JP2016026867A - 連続式粒子製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理容器1内の粒子Pを吸引ノズル6によって選別部7のサイクロン機構7aに送り、固気分離した後、分級機構7bに送り、上方に吹き上げる分級気流A2によって、処理未完了粒子P0と処理完了粒子P1とに選別し、処理完了粒子P1は自重により降下して排出部10に排出され、処理未完了粒子P0は分級気流A2に搬送されてサイクロン機構7aに戻り、サイクロン機構7aを降下しなかった処理未完了粒子と共に分級気流A2、または、分級気流A2と吸引ノズル6からの吸引気流との混合気流によって、吐出ノズル8に移送され、吐出部8aから気流とともに処理容器1の内壁面1aに吹き付けられる、粒子を連続的に製造する装置構成。
【選択図】図1
Description
1a 内壁面
4 気体導入部
5 スプレーノズル
6 吸引ノズル
7 選別部
7a サイクロン機構
7b 分級機構
7b1 バイパス経路
8 吐出ノズル
8’ 第2の吐出ノズル
10 排出部
10a 排出経路
11 三方切換え弁
12 開放弁
21 気体噴出ノズル
P 粒子
P0 処理未完了粒子
P1 処理完了粒子
Claims (9)
- 処理容器と、前記処理容器の内部に処理気体を導入する処理気体導入部と、前記処理容器の内部に設けられ、原料粉末を含む原料液、結合剤液及び膜剤液のうち一の処理液を噴霧するスプレーノズルとを備え、前記処理容器内で前記スプレーノズルから噴霧される原料液の乾燥によって連続的又は断続的に生成される原料粉末の乾燥粒子、または、前記処理容器内に連続的又は断続的に投入される原料粉末の粒子を、前記処理気体によって浮遊流動させつつ、前記スプレーノズルから噴霧される前記処理液と接触させて造粒又はコーティング処理を行い、前記造粒又はコーティング処理が完了した処理完了粒子を連続的又は断続的に排出する連続式粒子製造装置において、
前記処理容器の内部から粒子を取り出す粒子取出し部と、前記粒子取出し部で取り出された粒子を処理完了粒子と処理未完了粒子とに選別する選別部と、前記選別部で選別された処理完了粒子を排出する排出部と、前記選別部で選別された処理未完了粒子を前記処理容器の内部に戻す粒子戻し部とを備え、前記粒子戻し部は、前記処理未完了粒子を気流と伴に前記処理容器の内壁面に吹き付けることを特徴とする連続式粒子製造装置。 - 前記粒子戻し部は、前記処理未完了粒子を含む気流を、前記処理容器の内壁面に対して接線方向又は上下方向に吐出する吐出ノズルを備えていることを特徴とする請求項1に記載の連続式粒子製造装置。
- 前記粒子取出し部は、前記処理容器内の粒子を吸引して取り出す吸引ノズルを備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の連続式粒子製造装置。
- 前記選別部は、前記粒子取出し部で取り出された粒子を分級気流により処理完了粒子と処理未完了粒子とに選別する分級機構を備えていることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の連続式粒子製造装置。
- 前記選別部は、サイクロン機構を備えており、前記分級機構は、前記サイクロン機構を介して前記粒子取出し部と前記粒子戻し部に接続されていることを特徴とする請求項4に記載の連続式粒子製造装置。
- 前記選別部は、前記分級機構の上部に接続されたバイパス経路と、該バイパス経路と連通可能な第2の粒子戻し部とを備えており、前記バイパス経路と前記第2の粒子戻し部とが連通した状態で、前記分級気流及び前記処理未完了粒子の一部が前記バイパス経路と前記第2の粒子戻し部を通って前記処理容器の内部に戻されることを特徴とする請求項4又は5に記載の連続式粒子製造装置。
- 前記バイパス経路は、切換え弁を介して前記第2の粒子戻し部と、前記排出部に繋がる排出経路とに接続され、前記切換え弁は、前記バイパス経路と前記第2の粒子戻し部とが連通した状態と、前記バイパス経路と前記排出経路とが連通した状態と、に切り換え可能であり、前記分級機構の上部は、前記バイパス経路よりも上方の位置で開閉弁により開閉可能に構成され、前記切換え弁により、前記バイパス経路と前記排出経路とを連通させ、かつ、前記開閉弁により、前記分級機構の上部を閉じた状態で、前記分級機構に前記分級気流よりも強い気流を導入し、前記分級機構に滞留した前記処理完了粒子を前記気流により前記バイパス経路及び前記排出経路を介して前記排出部に排出することを特徴とする請求項6に記載の連続式粒子製造装置。
- 前記処理容器の壁部に気体噴出ノズルが設置されており、該気体噴出ノズルは、前記処理容器の内壁面に沿って円周方向に流れる旋回流を形成するように気体を噴出することを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載の連続式粒子製造装置。
- 攪拌羽根を有する回転板を前記処理容器の底部に設置したことを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載の連続式粒子製造装置。
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