JP2016087568A - 気液分離器、及び、研磨処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
この気液分離器によれば、親水部との接触によって本体内部に生じる泡およびミストを消失させることができ、気相排出部に液相が到達するのを抑制することができる。
親水部は、網状部に親水化処理が施されて形成されてもよい。また、気液2相流を案内する案内部を有し、親水部は、案内部に親水化処理が施されて形成されてもよい。また、気液2相流を導入するために導入口に接続される導入部を更に備え、親水部は、導入部の内面に親水化処理が施されて形成されてもよい。また、親水部は、水に対する接触角が10度以下であることが好ましい。
この気液分離器によれば、第1の観点に係る気液分離器と同様の効果を奏することができる。
この基板処理装置によれば、第1または第2の観点に係る気液分離器と同様の効果を奏することができる。
部)125を備える。DIWライン125は、液体(例えば純水)と気体(例えば窒素ガス)の混合流体または液体(例えば純水)を霧状にして研磨面(研磨パッド108の上面)に噴射する。
被膜処理としては、パーヒドロポリシラザン(PHPS)系コーティング剤のスプレーコーティングを行って乾燥させることで、処理部に親水性皮膜が形成される。PHPS系コーティング剤としては、例えばNAX120−20(AZ Electronic Materials社製)が好適に使用される。パーヒドロポリシラザン(PHPS)系コーティング剤は、大気中の水分と反応してSiO2への転化が進むので、吹き付けガスとして、窒素ガス等の不活性ガスが好適に使用される。またこのコーティング液は、過度に濃いと塗布むらを生じやすいので、適当な溶剤で希釈して(例えば1:1の比率で)使用することが好ましい。親水性皮膜の膜厚は、スプレーコーティング回数などを調整することによって調整することができる。
気液2相流を案内する案内板1230が設けられ、この案内板1230が親水処理を施されて親水部1240を形成する。案内板1230は、本体210の内壁面または遮蔽板220に一端が接続され、この一端から下方に傾斜するように本体210内部に延在する。この変形例では、案内板1230は4つ設けられている。なお、案内板1230は、この例に限定されず、例えば本体210の底面と略水平となるように設けられてもよい。また、案内板1230は、気液2相流に旋回運動を起こさせるように構成されてもよく、例えばらせん状に構成されてもよい。また、案内板1230は、4つを設けるものに限らず、1〜3つ、又は5つ以上を設けてもよい。
37 ドレンレシーバ
38 ダクト
100 研磨ユニット
102 基板
108 研磨パッド
110 研磨テーブル
112 第1の電動モータ
116 トップリング
118 トップリングユニット
120 スラリーライン
122 ドレッサーディスク
124 ドレッサーユニット
125 DIWライン
200、1200、2200、3200 気液分離器
210 本体
211 導入口
214 液相排出口
218 気相排出口
220、2220 遮蔽板
230 網状部
240、1240、2240 親水部
312、3312 導入配管
38、3038 ダクト
Claims (8)
- 気液2相流を気相と液相に分離するための気液分離器であって、
気液2相流を導入するための導入口と、
分離した液相を排出するための液相排出口と、
分離した気相を排出するための気相排出口と、
気液2相流が接触する親水化処理が施された親水部と、
を備える気液分離器。 - 請求項1に記載の気液分離器であって、
前記親水部は、気液2相流の流路を画定する本体の内面に親水化処理が施されて形成される、
気液分離器。 - 請求項1又は2に記載の気液分離器であって、
前記気液2相流が通過するための複数の孔が形成された網状部を有し、
前記親水部は、前記網状部に親水化処理が施されて形成される、
気液分離器。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の気液分離器であって、
気液2相流を案内する案内部を有し、
前記親水部は、前記案内部に親水化処理が施されて形成される、
気液分離器。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の気液分離器であって、
気液2相流を導入するために前記導入口に接続される導入部を更に備え、
前記親水部は、前記導入部の内面に親水化処理が施されて形成される、
気液分離装置。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の気液分離器であって、
前記親水部は、水に対する接触角が10度以下である、
気液分離器。 - 気液2相流を気相と液相に分離するための気液分離器であって、
気液2相流が内部に導入される本体を備え、
前記本体内部の気液2相流が接触する部位の少なくとも一部は、当該本体の外面よりも親水性が高い、
気液分離器。 - 基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられた研磨テーブルと、
前記研磨テーブルを回転駆動する駆動部と、
前記研磨テーブルから流出する気液2相流を回収する回収部と、
前記回収部から搬送される気液2相流を気相と液相に分離する、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の気液分離器と、
を備える基板処理装置。
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2014
- 2014-11-07 JP JP2014226959A patent/JP2016087568A/ja active Pending
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