JP2016053863A - 温度調節装置 - Google Patents

温度調節装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016053863A
JP2016053863A JP2014179699A JP2014179699A JP2016053863A JP 2016053863 A JP2016053863 A JP 2016053863A JP 2014179699 A JP2014179699 A JP 2014179699A JP 2014179699 A JP2014179699 A JP 2014179699A JP 2016053863 A JP2016053863 A JP 2016053863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
cooler
changing
exposure apparatus
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014179699A
Other languages
English (en)
Inventor
洋光 藤
Hiromitsu Fuji
洋光 藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2014179699A priority Critical patent/JP2016053863A/ja
Publication of JP2016053863A publication Critical patent/JP2016053863A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Devices That Are Associated With Refrigeration Equipment (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)

Abstract

【課題】冷却器やヒータの消費エネルギーを小さくしつつ、省エネルギー運転から標準運転への復帰時間を短縮することができる温度調節装置を提供すること。【解決手段】露光装置本体(111)と該露光装置本体を包囲するチャンバ(112)と該チャンバ内の温度を調節する温度調節装置(113)を備えた露光装置において、前記温度調節装置は、気体を冷却する冷却器(121)と冷却された気体又は液体を所定の温度に加熱するヒータ(122)を有し、一旦冷却した気体又は液体を加熱して所定の温度に調節した気体又は液体を前記チャンバ内に供給するように構成され、前記チャンバ内の前記冷却器の冷凍能力を変更する手段と冷凍能力の変更と同時に温度異常判定閾値を変更する手段を有することを特徴とする。【選択図】図1

Description

本発明は、温度調節装置に関し、特に、露光装置用の温度調節装置に関する。
半導体露光装置等においては、位置決めステージの駆動手段や電気基盤、レーザ発振器等の発熱源を有するために、この発熱源により露光装置の周囲雰囲気の温度が上昇されることを阻止し、精密温調を保つことが重要な課題となっている。すなわち、半導体露光装置内の温度が変動すると、露光光路中の気体の温度揺らぎによる露光むらや干渉計光路中の気体の温度揺らぎによる位置決め精度低下、さらにレチクルやウエハ等の基板に熱変形が生じるなど、高精度な露光転写を行なうことが困難になる。そのために、露光装置を包囲するチャンバ内の温度の上昇や変動を制御し、チャンバ内の温度を所定の温度に維持するための温度調節装置が採用されている(特許文献1乃至特許文献3参照)。
この種の温度調節装置を備えた露光装置としては、例えば、図3に図示するような装置が知られている。すなわち、露光装置110は、レチクル等の原版のパターンをウエハ等の基板に転写する露光装置本体111と、露光装置本体111を包囲するチャンバ112内の空気の温度を調節する温度調節装置113を具備する。温度調節装置113により所定の温度に調節された空気はフィルタ115より流入され、矢印で示すように露光装置本体111に沿って下方に流れ、空気流出口116から排出されるように構成され、露光装置本体111の発熱源の熱を放熱させて排除する。
また、温度調節装置113は、チャンバ112の空気流出口116から排気される空気と外気取込口117からの空気をベースヒータ122にて加温した後、冷却器121で熱交換を行ない冷却し所定の温度へ調整を行ないファン124に吸い込まれる。ファン124に吸い込まれた空気は最終目的温度に精密温度調節を行なう高感度ヒータ123に送風され温調された後にフィルタ115を介してチャンバ112に流入する。また、ベースヒータ122と高感度ヒータ123はそれぞれ流出側に配置された温度センサ131・132の測定結果を基にして制御部130・131によりそれぞれ制御されるように構成されている。
このような従来の露光装置の温度調節装置においては、冷却器121の冷却能力は一定運転しており、露光装置本体111の発熱量変化はベースヒータ122の発熱量を変化させることで高感度ヒータ123に流入する温度を一定に保ち精密温調を可能としている。
特開昭62−299639号公報 特開2004−353916号公報 特開2009−236452号公報
半導体露光装置等においては、露光むらをなくしかつ精密な位置決めを必要とし、高い分解能で空気の温度を調整することが重要であり、さらに、今まで以上にスピードアップが求められており、そのために、より大電力を消費する方向へ進んでいる。
従来の半導体露光装置等における温度調節装置においては、露光装置自体が大きいために、温度調節を要する空間(露光装置本体を包囲するチャンバー)も大きく、温度調節システムも大きなものとなっている。
また、高精度な温調精度を達成する為温度調節装置の冷却器はその能力を可変とすることができず、ヒータ側で温度調節を行なうようにしている。冷却器の能力は通常露光装置本体が稼働している状態での発熱量を基準に決められており、この冷却器の能力に応じて温度を上昇させるために必要な容量を持つヒータを用いることが必要となり、冷却器やヒータはともに大容量のものが必要となっている。
しかしながら、常に装置が稼働し続けると言う生産体制から変化し、必要最低限の装置を稼働させる生産体制に変化しつつあり、装置非稼働時の省エネ運転が必要となってきている。
しかし、露光装置本体を停止させて、温度調節装置のみを運転させても露光装置本体分の熱量をヒータで発熱し熱量のバランスを保つシステムである為省エネ運転にはならない。また、温度調整装置まで停止してしまうと露光装置本体の温度が変わってしまい装置復帰の温度安定待ちに数日のレベルの時間を要してしまうと言うのが従来技術の課題となっている。
そこで、本発明は、従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであって、冷却器やヒータの消費エネルギーを小さくしつつ、省エネルギー運転から標準運転への復帰時間を短縮することができる温度調節装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の露光装置は、冷凍機の冷凍能力を切り替える手段と、冷凍能力を落とした際に温度異常判定閾値を広げる手段と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、冷凍機の冷凍能力を落とすことで冷凍機の消費電力の削減が可能となり、また、冷却能力が落ちたことでヒータの必要熱量も小さくなりヒータの消費電力の削減も可能な露光装置を提供することができる。また、設定温度を変更しないことで省エネ運転状態からの復帰時間を短縮することができる。
本発明の第1実施形態、及び、第3の実施形態の露光装置を示した図である。 本発明の第2実施形態の露光装置を示した図である。 従来の露光装置を示した図である。
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
〔第1実施形態〕
本発明に基づく温度調節装置を備えた露光装置の第1の実施形態について、その概略構成を示す図1を参照して説明する。
図1において、露光装置110は、レチクル等の原版のパターンをウエハ等の基板に転写する露光装置本体111と、露光装置本体111を包囲するチャンバ112と、チャンバ112内の空気の温度を調節する温度調節装置113とを具備している。
温度調節装置113により所定の温度に調節された空気は上部に配置されたフィルタ115より流入され、矢印で示すように露光装置本体111に沿って下方に流れ、空気流出口116から排出されるように構成される。露光装置本体111に沿って流れる空気は、露光装置本体111の発熱源から発生する熱を放熱させて排除し、チャンバ112内の温度を所定の温度に維持する。空気流出口116から温調装置113に戻ってきた空気と外気取込口117から取り込んだ空気をベースヒータ122及び冷却器121を通し、ファン124により精密温度調節を行なう高感度ヒータ123に送風され、チャンバ112に供給される構成となっている。
ベースヒータ122と高感度ヒータ123の流出側の空気の温度を測定する温度センサ131・132は制御部129・130に接続され、それぞれ測定された測定結果に基づいてベースヒータ122、及び、高感度ヒータ123を制御するように構成されている。
以上のように構成される露光装置110において、空気流出口116から排出される空気は、露光装置本体111の発熱源から発生する熱を吸収して温度調節装置113に取り込まれる。この時露光装置本体111の発熱源から発生する熱が少ない場合はベースヒータ122が発熱することで温度センサ131の温度が一定になるように制御部129制御を行なっている。尚、冷却器121の冷凍能力を制御するコントローラ132は通常運転状態では一定能力で運転を行なっているが、コントローラ133により冷却器121の能力を落とすことで、冷却器121、ベースヒータ122の消費電力を削減することが可能となる。但し、冷却器121の能力を落とすことが可能なのは露光装置本体111が停止中の時のみである。また、冷却能力を変化させることで温度安定精度が低下し、安定するまでの時間を有する為1日単位で露光装置本体111を停止する時に冷却能力を落とすことが可能となる。
冷却能力を下げた際に温度センサ131の温度安定精度が通常運転と比較し低下することが考えられるが、露光装置本体111は非稼働状態の為温度安定精度の低下は問題とならない為制御部129,130の温度異常判定閾値を変更することが可能となる。また、温度安定精度は変わるが、設定温度が変わらないことで冷却器121の能力を復帰させた後の温度安定待ち時間も温度調節装置113の停止状態からと比較し大幅に短縮することが可能となる。
尚、本発明において気体は空気の他にヘリウムガスまたはアルゴンガス等の不活性ガス、液体は水の他フッ素系不活性液体でも良い。また、液浸露光装置や真空露光装置においても実施可能である。
冷却器121の冷却能力を落とすコントローラ133の手段として冷却器121用の冷凍機の運転周波数を制御するインバーターの周波数設定を通信により操作パネル上より変更することで冷凍機の運転周波数を落とし冷凍能力を低下させる。
また、冷却器121の冷凍能力を落とすコントローラ133の別の手段として冷却器121へ流れる冷媒配管の膨張弁の開度を通信により操作パネル上より変更することで冷媒流量を変更し冷凍能力を低下させる。
〔第2実施形態〕
次に、本発明に基づく露光装置の第2の実施形態について図2を参照して説明する。図2は本発明の露光装置の第2の実施例の概略構成図であり、前述した実施例と同様の部材には同一符号を付して説明する。
第1の実施形態で実施した冷却器121能力を落とすと同時にファン124の能力を制御するコントローラ134により流量を落とすことでベースヒータ122と高感度ヒータ123両方の発熱量を減少することが可能となる。つまり、ベースヒータ122と高感度ヒータ123、ファン124それぞれの発熱量を減少させることで消費電力を削減することが可能となる。
温度調節装置113の冷却器121の能力、及び、流量は、露光装置本体111が稼働している状態での発熱量を基準に想定して決められていが、露光装置本体111が非稼働時は発熱量が削減されることで冷却能力、及び、流量を低減することが可能となる。
尚、空気の流量だけではなく、液(水や不活性冷媒など)の流量を落とすことでも同様な効果を得ることが可能である。
ファン124の流量を落とすコントローラ134の手段としてファン124用の運転周波数を制御するインバーターの周波数設定を通信により操作パネル上より変更することでファン124の運転周波数を落とし流量を低下させる。
〔第3実施形態〕
次に、本発明に基づく露光装置の第3の実施形態について説明する。第3の実施形態の概略構成図は本発明の図1を用いて説明する。第1の実施形態で実施した冷却器121の能力を落とすと同時に制御部129で制御している温度センサ131の目標温度を変更する。温度センサ131の目標温度を上げることで、高感度ヒータ123の発熱量を小さくすることが可能となる。つまり、高感度ヒータ123発熱量を減少させることで消費電力を削減することが可能となる。
温度調節装置113の冷却器121の能力は、露光装置本体111が稼働している状態での発熱量を基準に想定して決められていが、温度センサ131の目標温度も露光装置本体111が稼働している状態を想定して決められている。温度センサ131の目標温度は高感度ヒータの出力が40〜60%になるように設定されているが、制御部129,130の温度異常判定閾値を変更することが可能であるので、高感度ヒータ111の出力が5〜45%になるように設定することが可能となる。
110 露光装置、111 露光装置本体、112 チャンバ、113 温度調節装置、
115 フィルタ、116 空気流出口、117 外気取込口、121 冷却器、
122 ベースヒータ、123 高感度ヒータ、124 ファン、129 制御部、
130 制御部、131 温度センサ、132 温度センサ、133 コントローラ、
134 コントローラ

Claims (7)

  1. 発熱源を含む本体を包囲するチャンバと該チャンバ内の温度を調節する温度調節装置において、前記温度調節装置は、気体又は液体を冷却する冷却器と冷却された気体又は液体を所定の温度に加熱するヒータを有し、一旦冷却した気体又は液体を加熱して所定の温度に調節した気体又は液体を前記チャンバ内に供給するように構成され、前記チャンバ内の前記冷却器の冷凍能力を変更する手段と冷凍能力の変更と同時に温度異常判定閾値を変更する手段を有することを特徴とする温度調節装置。
  2. 前記冷却器の冷凍能力を変更する手段を冷凍機の運転周波数の変更で行うことを特徴とする請求項1に記載の温度調節装置。
  3. 前記冷却器の冷凍能力を変更する手段を膨張弁の制御による冷媒ガス量制御により冷凍機の運転周波数の変更で行うことを特徴とする請求項1に記載の温度調節装置。
  4. 前記冷却器の冷凍機能力を変更すると同時に、ファン及びポンプの運転周波数を変更することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の温度調節装置。
  5. 前記冷却器の冷凍機能力を変更すると同時に、1次温調目標温度を変更することを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の温度調節装置。
  6. 前記温度調節装置は、前記露光装置本体の稼働状態に基づいて制御されることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の温度調節装置。
  7. 請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載の温度調節装置を備えた露光装置を用いて基板を露光する工程を含む製造工程によってデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
JP2014179699A 2014-09-04 2014-09-04 温度調節装置 Pending JP2016053863A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014179699A JP2016053863A (ja) 2014-09-04 2014-09-04 温度調節装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014179699A JP2016053863A (ja) 2014-09-04 2014-09-04 温度調節装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016053863A true JP2016053863A (ja) 2016-04-14

Family

ID=55744206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014179699A Pending JP2016053863A (ja) 2014-09-04 2014-09-04 温度調節装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016053863A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107665006A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种温度控制***及控制方法
KR20180045497A (ko) * 2016-10-26 2018-05-04 세메스 주식회사 약액의 온도 제어 방법
CN109814623A (zh) * 2019-02-20 2019-05-28 李永 一种自动温控散热变频器
CN113359894A (zh) * 2021-06-21 2021-09-07 江苏拓米洛环境试验设备有限公司 一种环境试验箱的加湿方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107665006A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种温度控制***及控制方法
CN107665006B (zh) * 2016-07-29 2020-04-10 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种温度控制***及控制方法
KR20180045497A (ko) * 2016-10-26 2018-05-04 세메스 주식회사 약액의 온도 제어 방법
KR102636296B1 (ko) 2016-10-26 2024-02-14 세메스 주식회사 약액의 온도 제어 방법 및 장치
CN109814623A (zh) * 2019-02-20 2019-05-28 李永 一种自动温控散热变频器
CN113359894A (zh) * 2021-06-21 2021-09-07 江苏拓米洛环境试验设备有限公司 一种环境试验箱的加湿方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11378893B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a heater
CN103092229B (zh) 激光器温度稳定控制***
JP7301903B2 (ja) 比例式熱流体送達システムを使用した基板キャリア
US9155134B2 (en) Methods and apparatus for rapidly responsive heat control in plasma processing devices
US20200333766A1 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, semiconductor device manufacturing method, and control program
JP5641709B2 (ja) デバイス製造装置およびデバイス製造方法
JP2016053863A (ja) 温度調節装置
US20080231304A1 (en) Apparatus and method for controlling temperature in a chuck system
JP2006153429A (ja) 恒温流体供給システム
KR20110125595A (ko) 온도 제어 장치, 유체 순환 장치, 및 온도 제어 장치를 이용한 온도 제어 방법
CN203135201U (zh) 控制准分子气体激光器放电腔内温度的装置
JP4689308B2 (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
US9256231B2 (en) Device manufacturing apparatus and device manufacturing method
JP2005332287A (ja) 温度調節装置およびデバイス製造装置
KR100707976B1 (ko) 냉각수의 유량제어 수단과 냉각제의 가열수단을 구비한반도체 공정용 칠러
JP2003148852A (ja) チャック用温度制御装置及びチャックの温度制御方法
JP2001244178A (ja) 露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法
JP2003229348A (ja) 半導体露光装置
JP2007085712A (ja) 空調装置
JP2008185232A (ja) 温調空気供給装置
JP4121361B2 (ja) チャック温度制御方式
JP2005197471A (ja) 基板処理装置及び温度調節方法
JP2003195952A (ja) 熱媒流体を用いて対象物の温度を調節するための装置及び方法
JP2010045300A (ja) 露光装置
JP2024055603A (ja) 脈動低減装置、冷却装置、リソグラフィー装置および物品製造方法