one magnet. The first magnetic levitation means and second magnetic levitation means that act on at least one of attraction and repulsion.
さらに、好ましくは、前記磁気搬送部は、回転軸と、前記回転軸を取り囲むように設けられた複数のマグネットとを有する磁気回転手段と、前記磁気回転手段から離隔され、複数のマグネットを有する磁気搬送手段とを備える。 Further preferably, the magnetic transport unit preferably includes a magnetic rotating unit having a rotating shaft and a plurality of magnets provided so as to surround the rotating shaft, and a magnetic member separated from the magnetic rotating unit and having a plurality of magnets. Transportation means.
さらに、好ましくは、本発明の一態様による基板搬送装置は、前記磁気回転手段を内部に収容し、上側に第2磁気浮上手段が接触される収容手段をさらに備える。 Further preferably, the substrate transfer apparatus according to one aspect of the present invention further includes a receiving unit that stores the magnetic rotating unit therein and is in contact with the second magnetic levitation unit.
さらに、好ましくは、前記磁気搬送手段の複数のマグネットは、前記磁気回転手段に面する前記搬送基台の前記延長領域の少なくとも一領域に設けられる。 Further preferably, the plurality of magnets of the magnetic transfer means are provided in at least one area of the extended area of the transfer base facing the magnetic rotation means.
さらに、好ましくは、前記磁気回転手段の複数のマグネットは、互いに異なる極性が交互に設けられて前記回転軸を所定の角度で取り囲むように設けられ、前記磁気搬送手段の複数のマグネットは、互いに異なる極性が交互に設けられて前記磁気回転手段のマグネットと同じ角度で設けられる。 Further preferably, the plurality of magnets of the magnetic rotating means are provided so that different polarities are alternately provided so as to surround the rotating shaft at a predetermined angle, and the plurality of magnets of the magnetic conveying means are different from each other. The polarities are alternately provided and provided at the same angle as the magnet of the magnetic rotating means.
さらに、好ましくは、前記ガイドユニットは、前記トレイの上部に取り付けられる第1ガイドマグネットと、前記第1ガイドマグネットから所定の間隔を隔ててチャンバーの上側壁に設けられた第2ガイドマグネットとを備え、前記第1及び第2ガイドマグネットは、斥力及び引力の少なくともいずれか一方が働く。 Further preferably, the guide unit includes a first guide magnet attached to an upper portion of the tray, and a second guide magnet provided on the upper side wall of the chamber at a predetermined interval from the first guide magnet. The first and second guide magnets act at least one of repulsive force and attractive force.
さらに、好ましくは、前記ガイドユニットは、前記トレイと前記チャンバーの内側壁との間に設けられる搬送ガイドをさらに備える。 Further preferably, the guide unit further includes a conveyance guide provided between the tray and an inner wall of the chamber.
さらに、好ましくは、前記搬送ガイドは、前記延長領域と前記チャンバーの内側壁との間に設けられる。 Further preferably, the transport guide is provided between the extension region and the inner wall of the chamber.
さらに、好ましくは、本発明の一態様による基板搬送装置は、前記磁気搬送ユニットと前記ガイドユニットとの間の少なくとも一領域に設けられるスペーサ部材をさらに備える。 Further preferably, the substrate transfer apparatus according to an aspect of the present invention further includes a spacer member provided in at least one region between the magnetic transfer unit and the guide unit.
さらに、好ましくは、前記スペーサ部材は、前記延長領域と前記磁気浮上部との間及び前記延長領域と前記搬送ガイドとの間のうちの少なくとも一方の領域に設けられる。 Further preferably, the spacer member is provided in at least one region between the extension region and the magnetic levitation unit and between the extension region and the transport guide.
さらに、好ましくは、前記搬送ガイドの少なくとも一部は、前記トレイに近付く方向及び前記トレイから遠ざかる方向に移動する。 Further preferably, at least a part of the transport guide moves in a direction approaching the tray and a direction moving away from the tray.
さらに、好ましくは、トラバースチャンバー内に設けられる前記搬送ガイドは、前記トレイの搬送時に前記トレイに近い第1位置に位置し、前記トレイの返送時に前記トレイから遠い第2位置に位置する。 Further preferably, the transport guide provided in the traverse chamber is located at a first position close to the tray when the tray is transported, and is located at a second position far from the tray when the tray is returned.
本発明の実施形態による基板搬送装置は、基板が載置されるトレイの下側にトレイを磁気浮上させて搬送する磁気搬送ユニットが設けられ、トレイの上側及びトレイの側面にトレイの移動をガイドするガイドユニットが設けられる。このため、トレイと磁気搬送ユニットとの間に摩擦が生じないため粉塵が発生せず、これにより、粉塵による製品の不良が発生せず、真空ポンプなどの付属品の故障が発生しない。 In the substrate transfer apparatus according to the embodiment of the present invention, a magnetic transfer unit for magnetically levitating and transferring the tray is provided below the tray on which the substrate is placed, and guides the movement of the tray on the upper side of the tray and the side surface of the tray. A guide unit is provided. For this reason, no friction is generated between the tray and the magnetic transport unit, so that no dust is generated. As a result, product defects due to the dust do not occur and accessories such as a vacuum pump do not break down.
本発明の実施形態による基板搬送装置は、トレイの搬送をガイドする搬送ガイドの少なくとも一部がトレイに近付く方向及びトレイから遠ざかる方向に移動することができる。すなわち、トラバースチャンバーの搬送ガイドは、トレイの搬送時にはトレイと密接するように配置され、トレイの返送時にはトレイを位置移動し易くするためにトレイから遠くなるように配置される。このため、トラバースチャンバーにおけるトレイの位置移動時にトレイの移動マージンを増大させることができる。 The substrate transport apparatus according to the embodiment of the present invention can move in a direction in which at least a part of a transport guide that guides transport of the tray approaches and away from the tray. That is, the transport guide of the traverse chamber is disposed so as to be in close contact with the tray when the tray is transported, and is disposed so as to be far from the tray so that the position of the tray can be easily moved when the tray is returned. For this reason, the tray movement margin can be increased when the position of the tray in the traverse chamber is moved.
以下、添付図面に基づき、本発明の実施形態について詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下に開示される実施形態に何ら限定されるものではなく、異なる様々な形態として実現され、単にこれらの実施形態は本発明の開示を十分たるものにし、通常の知識を有する者に発明の範囲を十分に知らせるために提供されるものである。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, and can be realized in various different forms, and these embodiments merely make the disclosure of the present invention sufficient and have ordinary knowledge. It is provided to fully inform the person of the scope of the invention.
図1は、本発明の一実施形態による基板搬送装置の正面図であり、図2は、本発明の一実施形態による基板搬送装置の側面図である。すなわち、基板が載置される方向からみて、図1は正面図であり、図2は側面図である。また、図3は、本発明の第1実施形態による基板搬送装置の磁気搬送ユニットの側面図であり、図4は、本発明の第1実施形態による基板搬送装置の磁気搬送部の概略を示す斜視図である。 FIG. 1 is a front view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 1 is a front view and FIG. 2 is a side view as seen from the direction in which the substrate is placed. FIG. 3 is a side view of the magnetic transfer unit of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 schematically shows the magnetic transfer unit of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention. It is a perspective view.
図1から図4を参照すると、本発明の一実施形態による基板搬送装置は、基板を取り付けて搬送するトレイ100と、トレイ100の下部に設けられてトレイ100を磁気浮上させ、磁気力を用いてトレイ100を搬送する磁気搬送ユニット200と、トレイ100の上部に設けられてトレイ100の搬送をガイドするガイドユニット300とを備える。
1 to 4, a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention includes a
トレイ100は、中空の枠状に設けられてそこに基板が取り付けられる。すなわち、トレイ100は、所定の長さを有する4本の棒が上下左右に所定の間隔を隔てて設けられ、棒の周縁が互いに接触されることにより中空の四角の枠状に製作される。また、トレイ100には基板が着脱可能なように基板をクランプするクランプが複数設けられる。このとき、基板は、周縁が所定の幅にトレイ100の四辺に接触され、クランプにより固定される。このようなトレイ100は、基板を取り付けて垂直又は斜めの状態で搬送される。すなわち、複数のチャンバーが一方向に連結され、基板の取り付けられたトレイ100が複数のチャンバーの内部を移動しながら基板の上に薄膜蒸着工程などの所定の工程が行われる。一方、トレイ100が移動する複数のチャンバーは、トレイ100に基板を載置する搬入チャンバーと、トレイ100に載置された基板に所定の薄膜を蒸着する複数の蒸着チャンバーと、トレイ100を持ち上げて位置を移動するトラバースチャンバーなどを備える。すなわち、トレイ100が搬入チャンバー内において基板を載置した後に複数の蒸着チャンバーを移動しながら基板の上に複数の薄膜が蒸着され、トラバースチャンバーにおいて位置が移動して搬入チャンバーに向かって移動する。ここで、搬入チャンバーと、複数の蒸着チャンバー及びトラバースチャンバーは、真空引き状態を維持する。また、基板は、液晶表示装置をはじめとするフラットパネル表示装置を製作するための種々の基板であるが、例えば、ガラス、プラスチック、フィルムなどをはじめとする材質により作製される。さらに、トレイ100の下部には、磁気搬送ユニット200の一部と接触される搬送基台110が設けられる。搬送基台110は、トレイ100の下部の全体の領域に亘って設けられる。すなわち、搬送基台110はトレイ100の下部と同じ長さに設けられ、トレイ100の下部と連結されて下側に所定の厚さを有する。このような搬送基台110は、トレイ100の幅と同じ幅を有する第1領域111と、第1領域111の下側に設けられてトレイ100の幅よりも狭く、例えば、トレイ100よりも半分の幅に設けられた第2領域112とを備える。ここで、第2領域112に磁気搬送ユニット200の一部が接触される。もちろん、搬送基台110は様々な形状に設けられる。
The
磁気搬送ユニット200は、トレイ100を磁気浮上させてトレイ100と非接触状態を維持しながらトレイ100を搬送する。このような磁気搬送ユニット200は、トレイ100を磁気浮上させる磁気浮上部210と、磁気浮上部210と引力又は斥力が働くようにして磁気浮上部210により磁気浮上されたトレイ100を搬送する磁気搬送部220とを備える。
The
磁気浮上部210は、搬送基台110と接触されて設けられる第1磁気浮上手段211と、第1磁気浮上手段211から離れて設けられる第2磁気浮上手段212とを備える。ここで、第2磁気浮上手段212は、トレイ100とトレイ100が搬送される複数のチャンバーの内壁との間に設けられる。このとき、第2磁気浮上手段212は、トレイ100が搬送される複数のチャンバーの内壁に固定され、チャンバーの底部から所定の高さに固定される。すなわち、基板が載置されたトレイ100は、直列に連結された複数のチャンバーにより搬送されるが、第1磁気浮上手段211はトレイ100の下部の搬送基台110の第2領域112の両側面に取り付けられ、第2磁気浮上手段212は第1磁気浮上手段211に面してトレイ100とチャンバーとの間に設けられてチャンバー内壁又は底面に取り付けられる。このような第1磁気浮上手段211は、図3に示すように、搬送基台110の第2領域112の両側面に固定される第1固定部材211aと、第1固定部材211aの側面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第1マグネット211bと、第1固定部材211aの下面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第2マグネット211cとを備える。すなわち、第1及び第2マグネット211b,211cはそれぞれ一つずつ設けられてもよく、第1及び第2マグネット211b,211cのうちの少なくともいずれか一方が2以上設けられてもよい。例えば、第1マグネット211bが一つ設けられ、第2マグネット211cが2以上設けられてもよい。第1固定部材211aは、所定の高さ及び幅を有する略直方体状に設けられるが、搬送基台110の第2領域112に沿って第2領域112と同じ長さ、第2領域112の凹み深さ及び幅に設けられる。このため、第1磁気浮上手段211は、搬送基台110と同じ平面をなす。すなわち、第1固定部材211aとその間の第2領域112がなす幅が、搬送基台110の第1領域111又はトレイ100の幅と等しい。もちろん、第2領域112とその一方及び他方の第1磁気浮上手段211がなす幅が、搬送基台110又はトレイ100の幅よりも広くても狭くてもよい。また、第1及び第2マグネット211b,211cは、第1固定部材211aに所定の深さに埋め込まれる。すなわち、第1及び第2マグネット211b,211cの表面が第1固定部材211aの表面と同じ平面をなすように、第1及び第2マグネット211b,211cは第1固定部材211aに所定の深さに設けられる。一方、第1固定部材211aは、マグネットによる磁力に反応しない金属、セラミック、プラスチックなどの物質により作製されるが、例えば、タングステンにより作製される。第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211から所定の間隔を隔てて第1磁気浮上手段211に面するように設けられる。すなわち、第2磁気浮上手段212はチャンバーの内壁側に設けられ、第1磁気浮上手段211から離れて内面が第1磁気浮上手段211に面するように設けられる。このような第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211の第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて面する第2固定部材212aと、第1磁気浮上手段211の第1マグネット211b及び第2マグネット211cにそれぞれ面する第3及び第4マグネット212b,212cとを備える。ここで、第3及び第4マグネット212b,212cは、第1及び第2マグネット211b,211cの数に対応してそれぞれ一つずつ設けられてもよく、第1及び第2マグネット211b,211cのうちの少なくともいずれか一方が2以上設けられてもよい。例えば、第1マグネット211bが一つ設けられ、第2マグネット211cが2以上設けられる場合、第3マグネット212bが一つ設けられ、第4マグネット212cが2以上設けられてもよい。また、第2固定部材212aは、チャンバーの内壁又はチャンバーの底面と連結されて固定され、断面が矩形状を呈する第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて一方の側がL字状に設けられ、他方の側がL字の左右対称形状に設けられる。一方、第1マグネット211b及び第3マグネット212bは互いに異なる極性を有し、これにより、引力が働く。しかしながら、第2マグネット211c及び第4マグネット212cは互いに同じ極性を有し、これにより、斥力が働く。第2及び第4マグネット211c,212cの間に斥力が働くので、トレイ100を磁気浮上させることができ、第1及び第3マグネット211b,212bの間に引力が働くので、トレイ100の上下動を防ぐことができる。すなわち、第2及び第4マグネット211c,212cの間の斥力によりトレイ100が磁気浮上して上側に移動するが、第1及び第3マグネット211b,212bの間に引力が働くので、これを抑えることができる。一方、第2固定部材212aは、第1固定部材211aと同様に、マグネットによる磁力に反応しない金属、セラミック、プラスチックなどの物質により作製されるが、例えば、タングステンにより作製される。一方、第1磁気浮上手段211は、トレイ100の長手方向、すなわち、トレイ100の進行方向に搬送基台110の全体の領域に亘って設けられ、第2磁気浮上手段212は、トレイ100が移動する領域の全体に亘って設けられる。すなわち、トレイ100が複数のチャンバーの内部を通るため、第2磁気浮上手段212は第1磁気浮上手段211に面する領域の複数のチャンバー内壁に設けられる。しかしながら、第1及び第2磁気浮上手段211,212の少なくともいずれか一方は所定の間隔を隔てて複数設けられる。例えば、第2磁気浮上手段212が長手方向に全体の領域に亘って設けられ、第1磁気浮上手段211が所定の間隔を隔てて複数設けられる。また、第1磁気浮上手段211の第1及び第2マグネット211b,211cと、第2磁気浮上手段212の第3及び第4マグネット212b,212cは、長手方向に全体の領域に亘って設けられ、所定の間隔を隔てて複数設けられる。例えば、第1及び第2マグネット211b,211cが全体の領域に亘って設けられ、第3及び第4マグネット212b,212cが所定の間隔を隔てて設けられる。一方、第1磁気浮上手段211と第2磁気浮上手段212との間にこれらの間の間隔を維持するためのスペーサ部材213が設けられる。すなわち、互いに面する第1及び第3マグネット211b,212bは引力が働くので、トレイ100が磁気浮上により移動する間に第1及び第2磁気浮上手段211,212の間隔が狭くなったり、第1及び第3マグネット211b,212bがくっついたりすることがあるが、スペーサ部材213が設けられるので、第1及び第2磁気浮上手段211,212の間隔を維持することができる。このようなスペーサ部材213は、第1及び第3マグネット211b,212bの下側領域に設けられる。すなわち、スペーサ部材213は、第1磁気浮上手段211の外側面と第2磁気浮上手段212の内側面との間に設けられる。なお、スペーサ部材213は、第1及び第2磁気浮上手段211,212の間に長手方向に全体の領域に亘って所定の間隔を隔てて複数設けられる。
The
磁気搬送部220は、搬送基台110の下側から所定の間隔を隔てて設けられる磁気回転手段221と、搬送基台110の下側に磁気回転手段221から所定の間隔を隔てて設けられる磁気搬送手段222とを備える。磁気回転手段221は、搬送基台110の下側から所定の間隔を隔てて設けられる。ここで、磁気回転手段221は、トレイ100の幅と等しく設けられてもよく、トレイ100の幅よりも広く又は狭くなるように設けられてもよい。このような磁気回転手段221は、図3及び図4に示すように、回転軸221aと、回転軸221aの表面に形成される複数の第5マグネット221bとを備える。回転軸221aは、略円形の棒状に設けられて回転モーター(図示せず)により一方向及び他方向に回転する。また、複数の第5マグネット221bは、回転軸221aの表面を所定の角度で取り囲む形状に設けられるが、例えば、ねじ山状に形成される。すなわち、複数の第5マグネット221bは、図4に示すように、回転軸221aの上に、例えば、45°の角度で取り囲むように複数設けられる。このとき、複数の第5マグネット221bは、回転軸221aを例えば、45°の角度で取り囲みながらS極及びN極が交互に設けられる。磁気搬送手段222は、搬送基台110の下側に設けられる。すなわち、磁気搬送手段222は、磁気浮上部210の間の搬送基台110の第2領域112の下側に設けられる。このような磁気搬送手段222は、互いに異なる極性のマグネットが繰り返し設けられる。すなわち、磁気搬送手段222は、図4に示すように、搬送基台110の第2領域112の下側に固定される第3固定部材222aと、第3固定部材222aの一方の面に設けられる複数の第6マグネット222bとを備え、複数の第6マグネット222bは、互いに異なる極性、すなわち、S極及びN極が交互に設けられる。このとき、磁気搬送手段222の複数の第6マグネット222bは、磁気回転手段221の複数の第5マグネット221bと同じ角度、例えば、45°の角度を有するように設けられる。このため、磁気回転手段221の回転による極性と磁気搬送手段222の極性が互いに異なるか、あるいは、互いに同じであり、これにより、引力又は斥力が働くので、磁気回転手段221の回転につれて磁気搬送手段222が一方向に移動する。すなわち、磁気回転手段221の回転運動が磁気搬送手段222により直線運動に変換されて磁気浮上されたトレイ100を移動させる。
The
ガイドユニット300は、トレイ100の上部に取り付けられる第1ガイドマグネット310と、第1ガイドマグネット310から所定の間隔を隔ててチャンバーの上側壁に設けられる第2ガイドマグネット320とを備える。ここで、第1及び第2ガイドマグネット310,320は、互いに斥力が働くように同じ極性を有していてもよく、互いに引力が働くように互いに異なる極性を有していてもよい。また、第1及び第2ガイドマグネット310,320は、様々な形状に設けられる。例えば、第1及び第2ガイドマグネット310,320が互いに面する直線状に設けられる。また、第1ガイドマグネット310は円形の棒状に設けられ、第2ガイドマグネット320は、第1ガイドマグネット310を上側から取り囲むように、例えば、逆U字状に折れ曲がった断面を有する。すなわち、第2ガイドマグネット320は、第1ガイドマグネット310を所定の間隔を隔てて取り囲むように設けられる。このため、トレイ100の上端部は、第1ガイドマグネット310の両側面において第2ガイドマグネット320により第1ガイドマグネット310を押したり引っ張ったりする力が働くので、トレイ100が搬送されながら倒れないようにガイドされる。
The
一方、本発明のマグネットは、コアとコイルが組み合わせられた電磁石を用いるか、永久磁石を用いるか、あるいは、電磁石と永久磁石を組み合わせて用いる。 On the other hand, the magnet of the present invention uses an electromagnet in which a core and a coil are combined, a permanent magnet, or a combination of an electromagnet and a permanent magnet.
上述したように、本発明の一実施形態による基板搬送装置は、基板が載置されるトレイ100の下側にトレイ100を磁気浮上させて搬送する磁気搬送ユニット200が設けられ、トレイ100の上側にトレイ100をガイドするガイドユニット300が設けられる。また、磁気搬送ユニット200は、トレイ100を磁気浮上させる磁気浮上部210と、磁気力を用いて回転運動を直線運動に変換して磁気浮上されたトレイ100を移動させる磁気搬送部220とを備える。このため、本発明の一実施形態による基板搬送装置は、磁気浮上部210を用いてトレイ100を磁気浮上させた後、磁気搬送部220が一方向に回転して磁気浮上されたトレイ100を一方向に移動させる。このような本発明の一実施形態は、トレイ100と磁気搬送ユニット200との間に摩擦が生じないため粉塵が発生しない。このため、粉塵による製品の不良が発生せず、真空ポンプなどの付属品の故障が発生しない。
As described above, the substrate transport apparatus according to the embodiment of the present invention includes the
一方、本発明による基板搬送装置は、トレイ100の下部からトレイ100を磁気浮上させ、磁気力を用いてトレイ100を搬送する種々の方式により実現可能である。すなわち、トレイ100の下部の構造が種々に変更可能である。このような本発明の他の例が、図5及び図6に示されている。図5は、本発明の第2実施形態による基板搬送装置の磁気搬送ユニットの側面図であり、これを用いて本発明の第2実施形態を説明すれば、下記の通りである。
On the other hand, the substrate transfer apparatus according to the present invention can be realized by various methods in which the
図5を参照すると、本発明の第2実施形態による基板搬送装置は、基板を取り付けて搬送するトレイ100と、トレイ100の下部に設けられて磁気浮上を用いてトレイ100を搬送する磁気搬送ユニット200と、トレイ100の上部に設けられてトレイ100の搬送をガイドするガイドユニット300とを備える。ここで、本発明の第1実施形態と同じ構成についての説明を省略するか、あるいは、簡略化する。
Referring to FIG. 5, the substrate transport apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a
トレイ100の下側に搬送基台110が設けられるが、搬送基台110は、トレイ100の幅と同じ第1領域111と、第1領域111の下側に設けられて第1領域111よりも狭い第2領域112と、第2領域112の下側に磁気回転手段221を取り囲むように設けられる第3領域113とを備える。第3領域113は、第2領域112から下側に延びる延長部と、延長部の下側に水平に設けられる水平部113aと、水平部113aの両側から下側に延びる垂直部113b,113cとを備える。ここで、水平部113aは、磁気回転手段221の幅よりも広く設けられ、垂直部113b,113cは、磁気回転手段221の高さよりも高く設けられる。このため、水平部113aと、その両側の垂直部113b,113cが磁気回転手段221の上部及び側部を取り囲むように設けられる。
The
磁気搬送ユニット200は、トレイ100を磁気浮上させる磁気浮上部210と、磁気浮上部210と引力又は斥力が働くようにして磁気浮上部210により磁気浮上されたトレイ100を搬送する磁気搬送部220とを備える。磁気浮上部210は、搬送基台110の第2領域112に設けられる第1磁気浮上手段211と、第1磁気浮上手段211から離れて設けられる第2磁気浮上手段212と、第1及び第2磁気浮上手段211,212の間の間隔を維持するためのスペーサ部材213と、第2磁気浮上手段212を支持する支持手段214とを備える。第1磁気浮上手段211は、搬送基台110の第2領域112の側面及び下面に固定される第1固定部材211aと、第1固定部材211aの側面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第1マグネット211bと、第1固定部材211aの下面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第2マグネット211cとを備える。第1固定部材211aは、一方の側がL字状に設けられ、他方の側がL字の左右対称形状に設けられる。このとき、第1固定部材211aは、搬送基台110の第1領域111よりも突出して設けられる。すなわち、第1固定部材211aとその間の第2領域112がなす幅が、搬送基台110の第1領域111又はトレイ100の幅よりも広い。また、第1及び第2マグネット211b,211cはそれぞれ一つずつ設けられてもよく、第1及び第2マグネット211b,211cのうちの少なくともいずれか一方が2以上設けられてもよい。例えば、第1マグネット211bが一つ設けられ、第2マグネット211cが2以上設けられてもよい。第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211から所定の間隔を隔てて第1磁気浮上手段211に面するように設けられる。このような第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211の第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて面する第2固定部材212aと、第1磁気浮上手段211の第1マグネット211b及び第2マグネット211cにそれぞれ面する第3及び第4マグネット212b,212cとを備える。ここで、第3及び第4マグネット212b,212cは、第1及び第2マグネット211b,211cの数に対応してそれぞれ一つずつ設けられてもよく、第1及び第2マグネット211b,211cのうちの少なくともいずれか一方が2以上設けられてもよい。例えば、第1マグネット211bが一つ設けられ、第2マグネット211cが2以上設けられる場合、第3マグネット212bが一つ設けられ、第4マグネット212cが2以上設けられる。また、第2固定部材212aは、第1固定部材211aから所定の間隔を隔てるように一方の側がL字状に設けられ、他方の側がL字の左右対称形状に設けられる。支持手段214は、第2磁気浮上手段212の下側に設けられて第2磁気浮上手段212を支持する。すなわち、支持手段214は、第2磁気浮上手段212の水平部とチャンバーの底面との間に設けられて第2磁気浮上手段212の水平部を支持する。支持手段214が第2磁気浮上手段212の水平部を支持するので、第2磁気浮上手段212を一層安定的に支持することができる。すなわち、第2磁気浮上手段212の垂直部は、チャンバーの内壁から固定され、水平部が支持手段214に支持されるので、一層安定的に第2磁気浮上手段212が実現可能である。支持手段214の内側には搬送基台110の一部及び磁気搬送部220が設けられる。すなわち、支持手段214の内側に搬送基台110の第3領域113が設けられ、第3領域113の内側に磁気搬送部220が設けられる。
The
磁気搬送部220は、磁気回転手段221と、磁気回転手段221から所定の間隔を隔てて設けられる磁気搬送手段222とを備えるが、磁気回転手段221は、搬送基台110の水平部113a及び垂直部113b,113cから所定の間隔を隔ててその内側に設けられ、磁気搬送手段222は、水平部113a及び垂直部113b,113cの少なくとも一領域に設けられる。磁気回転手段221は、本発明の一実施形態と同様に、回転軸221aと、回転軸221aの表面を所定の角度で取り囲むように設けられる複数の第5マグネット221bとを備える。磁気搬送手段222は、垂直部113b,113cに設けられる。すなわち、磁気搬送手段222は、磁気回転手段221の両側に設けられる。もちろん、磁気搬送手段222は、水平部113aに設けられてもよく、水平部113a及び垂直部113b,113cの両方に設けられてもよい。このような磁気搬送手段222は、所定の固定部材が設けられ、固定部材の上にS極及びN極の極性が交互に設けられる。このとき、磁気搬送手段222は、磁気回転手段221の第5マグネット221bと同じ角度、例えば、45°の角度を有するように設けられる。このため、磁気回転手段221の回転による極性と磁気搬送手段222の極性が同じ極性を有し、これにより、引力が働くので、磁気回転手段221の回転につれて磁気搬送手段222が一方向に移動する。すなわち、磁気回転手段221の回転運動が磁気搬送手段222により直線運動に変換されて磁気浮上されたトレイ100を移動させる。
The
図6は、本発明の第3実施形態による基板搬送装置の磁気搬送ユニットの側面図である。 FIG. 6 is a side view of the magnetic transfer unit of the substrate transfer apparatus according to the third embodiment of the present invention.
図6を参照すると、本発明の第3実施形態による基板搬送装置は、基板を取り付けて搬送するトレイ100と、トレイ100の下部に設けられて磁気浮上を用いてトレイ100を搬送する磁気搬送ユニット200と、トレイ100の上部に設けられてトレイ100の搬送をガイドするガイドユニット300とを備える。ここで、本発明の第3実施形態は、図5を用いて説明した本発明の第2実施形態と磁気搬送ユニット200の磁気浮上部210の構造に相違点があり、これを中心として本発明の他の実施形態について説明すれば、下記の通りである。
Referring to FIG. 6, a substrate transport apparatus according to a third embodiment of the present invention includes a
磁気搬送ユニット200の磁気浮上部210は、搬送基台110の第2領域112に設けられる第1磁気浮上手段211と、第1磁気浮上手段211から離れて設けられる第2磁気浮上手段212と、第1及び第2磁気浮上手段211,212の間の間隔を維持するためのスペーサ部材213と、第2磁気浮上手段212を支持する支持手段214とを備える。第1磁気浮上手段211は、搬送基台110の第2領域112の側面及び下面に固定され、一方の側がL字状に設けられ、他方の側がL字の左右対称形状に設けられる第1固定部材211aと、第1固定部材211aの上面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第1マグネット211bと、第1固定部材211aの下面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第2マグネット211cとを備える。すなわち、本発明の第1及び第2実施形態においては、第1マグネット211bが第1固定部材211aの側面に設けられていたが、本発明の第3実施形態においては、第1マグネット211bが第1固定部材211aの上面に設けられる。ここで、第1マグネット211bは、搬送基台110の第1領域111の側面から離れて第1固定部材211aの上面に設けられる。また、第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211から所定の間隔を隔てて第1磁気浮上手段211に面するように設けられる。このような第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211の第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて面する第2固定部材212aと、第1磁気浮上手段211の第1マグネット211b及び第2マグネット211cにそれぞれ面する第3及び第4マグネット212b,212cとを備える。ここで、第2固定部材212aは、第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて第1固定部材211aの上面と向かい合うように一方の側が「逆コ」字状に設けられ、他方の側が「コ」字状に設けられる。ところが、第2固定部材212aは上側が短くて下側が長い形状に設けられ、全領域に亘って第1固定部材211aと等間隔を隔てている。ここで、第1マグネット211b及び第3マグネット212bは互いに異なる極性を有し、これにより、引力が働き、第2マグネット211c及び第4マグネット212cは互いに同じ極性を有し、これにより、斥力が働く。なお、第1固定部材211aの側面及びこれに面する第2固定部材212aの側面にも互いに引力が働くマグネットがさらに設けられる。
The
図7は、本発明の一実施形態によるガイドユニット300の側面図である。
FIG. 7 is a side view of the
図7を参照すると、本発明の一実施形態によるガイドユニット300は、トレイ100の上部に取り付けられる第1プレート311と、第1プレート311の上に設けられる第1ガイドマグネット310と、チャンバーの上側壁に固定される第2プレート321と、第1ガイドマグネット310から所定の間隔を隔てて第2プレート321の上に設けられる第2ガイドマグネット320と、第2プレート321の側面からその下側に延びる側面プレート330と、第1プレート311の側面に設けられる第3ガイドマグネット340と、第3ガイドマグネット340から所定の間隔を隔てて面し、側面プレート330に設けられる第4ガイドマグネット350と、側面プレート330の所定の領域に設けられて側面プレート330とガイドマグネット310,320,340,350との間の間隔を維持する第2スペーサ部材360とを備える。ここで、第3及び第4ガイドマグネット340,350は、第2ガイドマグネット320の上側の第2プレート321及びこれに面する側面プレート330の間に設けられてもよく、第1プレート311及びこれに面する側面プレート330の間と第2プレート321及びこれに面する側面プレート330の間の両領域に設けられてもよい。また、第1及び第2ガイドマグネット310,320は互いに斥力が働くように同じ極性を有していてもよく、互いに引力が働くように互いに異なる極性を有していてもよい。さらに、第3及び第4ガイドマグネット340,350は、互いに斥力が働くように同じ極性を有していてもよい。このため、トレイ100の上端部は、第1及び第2ガイドマグネット310,320の引力又は斥力及び第3及び第4ガイドマグネット340,350の斥力によりトレイ100が倒れないようにガイドされながら搬送される。すなわち、第3及び第4ガイドマグネット340,350により側面において斥力が働くので、第1及び第2ガイドマグネット310,320を用いる場合に比べてトレイ100の垂直搬送が一層円滑になる。なお、第2スペーサ部材360がさらに設けられるので、トレイ100の揺動幅を一定に維持することができ、これにより、トレイ100の垂直搬送が一層円滑になる。
Referring to FIG. 7, a
一方、トレイ100の下側にトレイ100の搬送をガイドする搬送ガイドがさらに設けられる。搬送ガイドは、トレイ100を間に挟んでトレイ100から所定の間隔を隔てて設けられる。搬送ガイドは、トレイ100とチャンバー内壁との間に設けられる。すなわち、搬送ガイドは、チャンバーの側面とトレイ100との間にトレイ100から所定の間隔を隔てて2つ設けられる。例えば、搬送ガイドは、図3、図5及び図6の磁気浮上部210の外側に設けられる。すなわち、搬送ガイドは、磁気浮上部210の第2磁気浮上手段212とチャンバー内壁との間に設けられる。搬送ガイドが第2磁気浮上手段212とチャンバー内壁との間に設けられる場合、第2磁気浮上手段212はチャンバーの底面から固定される。このような搬送ガイドを備える基板搬送装置を図8及び図9を用いて説明すれば、下記の通りである。
On the other hand, a conveyance guide for guiding conveyance of the
図8は、本発明の第4実施形態による基板搬送装置の磁気搬送ユニットの側面図である。 FIG. 8 is a side view of the magnetic transfer unit of the substrate transfer apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
図8を参照すると、本発明の第4実施形態による基板搬送装置は、基板を取り付けて搬送するトレイ100と、トレイ100の下部に設けられて磁気浮上を用いてトレイ100を搬送する磁気搬送ユニット200と、トレイ100をガイドするためのガイドユニット300とを備える。ガイドユニット300は、トレイ100の上側及び下側に設けられるが、トレイ100の上側には、図7に示す構成要素が設けられ、トレイ100の下側にはトレイ100の搬送をガイドする搬送ガイド370が設けられる。ここで、本発明の第4実施形態を説明するに当たって、前記第1から第3実施形態と同じ構成についてはその説明を簡略化するか、又は、省略する。
Referring to FIG. 8, a substrate transport apparatus according to a fourth embodiment of the present invention includes a
トレイ100は、下側に搬送基台110が設けられるが、搬送基台110は、トレイ100の幅と同じ幅を有する第1領域111と、第1領域111の側面に設けられ、磁気回転手段221を取り囲むように設けられる延長領域114とを備える。すなわち、延長領域114は、第1領域111の側面から下側に延びて設けられる。ここで、延長領域114は、磁気回転手段221から所定の間隔を隔てて磁気回転手段221の幅よりも広く設けられる。このような延長領域114は、所定の幅及び長さを有するプレート状に設けられる。また、延長領域114の内側の所定の領域にはスペーサ部材213が設けられる。すなわち、図6を用いて説明した本発明の第3実施形態は、スペーサ部材213が第1及び第2磁気浮上手段211,212の間の間隔を維持するためにこれらの間に設けられるが、本発明の第4実施形態においては、トレイ100に繋がる延長領域114と磁気搬送部220との間の間隔を維持するために、延長領域114と磁気搬送部220との間の延長領域114の内側にスペーサ部材213が設けられる。もちろん、スペーサ部材213は、磁気搬送部220の一領域に設けられてもよい。すなわち、スペーサ部材213は、延長領域114と磁気搬送部220との間に、且つ、延長領域114又は磁気搬送部220の所定の領域に固定される。一方、延長領域114の少なくとも一領域、すなわち、外側領域には少なくとも一つの第7マグネット115が設けられる。
The
磁気搬送ユニット200は、トレイ100を磁気浮上させる磁気浮上部210と、磁気浮上部210と引力又は斥力が働くようにして磁気浮上部210により磁気浮上されたトレイ100を搬送する磁気搬送部220とを備える。磁気浮上部210は、搬送基台110の第1領域111に固定される第1磁気浮上手段211と、第1磁気浮上手段211から離れて設けられる第2磁気浮上手段212とを備える。第1磁気浮上手段211は、搬送基台110の第1領域111の下面に固定される第1固定部材211aと、第1固定部材211aの下面の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第1マグネット211bとを備える。第1固定部材211aは、上側が第1領域111の下側に結合され、底面が水平をなす。このとき、第1固定部材211aの幅は、第1領域111の幅よりも広く設けられる。第1固定部材211aが第1領域111の幅よりも広く設けられるため、第1固定部材211aの側面に接触されて下側に延びる延長領域114が第1領域111の幅よりも広く設けられる。また、第1固定部材211aの下側の第1マグネット211bは少なくとも一つ設けられるが、例えば、等間隔にて3つ設けられる。第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211から所定の間隔を隔てて第1磁気浮上手段211に面するように設けられる。このような第2磁気浮上手段212は、第1磁気浮上手段211の第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて面する第2固定部材212aと、第1磁気浮上手段211の少なくとも一つの第1マグネット211bに面する少なくとも一つの第3マグネット212bとを備える。さらに、第2固定部材212aは、第1固定部材211aから所定の間隔を隔てて第1固定部材211aと同じ形状に設けられる。例えば、第1及び第2固定部材211a,212aは、矩形の断面形状を有する。このとき、第2磁気浮上手段212の第2固定部材212aは、磁気搬送部220の一領域に固定される。
The
磁気搬送部220は、磁気回転手段221と、磁気回転手段221から所定の間隔を隔てて設けられる磁気搬送手段222と、磁気回転手段221を内側に収容する収容手段223とを備える。収容手段223は、内部に磁気回転手段221を収容し、下側がチャンバーの底面に固定される。このとき、収容手段223は、中空状に設けられて磁気回転手段221が内部に収容されて回転自在となる。また、収容手段223は、側面において磁気搬送手段222の少なくとも一部が露出されるように設けられる。さらに、収容手段223の上部面には第2磁気浮上手段212が設けられる。すなわち、収容手段223の上部に第2磁気浮上手段212の第2固定部材212aが固定される。磁気搬送手段222は、少なくとも一つのマグネットを備え、磁気回転手段221に面する延長領域114に設けられる。すなわち、延長領域114が収容手段223から所定の間隔を隔てて収容手段223の外側に設けられ、延長領域114の内側には収容手段223内に収容される磁気回転手段221に面するように少なくとも一つのマグネットを有する磁気搬送手段222が設けられる。
The
一方、磁気搬送ユニット200とチャンバーとの間には搬送ガイド370が設けられる。すなわち、ガイドユニット300が上側及び下側においてトレイ100の搬送をガイドするが、トレイ100の下側に磁気搬送ユニット200の側面において磁気搬送ユニット200の搬送をガイドする搬送ガイド370が設けられる。このような搬送ガイド370は、磁気搬送ユニット200とチャンバーの内側面との間に設けられ、所定の幅及び高さを有する。また、搬送ガイド370は、内側の所定の領域に少なくとも一つのマグネットが設けられる。すなわち、搬送ガイド370は、磁気搬送ユニット200とチャンバーとの間に高さ方向に設けられる垂直プレート371と、垂直プレート371の所定の領域に設けられる少なくとも一つの第8マグネット372とを備える。垂直プレート371は、例えば、第1磁気浮上手段211の高さに設けられる。すなわち、垂直プレート371は、搬送基台110の第1領域111と第1磁気浮上手段211の第1固定部材211aとの間の境界面までの高さに設けられる。また、垂直プレート371には少なくとも一つの第8マグネット372が設けられるが、第8マグネット372は、延長領域114に設けられる第7マグネット115に面するように設けられる。このとき、延長領域114の第7マグネット115及び垂直プレート371の第8マグネット372は、互いに異なる極性又は同じ極性を有していてもよく、これにより、引力又は斥力が働く。一方、蒸着チャンバー内の搬送ガイド370は固定され、トラバースチャンバー内の搬送ガイド370は、トレイ100から遠ざかる方向及びトレイ100に近付く方向に移動する。このとき、トラバースチャンバー内の搬送ガイドは、磁気浮上を用いて非接触式で移動する。すなわち、トラバースチャンバーの搬送ガイド370は、図4を用いて説明した磁気搬送部と同じ原理を利用する。例えば、垂直プレート371の下側に垂直プレート371から離れて回転軸(図示せず)と、回転軸の表面に複数のマグネット(図示せず)が設けられる磁気回転手段が設けられ、磁気回転手段から離れて垂直プレート371の下面に互いに異なる極性のマグネットが所定の間隔を隔てて設けられる。このため、垂直プレート371の下側の磁気回転手段の回転による極性とその上側の磁気搬送手段の極性が互いに同一又は異なり、これにより、引力又は斥力が働くので、磁気回転手段の回転につれて磁気搬送手段が一方向又は他方向に移動する。すなわち、磁気回転手段の回転運動が磁気搬送手段により直線運動に変換されて磁気浮上された垂直プレート371を移動させる。
On the other hand, a
図9は、本発明の第5実施形態による基板搬送装置の磁気搬送ユニットの側面図である。 FIG. 9 is a side view of the magnetic transfer unit of the substrate transfer apparatus according to the fifth embodiment of the present invention.
図9を参照すると、本発明の第5実施形態による基板搬送装置は、基板を取り付けて搬送するトレイ100と、トレイ100の下部に設けられて磁気浮上を用いてトレイ100を搬送する磁気搬送ユニット200と、トレイ100をガイドするためのガイドユニット300とを備える。ガイドユニット300は、トレイ100の上側及び下側に設けられるが、トレイ100の上側には図7に示す構成要素が設けられ、トレイ100の下側にはトレイ100の搬送をガイドする搬送ガイド370が設けられる。ここで、本発明の第5実施形態は、図8を用いて説明した本発明の第4実施形態とはスペーサ部材213の形成位置に相違点がある。すなわち、本発明の第5実施形態による基板搬送装置は、本発明の第4実施形態による基板搬送装置と全ての構成が同じであり、スペーサ部材213が搬送ガイド370と延長領域114との間に設けられる点に相違点がある。スペーサ部材213は、搬送ガイド370と延長領域114との間の延長領域114又は搬送ガイド370の所定の領域に設けられる。例えば、延長領域114の第7マグネット115の下側に設けられる。このようにスペーサ部材213が磁気搬送ユニット200と搬送ガイド370との間に設けられるので、磁気搬送ユニット200が揺動する場合であっても、磁気搬送ユニット200が搬送ガイド370の内側において搬送可能である。もちろん、スペーサ部材213は、搬送ガイド370と延長領域114との間だけではなく、延長領域114と磁気搬送部220との間に設けられる。すなわち、スペーサ部材213は、少なくとも2以上の領域に少なくとも2以上設けられる。
Referring to FIG. 9, a substrate transport apparatus according to a fifth embodiment of the present invention includes a
一方、搬送ガイド370は、少なくとも一部が一方向及びこれと向かい合う他の方向に移動する。例えば、蒸着チャンバー内の搬送ガイドは固定され、トラバースチャンバー内の搬送ガイドは可動である。すなわち、トラバースチャンバー内に設けられる搬送ガイドはトレイ100が蒸着チャンバーから移動する場合、トレイ100と第1間隔を維持してトレイ100の搬送をガイドし、トレイ100の搬送が終わって搬入チャンバーに向かって返送される場合、チャンバーの内壁に向かって移動してトレイ100とは第1間隔よりも広い第2間隔を維持する。トラバースチャンバー内において搬送ガイドが移動することにより、トレイ100の位置移動時にトレイ100の移動マージンが大きくなる。すなわち、トレイ100が磁力に影響されなくなって円滑なトラバース、すなわち、レーンが変更可能になる。このような搬送ガイド370が移動する基板搬送装置を図10及び図11を用いて説明すれば、下記の通りである。
On the other hand, the
図10及び図11を参照すると、本発明の第6実施形態による基板搬送装置は、基板を取り付けて搬送するトレイ100と、トレイ100の下部に設けられて磁気浮上を用いてトレイ100を搬送する磁気搬送ユニット200と、トレイ100の下側に設けられてトレイ100の搬送をガイドする搬送ガイド370を有するガイドユニット300とを備える。搬送ガイド370は、向かい合う一方向及び他方向に移動可能であるが、トレイ100に近付く方向及びトレイ100から遠ざかる方向に移動可能である。このような移動可能な搬送ガイド370は、少なくともトラバースチャンバー内に設けられる。
Referring to FIGS. 10 and 11, the substrate transport apparatus according to the sixth embodiment of the present invention transports the
搬送ガイド370は、垂直プレート371a及び水平プレート371bを備え、垂直プレート371aが水平プレート371bの上側に設けられる。すなわち、垂直プレート371aは、水平プレート371bの所定の領域から上方に垂直に設けられる。また、垂直プレート371aには、トレイ100の延長領域114に設けられる第7マグネット115に面するように少なくとも一つの第8マグネット372が設けられる。水平プレート371bは、垂直プレート371aの下側に水平に設けられる。ここで、水平プレート371bの下側には移動部395が設けられる。移動部395は、下側の少なくとも一部の領域がガイドレール390を取り囲むように設けられ、ガイドレール390に沿って向かい合う一方向及び他方向に移動可能である。移動部395が移動するにつれて、その上側に配設される搬送ガイド370が移動する。ガイドレール390の下側には、支持部380が設けられる。支持部380は、ガイドレール390とその上側の搬送ガイド370を支持する。また、支持部380の内部には、移動部395を駆動するための駆動手段(図示せず)が設けられる。駆動手段としては、シリンダー、モーターなどが挙げられ、移動部395を、図10に示すように、トレイ100に近付く一方向に移動させ、且つ、図11に示すように、トレイ100から遠ざかる他の方向に移動させる。ここで、搬送ガイド370は、蒸着チャンバーからトレイ100が搬送される場合、トレイ100に近付く第1位置に位置する。ところが、トレイ100を搬入チャンバーに向かって返送するためにレーンが変更される場合、すなわち、トラバースされる場合、駆動手段により移動部395が駆動されて搬送ガイド370がトレイ100から遠ざかる方向に移動して第2位置に位置する。搬送ガイド370が移動した後、トレイ100は持ち上げられた後にトラバースされて搬入チャンバーに向かって返送され、次いで、搬送ガイド370は再び第1位置に移動する。
The
一方、本発明の技術的思想は前記実施形態により具体的に記述されたが、前記実施形態はその説明のためのものであり、その制限のためのものではない。なお、本発明の技術分野における当業者は、本発明の技術思想の範囲内において種々の実施形態が採用可能であるということが理解できる筈である。 On the other hand, although the technical idea of the present invention has been specifically described by the embodiment, the embodiment is for the purpose of explanation and not for the limitation. It should be noted that those skilled in the art of the present invention can understand that various embodiments can be employed within the scope of the technical idea of the present invention.
100 トレイ
110 搬送基台
111 第1領域
112 第2領域
113 第3領域
113a 水平部
113b,113c 垂直部
114 延長領域
115 第7マグネット
200 磁気搬送ユニット
210 磁気浮上部
211 第1磁気浮上手段
211a 第1固定部材
211b 第1マグネット
211c 第2マグネット
212 第2磁気浮上手段
212a 第2固定部材
212b 第3マグネット
212c 第4マグネット
213 スペーサ部材
214 支持手段
220 磁気搬送部
221 磁気回転手段
221a 回転軸
221b 第5マグネット
222 磁気搬送手段
222a 第3固定部材
222b 第6マグネット
223 収容手段
300 ガイドユニット
310 第1ガイドマグネット
311 第1プレート
320 第2ガイドマグネット
321 第2プレート
330 側面プレート
340 第3ガイドマグネット
350 第4ガイドマグネット
360 第2スペーサ部材
370 搬送ガイド
371 垂直プレート
371a 垂直プレート
371b 水平プレート
372 第8マグネット
380 支持部
390 ガイドレール
395 移動部
DESCRIPTION OF
Claims (15)
前記トレイの下側に設けられ、前記トレイを磁気浮上させ、磁気力を用いて搬送する磁気搬送ユニットと、
前記トレイと接触されずに前記トレイの搬送をガイドするガイドユニットと、
を備える
ことを特徴とする基板搬送装置。 A tray on which substrates are placed;
A magnetic transport unit that is provided below the tray, levitates the tray, and transports it using magnetic force;
A guide unit that guides conveyance of the tray without being in contact with the tray;
The board | substrate conveyance apparatus characterized by the above-mentioned.
ことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。 2. The conveyance base according to claim 1, further comprising a contact area provided in contact with the lower side of the tray and an extended area extending downward from both side surfaces of the contact area. Substrate transfer device.
前記搬送基台の一領域に設けられて前記トレイを磁気浮上させる磁気浮上部と、
前記磁気浮上部の下側に設けられて磁気力を用いて前記磁気浮上されたトレイを一方向に搬送する磁気搬送部と、
を備える
ことを特徴とする請求項2に記載の基板搬送装置。 The magnetic transport unit is
A magnetic levitation unit provided in a region of the transport base and magnetically levitating the tray;
A magnetic transport unit that is provided below the magnetic levitation unit and conveys the magnetically levitated tray in one direction using a magnetic force;
The substrate transfer apparatus according to claim 2, further comprising:
前記搬送基台に接触され、少なくとも一つのマグネットを有する第1磁気浮上手段と、
前記第1磁気浮上手段から離隔され、少なくとも一つのマグネットを有して前記第1磁気浮上手段と引力及び斥力の少なくともいずれか一方が働く第2磁気浮上手段と、
を備える
ことを特徴とする請求項3に記載の基板搬送装置。 The magnetic levitation is
First magnetic levitation means in contact with the transport base and having at least one magnet;
A second magnetic levitation means spaced from the first magnetic levitation means and having at least one magnet and acting on at least one of attraction and repulsion with the first magnetic levitation means;
The substrate transfer apparatus according to claim 3, further comprising:
回転軸と、前記回転軸を取り囲むように設けられた複数のマグネットとを有する磁気回転手段と、
前記磁気回転手段から離隔され、複数のマグネットを有する磁気搬送手段と、
を備える
ことを特徴とする請求項4に記載の基板搬送装置。 The magnetic transport unit is
Magnetic rotating means having a rotating shaft and a plurality of magnets provided so as to surround the rotating shaft;
A magnetic conveying means spaced apart from the magnetic rotating means and having a plurality of magnets;
The board | substrate conveyance apparatus of Claim 4 characterized by the above-mentioned.
ことを特徴とする請求項5に記載の基板搬送装置。 6. The substrate transfer apparatus according to claim 5, further comprising: a receiving unit that stores the magnetic rotating unit inside, and a second magnetic levitation unit that contacts the upper side.
ことを特徴とする請求項6に記載の基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 6, wherein the plurality of magnets of the magnetic transfer means are provided in at least one area of the extended area of the transfer base facing the magnetic rotation means.
ことを特徴とする請求項7に記載の基板搬送装置。 The plurality of magnets of the magnetic rotation means are alternately provided with different polarities so as to surround the rotation shaft at a predetermined angle, and the plurality of magnets of the magnetic transport means are alternately provided with different polarities. The substrate transfer apparatus according to claim 7, wherein the substrate transfer device is provided at the same angle as the magnet of the magnetic rotating means.
前記トレイの上部に取り付けられる第1ガイドマグネットと、
前記第1ガイドマグネットから所定の間隔を隔ててチャンバーの上側壁に設けられた第2ガイドマグネットと、
を備え、
前記第1及び第2ガイドマグネットは、斥力及び引力の少なくともいずれか一方が働く
ことを特徴とする請求項3に記載の基板搬送装置。 The guide unit is
A first guide magnet attached to the top of the tray;
A second guide magnet provided on the upper side wall of the chamber at a predetermined interval from the first guide magnet;
With
The substrate transfer apparatus according to claim 3, wherein at least one of repulsive force and attractive force acts on the first and second guide magnets.
ことを特徴とする請求項9に記載の基板搬送装置。 The substrate transport apparatus according to claim 9, wherein the guide unit further includes a transport guide provided between the tray and an inner wall of the chamber.
ことを特徴とする請求項10に記載の基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 10, wherein the transfer guide is provided between the extension region and an inner wall of the chamber.
ことを特徴とする請求項11に記載の基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 11, further comprising a spacer member provided in at least one region between the magnetic transfer unit and the guide unit.
ことを特徴とする請求項12に記載の基板搬送装置。 The substrate transport according to claim 12, wherein the spacer member is provided in at least one region between the extension region and the magnetic levitation unit and between the extension region and the transport guide. apparatus.
ことを特徴とする請求項11に記載の基板搬送装置。 The substrate transfer apparatus according to claim 11, wherein at least a part of the transfer guide moves in a direction approaching the tray and a direction moving away from the tray.
ことを特徴とする請求項14に記載の基板搬送装置。 15. The conveyance guide provided in the traverse chamber is located at a first position close to the tray when the tray is conveyed, and is located at a second position far from the tray when the tray is returned. The board | substrate conveyance apparatus of description.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2014-0167325 | 2014-11-27 | ||
KR1020140167325 | 2014-11-27 | ||
KR1020150131585A KR20160063969A (en) | 2014-11-27 | 2015-09-17 | Apparatus for transferring substrate |
KR10-2015-0131585 | 2015-09-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016103633A true JP2016103633A (en) | 2016-06-02 |
JP6092349B2 JP6092349B2 (en) | 2017-03-08 |
Family
ID=56074713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015222115A Active JP6092349B2 (en) | 2014-11-27 | 2015-11-12 | Substrate transfer device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6092349B2 (en) |
WO (1) | WO2016085277A1 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017204110A1 (en) | 2016-05-24 | 2017-11-30 | 住友重機械工業株式会社 | Injection molding machine |
JP2020087977A (en) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社アルバック | Magnetic levitation transfer device |
JP2021082683A (en) * | 2019-11-18 | 2021-05-27 | 株式会社アルバック | Transport device and vacuum processing device |
WO2021104622A1 (en) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, processing system, and method of transporting a carrier |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107437522B (en) * | 2017-07-24 | 2019-11-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Transmission device, substrate ion implantation system and method |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01203106A (en) * | 1988-02-04 | 1989-08-15 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Rising/lowering device |
JPH02152820A (en) * | 1988-12-01 | 1990-06-12 | Tel Sagami Ltd | Magnetic carrying device |
JP2002329761A (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Tokyo Electron Ltd | Transfer apparatus, cleaning apparatus and development apparatus |
JP2003168716A (en) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Dia Shinku Kk | Component transport and component storage device using it |
JP2005289556A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Anelva Corp | Substrate carrying device |
JP2011047515A (en) * | 2009-07-28 | 2011-03-10 | Canon Anelva Corp | Driving device and vacuum processing apparatus |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100707390B1 (en) * | 2005-12-19 | 2007-04-13 | 주식회사 아바코 | Apparatus for carring glass |
KR20080046761A (en) * | 2006-11-23 | 2008-05-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus for transferring substrate and apparatus for manufacturing thin film having the same |
KR101409524B1 (en) * | 2007-05-28 | 2014-06-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus for transferring substrates |
KR100880877B1 (en) * | 2007-11-02 | 2009-01-30 | 한국기계연구원 | Maglev-type substrate transfer apparatus |
KR101271112B1 (en) * | 2011-02-01 | 2013-06-04 | (주)이루자 | Vaccum processing apparatus |
-
2015
- 2015-11-12 JP JP2015222115A patent/JP6092349B2/en active Active
- 2015-11-26 WO PCT/KR2015/012799 patent/WO2016085277A1/en active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01203106A (en) * | 1988-02-04 | 1989-08-15 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Rising/lowering device |
JPH02152820A (en) * | 1988-12-01 | 1990-06-12 | Tel Sagami Ltd | Magnetic carrying device |
JP2002329761A (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Tokyo Electron Ltd | Transfer apparatus, cleaning apparatus and development apparatus |
JP2003168716A (en) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Dia Shinku Kk | Component transport and component storage device using it |
JP2005289556A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Anelva Corp | Substrate carrying device |
JP2011047515A (en) * | 2009-07-28 | 2011-03-10 | Canon Anelva Corp | Driving device and vacuum processing apparatus |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017204110A1 (en) | 2016-05-24 | 2017-11-30 | 住友重機械工業株式会社 | Injection molding machine |
JP2020087977A (en) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社アルバック | Magnetic levitation transfer device |
JP7346020B2 (en) | 2018-11-15 | 2023-09-19 | 株式会社アルバック | Magnetic levitation transport device |
JP2021082683A (en) * | 2019-11-18 | 2021-05-27 | 株式会社アルバック | Transport device and vacuum processing device |
JP7326125B2 (en) | 2019-11-18 | 2023-08-15 | 株式会社アルバック | Transfer device and vacuum processing device |
WO2021104622A1 (en) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | Applied Materials, Inc. | Magnetic levitation system, processing system, and method of transporting a carrier |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016085277A1 (en) | 2016-06-02 |
JP6092349B2 (en) | 2017-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101848849B1 (en) | Apparatus for transferring substrate | |
JP6092349B2 (en) | Substrate transfer device | |
KR20160063969A (en) | Apparatus for transferring substrate | |
KR101854034B1 (en) | Contactless driving module and transfer apparatus having the same | |
KR101386685B1 (en) | Apparatus for processing substrate | |
KR100880877B1 (en) | Maglev-type substrate transfer apparatus | |
TW201727812A (en) | Apparatus for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber, system for vacuum processing of a substrate, and method for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber | |
TWI476139B (en) | Apparatus for transferring substrates | |
KR20080104479A (en) | Apparatus for transferring substrates | |
KR101271112B1 (en) | Vaccum processing apparatus | |
KR20080104695A (en) | Apparatus for transferring substrates | |
KR20210062655A (en) | Magnetic levitation system, base of magnetic levitation system, vacuum system, and method of non-contact holding and moving carrier in vacuum chamber | |
JP2007214539A (en) | Substrate transporting device | |
CN107062828B (en) | Vacuum drying device | |
JP2013021036A (en) | Transport device | |
KR101318173B1 (en) | Apparatus for transferring substrates | |
JP6719567B2 (en) | Apparatus for transporting a carrier, system for vacuuming a substrate, and method for transporting a carrier in a vacuum chamber | |
KR101708710B1 (en) | Apparatus for transferring substrate | |
JP2012158467A (en) | Air-floating carrying device and system which are driven by linear motor | |
KR20120004134A (en) | Non-contact transfer system using magnet in different region | |
JP4505002B2 (en) | Transport device | |
KR101767667B1 (en) | Apparatus for transferring substrate and the method for transferring substrate using it | |
JP2020087977A (en) | Magnetic levitation transfer device | |
KR102001970B1 (en) | Apparatus for transferring substrate by a non-contact | |
KR20220145606A (en) | A transfer device using magnetic gear |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161018 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170131 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6092349 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |