JP2016071356A - フッ素化構造化有機膜感光体層 - Google Patents

Abstract

【課題】寿命延長性能に影響をしないフッ素化構造化有機膜の電気的性能を改善するオーバーコート技術を提供する。
【解決手段】オーバーコート組成物は、画像化構造、電荷輸送分子を含むオーバーコート組成物、フッ素化構成要素、平滑剤、液体担体および場合によって第１の触媒の上に堆積される。フッ素化構成要素は、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボニルもしくはアルデヒド官能基またはこれらの官能基のいずれかの無水物でαおよびω位で置換されたフッ素化アルキルモノマーである。オーバーコート組成物は硬化されて、フッ素化構造化有機膜であるオーバーコート層を形成し、硬化は、少なくとも１つの架橋プロセスでオーバーコート組成物の外側表面を処理するステップを含む。架橋プロセスは、オーバーコート層中に架橋勾配を形成する。オーバーコート組成物が第１の触媒を含む場合、オーバーコート層を完全に架橋するには不十分な量の第１の触媒を有する。
【選択図】なし

Description

ゼログラフィー、電子写真式画像化または静電複写式画像化としても知られる電子写真において、伝導性層上に光伝導性絶縁層を含有する電子写真式プレート、ドラム、ベルトなど（画像化部材または感光体）の表面は、最初、一様に静電的に帯電される。次いで、画像化部材は、光などの活性化する電磁放射のパターンに曝露される。この照射は、光伝導性絶縁層の放射領域の電荷を選択的に放散させるとともに、非照射領域に静電潜像を残す。次いで、この静電潜像は、微細分割された検電標識粒子を光伝導性絶縁層の表面に堆積することにより、現像されて可視画像を形成することができる。次いで、結果として得られた可視画像を画像化部材から（例えば転写部材または他の部材によって）直接または間接に透明シートまたは紙などの印刷基板に転写されてもよい。画像化プロセスは、再使用可能な画像化部材を用いて多数回繰り返されてもよい。

優れたトナー像は多層ベルトまたはドラム感光体を用いて得ることができるが、より先進的でより高速の電子写真式複写機、複製機および印刷機が開発されるにつれ、印刷品質に対する要求が高まっていることが分かる。画像の帯電とバイアス電位の微妙な釣合、ならびにトナーおよび／または現像剤の特性が維持されなければならない。このことが、感光体製造の品質、ひいては製造歩留りに付加的な制約をもたらす。

画像化部材は、一般に、曝露された帯電輸送層またはその代替の最上層を機械的摩耗、化学的攻撃および熱にさらす電子写真サイクルに繰り返し曝露される。この繰り返しのサイクルは、曝露された電荷輸送層の機械的および電気特性の劣化を徐々にもたらす。長期使用の間の物理的および機械的な損傷、特に、表面引掻欠陥の形成は、ベルト感光体の故障に対する主な原因の一つである。したがって、感光体の機械的な頑丈さを改善すること、特にその引掻耐性を上げ、それによって耐用年数を延長することが望ましい。さらに、画像ゴースト、背景陰影などが印刷物で極小化されるように、光衝撃に対する耐性を上げることが望ましい。

保護オーバーコート層の設置は、感光体の耐用年数を延長する従来の手段である。従来では、例えば、抗引掻および抗亀裂の高分子オーバーコート層が、感光体の寿命の延長のための頑丈なオーバーコート設計として利用されている。しかし、従来のオーバーコート層調合物は、印刷物においてゴーストおよび背景陰影を示す。光衝撃耐性の改善は、より安定な画像化部材を与え、結果として改善された印刷品質をもたらす。

画像化部材の形成のために採用されている様々な手法にもかかわらず、改善された画像化部材の設計に対する必要性、改善された画像化性能およびより長い使用寿命をもたらし、人的および環境衛生リスクなどを低減する必要性がまだ存在する。

特に、保護オーバーコート層によってゼログラフィーの感光体の寿命を延ばすことへの強い競争圧力がある。感光体およびＣＲＵの機能的寿命を延ばすためにあらゆる努力をして、オーバーコート層が表面摩耗率を低下させ、引掻耐性を改善し、トルクを低下させ、そうしてＣＲＵ部品の故障を阻止することが望ましい。保護オーバーコート層を用いる欠点は、電気的性能、ゴースト、光衝撃および浄化ブレード相互作用へのほとんど生来の負の影響を含む。

非常に独特で成功した１つの手法は、オーバーコートとしてのフッ素化構造化有機膜（ＦＳＯＦ）の使用である。このオーバーコート設計は、低い摩耗率と低い表面エネルギーの組み合わせによってＣＲＵ寿命を劇的に延ばすと判明した低表面エネルギーのＳＯＦである。

ＦＳＯＦ層を形成する従来のプロセスは、一般に触媒と共に溶媒中で分子構成要素を溶解して液体塗工調合物を作るステップを含む。液体調合物は、続いて基板に塗布され含湿層を作る。含湿層は、加熱されて完全に一様に分子構成要素を反応させ層を乾燥してそのバルク全体にわたって完全に架橋したＦＳＯＦを作る。公知のＦＳＯＦ層組成物は、米国特許第８，２４７，１４２号明細書、および米国特許第８，３７２，５６６号明細書に記載されている。

しかしながら、電気的性能への望ましくない負の影響がなお存在し、したがって、この技術が提示する寿命延長性能に影響を与えることなく、ＦＳＯＦ膜の電気的性能を改善する必要性がある。

本開示の実施形態はオーバーコート層を形成する方法を対象とする。本方法は、基板上に形成された画像化構造を有する前記基板を準備するステップを含み、前記画像化構造は、（ｉ）電荷輸送層および電荷発生層、または（ｉｉ）電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含む画像化層を含む。オーバーコート組成物は、画像化構造、電荷輸送分子を含むオーバーコート組成物、フッ素化構成要素、平滑剤、液体担体および場合によって第１の触媒の上に堆積される。フッ素化構成要素は、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボニルもしくはアルデヒド官能基またはこれらの官能基のいずれかの無水物でαおよびω位で置換されたフッ素化アルキルモノマーである。オーバーコート組成物は硬化されて、フッ素化構造化有機膜であるオーバーコート層を形成し、硬化は、少なくとも１つの架橋プロセスでオーバーコート組成物の外側表面を処理するステップを含む。架橋プロセスは、オーバーコート層中に架橋勾配を形成する。オーバーコート組成物が第１の触媒を含む場合、オーバーコート層を完全に架橋するには不十分な量の第１の触媒を有する。

本開示の別の実施形態は感光体を対象とする。感光体は電気伝導材料を含む基板を含む。画像化構造は基板上に形成され、画像化構造は、（ｉ）電荷輸送層および電荷発生層、または（ｉｉ）電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含む画像化層を含む。オーバーコート層は画像化構造上に配置される。オーバーコート層は、架橋勾配を有するフッ素化構造化有機膜を含み、ここで、架橋度は、画像化構造から遠位にある、オーバーコート層の部分で最も大きい。

以下の記載が進むにつれて、また例証となる実施形態を表す以下の図を参照すれば、本開示の他の態様は明らかになるであろう。

図１Ａは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｂは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｃは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｄは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｅは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｆは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｇは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｈは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｉは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｊは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｋは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｌは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｍは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｎは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図１Ｏは、対称的要素が略述されている例示の構成要素の例証である。 図２は、本開示のＳＯＦを組み込んだ例示の感光体の単純化された側面図を表す。 図３は、本開示のＳＯＦを組み込んだ第２の例示の感光体の単純化された側面図を表す。 図４は、本開示のＳＯＦを組み込んだ第３の例示の感光体の単純化された側面図を表す。 図５は、本開示の実施形態による、オーバーコート層を製造するプロセスについての流れ図を示す。 図６は、本開示の実施形態による、オーバーコート層を製造する例示化合物の形態を示す。 図７は、酸触媒を用いないＴＭＥ−ＴＢＤフッ素化構造化有機膜（「ＦＳＯＦ」）対酸触媒を用いて形成された従来のＦＳＯＦ膜のユニバーサルドラムスキャナ（「ＵＤＳ」）での電気的評価を示す。 図８は、本開示の実施形態による、オーバーコート層についての例示の架橋プロファイルを示す。

他に述べなければ、異なる図の同一の参照番号は同一または同様の特色を指す。

「構造化有機膜」（ＳＯＦ）は、巨視的レベルで膜であるＣＯＦを指す。本開示の画像化部材は、ＳＯＦへ付加されるキャップ形成単位または基を場合によって有してもよい複合ＳＯＦを含んでもよい。

本明細書および以下の請求項において、「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」などの単数形は、その内容が明確に他に指示しない限り、複数形を含む。

用語「ＳＯＦ」または「ＳＯＦ組成物」は、一般に、巨視的レベルで膜である、有機共有結合骨格（ＣＯＦ）を指す。しかし、本開示において使用される場合、用語「ＳＯＦ」は、グラファイト、グラフェンおよび／またはダイヤモンドを包含しない。語句「巨視的レベル」は、例えば、本ＳＯＦの肉眼的見方を指す。ＣＯＦは「微視的レベル」または「分子レベル」（強力な拡大設備の使用を必要とする、または、散乱法を使用して評価されるような）、で網目であるが、膜が、例えば微視的レベルのＣＯＦ網目より範囲が大きな桁であるので、本ＳＯＦは「巨視的レベル」で根本的に異なる。本明細書に記載される実施形態において使用されてもよい、本明細書に記載されるＳＯＦは、耐溶媒性であり、先に合成された典型的なＣＯＦと非常に異なる巨視的モルフォロジを有する。

用語「フッ素化ＳＯＦ」は、例えば、１つまたは複数のセグメント型またはリンカー型のＳＯＦに共有結合で結合したフッ素原子を含むＳＯＦを指す。本開示のフッ素化ＳＯＦは、ＳＯＦの骨格に共有結合で結合していないフッ素化分子をさらに含んでもよいが、フッ素化ＳＯＦ組成物中にランダムに分布する（すなわち複合フッ素化ＳＯＦ）。しかし、１つまたは複数のセグメント型またはリンカー型のＳＯＦに共有結合で結合したフッ素原子を含まず、単にＳＯＦの１つまたは複数のセグメントまたはリンカーに共有結合で結合していないフッ素化分子を含むＳＯＦは、複合ＳＯＦであり、フッ素化ＳＯＦではない。

本開示のＳＯＦ組成物中のフッ素含有率の設計および調整は単刀直入であり、カスタム高分子の合成を必要とせず、ブレンド／分散処置も必要としない。さらに、本開示のＳＯＦ組成物は、フッ素含有率が一様に分散し、分子レベルでパターン化されたＳＯＦ組成物であってもよい。本開示のＳＯＦ中のフッ素含有率は、ＳＯＦ合成のために使用される分子構成要素を変化させることにより、または用いられるフッ素構成要素の量を変化させることにより調節されてもよい。

実施形態において、フッ素化ＳＯＦは、分子構成要素セグメントの少なくとも１つがフッ素原子を含む、１つまたは複数の適切な分子構成要素の反応によって製造されてもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体は、フッ素化構成要素の反応から得られても得られなくてもよい、正孔輸送特性を有する第１のセグメントが、フッ素含有分子構成要素の反応から得られた第２のセグメントなどの、フッ素化されている第２のセグメントに連結されていてもよい、フッ素化ＳＯＦを含む最外層を含む。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体中に含まれるフッ素化ＳＯＦのフッ素含有率は、ＳＯＦの全体にわたって均質に分布してもよい。本開示の画像化部材および／または感光体中に含まれるＳＯＦのフッ素含有率の均質な分布は、ＳＯＦ形成プロセスによって制御されてもよく、したがって、フッ素含有率もまた分子レベルでパターン化されてもよい。

実施形態において、画像化部材および／または感光体の最外層は、セグメントの微視的配列がパターン化されたＳＯＦを含む。用語「パターン化」は、例えば、セグメントが一緒に連結された配列を指す。したがって、パターン化されたフッ素化ＳＯＦは、例えば、セグメントＡ（正孔輸送分子機能を有する）がセグメントＢ（フッ素化セグメントである）のみに接続され、反対に、セグメントＢはセグメントＡのみに接続された組成物として具現する。

実施形態において、画像化部材および／または感光体の最外層は、ただ１つのセグメントを有するＳＯＦを含み、例えばセグメントＡ（例えば正孔輸送分子機能を有しかつフッ素化されている）が用いられ、ＡがＡのみと反応するように意図されるのでパターン化される。

原則として、パターン化ＳＯＦは任意の数のセグメント型を使用して達成されてもよい。セグメントのパターン化は、その官能基反応性が相手の分子構成要素を補足するように意図され、分子構成要素のそれ自体と反応する可能性が極小化された分子構成要素の使用により制御されてもよい。セグメントパターン化への前述の戦略は非限定的である。

実施形態において、画像化部材および／または感光体の最外層は、異なる程度のパターン化を有するパターン化されたフッ素化ＳＯＦを含む。例えば、パターン化されたフッ素化ＳＯＦは、構成要素官能基からの分光学的信号の完全な欠如によって検出されてもよい完全なパターン化を示してもよい。他の実施形態において、パターン化されたフッ素化ＳＯＦは、パターン化のドメインがＳＯＦ内に存在するパターン化の程度が低い。

非常に低い程度のパターン化が、構成要素間の非効率的な反応および膜を形成する無能力と関係していることは理解される。したがって、本開示のプロセス実施の成功には、ＳＯＦ内の構成要素間のかなりのパターン化を必要とする。画像化部材および／または感光体の外側層に適するパターン化されたフッ素化ＳＯＦを形成するのに必要なパターン化の程度は、選ばれる構成要素および所望の連結基に依存し得る。画像化部材および／または感光体の外側層に適するパターン化されたフッ素化ＳＯＦを形成するのに必要とするパターン化の最小限の程度は、約４０％以上の意図する連結基または約５０％以上の意図する連結基の形成として定量されてもよく；本開示によって具現されるパターン化の公称の程度は、約９５％以上の意図する連結基、または約１００％の意図する連結基の形成などの、約８０％以上の意図する連結基の形成である。連結基の形成は分光学的に検出されてもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦのフッ素含有率は、様々なパターンを含む不均質な方式でＳＯＦの全体にわたって分布してもよく、例えば所与の幅のフッ素の高濃度と低濃度の交互バンドのパターンを形成するように、フッ素含有率の濃度または密度は特定の領域で低下している。そのようなパターン化は、同一の一般的な親分子の構成要素構造を共有するが、構成要素のフッ素化の程度（すなわちフッ素と置き換えた水素原子の数）が異なる分子の構成要素の混合物の利用により遂行されてもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるＳＯＦは、含湿層の乾燥ＳＯＦへの変化の促進後に結果として得られたＳＯＦにおいて線形または非線形の濃度勾配が得られるように、例えば、高フッ素化分子またはペルフルオロ分子構成要素の、形成された含湿層の最上部への適用によってフッ素含有率の不均質な分布を有してもよく、その結果、ＳＯＦの所与の側に高フッ素化セグメントまたは全フッ素化セグメントのより高い部分をもたらし、それによって、ＳＯＦの厚さ内に不均質な分布の高フッ素化または全フッ素化セグメントを形成することができる。そのような実施形態において、高フッ素化セグメントまたは全フッ素化セグメントの大半は乾燥ＳＯＦの上側半分（基板の裏側である）で終了してもよく、または、高フッ素化セグメントまたは全フッ素化セグメントの大半は、乾燥ＳＯＦの下側半分（基板に隣接する）で終了してもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるＳＯＦは、堆積した含湿層の上面に付加されてもよいフッ素化されていない分子の構成要素（正孔輸送分子機能があってもなくてもよい）を含んでもよく、含湿膜中の変化の促進で乾燥ＳＯＦ中にフッ素化されていないセグメントの不均質分布を有するＳＯＦをもたらす。そのような実施形態において、フッ素化されていないセグメントの大半は、乾燥ＳＯＦの上側半分（基板の裏側である）で終了してもよく、または、フッ素化されていないセグメントの大半は乾燥ＳＯＦの下側半分（基板に隣接する）で終了してもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるＳＯＦ中のフッ素含有率は、フッ素化構成要素または所与の分子構成要素のフッ素化の程度を変化させることによって容易に変えることができる。例えば、本開示のフッ素化ＳＯＦ組成物は疎水性であってもよく、また、特定のセグメントおよび／または第２の成分の選択によって電荷輸送特性を増強するために仕立てられてもよい。

実施形態において、フッ素化ＳＯＦは、１つまたは複数の分子構成要素の反応によって製造されてもよく、ここで少なくとも１つの分子構成要素はフッ素を含有し、分子構成要素の少なくとも１つは電荷輸送分子機能を有する（または反応時に正孔輸送分子機能を有するセグメントをもたらす）。例えば、同一または異なるフッ素含有率および正孔輸送分子機能を有する少なくとも１つまたは２以上の分子構成要素の反応が、フッ素化ＳＯＦを製造するために企てられてもよい。特定の実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層として使用されてもよい、反応混合物中の分子構成要素はすべて、フッ素を含んでもよい。実施形態において、塩素などの異なるハロゲンが、場合によって分子構成要素中に含まれてもよい。

フッ素化分子構成要素は、１つまたは複数の炭素またはケイ素原子のコアを含有する構成要素；アルコキシコア含有構成要素；窒素またはリン原子コア含有構成要素；アリールコア含有構成要素；カルボナートコア含有構成要素；炭素環式、炭素二環式または炭素三環式コア含有構成要素；およびオリゴチオフェンコア含有構成要素に由来してもよい。そのようなフッ素化分子構成要素は、１つまたは複数の水素原子をフッ素原子と置き換えるか交換することにより由来してもよい。実施形態において、１つまたは複数の上記分子構成要素は、すべての炭素結合水素原子がフッ素によって置き換えられてもよい。実施形態において、１つまたは複数の上記分子構成要素は、１つまたは複数の水素原子が、塩素などの異なるハロゲンによって置き換えられてもよい。フッ素に加えて、本開示のＳＯＦは、塩素などの他のハロゲンを含んでもよい。

実施形態において、１つまたは複数のフッ素化分子の構成要素はそれぞれ、ＳＯＦの１００重量部に対して約５〜約１００重量％、例えば少なくとも約５０重量％、または少なくとも約７５重量％のパーセンテージで本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦ中に別々にまたは全体に存在してもよい。

実施形態において、フッ素化ＳＯＦは、Ｈ原子の約２０％超がフッ素原子と置き換えられ、例えば、Ｈ原子の約５０％超、約７５％超、約８０％超、約９０％超、約９５％超または約１００％がフッ素原子と置き換えられていてもよい。

実施形態において、フッ素化ＳＯＦは、Ｃ結合Ｈ原子の約２０％超、約５０％超、約７５％超、約８０％超、約９０％超、約９５％超または約１００％がフッ素原子と置き換えられていてもよい。

実施形態において、相当の水素含有率もまた、本開示のＳＯＦ中に、例えば炭素結合水素として存在してもよい。実施形態において、Ｃ結合水素およびＣ結合フッ素原子の合計に関して、水素原子のパーセンテージは、何らかの所望量に仕立ててもよい。例えば、Ｃ結合水素とＣ結合フッ素との比は約１０未満であってもよく、例えばＣ結合水素とＣ結合フッ素との比は約５未満、またはＣ結合水素とＣ結合フッ素との比は約１未満、またはＣ結合水素とＣ結合フッ素との比は約０．１未満、またはＣ結合水素とＣ結合フッ素との比は約０．０１未満であってもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦのフッ素含有率は、約５重量％から約７５重量％、例えば約５重量％から約６５重量％、または約１０重量％から約５０重量％であってもよい。実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦのフッ素含有率は、約５重量％以上、例えば約１０重量％以上、または約１５重量％以上であり、フッ素含有率の上限は、約７５重量％または約６０重量％である。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層は、ＳＯＦ中のセグメントの任意の所望量がフッ素化されていてもよい前記ＳＯＦを含んでもよい。例えば、フッ素含有セグメントのパーセントは、約１０重量％を超え、例えば約３０重量％を超え、または５０重量％を超え；フッ素含有セグメントの上限パーセントは、１００重量％、例えば約９０重量％未満、または約７０重量％未満であってもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層は、最外層のＳＯＦ中にＳＯＦの約８０重量％を超える、例えばＳＯＦの約８５から約９９．５重量パーセント、またはＳＯＦの約９０から約９９．５重量パーセントの量の第１のフッ素化セグメントおよび第２の電気活性セグメントを含んでもよい。

実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦは、「溶媒耐性」ＳＯＦ、パターン化ＳＯＦ、キャップされたＳＯＦ、複合ＳＯＦおよび／または周期的ＳＯＦであってもよく、これらは、特に別記しない限り、総体として、以降、通常は「ＳＯＦ」と呼ばれる。

用語「溶媒耐性」とは、ＳＯＦが組み込まれた層の溶媒／応力亀裂または分解に対する感受性を増大させる、（１）ＳＯＦおよび／もしくはＳＯＦ組成物（例えば複合ＳＯＦ）にかつて共有結合していた原子および／または分子の浸出、ならびに／または（２）かつてＳＯＦおよび／もしくはＳＯＦ組成物（例えば複合ＳＯＦ）の一部であった分子の相分離の実質的欠如を指す。用語「実質的欠如」とは、例えば、画像化部材を含むＳＯＦ（またはＳＯＦ画像化部材層）を溶媒（例えば、水性流体または有機流体のいずれか）に連続的に約２４時間以上（約４８時間または約７２時間など）の期間曝露または浸した後の浸出されているＳＯＦの原子および／または分子の約０．５％未満、例えば、溶媒に約２４時間以上（約４８時間または約７２時間など）の期間ＳＯＦを曝露または浸した後の浸出されているＳＯＦの原子および／または分子の約０．１％未満、または溶媒に約２４時間以上（約４８時間または約７２時間など）の期間ＳＯＦを曝露または浸した後の浸出されているＳＯＦの原子および／または分子の約０．０１％未満を指す。

用語「有機流体」は、例えば、アルケン、例えば、直鎖または分岐鎖脂肪族炭化水素が約４から約２０の炭素などの約１から約３０の炭素原子を有する、前記直鎖脂肪族炭化水素、分岐鎖脂肪族炭化水素など；芳香族、例えば、トルエン、キシレン（ｏ−、ｍ−、ｐ−キシレンなど）などおよび／またはその混合物；ｉｓｏｐａｒ溶媒またはイソパラフィン系炭化水素、例えばＩＳＯＰＡＲ（商標）系列、例えばＩＳＯＰＡＲ Ｅ、ＩＳＯＰＡＲ Ｇ、ＩＳＯＰＡＲ Ｈ、ＩＳＯＰＡＲ ＬおよびＩＳＯＰＡＲ Ｍ（エクソン社によって製造され、これらの炭化水素液体はイソパラフィン系炭化水素留分の狭い部分と考えられる。）の無極性液体、エクソン社から入手可能なｎ−パラフィンの組成物であるＮＯＲＰＡＲ（商標）系列の液体、フィリップス・ペトローリアム社から入手可能なＳＯＬＴＲＯＬ（商標）系列の液体、およびシェルオイル社から入手可能なシェルゾール（商標）系列の液体、または約１０から約１８の炭素原子を有するイソパラフィン系炭化水素溶媒もしくはその混合物などを含んでもよい有機液体または溶媒を指す。実施形態において、有機流体は、所望の場合、１種または複数の溶媒の混合物、すなわち、溶媒系であってもよい。さらに、所望の場合、より極性の溶媒も使用されてもよい。使用されてもよいより極性溶媒の例は、ハロゲン化および非ハロゲン化溶媒、例えばテトラヒドロフラン、トリクロロエタンおよびテトラクロロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、アセトン、メタノール、エタノール、ベンゼン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルアセトアミドなどを含む。溶媒は、１、２、３種以上の異なる溶媒および／または上述の溶媒の他の様々な混合物で構成されていてもよい。

キャップ形成単位がＳＯＦへ導入されるとき、キャップ形成単位が存在するＳＯＦ骨格は局所的に「割り込まれる」。これらのＳＯＦ組成物は、キャップ形成単位が存在するとき異種分子がＳＯＦ骨格に結合されるので「共有結合でドープされている」。キャップされたＳＯＦ組成物は、構成体の構成要素を変化させずにＳＯＦの特性を変えることができる。例えば、ＳＯＦ骨格が割り込まれたキャップされたＳＯＦの機械的および物理的性質は、キャップされていないＳＯＦのそれと異なってもよい。実施形態において、キャップ形成単位はフッ素化されてもよく、その結果、フッ素化ＳＯＦとなる。

本開示のＳＯＦは、巨視的レベルで、より大きな長さ規模、例えば１ミリメートルよりはるかに大きな長さから１メートルなどの、理論上は何百メートルもの長さにわたって伸びることができる連続的な有機共有結合骨格を有する、実質的にピンホールのないＳＯＦ、またはピンホールのないＳＯＦであってもよい。また、ＳＯＦが、通常、ＳＯＦの２つの次元が第３の次元よりはるかに大きくなる場合に大きなアスペクト比を有する傾向があることは理解されよう。ＳＯＦは、ＣＯＦ粒子の集合体より著しく少数の巨視的な縁および切り離された外表面を有する。

実施形態において、「実質的にピンホールのないＳＯＦ」または「ピンホールのないＳＯＦ」は、下方の基板の表面に堆積された反応混合物から形成されてもよい。用語「実質的にピンホールのないＳＯＦ」は、例えば、それが形成された下方の基板から除去されてもされなくてもよく、平方ｃｍ当たり２つの隣接セグメントコア間の距離を超えるピンホール、孔または隙間が実質的にない；例えば、ｃｍ^２当たり約２５０ナノメートルを超える直径のピンホール、孔または隙間が１０個未満である、またはｃｍ^２当たり約１００ナノメートルを超える直径のピンホール、孔または隙間が５個未満であるＳＯＦを指す。用語「ピンホールのないＳＯＦ」は、例えば、それが形成された下方の基板から除去されてもされなくてもよく、ミクロン^２当たり２つの隣接セグメントコア間の距離を超えるピンホール、孔または隙間がない、例えば、ミクロン^２当たり約５００オングストロームを超える直径のピンホール、孔または隙間がない、またはミクロン^２当たり約２５０オングストロームを超える直径のピンホール、孔または隙間がない、またはミクロン^２当たり約１００オングストロームを超える直径のピンホール、孔または隙間がないＳＯＦを指す。

ＳＯＦ用の分子構成要素として役立ち得る、様々な例示の分子構成要素、リンカー、ＳＯＦ型、キャップ形成基、例示の化学構造を有する特定のＳＯＦ型を合成する戦略、対称要素が略述される構成要素、例示の分子物質の種類、および各種類の部材の例の記載は、それぞれ、「構造化有機膜」、「付加機能を有する構造化有機膜」、「構造化有機膜を調製する混合溶媒プロセス」、「複合構造化有機膜」、「構造化有機膜（ＳＯＦ）をプレＳＯＦを介して調製するプロセス」、「構造化有機膜を含む電子デバイス」、「周期的な構造化有機膜」、「キャップされた構造化有機膜組成物」、「キャップされた構造化有機膜組成物を含む画像化部材」、「構造化有機膜を含むインク系デジタル印刷のための画像化部材」、「構造化有機膜を含む画像化装置」および「構造化有機膜を含む画像化部材」と題する米国特許出願第１２／７１６，５２４号；第１２／７１６，４４９号；第１２／７１６，７０６号；第１２／７１６，３２４号；第１２／７１６，６８６号；第１２／７１６，５７１号；第１２／８１５，６８８号；第１２／８４５，０５３号；第１２／８４５，２３５号；第１２／８５４，９６２号；第１２／８５４，９５７号；および第１２／８４５，０５２号；ならびに２００９年３月４日に出願された「構造化有機膜」と題する米国特許仮出願第６１／１５７，４１１号明細書に詳述されている。

実施形態において、フッ素化分子構成要素は、上記の「親」のフッ素化されていない分子構成要素（例えば米国特許出願第１２／７１６，５２４号；第１２／７１６，４４９号；第１２／７１６，７０６号；第１２／７１６，３２４号；第１２／７１６，６８６号；第１２／７１６，５７１号；第１２／８１５，６８８号；第１２／８４５，０５３号；第１２／８４５，２３５号；第１２／８５４，９６２号；第１２／８５４，９５７号；および第１２／８４５，０５２号明細書に詳述されている分子構成要素）のいずれかのフッ素化から得ることができる。例えば、「親」のフッ素化されていない分子構成要素は、約１５０℃を超える高温で元素状フッ素によって、または他の公知のプロセスステップによってフッ素化されて、様々な程度のフッ素化を有するフッ素化分子構成要素の混合物を形成してよく、これは、場合によって、個々のフッ素化分子構成要素を得るために精製されてもよい。代替として、フッ素化分子構成要素は、合成されても、および／または、所望のフッ素化分子構成要素の単なる購入によって得られてもよい。「親」のフッ素化されていない分子構成要素のフッ素化分子構成要素への変換は、既知の反応条件の一組または範囲を利用する反応条件下で行われてもよく、公知の一段階反応または公知の多段階反応であってもよい。例示の反応は、付加および／または交換などの１つまたは複数の公知の反応機構を含んでもよい。

例えば、フッ素化分子構成要素への親のフッ素化されていない分子構成要素の変換は、フッ素化されていない分子構成要素を公知の脱ハロゲン化水素剤と接触させてフッ素化分子構成要素を生成するステップを含んでもよい。実施形態において、脱ハロゲン化水素ステップは、フッ素を含むフッ素化されていない分子構成要素において、少なくとも約５０％の炭素結合水素などのＨ原子をフッ素原子に置き換える、例えば約６０％を超える、約７５％を超える、約８０％を超える、約９０％を超える、または約９５％を超える炭素結合水素などのＨ原子をフッ素原子に置き換える、約１００％のＨ原子をフッ素原子に置き換える変換を提供するのに有効な条件下に実行されてもよい。実施形態において、脱ハロゲン化水素ステップは、フッ素を含むフッ素化されていない分子構成要素において、炭素結合水素などの水素の少なくとも約９９％を置き換える変換を提供するのに有効な条件下に実行されてもよい。そのような反応は、液相、気相または気相と液相を組み合わせて実行されてもよく、反応はバッチ式、連続式またはこれらの組み合わせで実行することができることが企図される。そのような反応は、活性炭などの触媒の存在下で実行されてもよい。例えばパラジウム系触媒、白金系触媒、ロジウム系触媒およびルテニウム系触媒を含む他の触媒が、単独でもしくは互いに組み合わせて、またはフッ素化される特定の分子構成要素の要件に依存して使用されてもよい。

本開示のＳＯＦは、セグメント（Ｓ）および官能基（Ｆｇ）を有する分子構成要素を含む。分子構成要素は、少なくとも２つの官能基（ｘ≧２）を必要とし、単一の型または２以上の型の官能基を含んでもよい。官能基は、ＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを一緒に連結する化学反応に関与する、分子構成要素の反応性化学部分である。セグメントは、官能基を支持し、官能基と関係していない原子をすべて含む分子構成要素の部分である。さらに、分子構成要素セグメントの組成は、ＳＯＦ形成後も変わらない。

分子構成要素の対称性は、分子構成要素セグメントの周辺近くの官能基（Ｆｇ）の位置に関係する。化学または数学理論に束縛されないが、対称な分子構成要素は、Ｆｇの位置が、ロッドの末端、または規則的な幾何学的図形の頂点、または歪んだロッドもしくは歪んだ幾何学的図形の頂点と関係するものである。例えば、４つのＦｇを含有する分子構成要素についての最も対称的な選択肢は、Ｆｇが正方形の角または四面体の頂と重なるものである。

対称的な構成要素の使用は、２つの理由により本開示の実施形態において実施される：（１）規則的な形状の連結は網目化学のよりよく理解されているプロセスであるので分子構成要素のパターン化はよりよく予想することができ、（２）それほど対称でない構成要素についてはＳＯＦ内に多数の連結欠陥を起こし得る逸脱した配座／配向が採用され得るので、分子構成要素間の完全な反応が容易になる。

図１Ａ−Ｏに、対称的要素を略述した例示の構成要素を図示する。そのような対称的要素は、本開示において使用されてもよい構成要素に見られる。そのような例示の構成要素は、フッ素化されても、フッ素化されなくてもよい。

本開示のＳＯＦ用の分子構成要素として役立ち得る、フッ素化されても、されなくてもよい様々な種類の例示の分子物質の非限定的な例は、炭素またはケイ素原子コア含有構成要素；アルコキシコア含有構成要素；窒素またはリン原子コア含有構成要素；アリールコア含有構成要素；カルボナートコア含有構成要素；炭素環式、炭素二環式または炭素三環式コア含有構成要素；およびオリゴチオフェンコア含有構成要素を含む。

実施形態において、例示のフッ素化分子構成要素は、炭素またはケイ素原子コア含有構成要素；アルコキシコア含有構成要素；窒素またはリン原子コア含有構成要素；アリールコア含有構成要素；カルボナートコア含有構成要素；炭素環式、炭素二環式または炭素三環式コア含有構成要素；およびオリゴチオフェンコア含有構成要素のフッ素化から得ることができる。そのようなフッ素化分子構成要素は、例えば約１５０℃を超える高温で元素状フッ素を用いるフッ素化されていない分子構成要素のフッ素化からまたは他の公知のプロセスステップ、または所望のフッ素化分子構成要素の単なる購入によって得ることができる。

実施形態において、型１のＳＯＦはセグメント（フッ素化されていてもよい）を含み、これは、リンカーによって他の少なくとも３つのセグメントに接続されたＳＯＦの縁には位置していない。例えば、実施形態において、ＳＯＦは、理想的三角形構成要素、歪んだ三角形構成要素、理想的四面体構成要素、歪んだ四面体構成要素、理想的正方形構成要素、および歪んだ正方形構成要素からなる群から選択される少なくとも１つの対称的構成要素を含む。

実施形態において、型２および３のＳＯＦは、少なくとも１つのセグメント型（フッ素化されていてもされていなくてもよい）を含み、これは、リンカーによって他の少なくとも３つのセグメント（フッ素化されていてもされていなくてもよい）に接続されたＳＯＦの縁には位置していない。例えば、実施形態において、ＳＯＦは、理想的三角形構成要素、歪んだ三角形構成要素、理想的四面体構成要素、歪んだ四面体構成要素、理想的正方形構成要素、および歪んだ正方形構成要素からなる群から選択される少なくとも１つの対称的構成要素を含む。

官能基は、ＳＯＦ形成プロセス中にセグメントを一緒に連結する化学反応に関与する、分子構成要素の反応性化学部分である。官能基は単一の原子で構成されていてもよく、または、官能基は複数の原子で構成されていてもよい。官能基の原子組成は、通常、化合物中の反応性部分と関連した組成である。官能基の非限定的な例には、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カルボナート、アミン、アミド、イミン、ウレア、アルデヒド、イソシアナート、トシラート、アルケン、アルキンなどが含まれる。

分子構成要素は、複数の化学部分を含むが、これらの化学部分の部分集合のみが、ＳＯＦ形成プロセス中の官能基となるように意図される。化学部分が官能基と考えられるかどうかは、ＳＯＦ形成プロセスに選択される反応条件に依存する。官能基（Ｆｇ）は、反応性部分、すなわちＳＯＦ形成プロセス中の官能基である化学部分を示す。

ＳＯＦ形成プロセスにおいて、官能基の組成は、原子の喪失、原子の獲得、または原子の喪失と獲得の両方によって変わり；または官能基がすべて失われることもある。ＳＯＦにおいて、先に官能基と関係した原子は、セグメントと一緒に結合する化学部分であるリンカー基と関係するようになる。官能基は特徴的な化学現象を有し、当業者は、通常、本分子構成要素において官能基（複数可）を構成する原子（複数可）を認識することができる。分子構成要素官能基の一部として特定される原子または原子の組分けが、ＳＯＦのリンカー基中で保持されてもよいことは留意されなければならない。リンカー基は以下に記載される。

本開示のキャップ形成単位は、ＳＯＦ中に通常存在する共有結合した構成要素の規則的な網目に「割り込む」分子である。キャップされたＳＯＦ組成物は、導入されるキャップ形成単位の型および量によって特性が変えられる調整可能な材料である。キャップ形成単位は単一の型または複数の型の官能基および／または化学部分を含んでもよい。

実施形態において、ＳＯＦは、すべて同一構造を有する複数のセグメント、および同一構造を有しても有しなくてもよい複数のリンカーを含み、ここで、ＳＯＦの縁にないセグメントは、リンカーによって他の少なくとも３つのセグメントおよび／またはキャップ形成基に接続されている。実施形態において、ＳＯＦは複数のセグメントを含み、ここで、複数のセグメントは、構造が異なる少なくとも第１および第２のセグメントを含み、第１のセグメントは、ＳＯＦの縁にない場合、リンカーによって他の少なくとも３つのセグメントおよび／またはキャップ形成基に接続されている。

実施形態において、ＳＯＦは、構造が異なる少なくとも第１および第２のリンカーを含む複数のリンカーを含み、複数のセグメントは、構造が異なる少なくとも第１および第２のセグメントをどちらか含み、ここで、第１のセグメントは、ＳＯＦの縁にない場合、他の少なくとも３つのセグメントおよび／またはキャップ形成基に接続され、ここで、接続の少なくとも１つは、第１のリンカーを介し、接続の少なくとも１つは第２のリンカーを介し；または、すべて同一構造を有するセグメントを含み、ＳＯＦの縁にないセグメントは、リンカーによって他の少なくとも３つのセグメントおよび／またはキャップ形成基に接続され、ここで、接続の少なくとも１つは、第１のリンカーを介し、接続の少なくとも１つは第２のリンカーを介している。

セグメントは、官能基を支持し、官能基に関係しない原子をすべて含む分子構成要素の部分である。さらに、分子構成要素セグメントの組成は、ＳＯＦ形成後変わらない。実施形態において、ＳＯＦは第２のセグメントと同一のまたは異なる構造を有する第１のセグメントを含んでもよい。他の実施形態において、第１および／または第２のセグメントの構造は、第３のセグメント、第４のセグメント、第５のセグメントなどと同じでも異なっていてもよい。セグメントはまた、傾斜特性を与えることができる分子構成要素の部分である。傾斜特性は、実施形態において後ほど記載される。

本開示のＳＯＦは、少なくとも第１のセグメント型を含む複数のセグメントおよび複数の孔を有する有機共有結合骨格（ＣＯＦ）として配置された少なくとも第１のリンカー型を含む複数のリンカーを含み、ここで、第１のセグメント型および／または第１のリンカー型は、炭素でない少なくとも１つの原子を含む。実施形態において、ＳＯＦのセグメント（またはＳＯＦを構成する複数のセグメントに含まれる１つまたは複数のセグメント型）は、例えば、セグメントの構造が水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１つの原子を含む場合、炭素でない元素の少なくとも１つの原子を含む。

ＳＯＦ用の分子構成要素として役立ち得る、様々な例示の分子構成要素、リンカー、ＳＯＦ型、例示の化学構造を有する特定のＳＯＦ型を合成する戦略、対称要素が略述される構成要素、例示の分子物質の種類、および各種類の部材の例の記載は、米国特許出願第１２／７１６，５２４号；第１２／７１６，４４９号；第１２／７１６，７０６号；第１２／７１６，３２４号；第１２／７１６，６８６号；第１２／７１６，５７１号；第１２／８１５，６８８号；第１２／８４５，０５３号；第１２／８４５，２３５号；第１２／８５４，９６２号；第１２／８５４，９５７号；第１２／８４５，０５２号；第１３／０４２，９５０号、第１３／１７３，９４８号、第１３／１８１，７６１号、第１３／１８１，９１２号、第１３／１７４，０４６号および第１３／１８２，０４７号明細書に詳述されている。

リンカーは、分子構成要素および／またはキャップ形成単位上に存在する官能基間の化学反応時にＳＯＦ中に現われる化学部分である。

リンカーは、共有結合、単一の原子、または共有結合した原子の群を含んでもよい。前者は、共有結合リンカーとして定義され、例えば、単一の共有結合または二重共有結合であってもよく、組まれた構成要素すべての官能基が完全に失われたとき、現われる。後者のリンカー型は化学部分リンカーとして定義され、単一の共有結合、二重共有結合、または両者の組み合わせによって一緒に結合した１個または複数の原子を含んでもよい。連結基に含まれる原子は、ＳＯＦ形成プロセスの前に分子構成要素の官能基中に存在する原子を起源とする。化学部分リンカーは、周知の化学基、例えば、エステル、ケトン、アミド、イミン、エーテル、ウレタン、カルボナートなど、またはその誘導体であってもよい。

例えば、２個のヒドロキシル（−ＯＨ）官能基が酸素原子を介してＳＯＦ中のセグメントと接続するために使用される場合、リンカーはエーテルリンカーとして記載されてもよい酸素原子である。実施形態において、ＳＯＦは、第２のリンカーと同一または異なる構造を有する第１のリンカーを含んでもよい。他の実施形態において、第１および／または第２のリンカーの構造は、第３のリンカーなどと同じでも異なっていてもよい。

本開示のＳＯＦは、少なくとも第１のセグメント型を含む複数のセグメント、および複数の孔を有する有機共有結合骨格（ＣＯＦ）として配置された少なくとも第１のリンカー型を含む複数のリンカーを含み、ここで、第１のセグメント型および／または第１のリンカー型は炭素でない少なくとも１つの原子を含む。実施形態において、ＳＯＦのリンカー（または複数のリンカーの１つもしくは複数）は、炭素でない元素の少なくとも１つの原子を含み、例えば、リンカーの構造は、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素および硫黄からなる群から選択される少なくとも１個の原子を含む。

ＳＯＦは任意の適切なアスペクト比を有する。実施形態において、ＳＯＦは、例えば、約３０：１を超える、または約５０：１を超える、約７０：１を超える、または約１００：１を超える、約１０００：１などのアスペクト比を有する。ＳＯＦのアスペクト比は、その平均幅または直径（すなわち、厚さの次に最大の次元）と、その平均厚み（すなわち、最短の次元）との比として定義される。用語「アスペクト比」は、本明細書において使用される場合、理論に束縛されない。ＳＯＦの最長次元は長さであり、ＳＯＦのアスペクト比の計算には考慮されない。

通常、ＳＯＦは、約５００マイクロメートルを超える、例えば約１０ｍｍまたは３０ｍｍの幅、長さまたは直径を有する。ＳＯＦは、モノセグメント厚の層について約１０オングストロームから約２５０オングストローム、例えば、約２０オングストロームから約２００オングストローム、および多重セグメント厚の層について約２０ｎｍから約５ｍｍ、約５０ｎｍから約１０ｍｍの例証となる厚さを有する。

ＳＯＦの寸法は様々なツールおよび方法を使用して測定されてもよい。約１マイクロメートル以下の寸法に関して、走査電子顕微鏡検査が好ましい方法である。約１マイクロメートル以上の寸法に関しては、マイクロメーター（または定規）が好ましい方法である。

ＳＯＦは単一の層または複数の層（すなわち、２、３層以上）を含んでもよい。複数の層を含むＳＯＦは、物理的に結合（例えば、双極子および水素結合）されても化学的に結合されてもよい。物理的に結合した層は、より弱い中間層相互作用または接着を特徴とする；したがって、物理的に結合した層は、互いからの離層を受けやすい場合がある。化学的に結合した層は、化学結合（例えば共有結合またはイオン結合）を有する、または、隣接層と強く連結する多数の物理的または分子間（超分子）絡み合いを有すると予想される。

実施形態において、ＳＯＦは、単一の層（モノセグメント厚または多重セグメント厚）または多層（各層はモノセグメント厚または多重セグメント厚である）であってもよい。「厚さ」は、例えば、膜の最小次元を指す。上で論じたように、ＳＯＦにおいて、セグメントは、膜の分子骨格を生成するためにリンカーを介して共有結合で結合した分子単位である。膜の厚さも、膜の断面を見たときに、膜のその軸に沿って数えられるセグメントの数の意味として定義されてもよい。「単層」ＳＯＦは最も単純な事例で、例えば、膜が１セグメント厚である場合を指す。２以上のセグメントがこの軸に沿って存在するＳＯＦは、「多重セグメント」厚のＳＯＦと呼ばれる。

実施形態において、官能基間の反応が、膜形成プロセス中または後、ＳＯＦから大部分が蒸発させまたは消滅されてもよい揮発性副生物を生成する場合、または、副生物が形成されない場合に、連結の化学現象が現われる場合がある。連結の化学現象は、連結化学副生物の存在が望まれない応用分野のためにＳＯＦを達成するように選択されてもよい。連結の化学反応は、例えば、縮合、付加／脱離および付加反応、例えば、エステル、イミン、エーテル、カルボナート、ウレタン、アミド、アセタールおよびシリルエーテルを生成するものなどを含んでもよい。

実施形態において、官能基間の反応によって連結化学は、膜形成プロセスの後、大部分はＳＯＦ内に組み込まれたままで残る不揮発性副生物を生成する。実施形態において、連結化学は、連結化学副生物の存在が特性に影響を与えない用途について、または連結化学副生物の存在がＳＯＦの特性（例えば、ＳＯＦの電気活性、疎水性または親水性）が変わってもよい用途についてＳＯＦを達成するために選択されてもよい。連結化学反応は、例えば、置換、メタセシス、および、金属触媒カップリング反応、例えば炭素−炭素結合を生成するものを含んでもよい。

すべての連結化学に関して、構成要素官能基間の化学によって構成要素間の反応速度および進行度を制御する能力は、本開示の重要な態様である。反応速度および進行度を制御する理由は、前の実施形態において定義されるような、周期的なＳＯＦを達成するために、構成要素の異なる塗工方法および微視的配列の調整について膜形成プロセスに適応させることを含んでもよい。

ＣＯＦは、高い熱的安定性（典型的には大気条件下で４００℃より高い）；有機溶媒中での低い溶解性（化学安定性）、および空隙（可逆的なゲスト取り込みのできる）などの固有の特性を有する。実施形態において、ＳＯＦもこれらの固有の特性を有してもよい。

付加機能は、従来のＣＯＦに生来でない特性を示し、分子組成が、結果として生じたＳＯＦに付加機能を与える分子構成要素の選択によって現われてもよい。付加機能は、その付加機能のための「傾斜特性」を有する分子構成要素の組立で生じてもよい。付加機能はまた、その付加機能のための「傾斜特性」を有する分子構成要素の組立で生じることはできないが、結果として得られたＳＯＦがＳＯＦへセグメント（Ｓ）およびリンカーを連結する結果として付加機能を有する。さらに、付加機能の出現は、傾斜特性が、セグメントおよびリンカーをＳＯＦへ一緒に連結することで変性または増強される、その付加機能のための「傾斜特性」を有する分子構成要素を使用する組み合わせ効果から生じてもよい。

分子構成要素の用語「傾斜特性」は、例えば、ある分子組成について存在すると知られている特性、または当業者によってセグメントの分子組成を検査して合理的に識別可能な特性を指す。本明細書において使用される場合、用語「傾斜特性」および「付加機能」は、同一の一般特性（例えば、疎水性、電気活性など）を指すが、しかし、「傾斜特性」は分子構成要素の文脈において使用され、「付加機能」は、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれてよいＳＯＦの文脈において使用される。

ＳＯＦの疎水性（超疎水性）、親水性、疎油性（超疎油性）、親油性、フォトクロミックおよび／または電気活性（導体、半導体、電荷輸送材料）の性質は、ＳＯＦの「付加機能」を表してもよい特性のいくつかの例である。これらおよび他の付加機能は、分子構成要素の傾斜特性から生じてもよく、またはＳＯＦにおいて観察されるそれぞれの付加機能がない構成要素から生じてもよい。

疎水性（超疎水性）という用語は、例えば、水、またはメタノールなどの他の極性種をはじく特性を指し、それはまた、水を吸収する無能力、および／またはその結果として膨脹する無能力を意味する。さらに、疎水性は、水または他の水素結合種と強い水素結合を形成する無能力を暗示する。疎水性材料は、通常、接触角ゴニオメーターまたは関連装置を使用して測定して９０°より大きい水接触角を有することを特徴とする。本明細書において使用される高い疎水性は、水の小滴が表面と高い接触角、例えば約１３０°から約１８０°の接触角を形成する場合として記載することができる。本明細書において使用される超疎水性は、水の小滴が表面と高い接触角、例えば約１５０°を超える、または約１５０°から約１８０°の接触角を形成する場合として記載することができる。

本明細書において使用される超親水性は、水の小滴が表面と、滑り角、例えば約１°から約３０°未満もしくは約１°から約２５°の滑り角、約１５°未満の滑り角、または約１０°未満の滑り角を形成する場合として記載することができる。

親水性という用語は、例えば、水もしくは他の極性種または表面を引きつける、吸着するまたは吸収する特性を指す。親水性はまた、水もしくは他の極性種、またはそれ自体を通して水もしくは他の極性種を拡散または輸送することができる材料による、材料の膨潤を特徴としてもよい。親水性は、水または他の水素結合種と強いまたは多数の水素結合を形成することができることによりさらに特徴づけられる。

疎油性（撥油性）という用語は、例えば、石油またはアルカン、脂肪およびワックスなどの他の無極性種をはじく特性を指す。疎油性材料は、典型的には接触角ゴニオメーターまたは関連装置を使用して測定して９０°より大きい油接触角を有することを特徴とする。本開示において、撥油性という用語は、例えば、例えば、ＵＶ硬化性インク、固体インク、ヘキサデカン、ドデカン、炭化水素などとのおよそ約５５°以上の油接触角を有する表面の濡れ性を指す。本明細書において使用される高い撥油性は、炭化水素系液体、例えば、ヘキサデカンまたはインクの小滴が、表面と高い接触角、例えば、約１３０°以上から約１７５°、または約１３５°から約１７０°の接触角を形成する場合として記載することができる。本明細書において使用される超撥油性は、炭化水素系液体、例えば、インクの小滴が、表面と高い接触角、例えば、１５０°超、または約１５０°超から約１７５°、または約１５０°超から約１６０°の接触角を形成する場合として記載することができる。

本明細書において使用される超撥油性もまた、炭化水素系液体、例えば、ヘキサデカンの小滴が、表面と約１°から約３０°未満、または約１°から約２５°未満の滑り角、約２５°未満の滑り角、約１５°未満の滑り角または約１０°未満の滑り角を形成する場合として記載することができる。

親油性（親脂性）という用語は、例えば、油もしくはアルカン、脂肪およびワックスなどの他の無極性種、またはそのような種に容易に濡れる表面を引きつける特性を指す。親油性材料は、典型的には、例えば、接触角ゴニオメーターを使用して測定して低いまたは皆無の油接触角を有することを特徴とする。親油性もヘキサンまたは他の無極性液体による材料の膨潤を特徴とすることができる。

様々な方法が濡れまたは接触角の定量のために利用可能である。例えば、濡れは、基板および接触点で液体小滴の表面への接線によって形成される接触角として測定することができる。具体的には、接触角はＦｉｂｒｏ ＤＡＴ１１００を使用して測定されてもよい。接触角は、液体と基板の間の相互作用を決める。流体の指定された体積の１滴は、マイクロピペットを使用して試料表面に自動的に施されてもよい。基板に接する滴の画像は規定の時間間隔でビデオカメラによって捕らえられる。滴と基板の間の接触角は、捕らえられた画像上で画像解析技法によって求められる。接触角の変化速度は時間の関数として計算される。

疎水性の付加機能性を有するＳＯＦは、傾斜疎水性を有する分子構成要素の使用により調製されてもよく、および／または、サブミクロンからミクロン規模の粗く織込んだもしくは多孔性表面を有する。疎水性であるサブミクロンからミクロン規模の粗く織込んだまたは多孔性表面を有する材料を記載する論文は、ＣａｓｓｉｅおよびＢａｘｔｅｒによって著されている（Ｃａｓｓｉｅ， Ａ． Ｂ． Ｄ．；Ｂａｘｔｅｒ， Ｓ． Ｔｒａｎｓ． Ｆａｒａｄａｙ Ｓｏｃ．， １９４４， ４０， ５４６）。

フッ素含有高分子は、対応する炭化水素高分子より低い表面エネルギーを有することが知られている。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）は、ポリエチレンより低い表面エネルギーを有する（２０ｍＮ／ｍ対３５．３ｍＮ／ｍ）。ＳＯＦへのフッ素の導入は、特に本開示の画像化部材および／または感光体の最外層表面でフッ素が存在する場合、対応するフッ素化されていないＳＯＦと比較して、ＳＯＦの表面エネルギーを変調するために使用されてもよい。ほとんどの場合、ＳＯＦへのフッ素の導入は、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層の表面エネルギーを下げる。ＳＯＦの表面エネルギーが変調される程度は、例えば、ＳＯＦの表面および／またはＳＯＦのバルク内でのフッ素化の程度および／またはフッ素のパターン化に依存する。ＳＯＦの表面でのフッ素化の程度および／またはフッ素のパターン化は、本開示のプロセスによって調整されてもよいパラメータである。

高フッ素化セグメントを含むまたは有する分子構成要素は、傾斜疎水性を有し、疎水性の付加機能を有するＳＯＦをもたらし得る。高フッ素化セグメントは、セグメント（複数可）に存在する水素原子の数で除した、セグメント（複数可）に存在するフッ素原子の数が１より大きいこととして定義される。高フッ素化セグメントでないフッ素化セグメントもまた、疎水性の付加機能を有するＳＯＦをもたらす場合もある。

上に論じたように、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦは、分子構成要素、セグメントおよび／またはリンカーのいずれかの変形から製造されてもよく、ここで、分子構成要素の１個または複数の水素（複数可）はフッ素と置き換えられる。

上述のフッ素化セグメントは、例えば、α，ω−フルオロアルキルジオール高分子単位、例えば、一般構造：

［式中、ｎは、１以上の値、例えば１から約１００、または１から約６０、または約２から約３０、または約４から約１０を有する整数である。］のもの、ＨＯＣＨ_２（ＣＦ_２）_ｎＣＨ_２ＯＨおよび対応するジカルボン酸単位およびジアルデヒド単位を含んでもよい。これらのセグメントは、フッ素化構成要素、例えばヒドロキシル、カルボキシル、カルボニルまたはアルデヒド官能基、またはこれらの官能基のいずれかの無水物でαおよびωの位置で置換されたフッ素化アルキルモノマーから形成することができる。そのようなモノマーの例は、一般構造ＨＯＣＨ_２（ＣＦ_２）_ｎＣＨ_２ＯＨ［式中、ｎは上記のように定義される。］のα，ω−フルオロアルキルジオールおよびこれらの対応するジカルボン酸、ジアルデヒドおよびその無水物を含む。例としては、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカンフルオロ−１，８−オクタンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ペルフルオロデカン−１，１０−ジオール、ペルフルオロ１，６−ヘキサンジオールおよびペルフルオロ１，８−オクタンジオールを含む。適切なフッ素化構成要素の他の例はテトラフルオロヒドロキノン；ペルフルオロアジピン酸水和物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル無水物；４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノールなどを含む。

サブミクロンからミクロン規模の粗く織込んだまたは多孔性表面を有するＳＯＦもまた疎水性であってもよい。粗く織込んだまたは多孔性のＳＯＦ表面は、膜表面に存在する絡み合った官能基、またはＳＯＦの構造に起因し得る。パターン型およびパターン化の程度は、分子構成要素の幾何学的形状および連結化学の効率性に依存する。表面粗さまたはテクスチャーをもたらす特色ある寸法は、約１００ｎｍから約１０μｍ、例えば約５００ｎｍから約５μｍである。

電気活性という用語は、例えば、電荷（電子および／または正孔）を輸送する特性を指す。電気活性材料は導体、半導体および電荷輸送材料を含む。導体は、電位差の存在下で容易に電荷を輸送する材料として定義される。半導体は、生来電荷を伝導しないが、電位差および例えば、電界、電磁放射、加熱などの印加される刺激の存在下で伝導性になり得る材料として定義される。電荷輸送材料は、電位差の存在下で、例えば、色素、顔料または金属などの別の材料から電荷が注入される場合、電荷を輸送することができる材料として定義される。

本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれる、電気活性付加機能（または正孔輸送分子機能）を有するフッ素化ＳＯＦは、論じたフッ素化分子構成要素、および傾斜電気活性特性を有する分子構成要素、ならびに／または共役セグメントおよびリンカーの組立の結果、電気活性になる分子構成要素を含有する反応混合物の形成によって調製されてもよい。以下のセクションでは、傾斜させた正孔輸送特性、傾斜させた電子輸送特性、および傾斜させた半導体特性を有する分子構成要素を記載する。

導体は、さらに、約０．１から約１０^７Ｓ／ｃｍの電位差計を使用して、シグナルを与える材料として定義されてもよい。

半導体は、さらに、例えば、電界、電磁放射、加熱などの印加される刺激の存在下で、約１０^−６から約１０^４Ｓ／ｃｍの電位差計を使用してシグナルを与える材料として定義されてもよい。代替として、半導体は、例えば、電界、電磁放射、加熱などの印加される刺激に曝露されたとき、１０^−１０から約１０^６ｃｍ^２Ｖ^−１ｓ^−１の範囲で飛行時間法を使用して測定される電子および／または正孔移動度を有する材料として定義されてもよい。

電荷輸送材料は、さらに、１０^−１０から約１０^６ｃｍ^２Ｖ^−１ｓ^−１の範囲で飛行時間法を使用して測定して電子および／または正孔移動度を有する材料として定義されてもよい。いくつかの状況下では、電荷輸送材料も半導体として分類されてもよいことが留意されるべきである。

実施形態において、電気活性付加機能を有するフッ素化ＳＯＦは、フッ素化分子構成要素を、傾斜させた電気活性特性を有する分子構成要素および／または共役セグメントおよびリンカーの組立から得られた電気活性セグメントをその結果もたらす分子構成要素と反応させることによって調製されてもよい。実施形態において、本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦは、少なくとも１つのフッ素化構成要素および正孔輸送分子機能などの電気活性特性を有する少なくとも１つの構成要素を含有する反応混合物の調製によって製造されてもよく、そのようなＨＴＭセグメントは、以下に記載されるもの、例えば、ヒドロキシル官能基（ＯＨ）を有し、反応の結果、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントをもたらすＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン；および／またはヒドロキシル官能基（ＯＨ）を有し、反応の結果、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントをもたらすＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミンであってもよい。以下のセクションでは、さらに、分子構成要素、および／または、フッ素化構成要素（上記）と反応させて本開示の画像化部材および／または感光体の最外層に含まれるフッ素化ＳＯＦを生成することができる、傾斜させた正孔輸送特性、傾斜させた電子輸送特性および傾斜させた半導体特性を有する結果として得られたセグメントコアを記載する。

正孔輸送付加機能を有するＳＯＦは、以下の一般構造を有するセグメントコア、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン（Ｔｏｋａｒｓｋｉらへの米国特許第７，２０２，００２Ｂ２号明細書）、およびエナミン（Ｋｏｎｄｏｈらへの米国特許第７，４１６，８２４Ｂ２号明細書）を選択することによって得ることができる。

トリアリールアミンを含むセグメントコアは下記一般式によって表され：

式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４およびＡｒ^５は、それぞれ独立して置換または非置換のアリール基を表し、または、Ａｒ^５は、独立して置換または非置換のアリーレン基を表し、ｋは０または１を表し、ここで、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４およびＡｒ^５のうちの少なくとも２つは、Ｆｇ（先に定義された）を含む。Ａｒ^５はさらに、例えば、置換フェニル環、置換／非置換フェニレン、ビフェニル、ターフェニルなどの置換／非置換の一価連結芳香環、またはナフチル、アントラニル、フェナントリルなどの置換／非置換の縮合芳香環として定義されてもよい。

正孔輸送付加機能を有するアリールアミンを含むセグメントコアには、例えば、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミンなどのアリールアミン；Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾンおよび４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン；および２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール、スチルベンなどのオキサジアゾールが含まれる。

ヒドラゾンを含むセグメントコアは下記一般式によって表され：

式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３は、それぞれ独立して、１個または複数の置換基を場合によって含むアリール基を表し、Ｒは、水素原子、アリール基、または置換基を場合によって含むアルキル基を表し；ここで、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３のうちの少なくとも２つはＦｇ（先に定義された）を含む；関連するオキサジアゾールは下記一般式によって表され：

式中、ＡｒおよびＡｒ^１は、それぞれ独立してＦｇ（先に定義された）を含むアリール基を表す。

エナミンを含むセグメントコアは下記一般式によって表され：

式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３およびＡｒ^４は、それぞれ独立して、１個または複数の置換基を場合によって含むアリール基、または１個または複数の置換基を場合によって含む複素環式基を表し、Ｒは、水素原子、アリール基、または置換基を場合によって含むアルキル基を表し；ここで、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、およびＡｒ^４のうちの少なくとも２つは、Ｆｇ（先に定義された）を含む。

ＳＯＦは、ｐ型半導体、ｎ型半導体または両極性半導体であってもよい。ＳＯＦ半導体型は分子構成要素の性質に依存する。アルキル、アルコキシ、アリールおよびアミノ基などの電子供与特性を有する分子構成要素は、ＳＯＦ中に存在する場合、ＳＯＦをｐ型半導体にすることができる。代替として、シアノ、ニトロ、フルオロ、フッ素化アルキルおよびフッ素化アリール基などの電子吸引性である分子構成要素は、ＳＯＦをｎ型半導体にすることができる。

同様に、これらの分子構成要素によって調製されるＳＯＦの電気活性は、セグメントの性質、リンカーの性質、および、セグメントがどのようにＳＯＦ内に配向されているかに依存する。ＳＯＦ中のセグメント部分の好ましい配向を促進するリンカーはより高い電気活性をもたらすと予想される。

本開示のフッ素化ＳＯＦなどのＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、任意の適切な順序で行ってもよく、または、２つ以上の作業を同時に、または短時間のうちに行われるいくつかの作業またはステップ（後述）を含む。

ＳＯＦを調製するプロセスには：
（ａ）複数の分子構成要素、それぞれがセグメント（ここで少なくとも１つのセグメントはフッ素を含んでもよく、結果として得られたセグメントの少なくとも１つはＨＴＭなどの電気活性である。）およびいくつかの官能基、および場合によってプレＳＯＦを含む前記複数の分子構成要素を含む液体含有反応混合物を調製するステップ；
（ｂ）含湿膜として反応混合物を堆積させるステップ；
（ｃ）複数のセグメント、および巨視的レベルで膜である有機共有結合骨格として配置された複数のリンカーを含むＳＯＦを含む乾燥膜への、分子構成要素を含む含湿膜の変化を促進するステップ；
（ｄ）場合によって、ＳＯＦを基板から取り出して自立性ＳＯＦを得るステップ；
（ｅ）場合によって、自立性ＳＯＦをロールへ加工するステップ；
（ｆ）場合によって、ＳＯＦを切断し継ぎ合わせてベルトにするステップ；および
（ｇ）場合によって、その後のＳＯＦ形成プロセス（複数可）用の基板としてＳＯＦ（上記ＳＯＦ形成プロセス（複数可）によって調製された）上で上記ＳＯＦ形成プロセス（複数可）を実施するステップが含まれる。

キャップされたＳＯＦおよび／または複合ＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、キャップされていないＳＯＦを製造するために使用されるのと同様の数の作業またはステップ（上述）を含む。キャップ形成単位および／または第２の成分は、結果として得られるＳＯＦ中のキャップ形成単位の所望の分布に応じてａ、ｂまたはｃいずれかのステップ中に加えられてもよい。例えば、キャップ形成単位および／または第２の成分の分布が、結果として得られるＳＯＦにわたって実質的に一様であることが望まれる場合、キャップ形成単位はステップａ中に加えられてもよい。代替として、例えば、キャップ形成単位および／または第２の成分のより不均質な分布が望まれる場合、キャップ形成単位および／または第２の成分を加えるステップ（例えば、ステップｂ中、またはステップｃの促進ステップ中に形成された膜にそれを噴霧することによって）が、ステップｂおよびｃ中に行われてもよい。

上記作業またはステップは、大気圧、高圧または大気中より低い圧力で行われてもよい。本明細書において使用される用語「大気圧」は、約７６０トールの圧力を指す。用語「高圧」は、大気圧より高い圧力、ただし２０気圧未満の圧力を指す。用語「大気中より低い圧力」は、大気圧未満の圧力を指す。一実施形態において、作業またはステップは、大気圧で、またはその付近で行われてもよい。一般に、約０．１気圧から約２気圧、例えば約０．５気圧から約１．５気圧、または０．８気圧から約１．２気圧の圧力が、好都合に用いられてもよい。

反応混合物は、液体中に溶解、懸濁または混合された複数の分子構成要素を含み、そのような構成要素は、例えば、少なくとも１つのフッ素化構成要素、および例えば、ヒドロキシル官能基（ＯＨ）を有するＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン、およびヒドロキシル官能基（ＯＨ）を有するＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン、および／またはＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメント、およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントなどの少なくとも１つの電気活性構成要素を含んでもよい。複数の分子構成要素は、１つの型または複数の型であってもよい。１つまたは複数の分子構成要素が液体である場合、追加の液体の使用が任意選択される。上記の作用Ｃ中にＳＯＦ形成を可能にするまたはＳＯＦ形成の速度を変更するために、場合によって、触媒が反応混合物に加えられてもよい。結果として得られたＳＯＦの物理的性質を変えるために、場合によって、添加剤または第２の成分が反応混合物に加えられてもよい。

反応混合物成分（分子構成要素、場合によってキャップ形成単位、液体（溶媒）、場合によって触媒、および場合によって添加剤）が合わせられる（例えば容器中で）。反応混合物成分の添加の順序は様々であってもよいが、しかし、典型的には、触媒は最後に加えられる。特定の実施形態において、分子構成要素の溶解を助けるために、分子構成要素は触媒のない状態で液体中で加熱される。反応混合物はまた、調合物成分の均一な分布を保証するために含湿膜として反応混合物を堆積させる前に混合、撹拌粉砕などをされてもよい。

実施形態において、反応混合物は含湿膜として堆積させる前に加熱されてもよい。これにより、１つまたは複数の分子構成要素の溶解を助け、および／または、含湿層を堆積させる前の反応混合物の部分的な反応によって反応混合物の粘度を上げることができる。この手法は反応混合物中の分子構成要素の装填率を上げるために使用されてもよい。

特定の実施形態において、反応混合物は、堆積した含湿層を支持する粘度を有する必要がある。反応混合物の粘度は、約１０から約５０，０００ｃｐｓ、例えば約２５から約２５，０００ｃｐｓ、または約５０から約１０００ｃｐｓの範囲である。

分子構成要素およびキャップ形成単位の装填率、すなわち反応混合物中の「装填率」は、反応混合物の合計重量で除した、分子構成要素、および、場合によってキャップ形成単位および触媒の合計重量として定義される。構成要素の装填率は、約１０から５０％、例えば約２０から約４０％、または約２５から約３０％の範囲でもよい。キャップ形成単位の装填率はまた、キャップ形成基の所望の装填率を達成するように選ばれてもよい。例えば、キャップ形成単位が反応混合物にいつ加えられることになるかに応じて、キャップ形成単位の装填率は、構成要素の合計装填率の約３０重量％未満、例えば構成要素の合計装填率の約０．５重量％から約２０重量％、または構成要素の合計装填率の約１重量％から約１０重量％の重量範囲でもよい。

実施形態において、反応混合物（液体ＳＯＦ調合物）中のキャップ形成単位分子構成要素の装填率についての理論的な上限は、液体ＳＯＦ調合物中の分子構成要素当たり２に、利用可能な連結基の数を低下させるモル量のキャップ形成単位である。そのような装填率において、実質のＳＯＦ形成は、分子構成要素当たり利用可能な連結することができる官能基の数を使い尽くすこと（それぞれのキャップ形成基との反応によって）により有効に阻止することができる。例えば、そのような状況（キャップ形成単位の装填率が、利用可能な連結基のモル過剰が液体ＳＯＦ調合物中の分子の構成要素当たり２未満となることを保証するのに十分な量である場合）において、キャップ形成単位で完全にキャップされたオリゴマー、直鎖高分子および分子構成要素がＳＯＦの代わりに主に形成される。

実施形態において、画像化部材の乾燥ＳＯＦまたは画像化部材の特定の層の摩耗率は、所定の構成要素またはＳＯＦ液体調合物の構成要素の装填率の組み合わせを選択することによって調節または変調されてもよい。実施形態において、画像化部材の摩耗率は、実験器具においてキロサイクル回転当たり約５から約２０ナノメートル、またはキロサイクル回転当たり約７から約１２ナノメートルであってもよい。

画像化部材の乾燥ＳＯＦまたは画像化部材の特定の層の摩耗率はまた、キャップ形成単位および／または第２の成分の、所定の構成要素またはＳＯＦ液体調合物の構成要素装填率の組み合わせとの組み込みによって調節または変調されてもよい。実施形態において、乾燥ＳＯＦ中の有効な第２の成分および／またはキャップ形成単位および／または有効なキャップ形成単位および／または第２の成分の濃度は、画像化部材の摩耗率を下げるか、画像化部材の摩耗率を上げるかどちらかのために選択されてもよい。実施形態において、画像化部材の摩耗率は、同一のセグメント（複数可）およびリンカー（複数可）を含むキャップされていないＳＯＦに対して少なくとも１０００サイクル当たり約２％、例えば少なくとも１００サイクル当たり約５％、または１０００サイクル当たり少なくとも１０％減少してもよい。

実施形態において、画像化部材の摩耗率は、同一のセグメント（複数可）およびリンカー（複数可）を含むキャップされていないＳＯＦに対して少なくとも１０００サイクル当たり約５％、例えば１０００サイクル当たり少なくとも約１０％、または１０００サイクル当たり少なくとも２５％増加してもよい。

反応混合物において使用される液体は、純粋な液体、例えば溶媒および／または溶媒混合物であってもよい。液体は、反応混合物中で分子構成要素および触媒／変性剤を溶解または懸濁するために使用される。液体選択は、一般に、分子構成要素の溶解性／分散および特定の構成要素の装填率、反応混合物の粘度、および含湿層の乾燥ＳＯＦへの促進に影響を与える液体の沸点を均衡させることに基づく。適切な液体は、約３０から約３００℃、例えば約６５℃から約２５０℃、または約１００℃から約１８０℃の沸点を有してもよい。

液体には、分子種類、例えば、アルカン（ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン）；混合アルカン（ヘキサン、ヘプタン）；分岐アルカン（イソオクタン）；芳香族化合物（トルエン、ｏ−、ｍ−、ｐ−キシレン、メシチレン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、ブチルベンゼン、アニリン）；エーテル（ベンジルエチルエーテル、ブチルエーテル、イソアミルエーテル、プロピルエーテル）；環式エーテル（テトラヒドロフラン、ジオキサン）、エステル（酢酸エチル、酢酸ブチル、酪酸ブチル、酢酸エトキシエチル、プロピオン酸エチル、酢酸フェニル、安息香酸メチル）；ケトン（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、クロロアセトン、２−ヘプタノン）、環式ケトン（シクロペンタノン、シクロヘキサノン）、アミン（第１級、第２級または第３級アミン、例えばブチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン；ピリジン）アミド（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）；アルコール（メタノール、エタノール、ｎ−、ｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｔ−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、３−ペンタノール、ベンジルアルコール）；ニトリル（アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブチロニトリル）、ハロゲン化芳香族（クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン）、ハロゲン化アルカン（ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエチレン、テトラクロロエタン）；および水を含むことができる。

第１の溶媒、第２の溶媒、第３の溶媒などを含む混合液体も反応混合物において使用されてよい。２種以上の液体が、分子構成要素の溶解／分散を助け；および／または、分子構成要素の装填率を増し；および／または、安定な含湿膜が基板および堆積機器の濡れを助けることにより堆積することを可能し；および／または、乾燥ＳＯＦへの含湿層の促進を変調するために使用されてもよい。実施形態において、第２の溶媒は、沸点または蒸気−圧力曲線または分子構成要素に対する親和性が、第１の溶媒のそれと異なる溶媒である。実施形態において、第１の溶媒は第２の溶媒より高い沸点を有する。実施形態において、第２の溶媒は、約１００℃以下、例えば約３０℃から約１００℃の範囲、または約４０℃から約９０℃、もしくは約５０℃から約８０℃の範囲の沸点を有する。

混合液体の比は当業者によって確立されてもよい。２成分混合液体の比は、体積で約１：１から約９９：１、例えば約１：１０から約１０：１、または約１：５から約５：１であってもよい。ｎが約３から約６の範囲のｎ種の液体が使用される場合、各液体の量は、各液体の寄与率の和が１００％と等しくなるように約１％から約９５％の範囲にある。

用語「実質的に除去する」は、例えば、それぞれの溶媒の少なくとも９０％、例えばそれぞれの溶媒の約９５％の除去を指す。「実質的に残す」という用語は、例えば、それぞれの溶媒の２％以下の除去、例えばそれぞれの溶媒の１％以下の除去を指す。

これらの混合液体は、ＳＯＦの特性を操作するために含湿層のＳＯＦへの変換の速度を遅らせるか早めるために使用されてもよい。例えば、縮合および付加／脱離の連結化学において、液体、例えば水、第１級、第２級または第３級アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなど）が使用されてもよい。

場合によって、触媒は、含湿層の乾燥ＳＯＦへの促進を助けるために反応混合物中に存在してもよい。任意選択の触媒の選択および使用は、分子構成要素上の官能基に依存する。触媒は、均質（溶解）、または不均質（溶解しない、または部分的に溶解）であってもよくブレーンステッド酸（ＨＣｌ（水性）、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどのアミン保護ｐ−トルエンスルホン酸塩、トリフルオロ酢酸）；ルイス酸（ホウ素トリフルオロエーテラート、三塩化アルミニウム）；ブレーンステッド塩基（水酸化ナトリウム、リチウム水酸化物、水酸化カリウムなどの金属水酸化物；ブチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの第１級、第２級または第３級アミン；ルイス塩基（Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン）；金属（Ｃｕブロンズ）；金属塩（ＦｅＣｌ_３、ＡｕＣｌ_３）；および金属錯体（結紮したパラジウム錯体、結紮したルテニウム触媒）を含む。典型的な触媒装填率は、反応混合物中の分子構成要素装填率の約０．０１％から約２５％、例えば約０．１％から約５％の範囲である。触媒は、最終のＳＯＦ組成物中に存在しても、しなくてもよい。

場合によって、ドーパントなどの添加剤または第２の成分が、反応混合物および含湿層中に存在してもよい。そのような添加剤または第２の成分も乾燥ＳＯＦへ統合されてもよい。添加剤または第２の成分は、反応混合物および含湿層または乾燥ＳＯＦ中で均質でも不均質でもよい。キャップ形成単位とは対照的に、用語「添加剤」、または「第２の成分」は、例えば、ＳＯＦ中で共有結合で結合されていない原子または分子を指すが、組成物中でランダムに分布する。適切な第２の成分および添加剤は、「複合構造化有機膜」と題する米国特許出願第１２／７１６，３２４号明細書に記載されている。

実施形態において、ＳＯＦは、酸化からＳＯＦを保護するための第２の成分として抗酸化剤を含んでもよい。適切な抗酸化剤の例は以下を含む。（１）Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナムアミド）（ＩＲＧＡＮＯＸ １０９８、チバ・ガイギー社から入手可能）、（２）２，２−ビス（４−（２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ））エトキシフェニル）プロパン（ＴＯＰＡＮＯＬ−２０５、ＩＣＩアメリカ社から入手可能）、（３）トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌラート（（ＣＹＡＮＯＸ １７９０、４１，３２２−４、ＬＴＤＰ、アルドリッチＤ１２，８４０−６）、（４）２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオロホスホナイト（ＥＴＨＡＮＯＸ−３９８、エチル社から入手可能）、（５）テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニルジホスホナイト（アルドリッチ４６，８５２−５；硬度値９０）、（６）テトラステアリン酸ペンタエリトリトール（ＴＣＩアメリカ＃ＰＯ７３９）、（７）次亜リン酸トリブチルアンモニウム（アルドリッチ４２，００９−３）、（８）２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール（アルドリッチ２５，１０６−２）、（９）２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（４−メトキシベンジルフェノール（アルドリッチ２３，００８−１）、（１０）４−ブロモ−２，６−ジメチルフェノール（アルドリッチ３４，９５１−８）、（１１）４−ブロモ−３，５−ジジメチルフェノール（アルドリッチＢ６，４２０−２）、（１２）４−ブロモ−２−ニトロフェノール（アルドリッチ３０，９８７−７）、（１３）４−（ジエチルアミノメチル）−２，５−ジメチルフェノール（アルドリッチ１４，６６８−４）、（１４）３−ジメチルアミノフェノール（アルドリッチＤ１４，４００−２）、（１５）２−アミノ−４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール（アルドリッチ４１，２５８−９）、（１６）２，６−ビス（ヒドロキシメチル）−ｐ−クレゾール（アルドリッチ２２，７５２−８）、（１７）２，２’−メチレンジフェノール（アルドリッチＢ４，６８０−８）、（１８）５−（ジエチルアミノ）−２−ニトロソフェノール（アルドリッチ２６，９５１−４）、（１９）２，６−ジクロロ−４−フルオロフェノール（アルドリッチ２８，４３５−１）、（２０）２，６−ジブロモフルオロフェノール（アルドリッチ２６，００３−７）、（２１）αトリフルオロ−ｏ−クレゾール（アルドリッチ２１，９７９−７）、（２２）２−ブロモ−４−フルオロフェノール（アルドリッチ３０，２４６−５）、（２３）４−フルオロフェノール（アルドリッチＦ１，３２０−７）、（２４）４−クロロフェニル−２−クロロ−１，１，２−トリ−フルオロエチルスルホン（アルドリッチ１３，８２３−１）、（２５）３，４−ジフルオロフェニル酢酸（アルドリッチ２９，０４３−２）、（２６）３−フルオロフェニル酢酸（アルドリッチ２４、８０４−５）、（２７）３，５−ジフルオロフェニル酢酸（アルドリッチ２９，０４４−０）、（２８）２−フルオロフェニル酢酸（アルドリッチ２０，８９４−９）、（２９）２，５−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸（アルドリッチ３２，５２７−９）、（３０）エチル−２−（４−（４−（トリフルオロメチル）フェノキシ）フェノキシ）プロピオナート（アルドリッチ２５，０７４−０）、（３１）テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニルジホスホナイト（アルドリッチ４６，８５２−５）、（３２）４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール（アルドリッチ１５，３８４−２）、（３３）３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェネチルアルコール（アルドリッチ４３，０７１−４）、ＮＡＵＧＡＲＤ ７６、ＮＡＵＧＡＲＤ ４４５、ＮＡＵＧＡＲＤ ５１２およびＮＡＵＧＡＲＤ ５２４（ユニロイヤル・ケミカル社により製造）など、ならびにその混合物。

実施形態において、抗酸化剤は、正孔輸送材料の酸化電位と調和するように選択される。例えば、抗酸化剤は、例えば、立体的にかさばったビスフェノール、立体的にかさばったジヒドロキノン、または立体的にかさばったアミンの中から選ばれてもよい。例示の立体的にかさばったビスフェノールは、例えば、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）であってもよい。例示の立体的にかさばったジヒドロキノンは、例えば、２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミル）ヒドロキノンまたは４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｏ−クレゾール）および２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミル）ヒドロキノンであってもよい。例示の立体的にかさばったアミンは、例えば、４，４’−［４−ジエチルアミノ）フェニル］メチレン］ビス（Ｎ，Ｎジエチル−３−メチルアニリンおよびビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ブチルプロパンジオアートであってもよい。

実施形態において、立体的にかさばったビスフェノールは、以下の一般構造Ａ−１：

［式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、または１から約１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基である。］または以下の一般構造Ａ−２：

［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ１から約１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基である。］のものであってもよい。

例示の特定の立体的にかさばったビスフェノールは、例えば、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）および２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）であってもよい。

実施形態において、立体的にかさばったジヒドロキノンは、以下の一般構造Ａ−３：

［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ１から約１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基である。］のものであってもよい。

例示の特定の立体的にかさばったジヒドロキノン、例えば、２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミル）ヒドロキノン、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｏ−クレゾール）および２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミル）ヒドロキノンであってもよい。

実施形態において、立体的にかさばったアミンは以下の一般構造Ａ−４：

［式中、Ｒ１は、１から約１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基である。］のものであってもよい。

例示の特定の立体的にかさばったアミンは、例えば、４，４’−［４−（ジエチルアミノ）フェニル］メチレン］ビス（Ｎ，Ｎジエチル−３−メチルアニリンおよびビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ブチルプロパンジオアートなどであってもよい。

電荷輸送層または少なくとも１つの電荷輸送層に組み込まれてもよい抗酸化剤のさらなる例には、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、例えば、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマート）メタン（ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０（商標）、チバ・スペシャルティ・ケミカルから入手可能）、ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、およびＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＢＨＴ−Ｒ（商標）、ＭＤＰ−Ｓ（商標）、ＢＢＭ−Ｓ（商標）、ＷＸ−Ｒ（商標）、ＮＷ（商標）、ＢＰ−７６（商標）、ＢＰ−１０１（商標）、ＧＡ−８０（商標）、ＧＭ（商標）およびＧＳ（商標）を含む他のヒンダードフェノール系酸化防止剤（住友化学株式会社から入手可能）、ＩＲＧＡＮＯＸ １０３５（商標）、１０７６（商標）、１０９８（商標）、１１３５（商標）、１１４１（商標）、１２２２（商標）、１３３０（商標）、１４２５ＷＬ（商標）、１５２０Ｌ（商標）、２４５（商標）、２５９（商標）、３１１４（商標）、３７９０（商標）、５０５７（商標）および５６５（商標）（チバ・スペシャルティズ・ケミカルズから入手可能）、およびＡＤＥＫＡ ＳＴＡＢ ＡＯ−２０（商標）、ＡＯ−３０（商標）、ＡＯ−４０（商標）、ＡＯ−５０（商標）、ＡＯ−６０（商標）、ＡＯ−７０（商標）、ＡＯ−８０（商標）およびＡＯ−３３０（商標）（旭電化株式会社から入手可能）；ヒンダードアミン抗酸化剤、例えばＳＡＮＯＬ ＬＳ−２６２６（商標）、ＬＳ−７６５（商標）、ＬＳ−７７０（商標）およびＬＳ−７４４（商標）（三協化成株式会社から入手可能）、ＴＩＮＵＶＩＮ １４４（商標）および６２２ＬＤ（商標）（チバ・スペシャルティズ・ケミカルズから入手可能）、ＭＡＲＫ ＬＡ５７（商標）、ＬＡ６７（商標）、ＬＡ６２（商標）、ＬＡ６８（商標）およびＬＡ６３（商標）（旭電化株式会社から入手可能）、ならびにＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＴＰＳ（商標）（住友化学から入手可能）；ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＴＰ−Ｄ（商標）などのチオエーテル抗酸化剤（住友化学株式会社から入手可能）；ＭＡＲＫ ２１１２（商標）、ＰＥＰ−８（商標）、ＰＥＰ−２４Ｇ（商標）、ＰＥＰ−３６（商標）、３２９Ｋ（商標）およびＨＰ−１０（商標）などのホスファイト抗酸化剤（旭電化株式会社から入手可能）；ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン（ＢＤＥＴＰＭ）、ビス−［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシ−エチル−Ｎ−エチル−アミノフェニル）］−フェニルメタン（ＤＨＴＰＭ）などの他の分子が含まれる。

抗酸化剤は、存在する場合、ＳＯＦ複合体中に任意の所望のまたは有効な量、例えば、ＳＯＦの最大約１０重量パーセント、または約０．２５重量パーセントから約１０重量パーセント、またはＳＯＦの最大約５重量パーセント、例えば約０．２５重量パーセントから約５重量パーセントで存在してもよい。

実施形態において、画像化部材の外側層は、ＨＴＭであるＳＯＦ中に存在する他のセグメントに加えて、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンの第１のセグメント、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンの第２のセグメントなどの非正孔輸送分子セグメントをさらに含んでもよい。そのような実施形態において、非正孔輸送分子セグメントは、ＳＯＦ中の第３のセグメントを構成し、フッ素化セグメントであってもよい。実施形態において、ＳＯＦは、正孔輸送特性を有する１つまたは複数のセグメントに加えて、正孔輸送特性を有する、または有しない様々な追加のセグメント（例えば、第４、第５、第６、第７などのセグメント）の中でもＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンの第１のセグメントおよび／またはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンの第２のセグメントなどの、フッ素化非正孔輸送分子セグメントを含んでもよい。

実施形態において、反応混合物は、他のセグメント（複数可）に加えて非正孔輸送分子セグメントを含めることにより調製されていてもよい。そのような実施形態において、非正孔輸送分子セグメントは、ＳＯＦ中の第３のセグメントを構成する。適切な非正孔輸送分子セグメントは、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサキス（メチレンメチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミン：

Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサキス（メトキシメチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’−ヘキサキス（エトキシメチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミンなどを含む。非正孔輸送分子セグメントは、存在する場合、ＳＯＦ中に任意の所望量、例えば、ＳＯＦの最大約３０重量パーセント、または約５パーセントから約３０重量パーセント、またはＳＯＦの約１０重量パーセントから約２５重量パーセント、存在してもよい。

架橋第２成分もＳＯＦに加えられてもよい。適切な架橋第２成分は、メラミンモノマーまたはポリマー、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、トリアジン系アミノ樹脂およびその組み合わせを含んでもよい。典型的なアミノ樹脂は、ＣＹＴＥＣによって製造されているメラミン樹脂、例えばＣｙｍｅｌ ３００、３０１、３０３、３２５ ３５０、３７０、３８０、１１１６および１１３０；Ｃｙｍｅｌ Ｒ １１２３および１１２５などのベンゾグアナミン樹脂；Ｃｙｍｅｌ １１７０、１１７１および１１７２などのグリコールウリル樹脂、およびＣＹＭＥＬ Ｕ−１４−１６０−ＢＸ、ＣＹＭＥＬ ＵＩ−２０−Ｅなどの尿素樹脂を含む。

ポリマーおよびオリゴマー型アミノ樹脂の例証となる例は、ＣＹＴＥＣによって製造されている、ＣＹＭＥＬ ３２５、ＣＹＭＥＬ ３２２、ＣＹＭＥＬ３７４９、ＣＹＭＥＬ ３０５０、ＣＹＭＥＬ１３０１のメラミン系樹脂、ＣＹＭＥＬ Ｕ−１４−１６０−ＢＸ、ＣＹＭＥＬ ＵＩ−２０−Ｅのウレア系アミノ樹脂、ＣＹＭＥＬ ５０１０およびベンゾグアナミン系アミノ樹脂およびＣＹＭＥＬ ５０１１系アミノ樹脂である。

モノマー型アミノ樹脂は、例えば、ＣＹＴＥＣによって製造されている、ＣＹＭＥＬ ３００、ＣＹＭＥＬ ３０３、ＣＹＭＥＬ１１３５のメラミン系樹脂、ＣＹＭＥＬ １１２３ベンゾグアナミン系アミノ、ＣＹＭＥＬ １１７０およびＣＹＭＥＬ １１７１グリコールウリルアミノ樹脂およびＣｙｌｉｎｋ ２０００トリアジン系アミノ樹脂を含んでもよい。

実施形態において、第２の成分は、（キャップされたＳＯＦの生来の特性または傾斜特性を減ずる能力だけでなく相乗効果または改良効果も）性能目標を満たすことを可能にするＳＯＦの意図する特性を強調または混成するための、同様または異種の特性を有していてもよい。例えば、ＳＯＦに抗酸化剤化合物をドープすると、化学分解経路の阻止によりＳＯＦの寿命を延ばす。さらに、添加剤は、ＳＯＦを形成するために反応混合物の変化を促進する間に行われる反応の調整によってＳＯＦの形態的特性を改善するために加えられてもよい。

反応混合物は、いくつかの液体堆積技法を使用して、含湿膜として様々な基板に施されてもよい。ＳＯＦの厚さは、含湿膜の厚さおよび反応混合物中の分子構成要素の装填率に依存する。含湿膜の厚さは、反応混合物の粘度、および反応混合物を含湿膜として堆積させるために使用される方法に依存する。

基板は、例えば、ポリマー、紙、金属および金属合金、周期表ＩＩＩ−ＶＩ族からの元素のドープ形および非ドープ形、金属酸化物、金属カルコゲニド、および先に調製されたＳＯＦまたはキャップされたＳＯＦを含む。高分子膜基板の例には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカルボナート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、そのブロックおよびランダムコポリマーなどが含まれる。金属表面の例には、金属化された高分子、金属箔、金属板；高分子、半導体、金属酸化物またはガラス基板にパターン化または堆積した金属などの混合材料基板が含まれる。周期表のＩＩＩ−ＶＩ族からのドープしたおよびドープしていない元素で構成される基板の例には、アルミニウム、ケイ素、リンでｎドープしたケイ素、ホウ素でｐドープされたケイ素、スズ、ガリウムヒ素、鉛、ガリウムインジウムリンおよびインジウムが含まれる。金属酸化物の例には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、インジウムスズ酸化物、二酸化スズ、二酸化セレンおよびアルミナが含まれる。金属カルコゲニドの例には、硫化カドミウム、テルル化カドミウムおよびセレン化亜鉛が含まれる。さらに、上記基板の化学的に処理されたまたは機械的に変性された形態が反応混合物で塗工されてもよい表面の範囲内にあることは理解される。

実施形態において、基板は、例えば、ケイ素、ガラス板、プラスチック膜またはシートで構成されていてもよい。構造上可撓性の装置に関しては、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリイミドシートなどのプラスチック基板などが使用されてもよい。基板の厚さは、およそ１０マイクロメートルから１０ミリメートルを超えてよく、特に可撓性のプラスチック基板について例示の厚さは約５０から約１００マイクロメートルであり、ガラスまたはケイ素などの剛直な基板については約１から約１０ミリメートルである。

反応混合物は、例えば、スピン塗工、ブレード塗工、ウェブ塗工、浸漬塗工、カップ塗工、ロッド塗工、スクリーン印刷、インクジェット印刷、噴霧塗工、押印を含むいくつかの液体堆積技法を使用して基板に施されてもよい。含湿層を堆積させるために使用される方法は、基板および所望の含湿層厚さの性質、寸法および形状に依存する。含湿層の厚さは、約１０ｎｍから約５ｍｍ、例えば、約１００ｎｍから約１ｍｍ、または約１μｍから約５００μｍの範囲であってもよい。

実施形態において、キャップ形成単位および／または第２の成分は、上記プロセス作用Ｂの完了後、導入されてもよい。キャップ形成単位および／または第２の成分のこの方法での組み込みは、キャップ形成単位および／または第２の成分を含湿膜にわたって均質に、不均質に、または特定のパターンとして分布させる役目をする任意の手段によって遂行されてもよい。キャップ形成単位および／または第２の成分の導入に続いて、その次のプロセス作用がプロセス作用Ｃから再開して実行されてもよい。

例えば、プロセス作用Ｂの完了に続いて（すなわち反応混合物が基板に施されてもよい後）、キャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分（ドーパント、添加剤など）が、任意の適切な方法、例えば最上含湿層にキャップ形成単位（複数可）および／または第２成分を分配（キャップ形成単位および／または第２の成分が粒子、粉末または液体であるかに応じて、例えば、散布、噴霧、注ぐ、まくなど）することによって含湿層に加えられてもよい。キャップ形成単位および／または第２の成分は、含湿層上の所与の幅のキャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の高濃度と低濃度の交互バンドのパターンを形成するように、キャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の濃度または密度が特定の領域で低下している様々なパターンを含む、均質または不均質な方式で形成された含湿層に施されてよい。実施形態において、キャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の含湿層の最上部への適用は、キャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の一部が結果的に含湿層へ拡散またはしみ込み、それによってＳＯＦの厚さ内でキャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の不均質分布を形成し、その結果、乾燥ＳＯＦへの含湿層の変化の促進後、結果として得られたＳＯＦにおいて線形または非線形的濃度勾配を得ることができる。実施形態において、キャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分は、堆積した含湿層の最上部表面に加えられてもよく、それによって含湿膜の変化の促進で乾燥ＳＯＦ中でキャップ形成単位（複数可）および／または第２成分の不均質分布を有するＳＯＦを結果としてもたらす。含湿膜の密度およびキャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の密度に応じて、キャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の大半は、乾燥ＳＯＦの上側半分（基板の裏側である）で終了してもよく、またはキャップ形成単位（複数可）および／または第２の成分の大半は、乾燥ＳＯＦの下側半分（基板に隣接する）で終了してもよい。

用語「促進する」は、例えば、分子構成要素の反応、例えば構成要素の官能基の化学反応を容易にするための任意の適切な技法を指す。乾燥膜を形成するために液体を除去する必要がある場合は、「促進する」はまた液体の除去を指す。分子構成要素（場合によって、キャップ形成単位）の反応および液体の除去は、順次または同時に行うことができる。実施形態において、キャップ形成単位および／または第２の成分は、乾燥ＳＯＦへの含湿膜の変化の促進が行われている間に加えられてもよい。ある実施形態において、液体はまた、分子構成要素の１つであり、ＳＯＦに組み込まれる。用語「乾燥したＳＯＦ」は、例えば、実質的に乾燥したＳＯＦ（キャップされたＳＯＦおよび／または複合ＳＯＦなど）、例えば、ＳＯＦの約５重量％未満の液体含有率、またはＳＯＦの２重量％未満の液体含有率を指す。

実施形態において、乾燥ＳＯＦまたは乾燥ＳＯＦの所与の領域（例えば、表面からＳＯＦの厚さの約１０％と等しい深さまたはＳＯＦの厚さの約５％と等しい深さ、ＳＯＦの上側四半分または上で論じられた領域）中に、キャップ形成単位は、存在するキャップ形成単位およびセグメントの合計モルに関して約０．５モル％以上、例えば、存在するキャップ形成単位およびセグメントの合計モルに関して約１モル％から約４０モル％、または約２モル％から２５モル％の量で存在する。例えば、存在するキャップ形成単位およびセグメントの合計モルに関して、キャップ形成単位が約０．５モル％の量で存在する場合、試料中に約０．０５ｍｏｌのキャップ形成単位および約９．９５ｍｏｌのセグメントが存在する。

含湿層を乾燥ＳＯＦを形成するように促進するステップは、任意の適切な技法によって遂行されてもよい。含湿層を乾燥ＳＯＦを形成するように促進するステップは、典型的には、例えば、オーブン乾燥、赤外線放射（ＩＲ）などを含む、４０から３５０℃および６０から２００℃および８５から１６０℃の範囲の温度での熱処理を伴う。加熱時間の合計は、約４秒から約２４時間、例えば１分から１２０分、または３分から６０分の範囲であってもよい。

ＣＯＦ膜への含湿層のＩＲでの促進は、ベルト輸送システムにわたって搭載されるＩＲヒーターモジュールを使用して達成されてもよい。様々な型のＩＲ発光体、例えばカーボンＩＲ発光体または短波長ＩＲ発光体（ヘレウスから入手可能）が使用されてもよい。カーボンＩＲ発光体または短波長ＩＲ発光体に関する追加の例示の情報は、以下の表１に要約する。

実施形態において、自立性ＳＯＦが望まれる。自立性ＳＯＦは、好適な低接着性基板が含湿層の堆積を支持するために使用される場合、得ることができる。ＳＯＦへの低接着を有する好適な基板は、例えば、金属箔、メタル化高分子基板、離型紙、および低接着性または接着または結合に対して減少傾向を有するように変えられた表面を有する調製されたＳＯＦなどのＳＯＦを含んでよい。支持基板からのＳＯＦの取り出しは、当業者によっていくつかの方法で達成されてもよい。例えば、基板からのＳＯＦの取り出しは、膜の角または縁から開始することによって行われてもよく、場合によって、曲面の上に基板およびＳＯＦを通すことにより支援されてもよい。

場合によって、自立性ＳＯＦまたは可撓性基板に支持されたＳＯＦは、ロールに加工されてもよい。ＳＯＦは、貯蔵、取り扱いおよび他の様々な目的のためにロールへ加工されてもよい。ロールの初めの曲率は、ＳＯＦがローリングプロセス中に歪められず、または亀裂しないように選択される。

ＳＯＦを切断し継ぎ合わせる方法は、１９９５年１０月３日に発行された米国特許第５，４５５，１３６号明細書（ポリマーフィルムに関する）に記載されているものと同様である。ＳＯＦベルトは単一ＳＯＦ、多層ＳＯＦまたはウェブから切断されたＳＯＦシートから製作されてもよい。そのようなシートは、長方形の形状または要望に応じて任意の特定の形状であってもよい。ＳＯＦ（複数可）のすべての側は、同一の長さであってもよく、または、１対の平行な側は他方の対の平行な側より長くてもよい。ＳＯＦ（複数可）は、ＳＯＦシートの対向する周縁端部領域を重ねて接合することによるベルトなどの形状に製作されてもよい。継目は、典型的には接合点で重なる周縁の端部領域に生じる。接合は任意の適切な手段によって影響を受けてもよい。典型的な接合技法は、例えば、溶接（超音波を含む）、接着、テーピング、熱圧着などを含む。超音波溶接などの方法が、その速度、清浄度（溶媒がない）および薄く狭い継目の製造のために、可撓性シートを接合する望ましい一般法である。

ＳＯＦは、多層の構造化有機膜を与えるためにＳＯＦ形成プロセスで基板として使用されてもよい。多層ＳＯＦの層は、化学的に結合されても、または物理的な接触でもよい。化学的に結合された多層ＳＯＦは、基板ＳＯＦ表面上に存在する官能基が、第２の構造化有機膜層を形成するために使用される堆積した含湿層中に存在する分子構成要素と反応することができる場合に形成される。物理的に接触する多層ＳＯＦは、互いに化学的に結合しなくてもよい。

ＳＯＦ基板は、第２のＳＯＦ層の化学的結合が多層の構造化有機膜を形成することを可能にするか促進する、含湿層の堆積前に、場合によって化学的に処理されてもよい。

代替として、ＳＯＦ基板は、第２のＳＯＦ層（表面鎮静化）の化学的結合が多層のＳＯＦと物理的な接触を形成することを不可能にする含湿層の堆積前に、場合によって化学的に処理されてもよい。

２以上のＳＯＦの積層などの他の方法も、物理的に接触した多層のＳＯＦを調製するために使用されてよい。

電子写真式画像化部材（例えば、感光体）の代表的な構造を図２−４に示す。これらの画像化部材に、カール防止層１、支持基板２、電気伝導性接地面３、電荷遮断層４、接着剤層５、電荷発生層６、電荷輸送層７、オーバーコーティング層８、および接地ストリップ９が設けられる。図４において、画像化層１０（電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含有する）は、別々の電荷発生層６および電荷輸送層７の位置をとる。

図で分かるように、感光体の製作において、電荷発生材料（ＣＧＭ）と電荷輸送材料（ＣＴＭ）は、ＣＧＭとＣＴＭが異なる層中にある積層型構造（例えば、図２および３）、または、ＣＧＭとＣＴＭが同一層中にある単一層構造（例えば、図４）のいずれかの基板表面に堆積されてもよい。実施形態において、感光体は、電気伝導性層にわたって電荷発生層６、および場合によって電荷輸送層７を施すことにより調製されてもよい。実施形態において、電荷発生層および、存在する場合、電荷輸送層は、どちらの順序で施されてもよい。

カール防止層
いくつかの用途のために、電気絶縁性または少し半導体性である造膜性有機または無機高分子を含む任意選択のカール防止層１が設けられてもよい。カール防止層は、平坦性および／または耐摩耗性を与える。

カール防止層１は、画像化層と反対の、基板２の裏面に形成されてもよい。カール防止層は、造膜性樹脂に加えて、接着促進剤のポリエステル添加剤を含んでもよい。カール防止層として有用な造膜性樹脂の例は、ポリアクリラート、ポリスチレン、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニルカルボナート）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリデンジフェニルカルボナート）、その混合物などを含むがこれらに限定されない。

添加剤は、カール防止層の約０．５から約４０重量パーセントの範囲でカール防止層中に存在してもよい。添加剤は、さらに摩耗耐性を改善しおよび／または電荷緩和特性を与えてもよい、有機および無機粒子を含む。有機粒子は、テフロン（登録商標）粉末、カーボンブラックおよびグラファイト粒子を含む。無機粒子は、絶縁性および半導体の金属酸化物粒子、例えばシリカ、酸化亜鉛、酸化スズなどを含む。別の半導体添加剤は、米国特許第５，８５３，９０６号明細書に記載されているような酸化したオリゴマー塩である。オリゴマー塩は、酸化したＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン塩である。

添加剤として有用な典型的な接着促進剤は、デュポン４９，０００（デュポン）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００、ＶｉｔｅｌＰＥ−２００、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−３０７（グッドイヤー）、その混合物などを含むがこれらに限定されない。造膜性樹脂の重量に対して、通常、約１から約１５重量パーセントの接着促進剤が造膜性樹脂添加のために選択される。

カール防止層の厚さは、典型的には約３マイクロメートルから約３５マイクロメートル、例えば約１０マイクロメートルから約２０マイクロメートル、または約１４マイクロメートルである。

カール防止被膜は、塩化メチレンなどの溶媒中に造膜性樹脂および接着促進剤を溶解することにより調製された溶液として施されてもよい。溶液は、感光体素子の支持基板の後部表面（画像化層の反対側）に、例えばウェブ塗工、または当業界で知られている他の方法によって施されてもよい。オーバーコート層およびカール防止層の塗工は、電荷輸送層、電荷発生層、接着剤層、遮断層、接地面および基板を含む多層感光体上にウェブ塗工することによって同時に遂行されてもよい。次いで、含湿膜被膜は乾燥されてカール防止層１を生成する。

支持基板
上に示したように、感光体はまず基板２、すなわち支持体を準備することにより調製される。基板は、不透明でも実質的に透明であってもよく、必要とされる所与の機械的性質を有する任意の追加の適切な材料（複数可）、例えば、米国特許第４，４５７，９９４号；第４，８７１，６３４号；第５，７０２，８５４号；第５，９７６，７４４号；および第７，３８４，７１７号明細書に記載されているものを含んでもよい。

基板は、無機または有機組成物などの電気非伝導性材料の層または電気伝導性材料の層を含んでもよい。非伝導性材料が用いられる場合、そのような非伝導性材料の上に電気伝導性接地面を与えることが必要となり得る。伝導性材料が基板として使用される場合、別々の接地面層が必要とは限らない。

基板は可撓性でも剛直でもよく、いくつかの異なる構造、例えば、シート、巻き物、可撓性無限ベルト、ウェブ、シリンダーなどのいずれかを有していてもよい。感光体は、アルミニウムドラムなどの剛直で不透明な伝導性基板に塗工されてもよい。

様々な樹脂が、例えば、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリアミド、ポリウレタンなどを含む、電気非伝導性材料として使用されてもよい。そのような基板は、イー・アイ・デュポン・ド・ヌムール・アンド・カンパニーから入手可能なマイラー（商標）として知られ市販されている二軸配向ポリエステル、ＩＣＩアメリカ社から入手可能なＭＥＬＩＮＥＸ（商標）、またはアメリカヘキスト社から入手可能なＨＯＳＴＡＰＨＡＮ（商標）を含んでもよい。基板が含まれてよい他の材料は、高分子材料、例えば、イー・アイ・デュポン・ド・ヌムール・アンド・カンパニーからテドラー（商標）として入手可能なポリフッ化ビニル、フィリップス・ペトローリアム社からのＭＡＲＬＥＸ（商標）として入手可能なポリエチレンおよびポリプロピレン、フィリップス・ペトローリアム社から入手可能なポリフェニレンスルフィド、ライトン（商標）、およびイー・アイ・デュポン・ド・ヌムール・アンド・カンパニーからカプトン（商標）として入手可能なポリイミドを含む。感光体は、また、伝導性接地面が上記のようにその表面に先に塗工されたら絶縁性プラスチックドラムに塗工されてよい。そのような基板は継ぎ合わされてもされなくてもよい。

伝導性基板が用いられる場合、任意の適切な伝導性材料が使用されてもよい。例えば、伝導性材料は、金属酸化物、硫化物、ケイ化物、第四級アンモニウム塩組成物、ポリアセチレンなどの導電性高分子またはその熱分解物、および分子ドープした生成物、電荷移動錯体、ならびにポリフェニルシランおよびポリフェニルシランから分子ドープした生成物を含む結合剤樹脂中の、金属薄片、粉末または繊維、例えば、アルミニウム、チタン、ニッケル、クロム、黄銅、金、ステンレス鋼、カーボンブラック、グラファイトなどを含むことができるがこれらに限定されない。伝導性プラスチックドラムが、アルミニウムなどの材料から製造された伝導性金属ドラムと同様に使用されてもよい。

基板の厚さは、必要とする機械的な性能および経済的な考慮事項を含む多くの因子に依存する。小さな直径ロール、例えば１９ｍｍの直径ロールのまわりに循環された場合に最適の可撓性および最小限の面誘発曲げ応力のために、基板の厚さは、典型的には約６５マイクロメートルから約１５０マイクロメートル、例えば約７５マイクロメートルから約１２５マイクロメートルの範囲内にある。可撓性ベルト用の基板は、最終の光伝導素子への有害効果がない限り、相当な厚さ、例えば２００マイクロメートルを超え、または最小厚さ、例えば５０マイクロメートル未満であってもよい。ドラムが使用される場合、厚さは必要な剛性を与えるのに十分でなければならない。これは通常約１−６ｍｍである。

層が施される基板の表面は、そのような層のより強い接着を促進するために浄化されてもよい。浄化は、例えば、プラズマ放電、イオン衝撃などへ基板層の表面を曝露することによって達成されてもよい。溶媒浄化などの他の方法も使用されてもよい。

金属層を形成するために用いられる任意の技法に関係なく、金属酸化物の薄層が、一般に、ほとんどの金属の外側表面に空気への曝露で形成される。したがって、金属層の上に重なる他の層が「接触する」層であることを特徴とする場合、実際には、これらの上に重なる接触層は、酸化可能な金属層の外側表面に形成した薄い金属酸化物層と接触し得ることが意図される。

電気伝導性接地面
上で明示されたように、実施形態において、調製された感光体は、電気伝導性または電気非伝導性の基板を含む。非伝導性基板が用いられる場合、電気伝導性接地面３が用いられなければならず、接地面は、伝導性層として働く。導電性基板が用いられる場合、伝導性接地面は設けられてもよいが、基板が伝導性層として働いてもよい。

電気伝導性接地面が使用される場合、それは基板を覆って位置する。電気伝導性接地面に適する材料は、例えば、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレス鋼、クロム、タングステン、モリブデン、銅など、ならびにその混合物および合金を含む。実施形態において、アルミニウム、チタンおよびジルコニウムが使用されてもよい。

接地面は、公知の塗工技法、例えば溶液塗工、蒸着およびスパッタリングによって施されてもよい。電気伝導性接地面を施す方法は真空蒸着による。他の適切な方法も使用されてもよい。

実施形態において、接地面の厚さは、電子光伝導性部材に関して所望される光学的透明性および可撓性に応じて実質的に広い範囲にわたって様々であってもよい。例えば、可撓性の光応答画像化装置に関して、伝導性層の厚さは、電気伝導率、可撓性および光透過性の最適の組み合わせのために約２０オングストロームから約７５０オングストロームの間；例えば約５０オングストロームから約２００オングストロームであってもよい。しかし、接地面は、所望の場合、不透明であってもよい。

電荷遮断層
任意の電気伝導性接地面層の堆積の後、電荷遮断層４がそれに施されてもよい。正に帯電した感光体のための電子遮断層は、正孔が感光体の画像化表面から伝導性層に向かって移動することを可能にする。負に帯電した感光体のために、伝導性層から対向する光伝導性層への正孔注入を阻止するために障壁を形成することができる、任意の適切な正孔遮断層が利用されてもよい。

遮断層が用いられる場合、それは電気伝導性層を覆って位置してもよい。用語「を覆って」は、種々の型の層に関して本明細書において使用される場合、層が接触する事例に限定されないと理解されなければならない。むしろ、用語「を覆って」は、例えば、層の相対的な配置を指し、指定されない中間層の包含を含める。

遮断層４は、高分子、例えばポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタンなど；米国特許第４，３３８，３８７号；第４，２８６，０３３号；および第４，２９１，１１０号明細書に開示されている、窒素含有シロキサンまたは窒素含有チタン化合物、例えばトリメトキシシリルプロピルエチレンジアミン、Ｎ−ベータ（アミノエチル）ガンマ−アミノプロピルトリメトキシシラン、イソプロピル４−アミノベンゼンスルホニルチタナート、ジ（ドデシルベンゼンスルホニル）チタナート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステアロイルチタナート、イソプロピルトリ（Ｎ−エチルアミノ）チタナート、イソプロピルトリアントラニルチタナート、イソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミノ）チタナート、チタン−４−アミノベンゼンスルホナートオキシアセタート、チタン４−アミノベンゾアートイソステアラートオキシアセタート、ガンマ−アミノブチルメチルジメトキシシラン、ガンマ−アミノプロピルメチルジメトキシシランおよびガンマ−アミノプロピルトリメトキシシランを含んでもよい。

遮断層は連続的であってもよく、約０．０１から約１０マイクロメートル、例えば、約０．０５から約５マイクロメートルの範囲の厚さを有していてもよい。

遮断層４は、噴霧、浸漬塗工、棒描き塗工、グラビア塗工、シルクスクリーニング、エアーナイフ塗工、リバースロール塗工、真空蒸着、化学処理などの任意の適切な技法によって施されてもよい。薄層を得る便宜のために、遮断層は希薄溶液の形態で施されてもよく、溶媒は、被膜の堆積後、真空、加熱などの従来の技法によって除去される。一般に、約０．５：１００から約３０：１００、例えば約５：１００から約２０：１００の間の遮断層材料と溶媒の重量比が、噴霧および浸漬塗工には満足できる。

本開示は、電荷遮断層が、粒体成形された粒子、針状成形された粒子、結合剤樹脂および有機溶媒で構成される塗工溶液の使用により形成される電子写真式感光体を形成する方法をさらに提供する。

有機溶媒は、Ｃ_１−３低級アルコール、ならびにジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロプロパン、トルエンおよびテトラヒドロフランからなる群から選択される別の有機溶媒の共沸混合物の混合物であってもよい。上述の共沸混合物は、液相の組成と気相の組成がある圧力で互いに一致して一定の沸点を有する混合物を与える混合溶液である。例えば、３５重量部のメタノールと６５重量部の１，２−ジクロロエタンからなる混合物は共沸溶液である。共沸組成の存在は一様な蒸発をもたらし、それによって塗工欠陥がない一様な電荷遮断層を形成し電荷遮断塗工溶液の貯蔵安定性を改善する。

遮断層に含まれる結合剤樹脂は、単一樹脂層として形成される遮断層のそれと同一の材料で形成されてもよい。とりわけ、ポリアミド樹脂は、結合剤樹脂に必要とされる以下のような様々な条件を満たすので、使用されてもよい。（ｉ）ポリアミド樹脂は、遮断層上に画像化層を形成するために使用される溶液に溶解も膨潤もしない（ｉｉ）ポリアミド樹脂は、可撓性であるだけでなく伝導性支持体と優れた接着性を有する。ポリアミド樹脂において、アルコール可溶性ナイロン樹脂は、例えば、６−ナイロン、６，６−ナイロン、６１０−ナイロン、１１−ナイロン、１２−ナイロンなどと重合したコポリマーナイロン；および、Ｎ−アルコキシメチル変性ナイロン、およびＮ−アルコキシエチル変性ナイロンなどの化学的に変性されたナイロンが使用されてもよい。使用されてもよい別の型の結合剤樹脂は、フェノール樹脂またはポリビニルブチラール樹脂である。

電荷遮断層は、結合剤樹脂、粒体成形された粒子および針状成形された粒子を溶媒中に分散させて遮断層用の塗工溶液を形成し；塗工溶液で伝導性支持体を塗工しそれを乾燥することにより形成される。溶媒は、溶媒中の分散を改善し、塗工溶液の時間の経過に伴うゲル化を阻止するために選択される。さらに、共沸溶媒は、時間が過ぎるにつれて、塗工溶液の組成が変化するのを阻止するために使用されてよく、それによって塗工溶液の貯蔵安定性は改善されてよく、塗工溶液が再現されてよい。

語句「ｎ型」は、例えば、主に電子を輸送する材料を指す。典型的なｎ型材料には、ジブロモアンタントロン、ベンゾイミダゾールペリレン、酸化亜鉛、酸化チタン、クロロジアンブルーおよびビスアゾ顔料などのアゾ化合物、置換２，４−ジブロモトリアジン、多核芳香族キノン、硫化亜鉛などが含まれる。

語句「ｐ型」は、例えば、正孔を輸送する材料を指す。典型的なｐ型の有機顔料には、例えば、金属を含まないフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、ガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、銅フタロシアニンなどが含まれる。

接着剤層
遮断層と電荷発生層の間の中間層５が、所望の場合、接着を促進するために設けられてもよい。しかし、実施形態において、浸漬塗工されたアルミニウムドラムが、接着剤層なしで利用されてもよい。

さらに、必要なら、任意の隣接層の接着を保証するために、接着剤層が感光体中の層のいずれかの間に設けられてもよい。代替として、または、それに加えて、接着材料が、接着されるそれぞれの層の１つまたは両方に組み込まれてもよい。そのような任意選択の接着剤層は、約０．００１マイクロメートルから約０．２マイクロメートルの厚さを有してもよい。そのような接着剤層は、例えば、好適な溶媒中に接着材料を溶解して、手作業、噴霧、浸漬塗工、棒描き塗工、グラビア塗工、シルクスクリーニング、エアーナイフ塗工、真空蒸着、化学処理、ロール塗工、ワイヤー巻きロッド塗工などによって施し、乾燥して溶媒を除去することによって施されてもよい。適切な接着剤は、例えば、造膜性高分子、例えば、ポリエステル、デュポン４９，０００（イー・アイ・デュポン・ド・ヌムール・アンド・カンパニーから入手可能）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００（グッドイヤー・タイヤ・アンド・ラバー・カンパニーから入手可能）、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリメタクリル酸メチルなどを含む。接着剤層は、約５０，０００から約１００，０００、例えば約７０，０００のＭ_ｗ、および約３５，０００のＭ_ｎを有するポリエステルで構成されていてもよい。

画像化層（複数可）
画像化層は、電荷発生材料、電荷輸送材料、または電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含有する層（複数可）を指す。

ｎ型またはｐ型電荷発生材料のいずれも、本感光体において用いられてもよい。

電荷発生材料および電荷輸送材料が異なる層−例えば電荷発生層および電荷輸送層−にある場合において、電荷輸送層はＳＯＦを含んでもよく、これは複合ＳＯＦおよび／またはキャップされたＳＯＦであってもよい。さらに電荷発生材料および電荷輸送材料が同一層にある場合、この層はＳＯＦを含んでもよく、これは複合ＳＯＦおよび／またはキャップされたＳＯＦであってもよい。

電荷発生層
例証となる有機光伝導性電荷発生材料には、スーダンレッド、Ｄｉａｎブルー、ヤヌスグリーンＢなどのアゾ顔料；キノン顔料、例えばアルゴールイエロー、ピレンキノン、インダントレン・ブリリアント・バイオレットＲＲＰなど；キノシアニン顔料；ベンゾイミダゾールペリレンなどのペリレン顔料；インジゴ顔料、例えばインジゴ、チオインジゴなど；Ｉｎｄｏｆａｓｔオレンジなどのビスベンゾイミダゾール顔料；フタロシアニン顔料、例えば銅フタロシアニン、アルミノクロロフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、チタニルフタロシアニンなど；キナクリドン顔料；またはアズレン化合物が含まれる。適切な無機の光伝導性電荷発生材料には、例えば硫化カドミウム、カドミウムスルホセレニド、セレン化カドミウム、結晶性および非晶性セレン、酸化鉛および他のカルコゲニドが含まれる。実施形態において、セレンの合金が使用されてもよく、例えば、セレン−ヒ素、セレン−テルル−ヒ素およびセレン−テルルが含まれる。

任意の適切な不活性の樹脂結合材料が電荷発生層において用いられてもよい。典型的な有機樹脂質結合剤には、ポリカルボナート、アクリラート高分子、メタクリラート高分子、ビニル高分子、セルロース高分子、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ、ポリビニルアセタールなどが含まれる。

塗工組成物として有用な分散液を作るために、溶媒は電荷発生材料と共に使用される。溶媒は、例えばシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸アルキルおよびその混合物であってもよい。酢酸アルキル（酢酸ブチルおよび酢酸アミルなど）は、アルキル基中に３から５個の炭素原子を有することができる。組成物中の溶媒の量は、例えば、組成物の重量に対して約７０重量％から約９８重量％の範囲である。

組成物中の電荷発生材料の量は、例えば溶媒を含む組成物の重量に対して約０．５重量％から約３０重量％の範囲である。乾燥した光伝導性被膜中に分散した光伝導性粒子（すなわち、電荷発生材料）の量は、選択された特定の光伝導性顔料粒子に応じて、ある程度まで様々である。例えば、チタニルフタロシアニンおよび金属を含まないフタロシアニンなどのフタロシアニン有機顔料が使用される場合、満足すべき結果は、乾燥した光伝導性被膜が、乾燥した光伝導性被膜の合計重量に対して約３０重量パーセントから約９０重量パーセントの間の全フタロシアニン顔料を含む場合、達成される。光伝導特性が、塗工される平方センチメートル当たりの顔料の相対量によって影響を受けるので、乾燥した光伝導性被膜層がより厚い場合、低い顔料装填率が利用されてもよい。反対に、乾燥した光伝導性層をより薄くするには、より高い顔料装填率が望ましい。

一般に、光伝導性被膜が浸漬塗工によって施される場合、光伝導の平均粒径約０．６マイクロメートル未満で満足すべき結果が達成される。光伝導の平均粒径は、約０．４マイクロメートル未満であってもよい。実施形態において、光伝導の粒径はまた、それが分散される乾燥した光伝導性被膜の厚さ未満である。

電荷発生層において、電荷発生材料（「ＣＧＭ」）と結合剤の重量比は、３０（ＣＧＭ）：７０（結合剤）から７０（ＣＧＭ）：３０（結合剤）の範囲である。

電荷発生層（本明細書において光伝導性層とも呼ばれる）および電荷輸送層を含む多層感光体に関して、満足すべき結果は、約０．１マイクロメートルから約１０マイクロメートルの間の乾燥した光伝導性多層被膜の厚さで達成することができる。実施形態において、光伝導性層の厚さは、約０．２マイクロメートルから約４マイクロメートルの間にある。しかし、これらの厚さは顔料装填率にも依存する。したがって、より高い顔料装填率はより薄い光伝導性被膜の使用を可能にする。本発明の目的が達成されるなら、この範囲外の厚さが選択されてもよい。

任意の適切な技法が、塗工組成物の結合剤および溶媒中で光伝導性粒子を分散させるために利用されてもよい。典型的な分散技法には、例えば、ボールミリング、ロールミリング、垂直磨砕機のミリング、サンドミリングなどが含まれる。ボールロールミルを使用する典型的なミリング時間は、約４から約６日の間にある。

電荷輸送材料には、有機高分子、非高分子材料、または複合ＳＯＦおよび／またはキャップされたＳＯＦであってもよく、光励起された正孔の注入を支持するか、または光伝導材料からの電子を輸送することができ、有機層を介してこれらの正孔または電子の輸送を可能にして選択的に表面電荷を放散するＳＯＦが含まれる。

有機高分子電荷輸送層
例証となる電荷輸送材料は、例えば、多環式芳香環、例えばアントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど、または窒素含有ヘテロ環、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾールおよびヒドラゾン化合物を主鎖または側鎖中に有する化合物から選択される正の正孔を輸送する材料を含む。典型的な正孔輸送材料には、電子供与材料、例えばカルバゾール；Ｎ−エチルカルバゾール；Ｎ−イソプロピルカルバゾール；Ｎ−フェニルカルバゾール；テトラフェニルピレン；１−メチルピレン；ペリレン；クリセン；アントラセン；テトラフェン；２−フェニルナフタレン；アゾピレン；１−エチルピレン；アセチルピレン；２，３−ベンゾクリセン；２，４−ベンゾピレン；１，４−ブロモピレン；ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）；ポリ（ビニルピレン）；ポリ（ビニルテトラフェン）；ポリ（ビニルテトラセン）およびポリ（ビニルペリレン）が含まれる。適切な電子輸送材料は、電子受容体、例えば２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン；２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン；ジニトロアントラセン；ジニトロアクリジン；テトラシアノピレン；ジニトロアントラキノン；およびブチルカルボニルフルオレンマロノニトリルを含む。米国特許第４，９２１，７６９号明細書参照。他の正孔輸送材料は、米国特許第４，２６５，９９０号明細書に記載されている、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン［式中、アルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群から選択される。］などのアリールアミンを含む。他の公知の電荷輸送層分子が選択されてもよい。参照：例えば米国特許第４，９２１，７７３号および第４，４６４，４５０号明細書。

任意の適切な不活性な樹脂結合剤が電荷輸送層において用いられてもよい。塩化メチレンに可溶な典型的な不活性樹脂結合剤は、ポリカルボナート樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリアクリラート、ポリエーテル、ポリスルホンなどを含む。分子量は約２０，０００から約１，５００，０００と様々であってもよい。

電荷輸送層において、電荷輸送材料（「ＣＴＭ」）と結合剤の重量比は、３０（ＣＴＭ）：７０（結合剤）から７０（ＣＴＭ）：３０（結合剤）の範囲である。

任意の適切な技法が基板に電荷輸送層および電荷発生層を施すために使用されてもよい。典型的な塗工技法は、浸漬塗工、ロール塗工、噴霧塗工、ロータリーアトマイザーなどを含む。塗工技法は、固体の広い濃度を使用してもよい。固体含有率は、分散液の合計重量に対して約２重量パーセントから３０重量パーセントの間にある。表現「固体」は、例えば、電荷輸送塗工分散液の電荷輸送粒子および結合剤成分を指す。これらの固体濃度は、浸漬塗工、ロール、噴霧塗工などに有用である。一般に、より濃縮した塗工分散液がロール塗工のために使用されてよい。堆積した被膜の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線放射乾燥、風乾などの任意の適切な従来の技法によって達成されてもよい。一般に輸送層の厚さは約５マイクロメートルから約１００マイクロメートルの間にあるが、この範囲外の厚さも使用することができる。一般に、電荷輸送層と電荷発生層の厚さの比は、例えば、約２：１から２００：１、いくつかの事例において約４００：１もの大きさに維持される。

ＳＯＦ電荷輸送層
例証となる電荷輸送ＳＯＦは、例えばアントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなどの多環式芳香環、またはインドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾールおよびヒドラゾン化合物などの窒素含有ヘテロ環を含有するセグメントを有する化合物から選択される正の正孔を輸送する材料を含む。典型的な正孔輸送ＳＯＦセグメントには、カルバゾール；Ｎ−エチルカルバゾール；Ｎ−イソプロピルカルバゾール；Ｎ−フェニルカルバゾール；テトラフェニルピレン；１−メチルピレン；ペリレン；クリセン；アントラセン；テトラフェン；２−フェニルナフタレン；アゾピレン；１−エチルピレン；アセチルピレン；２，３−ベンゾクリセン；２，４−ベンゾピレン；および１，４−ブロモピレンなどの電子供与材料が含まれる。適切な電子輸送ＳＯＦセグメントには、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン；２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン；ジニトロアントラセン；ジニトロアクリジン；テトラシアノピレン；ジニトロアントラキノン；およびブチルカルボニルフルオレンマロノニトリルなどの電子受容体が含まれる。米国特許第４，９２１，７６９号明細書参照。他の正孔輸送ＳＯＦセグメントは、米国特許第４，２６５，９９０号明細書に記載されている、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン［式中、アルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群から選択される。］などのアリールアミンを含む。他の公知の電荷輸送ＳＯＦセグメントが選択されてもよい。参照：例えば米国特許第４，９２１，７７３号および第４，４６４，４５０号明細書。

一般に、電荷輸送ＳＯＦ層の厚さは、約５マイクロメートルから約１００マイクロメートル、例えば約１０マイクロメートルから約７０マイクロメートルまたは１０マイクロメートルから約４０マイクロメートルの間にある。一般に、電荷輸送層と電荷発生層の厚さの比は、約２：１から２００：１、いくつかの事例においては４００：１もの大きさに維持されてもよい。

単一層Ｐ／Ｒ−有機高分子
本明細書において記載される材料および処置は、結合剤、電荷発生材料および電荷輸送材料を含有する単一の画像化層型感光体を製作するために使用されてもよい。例えば、単一の画像化層の分散液中の固体含有率は、分散液の重量に対して約２重量％から約３０重量％の範囲でもよい。

画像化層が、電荷発生層および電荷輸送層の機能を組み合わせた単一層である場合、その中に含まれる成分の例証となる量は以下の通りである：電荷発生材料（約５重量％から約４０重量％）、電荷輸送材料（約２０重量％から約６０重量％）、および結合剤（画像化層の残部）。

単一層Ｐ／Ｒ−ＳＯＦ
本明細書において記載される材料および処置は、電荷発生材料および電荷輸送ＳＯＦを含有する単一の画像化層型感光体を製作するために使用されてもよい。例えば、単一の画像化層の分散液中の固体含有率は、分散液の重量に対して約２重量％から約３０重量％の範囲でもよい。

画像化層が、電荷発生層および電荷輸送層の機能を組み合わせた単一層である場合、その中に含まれる成分の例証となる量は以下の通りである：電荷発生材料（約２重量％から約４０重量％）、電荷輸送分子構成要素の傾斜させた付加機能を有する（約２０重量％から約７５重量％）。

オーバーコーティング層
本開示による実施形態は、オーバーコーティング層（本明細書においてオーバーコート層とも呼ばれる）、すなわち、用いられる場合、電荷発生層または電荷輸送層を覆って位置する層８をさらに含む。この層は、電気絶縁性または少し半導体性であるＳＯＦを含んでもよい。

そのような保護オーバーコーティング層は、場合によって電荷輸送セグメントを含む複数の分子構成要素を含有する、ＳＯＦ形成反応混合物を含む。

添加剤は、オーバーコーティング層の約０．５から約４０重量パーセントの範囲でオーバーコーティング層中に存在してもよい。実施形態において、添加剤は、摩耗耐性を改善するおよび／または電荷緩和特性をもたらすことがさらにできる有機および無機粒子を含む。実施形態において、有機粒子は、テフロン（登録商標）粉末、カーボンブラック、およびグラファイト粒子を含む。実施形態において、無機粒子は、絶縁性および半導体性の金属酸化物粒子、例えばシリカ、酸化亜鉛、酸化スズなどを含む。別の半導体添加剤は、米国特許第５，８５３，９０６号明細書に記載されている酸化したオリゴマー塩である。実施形態において、オリゴマー塩は、酸化したＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ビフェニルジアミン塩である。

オーバーコート層は任意の適切な厚さであってもよい。例えば、約３マイクロメートルから約８マイクロメートルなどの約２マイクロメートルから約１５マイクロメートルのオーバーコーティング層は、引掻および摩耗耐性の付与に加えて電荷輸送分子の浸出、結晶化、および電荷輸送層の亀裂を阻止するのに有効である。

図５は、感光体のオーバーコート層を形成する方法の流れ図を図示する。図５のブロック２を参照すると、本方法は、基板の上に形成される画像化構造を有する前記基板を準備するステップを含む。画像化構造は（ｉ）電荷輸送層および電荷発生層、または（ｉｉ）電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含む画像化層を含む。本明細書において記載される基板および画像化構造のいずれかを含む感光体において使用するのに適する、任意の基板および画像化構造を用いることができる。

図５のブロック４で示されるように、オーバーコート組成物は画像化構造に堆積される。オーバーコート組成物は、正孔輸送分子、フッ素化ジオール、平滑剤、液体担体、および場合によって第１の触媒を含む。

用語「に（ｏｎ）」は、被膜、層または基板などの物体の位置を記載するために本明細書において使用され、互いに関して「〜と直接または間接的に物理的接触をしている」ことを意味する。一実施形態において、オーバーコート組成物は電荷輸送層に直接堆積され、それが電荷輸送層と直接の物理的接触をして堆積されることを意味する。別の実施形態において、オーバーコート層は、電荷発生層または別の画像化層に直接堆積される。

基板上に液体組成物を堆積させるのに適する任意の技法を、オーバーコート組成物を堆積させるために用いることができる。例示の技法は、スピン塗工、ブレード塗工、ウェブ塗工、浸漬塗工、カップ塗工、ロッド塗工、スクリーン印刷、インクジェット印刷、噴霧塗工、押印などを含む。含湿層を堆積させるために使用される方法は、基板の性質、寸法および形状および所望の含湿層厚さに依存する。

オーバーコート組成物は、上記の任意の正孔輸送分子を含む構造化有機膜を製造するのに適する任意の正孔輸送分子を含むことができる。一実施形態において、正孔輸送分子は下記一般式によって表されるトリアリールアミンである：

［式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４およびＡｒ^５は、それぞれ独立して、置換または非置換のアリール基を表し、または、Ａｒ^５は、独立して置換または非置換のアリーレン基を表し、ｋは０または１を表し、ここで、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４およびＡｒ^５のうちの少なくとも２つは、Ｆｇ（上に定義された）を含む。］。Ａｒ^５は、例えば、置換フェニル環、置換／非置換フェニレン、ビフェニル、ターフェニルなどの置換／非置換の一価連結芳香環、またはナフチル、アントラニル、フェナントリルなどの置換／非置換の縮合芳香環としてさらに定義されてもよい。

一実施形態において、正孔輸送分子は図６に示すＴＭＥ−ＴＢＤである。他の適切な例示の正孔輸送分子が、２０１３年９月４日に出願された同時係属中の米国特許出願第１４／０１８４１３号明細書に開示されている。

構造化有機膜の製造のために本明細書に記載される任意のフッ素化構成要素、例えばヒドロキシル、カルボキシル、カルボニルまたはアルデヒド官能基、またはこれらの官能基のいずれかの無水物でαおよびωの位置で置換されたフッ素化アルキルモノマーを用いることができる。実施形態において、フッ素化ジオールは、αおよびωの位置でヒドロキシル基末端化した直鎖状フッ素化アルカンであり、ここで、直鎖状アルカン鎖は４から１２の炭素原子を有する。そのようなジオールの例は、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカンフルオロ−１，８−オクタンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ペルフルオロデカン−１，１０−ジオール、ペルフルオロ１，６−ヘキサンジオールおよびペルフルオロ１，８−オクタンジオールを含む。適切なフッ素化構成要素の他の例は、テトラフルオロヒドロキノン；ペルフルオロアジピン酸水和物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル無水物；４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノールなどを含む。これらの例示の全フッ素化ジオールを図６に示す。

任意の適切な量の正孔輸送分子およびフッ素化構成要素を用いることができる。実施形態において、正孔輸送分子とフッ素化構成要素の重量パーセント比は、約２：１から約０．８：１、例えば約１．５：１、約１．２：１または約１：１の範囲にある。

構造化有機膜を製造するのに適する任意の平滑剤を用いることができる。平滑剤は、揮発性および不揮発性成分の混合物を含んでもよい。例示の平滑剤は、ＳＩＬＣＬＥＡＮ（登録商標）３７００（ＢＹＫ， Ｗａｌｌｉｎｇｆｏｒｄ， ＣＴ）などのヒドロキシル官能化シリコーン変性ポリアクリラートを含んでもよい。

構造化有機膜組成物の混合に使用するために本明細書に記載される任意の液体担体を用いることができる。上で論じたように、混合物において使用される液体は、純粋な液体、例えば溶媒、および／または溶媒混合物であってもよい。

一実施形態において、塗工組成物は触媒を含む。用いられる触媒の量はオーバーコート層を完全に架橋するには不十分である。例えば、触媒は、約７５％以下、例えば約２０％から約７０％、または約５０％から約６０％の架橋度をもたらすのに十分な量で存在することができる。架橋を助ける任意の適切な触媒を用いることができる。例としては、酸または塩基溶液、例えばＮａｃｕｒｅ ＸＰ３５７もしくは５２２５を含むスルホン酸、無機酸および塩基、アンモニアもしくはアミン塩基、またはアンモニウム化合物、または適切なブレーンステッド酸もしくはブレーンステッド塩基を含む。

一実施形態において、画像化構造に堆積された含湿オーバーコート組成物は、触媒を実質的に含まない。本明細書において使用される場合、「実質的に含まない」は、塗工組成物の０．００１重量％未満を意味する。一実施形態において、触媒は、塗工組成物の０．０００５重量％未満、または０．０００１重量％未満の量で存在する。

ブロック６を参照すると、堆積に続いて、次に、含湿オーバーコート組成物を乾燥することができる。乾燥は、任意の適切な方法、例えば、１種または複数の液体担体を蒸発させるため加熱および／または減圧することによって実施することができる。任意の適切な量の液体担体は除去することができる。例えば、少なくとも５０重量％の液体担体、または別の実施例において少なくとも９０重量％の液体担体、例えば約９５重量％、または約９８もしくは９９重量％の液体担体を除去することができる。

図５のブロック８を参照すると、オーバーコート組成物が硬化される。硬化は、オーバーコート層中に架橋勾配を形成する少なくとも１つの架橋プロセスでオーバーコート組成物の外側表面を処理するステップを含む。

所望の架橋勾配をもたらす任意の適切な方法を、オーバーコート組成物を硬化させるために使用することができる。オーバーコート層が、画像化構造から遠位の第１の主面、および画像化構造に近位の第２の主面を含む場合、架橋勾配は、遠位の主面に近い架橋密度をもたらし、それは、近位の主面に近い架橋密度より大きい。

結果として得られたオーバーコート層は、任意の望まれる架橋勾配プロファイルを有することができる。架橋密度は、層の全体にわたって連続的に変化させ、または、オーバーコート層の一部で比較的一定にすることができるが、層の他の部分においては徐々に変化する。例えば、画像化構造から遠位にある主面に近いオーバーコート層の部分は、実質的に完全架橋することができるが、層の残りの部分は、画像化構造に近位の主面の地点、またはそこからある程度の距離で架橋密度を漸減させることができる。オーバーコート層中の相対的な架橋度の例示のプロファイルを図８に示す。本開示のオーバーコート層において、他の適切な架橋プロファイルも実現することができる。

適切な硬化方法の例は、表面への第２の触媒の適用、加熱、プラズマへの表面の曝露、放射への表面の曝露、水素衝撃への表面の曝露を含む。これらの方法は、ここでより詳しく記載される。

一実施形態において、架橋プロセスは、オーバーコートの堆積および／または乾燥に続いてオーバーコート組成物の表面に触媒を施すステップを含む。所望の架橋勾配プロファイルを与える任意の適切な触媒を用いることができる。例えば、触媒は、例えば、噴霧、浸漬塗工または他の何らかの方法によって表面に直接施すことができる液体酸溶液または液体塩基溶液であってもよい。触媒は、堆積前にオーバーコート組成物のバルク中に混合される触媒と異なっていても同じでもよい。

触媒処理された表面は、オーバーコート層を硬化させ所望の架橋勾配を与えるのに十分に高い温度に曝露される。例えば、温度は、約６０℃から約２００℃、または約９０℃から約１６０℃、または約１００℃から約１５０℃の範囲であってもよい。

一実施形態において、架橋プロセスは、表面をプラズマ、放射および／または水素衝撃に曝露するステップを含む。プラズマ処理、放射処理および水素衝撃に適する技法は、一般に、当業界で周知である。本開示の実施形態において所望の架橋プロファイルを与えるそのような技法を適用することは、当業者の十分な範囲内である。例えば、周知の水素衝撃プロセスは、米国特許出願公開第２０１３−０２８０６４７号明細書に開示されている。

本明細書に記載されるオーバーコート層は、本開示の感光体などの任意の適切な電子写真式画像化部材において用いることができる。例えば、オーバーコート層８は、電荷輸送層（図２）、電荷発生層（図３）、または電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含有する画像化層１０（図４）に直接堆積することができる。

一実施形態において、オーバーコート層８は、図２の実施形態において示されるように、電荷輸送層７と同一の材料を含むが、ただし、オーバーコート層は架橋勾配プロファイルを与えるように硬化され、一方で、電荷輸送層は架橋していないか、または部分的にのみ架橋しているかのどちらかである。例えば、電荷輸送層７は、その厚さ全体にわたって架橋はあり得ないか、または、電荷輸送層の厚さ全体にわたって部分的にのみの架橋、乃至、同程度の架橋であってもよい。他の実施形態において、電荷輸送層７は、オーバーコート層８に用いられるそれとは異なる塗工組成物を含む。

接地ストリップ
接地ストリップ９は、造膜性結合剤および電気伝導性粒子を含んでもよい。セルロースが伝導性粒子を分散させるために使用されてもよい。任意の適切な電気伝導性粒子が、電気伝導性接地ストリップ層９において使用されてもよい。接地ストリップ９は、例えば、米国特許第４，６６４，９９５号明細書に列挙されたものを含む材料を含む。典型的な電気伝導性粒子は、例えば、カーボンブラック、グラファイト、銅、銀、金、ニッケル、タンタル、クロム、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、インジウムスズ酸化物などを含む。

電気伝導性粒子は任意の適切な形状を有してもよい。典型的な形状は、不規則な、顆粒状、球状、楕円、立方体の、薄片、フィラメントなどを含む。実施形態において、電気伝導性粒子は、外側表面が過度に不規則な電気伝導性接地ストリップ層を回避するために電気伝導性接地ストリップ層の厚さ未満の粒径を有するべきである。約１０マイクロメートル未満の平均粒径であれば、一般に、乾燥した接地ストリップ層の外側表面で電気伝導性粒子の過度の突出を回避し、乾燥した接地ストリップ層のマトリックスを通して粒子の比較的一様な分散を保証する。接地ストリップにおいて使用される伝導性粒子の濃度は、使用される特定の伝導性材料の伝導率などの因子に依存する。

実施形態において、接地ストリップ層は、約７マイクロメートルから約４２マイクロメートル、例えば約１４マイクロメートルから約２７マイクロメートルの厚さを有していてもよい。

実施形態において、画像化部材は、表層（ＯＣＬまたはＣＴＬ）として本開示のＳＯＦを含んでもよい。この画像化部材は、１つまたは複数のフッ素化セグメントおよびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（メチレンフェニレン）ビフェニル−４，４’−ジアミンおよび／またはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ターフェニル−４，４’−ジアミンセグメントを含むフッ素化ＳＯＦであってもよい。

実施形態において、画像化部材は、複合ＳＯＦ層および／またはキャップされたＳＯＦ層であってもよいＳＯＦを含んでもよく、ここで、ＳＯＦ層の厚さは、任意の所望厚さ、例えば最大約３０ミクロン、または約１から約１５ミクロンの間であってもよい。例えば、最外層はオーバーコート層であってもよく、ＳＯＦを含むオーバーコート層は、約１から約２０ミクロン、例えば約２から約１０ミクロンの厚さであってもよい。実施形態において、そのようなＳＯＦは第１のフッ素化セグメントおよび第２の電気活性セグメントを含んでもよく、ここで、第１のフッ素化セグメントと第２の電気活性セグメントの比は、約５：１から約０．２：１、例えば約３．５：１から約０．５：１、または約１．５：１から約０．７５：１である。実施形態において、第２の電気活性セグメントは、ＳＯＦの約２０から約８０重量パーセント、例えば、ＳＯＦの約２５から約７５重量パーセント、またはＳＯＦの約３５から約７０重量パーセントの量で最外層のＳＯＦ中に存在してもよい。実施形態において、そのような画像化部材中の複合ＳＯＦおよび／またはキャップされたＳＯＦであってもよいＳＯＦは、単一層または２以上の層であってもよい。特定の実施形態において、そのような画像化部材中のＳＯＦは、抗酸化剤および酸捕捉剤からなる群から選択される第２の成分を含まない。

実施形態において、ＳＯＦは、画像形成装置の様々な部品に組み込まれてよい。例えば、ＳＯＦは、電子写真式感光体、接触帯電素子、露光素子、現像素子、転写素子および／または浄化ユニットに組み込まれてよい。実施形態において、そのような画像形成装置は、画像定着素子を装備してもよく、画像が転写されることになる媒体は転写素子を通して画像定着素子に運搬される。

接触帯電素子は、ロール形の接触帯電部材を有してもよい。接触帯電部材は、感光体の表面とそれが接触し電圧が印加されるように配置されてもよく、それによって感光体の表面に指定された電位を与えることができる。実施形態において、接触帯電部材は、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレン−プロピレンゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、スチレン−ブタジエンゴムもしくはブタジエンゴムなどのエラストマー材料中の、ＳＯＦおよび、またはアルミニウム、鉄もしくは銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロールもしくはポリチオフェンなどの導電性高分子材料、またはカーボンブラック、ヨウ化銅、ヨウ化銀、硫化亜鉛、炭化ケイ素、金属酸化物などの微細粒子の分散液から形成されてもよい。

さらに、本開示のＳＯＦを含んでもよい被覆層がまた、実施形態の接触帯電部材の表面に設けられてもよい。さらに抵抗率を調節するために、ＳＯＦは複合ＳＯＦもしくはキャップされたＳＯＦまたはその組み合わせであってもよく、劣化を阻止するために、ＳＯＦは、それに結合または添加される抗酸化剤を含むように仕立てられてもよい。

実施形態の接触帯電部材の抵抗は、任意の所望の範囲、例えば約１０^０から約１０^１４Ωｃｍ、または約１０^２から約１０^１２Ωｃｍにあってもよい。電圧がこの接触帯電部材に印加される場合、ＤＣ電圧またはＡＣ電圧のいずれかが印加電圧として使用されてもよい。さらに、ＤＣ電圧およびＡＣ電圧の重畳電圧もまた使用されてもよい。

例示の装置において、接触帯電素子の、複合ＳＯＦおよび／またはキャップされたＳＯＦなどのＳＯＦを場合によって含む接触帯電部材は、ローラの形状であってもよい。しかし、そのような接触帯電部材はまた、ブレード、ベルト、ブラシなどの形状であってもよい。

実施形態において、半導体レーザ、ＬＥＤ（発光ダイオード）または液晶シャッタなどの光源を用いて、望まれる画像に応じた露光を電子写真式感光体の表面に実施することができる光学素子が露光素子として使用されてもよい。

実施形態において、一成分系、二成分系などの通常または反転現像薬を使用する公知の現像素子が、現像素子として実施形態において使用されてもよい。本開示の実施形態において使用されてもよい画像形成材料（例えばトナー、インクなど、液体または固体）について、特別の制約はない。

ベルト、ローラ、膜、ゴムブレードなどを使用する接触型転写帯電素子、またはスコロトロン転写帯電器、またはコロナ放電を利用するスコロトロン転写帯電器が、様々な実施形態において転写素子として用いられてもよい。実施形態において、帯電ユニットは、「ポストニップ絶縁破壊により荷電均一性を改善する電極埋込型バイアスをかけた荷電ローラ」と題する米国特許第７，１７７，５７２号明細書に記載されているバイアスをかけた電荷ロールなどのバイアスをかけた電荷ロールであってもよい。

さらに、実施形態において、浄化素子は、転写ステップ後、電子写真式感光体の表面に接着したトナーまたはインク（液体または固体）などの残存する画像形成材料を除去するための素子であってもよく、上記の画像形成プロセスに繰り返しさらされた電子写真式感光体は、それによって浄化されてもよい。実施形態において、浄化素子は、浄化ブレード、浄化ブラシ、浄化ロールなどであってもよい。浄化ブレード用の材料は、ＳＯＦ、またはウレタンゴム、ネオプレンゴムおよびシリコーンゴムを含む。

例示の画像形成素子において、帯電、露光、現像、転写および浄化のそれぞれのステップは、電子写真式感光体のローテーションステップの順番で行われ、それによって繰り返し画像形成を実施する。電子写真式感光体には、ＳＯＦおよび所望のＳＯＦを含む感光層を含む指定された層が設けられてもよく、それにより優れた放出ガス耐性、機械的強度、引掻耐性、粒子分散性などを有する感光体が提供されてもよい。したがって、接触帯電素子または浄化ブレードと共に、またはさらに化学重合によって得られた球形トナーと共に感光体が使用される実施形態においてさえ、良好な画質を、霧化などの画像欠陥の出現なしで得ることができる。すなわち、本発明の実施形態で、長い期間の間、良好な画質を安定して提供することができる、画像形成装置を提供することが実現される。

ＳＯＦを製造するために使用されるいくつかのプロセスの例が本明細書において述べられ、利用されてもよい種々の組成物、条件、技法の例証となる。この働きと関連した名目上の作用が、各実施例内に特定される。例えば温度、時間、塗工方法などの動作パラメータに伴う作用の順序および数は、以下の実施例によって限定されない。特に断らなければ、すべての比率は重量による。用語「ｒｔ」は、例えば、約２０℃から約２５℃の範囲の温度を指す。機械的な測定は、当業界の標準方法を使用しＴＡインストルメンツＤＭＡ Ｑ８００動的機械分析計で測定した。示差走査熱量測定は、当業界の標準方法を使用しＴＡインストルメンツＤＳＣ ２９１０示差走査熱量計で測定した。熱重量分析は、当業界の標準方法を使用しＴＡインストルメンツＴＧＡ ２９５０熱重量分析計で測定した。ＦＴ−ＩＲスペクトルは、当業界の標準方法を使用しニコレットＭａｇｎａ ５５０分光計で測定した。＜１ミクロンの膜厚測定は、Ｄｅｋｔａｋ ６ｍ表面プロファィラで測定した。表面エネルギーは、当業界の標準方法を使用しＦｉｂｒｏ ＤＡＴ １１００（スウェーデン）接触角機器で測定した。他に述べなければ、以下の実施例中で生成したＳＯＦは、ピンホールのないＳＯＦまたは実質的にピンホールのないＳＯＦのいずれかであった。

マイラー上に塗工したＳＯＦは、室温の水浴中での浸漬によって離層した。１０分間の浸漬後、ＳＯＦは、通常、マイラー基板から分離した。このプロセスは、ガラス、雲母、塩などの高い表面エネルギー（極性）を有すると知られる基板に塗工されたＳＯＦについて最も効率的である。

以下の実施例を見ると、本開示の方法によって調製される組成物が、多くの型の成分を用いて実施されてもよく、本開示による、および以下に指摘される種々の使用を有していてもよいのは明らかであろう。

実施例１：
（作用Ａ）反応混合物を含有する液体の調製。以下を合わせた：構成要素オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール［セグメント＝オクタフルオロ−１，６−ヘキシル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．４３ｇ、１．６５ｍｍｏｌ）］、第２の構成要素Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ_３）；（０．５５ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）］、反応混合物を含有する液体を得るための０．０５ｇのＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７の２０重量％溶液として送達される酸触媒、０．０４ｇのＳｉｌｃｌｅａｎ３７００の２５重量％溶液として送達される平滑化添加剤、および２．９６ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振盪し、８５℃で２．５時間加熱し、次いで０．４５ミクロンのＰＴＦＥ膜に通して濾過した。

（作用Ｂ）含湿膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、１０ミルの隙間を有する鳥形棒を装備した定速描き下しコーターを用いて、金属化（ＴｉＺｒ）マイラー（商標）基板の反射側に塗布した。

（作用Ｃ）含湿膜の乾燥ＳＯＦへの変化の促進。含湿層を支持する金属化マイラー（商標）基板を、１５５℃に予熱した積極的に排気したオーブンに素早く移し、４０分間加熱した。これらの作用により、単一の自立膜として基板から離層することができる６−８ミクロンの厚さを有するＳＯＦを得た。ＳＯＦの色は黄褐色であった。

実施例２
（作用Ａ）反応混合物を含有する液体の調製。以下を合わせた：構成要素ドデカフルオロ−１，８−オクタンジオール［セグメント＝ドデカフルオロ−１，８−オクチル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．５１ｇ、１．４１ｍｍｏｌ）］、第２の構成要素Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ_３）；（０．４７ｇ、０．７１ｍｍｏｌ）］、反応混合物を含有する液体を得るための０．０５ｇのＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７の２０重量％溶液として送達される酸触媒、０．０４ｇのＳｉｌｃｌｅａｎ３７００の２５重量％溶液として送達される平滑化添加剤、および２．９６ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振盪し、８５℃で２．５時間加熱し、次いで０．４５ミクロンのＰＴＦＥ膜に通して濾過した。

（作用Ｂ）含湿膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、１０ミルの隙間を有する鳥形棒を装備した定速描き下しコーターを用いて、金属化（ＴｉＺｒ）マイラー（商標）基板の反射側に塗布した。

（作用Ｃ）含湿膜の乾燥ＳＯＦへの変化の促進。含湿層を支持する金属化マイラー（商標）基板を、１５５℃に予熱した積極的に排気したオーブンに素早く移し、４０分間加熱した。これらの作用により、単一の自立膜として基板から離層することができる６−８ミクロンの厚さを有するＳＯＦを得た。ＳＯＦの色は黄褐色であった。

実施例３
（作用Ａ）反応混合物を含む液体の調製。以下を合わせた：構成要素ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオール［セグメント＝ヘキサデカフルオロ−１，１０−デシル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．５７ｇ、１．２３ｍｍｏｌ）］、第２の構成要素Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラキス（４−（メトキシメチル）フェニル）ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ４，Ｎ４，Ｎ４’，Ｎ４’−テトラ−ｐ−トリルビフェニル−４，４’−ジアミン；Ｆｇ＝メトキシエーテル（−ＯＣＨ_３）；（０．４１ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）］、反応混合物を含有する液体を得るための０．０５ｇのＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７の２０重量％溶液として送達される酸触媒、０．０４ｇのＳｉｌｃｌｅａｎ３７００の２５重量％溶液として送達される平滑化添加剤、および２．９６ｇの１−メトキシ−２−プロパノール。混合物を振盪し、８５℃で２．５時間加熱し、次いで０．４５ミクロンのＰＴＦＥ膜に通して濾過した。

（作用Ｂ）含湿膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、１０ミルの隙間を有する鳥形棒を装備した定速描き下しコーターを用いて、金属化（ＴｉＺｒ）マイラー（商標）基板の反射側に塗布した。

（作用Ｃ）含湿膜の乾燥ＳＯＦへの変化の促進。含湿層を支持する金属化マイラー（商標）基板を、１５５℃に予熱した積極的に排気したオーブンに素早く移し、４０分間加熱した。これらの作用により、単一の自立膜として基板から離層することができる６−８マイクロメートルの厚さを有するＳＯＦを得た。ＳＯＦの色は黄褐色であった。

実施例５
作用Ａ）反応混合物を含む液体の調製。以下を合わせた：構成要素ドデカフルオロ−１，６−オクタンジオール［セグメント＝ドデカフルオロ−１，６−オクチル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（ＯＨ）；（０．８０、２．２１ｍｍｏｌ）］、第２の構成要素（４，４’，４’’，４’’’−（ビフェニル−４，４’−ジイルビス（アザントリイル））テトラキス（ベンゼン−４，１−ジイル））テトラメタノール［セグメント＝ブロック（４，４’，４’’，４’’’−（ビフェニル−４，４’−ジイルビス（アザントリイル））テトラキス（ベンゼン−４，１−ジイル））テトラメチル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（−ＯＨ）；（０．６７ｇ、１．１０ｍｍｏｌ）］、反応混合物を含有する液体を得るための０．０８ｇのＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７の２０重量％溶液として送達される酸触媒、０．０２ｇのＳｉｌｃｌｅａｎ３７００の２５重量％溶液として送達される平滑化添加剤、６．３３ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、および２．１１ｇのシクロヘキサノール。混合物を振盪し、８５℃で２．５時間加熱し、次いで０．４５ミクロンのＰＴＦＥ膜に通して濾過した。

（作用Ｂ）含湿膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、２０ミルの隙間を有する鳥形棒を装備した定速描き下しコーターを用いて、金属化（ＴｉＺｒ）マイラー（商標）基板の反射側に塗布した。

（作用Ｃ）含湿膜の乾燥ＳＯＦへの変化の促進。含湿層を支持する金属化マイラー（商標）基板を、１５５℃に予熱した積極的に排気したオーブンに素早く移し、４０分間加熱した。これらの作用により、単一の自立膜として基板から離層することができる５−６マイクロメートルの厚さを有するＳＯＦを得た。ＳＯＦの色は黄褐色であった。

実施例６
作用Ａ）反応混合物を含有する液体の調製。以下を合わせた：構成要素ドデカフルオロ−１，６−オクタンジオール［セグメント＝ドデカフルオロ−１，６−オクチル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（ＯＨ）；（０．６４、１．７７ｍｍｏｌ）］、第２の構成要素（４，４’，４’’，４’’’−（ビフェニル−４，４’−ジイルビス（アザントリイル））テトラキス（ベンゼン−４，１−ジイル））テトラメタノール［セグメント＝ブロック（４，４’，４’’，４’’’−（ビフェニル−４，４’−ジイルビス（アザントリイル））テトラキス（ベンゼン−４，１−ジイル））テトラメチル；Ｆｇ＝ヒドロキシル（ＯＨ）；（０．５４ｇ、０．８９ｍｍｏｌ）］、反応混合物を含有する液体を得るための０．０６ｇのＮａｃｕｒｅ ＸＰ−３５７の２０重量％溶液として送達される酸触媒、０．０５ｇのＳｉｌｃｌｅａｎ３７００の２５重量％溶液として送達される平滑化添加剤、２．１０ｇの１−メトキシ−２−プロパノール、および０．７０ｇのシクロヘキサノール。混合物を振盪し、８５℃で２．５時間加熱し、次いで０．４５ミクロンのＰＴＦＥ膜に通して濾過した。

（作用Ｂ）含湿膜としての反応混合物の堆積。反応混合物を、２０ミルの隙間を有する鳥形棒を装備した定速描き下しコーターを用いて、金属化（ＴｉＺｒ）マイラー（商標）基板の反射側に塗布した。

（作用Ｃ）含湿膜の乾燥ＳＯＦへの変化の促進。含湿層を支持する金属化マイラー（商標）基板を、１５５℃に予熱した積極的に排気したオーブンに素早く移し、４０分間加熱した。これらの作用により、単一の自立膜として基板から離層することができる６−８マイクロメートルの厚さを有するＳＯＦを得た。ＳＯＦの色は黄褐色であった。

ＳＯＦはステンレス鋼およびポリイミドの基板に被覆した場合、高品質の膜を生じた。ＳＯＦは、損傷／基板からの離層がなく、取り扱え、摩擦、屈曲することができた。

表２に調製したフッ素化ＳＯＦのさらなる詳細を示す。膜をマイラーに塗工し、１５５℃で４０分間硬化した。

被膜層を覆ってフッ素化ＳＯＦで塗工した素子（表２からのエントリー１および２）は、優れた電気的性質（ＰＩＤＣ、Ｂゾーン）および安定な短期間サイクル（１キロサイクル、Ｂゾーン、マイナーサイクルダウン）を有する。

摩耗率（加速感光体摩耗器具）：感光体の表面摩耗をゼロックスＦ４６９ ＣＲＵドラム／トナーカートリッジを使用して評価した。表面摩耗は、浄化ブレードおよび単一成分トナーを用いたＦ４６９ ＣＲＵで５０，０００サイクル後に感光体の厚さの変化によって求められる。厚さは、Ｐｅｒｍａｓｃｏｐｅ ＥＣＴ−１００を用いて、被膜の最上縁部からその長さに沿って１インチ間隔で測定した。記録した厚さの値はすべて、感光体素子全体の平均厚さを得るために平均した。５０，０００サイクル後の厚さの変化は、ナノメートルの単位で測定し、次いでキロサイクルの数で除してキロサイクル当たりナノメートル単位での摩耗率を得た。この加速感光体摩耗器具では、ゼログラフィーシステムに使用される実際の機械において観察される値よりもはるかに高い摩耗率を与え、ゼログラフィーシステムに依存するが、摩耗率は一般に５から１０倍低い。

超低摩耗方式の摩耗率が得られた：１２ｎｍ／キロサイクル、穂高摩耗器具は、厳しい摩耗試験であり、これは典型的なＢＣＲ機における１〜２ｎｍ／キロサイクルの摩耗率に変換される。

上記実施例において示したフッ素化ＳＯＦ感光体層は、非フッ素化対応物（すなわちフルオロアルキルジオールの代わりにアルキルジオールを用いて調製されたＳＯＦ層）よりも欠失しにくい超低摩耗層として設計され、ＢＣＲ帯電システムにおいて頻繁に観察される、感光体の駆動モーターの故障を招く浄化ブレードとの負の相互作用を低下させるという利益をさらに有する。フッ素化ＳＯＦ感光体層は、既存の基板上にプロセス調節せずに塗工でき、優れた電気特性を有する。

実施例７
この実施例は、オーバーコートを形成する塗工混合物の調製を示す。以下の方法は、オーバーコート組成物の形成についての例示である。試薬の量について表３を参照すると、本方法を、撹拌棒を用いて正孔輸送分子（ＴＭＥ−ＴＢＤによって例示する、図６参照）および全フッ素化ジオール（１２ＦＯＤ）の瓶への添加から始めた。混合物を１１０℃で３０分間加熱して１２ＦＯＤを溶融し、ＴＭＥ−ＴＢＤを溶解し、容器の側面から固体が実質的にすべて除去され、ＴＭＥ−ＴＢＤが１２ＦＯＤへ溶解されることを確実にする。次に、ダワノールをニートで１１０℃で５分にわたって添加した（これは、酸の添加をシミュレートするために３０分かけて行ってもよい）。ＳＩＬＣＬＥＡＮ（登録商標）３７００を加え、加熱を１１０℃で１分間継続した。次いで、反応混合物を室温に冷やし溶液を５ミクロンフィルターで濾過した。次いで、この溶液は、被膜を形成し、硬化させてＣＴＬを形成する準備が完了した。

実施例８
酸触媒は溶液の０．０５重量％まで添加してもよいが、この実施例では酸を加えなかった。次いで溶液を製造品のチグリス感光体ベルトにウェブ塗工し、１５５℃で５分間加熱して溶媒を除去し層は恐らく部分的に架橋された。層厚は〜６ミクロンであった。層の溶媒試験は、難溶性または部分的な架橋を示した。

実施例９−外部酸処理
５０／５０の濃度のＮａｃｕｒｅ ５２２５およびダワノールの酸溶液を作り、実施例８で作った素子の表面に、発泡体ブラシを用いて溶液をぬぐうことによって塗布した。素子をもう一度１５５℃でさらに４０分加熱し、層表面を完全に架橋した。層の溶媒試験は優れた表面架橋を示した。

実施例１０
図７は、酸触媒を用いないＴＭＥ−ＴＢＤフッ素化構造化有機膜（ＦＳＯＦ）対酸触媒を用いて形成された従来のＦＳＯＦ膜のＵＤＳ電気的評価を示す。触媒がないと、ＦＳＯＦ調合物はなおよく塗工され、長く加熱されるほど硬質（より引掻きにくく）に見えることが分かった。ＵＤＳで測定すると、酸を用いたＦＳＯＦ層と比較して酸を含まないＦＳＯＦは、改善された光放電（低いＶｌｏｗ）および良好な帯電特性を示した。

Claims (10)

1. オーバーコート層を形成する方法であって、
   （ｉ）電荷輸送層および電荷発生層または（ｉｉ）電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含む画像化層を含む、基板上に形成された画像化構造を有する前記基板を準備するステップと；
   電荷輸送分子、フッ素化構成要素であって、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボニルもしくはアルデヒド官能基またはこれらの官能基のいずれかの無水物でαおよびωの位置で置換されたフッ素化アルキルモノマーであるフッ素化構成要素、平滑剤、液体担体および場合によって第１の触媒を含むオーバーコート組成物を前記画像化構造に堆積させるステップと；
   前記オーバーコート組成物を硬化させてフッ素化構造化有機膜であるオーバーコート層を形成するステップとを含み、前記硬化させるステップは、前記オーバーコート層中に架橋勾配を形成する少なくとも１つの架橋プロセスでの前記オーバーコート組成物の外側表面の処理を含み、
   ここで、前記オーバーコート組成物が前記第１の触媒を含む場合、前記オーバーコート層を完全に架橋するには不十分な量の前記第１の触媒を有する方法。
2. 前記オーバーコート層が、前記画像化構造から遠位の第１の主面、および前記画像化構造に近位の第２の主面を含み、前記架橋勾配が、前記第２の主面での架橋密度より大きい前記第１の主面での架橋密度を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記架橋プロセスが、（ｉ）第２の触媒の前記表面への適用および加熱、（ｉｉ）前記表面のプラズマへの曝露、（ｉｉｉ）前記表面の放射への曝露、（ｉｖ）前記表面の水素衝撃への曝露からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
4. 前記電荷輸送分子が下記一般式１によって表されるトリアリールアミン
   

   

   ［式中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４は、それぞれ独立して、置換または非置換のアリール基を表し、Ａｒ^５は、置換または非置換のアリール基と置換または非置換のアリーレン基からなる群から選択され、ｋは０または１を表し、
   ここで、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４およびＡｒ^５のうちの少なくとも２つは、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カルボナート、アミン、アミド、イミン、ウレア、アルデヒド、イソシアナート、トシラート、アルケンおよびアルキンからなる群から選択される官能基を含む。］である、請求項１に記載の方法。
5. 前記フッ素化構成要素が、４から１２個の炭素原子を有する、αおよびωの位置でヒドロキシル基末端化した直鎖状フッ素化アルカンである、請求項４に記載の方法。
6. 感光体であって、電気伝導性材料を含む基板と；
   （ｉ）電荷輸送層および電荷発生層または（ｉｉ）電荷発生材料と電荷輸送材料の両方を含む画像化層を含む、前記基板上に形成された画像化構造と；
   架橋勾配を有するフッ素化構造化有機膜を含む、画像化構造上のオーバーコート層とを含み、
   ここで、架橋度は、前記画像化構造から遠位にある前記オーバーコート層の部分で最も大きい感光体。
7. 前記構造化有機膜（ＳＯＦ）が複数のセグメント、ならびに第１のフッ素化セグメントおよび第２の電気活性セグメントを含む複数のリンカーを含む、請求項６に記載の感光体。
8. 前記第１のフッ素化セグメントが以下からなる群から選択されるセグメントである、請求項７に記載の感光体。
   

   
9. 前記第１のフッ素化セグメントが、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカンフルオロ−１，８−オクタンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ペルフルオロデカン−１，１０−ジオール、（２，３，５，６−テトラフルオロ−４−ヒドロキシメチル−フェニル）−メタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブタンジオール、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロ−１，５−ペンタンジオール、および２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロ−１，９−ノナンジオールからなる群から選択されるフッ素化構成要素から得られる、請求項７に記載の感光体。
10. 前記第２の電気活性セグメントが、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン：
    

    

    およびＮ４，Ｎ４’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ４，Ｎ４’−ジ−ｐ−トリル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン：
    

    

    からなる群から選択される、請求項７に記載の感光体。

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