JP2016018028A - 光軸調整装置および光軸調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】位置信号と光強度信号との間の同期ずれを抑制でき、高精度の光軸調整を高速に達成できる光軸調整装置および光軸調整方法を提供する。【解決手段】光軸調整装置は、ＬＤモジュール１と光ファイバ２との間の相対位置を制御するＸＹステージ３と、該相対位置に対応したアナログ位置信号を出力する位置センサ５と、ＬＤモジュール１から光ファイバ２に入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号を出力する光検出器７と、アナログ位置信号およびアナログ光強度信号を相互に同期してそれぞれ対応するデジタル値に変換するＡ／Ｄ変換器８と、Ａ／Ｄ変換器８からのデジタル値を保存する記憶部９ｂと、記憶部９ｂに保存されたデジタル値に基づいて、光軸調整に最適な相対位置を探索する演算部９ａなどを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、光素子モジュールと光ファイバとの光軸調整を行うための光軸調整装置および光軸調整方法に関する。

近年、光通信の通信速度はますます増大しており、高い通信速度を有し、より小型で低消費電力である光通信モジュールが要望されている。そのため、１つの光通信モジュール内に波長の異なる複数のレーザダイオード素子（以下、ＬＤ素子）を実装し、それらのＬＤ素子から出力される光を合波し、単一の光ファイバに光結合させることで、小型で高い通信速度を有する集積型光通信モジュール（以下、集積モジュール）が開発されている。

従来、１つの光通信モジュールに１つのＬＤ素子が組み込まれており、このＬＤ素子に対して光ファイバとの光軸調整を行い、光ファイバを通して測定される光強度が最適となる位置で光通信モジュールおよび光ファイバを固定していた。

しかしながら、上記の集積モジュール内には波長の異なる複数のＬＤ素子が実装されているため、それぞれのＬＤ素子に対して光ファイバの光軸調整を行い、それぞれのＬＤ素子に応じた光軸調整座標から集積モジュールに対する光ファイバの最適位置を決定する必要がある。そのため、集積モジュール内に実装されているＬＤ素子の数だけ光軸調整の実行回数が増加することになり、その結果、光軸調整に要する時間も増加する。

下記特許文献１では、光軸調整装置の光強度測定に伴うステージ移動、停止時間を短縮し、さらにステージ位置に同期した光強度測定を行うことによって、光軸調整時間を削減することが提案されている。具体的には、光通信モジュールと光ファイバの相対位置を調整するステージには、ロータリーエンコーダを備えた駆動モータが取り付けられており、ロータリーエンコーダの出力信号は同期信号出力回路に供給されている。光ファイバで伝送された光の強度は、光パワー検出部によって測定され、Ａ／Ｄ変換器に入力される。Ａ／Ｄ変換器は、同期信号出力回路からの外部同期信号に同期してＡ／Ｄ変換を開始し、変換されたデジタル値はバッファメモリに蓄積している。これにより光強度を測定するためのステージ停止時間を削減し、光軸調整時間を削減している。

ここで、ロータリーエンコーダの出力信号は、同期信号出力回路を介してＡ／Ｄ変換器に入力されている。そのため、ロータリーエンコーダの出力信号と、Ａ／Ｄ変換器に入力される同期信号との間の出力タイミングは、同期信号出力回路の介在によって時間遅延が生じ、その時間遅延分だけ、測定した光強度との同期にずれが生じてしまう。

また、特許文献１には明示されていないが、ロータリーエンコーダの出力信号をカウントし、ステージの座標位置と移動方向を検出するカウンタも必要となることから、ステージの位置データと光強度データの同期のずれがよりいっそう増加してしまう。
また、特許文献１では、集積モジュールのようにモジュール内に複数のＬＤ素子を実装している場合、光軸調整回数が増加してしまう。

特開２００３−１８５４９５号公報 特開平９−３１１２５０号公報

特許文献１では、上述のように、光通信モジュールと光ファイバとの光軸調整において、両者の相対位置を調整するステージの位置データと光ファイバにより測定されるＬＤ素子の光強度を同期して測定する場合、ステージ位置と光強度の同期にずれが生じてしまう。さらに、上記の同期ずれは、ステージを高速に駆動させるほど顕著になるため、光軸調整を高速化すると調整精度が悪くなる。

また、１つの光通信モジュール内に波長の異なる複数のＬＤ素子を実装している集積型光通信モジュールにおいては、複数のＬＤ素子毎に光ファイバとの光軸調整を行う必要があるため、光軸調整回数が増加し、光ファイバの調整組立時間が長くなってしまう。

本発明の目的は、位置信号と光強度信号との間の同期ずれを抑制でき、高精度の光軸調整を高速に達成できる光軸調整装置および光軸調整方法を提供することである。

上記目的を達成するために、本発明は、光素子モジュールと光ファイバとの光軸調整を行うための光軸調整装置であって、
前記光素子モジュールと前記光ファイバとの間の相対位置を制御する移動機構と、
該相対位置に対応したアナログ位置信号を出力する位置センサと、
前記光素子モジュールから前記光ファイバに入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号を出力する光検出器と、
アナログ位置信号およびアナログ光強度信号を相互に同期してそれぞれ対応するデジタル値に変換するアナログデジタル変換器と、
該アナログデジタル変換器からのデジタル値を保存する記憶部と、
該記憶部に保存されたデジタル値に基づいて、光軸調整に最適な相対位置を探索する演算部と、を備えることを特徴とする。

また本発明は、光素子モジュールと光ファイバとの光軸調整を行うための光軸調整方法であって、
前記光素子モジュールと前記光ファイバとの間の相対位置を予め定めた走査範囲内で連続的に走査しながら、前記光素子モジュールから前記光ファイバに入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号および前記相対位置に対応したアナログ位置信号を相互に同期してそれぞれ対応するデジタル値に変換し、記憶部に保存する連続走査ステップと、
該記憶部に保存されたデジタル値に基づいて、光軸調整に最適な相対位置を探索する探索ステップと、を含むことを特徴とする。

本発明によれば、光素子モジュールと光ファイバとの間の相対位置に対応したアナログ位置信号および、光ファイバに入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号の両方を相互に同期してそれぞれ対応するデジタル値に変換することによって、位置信号と光強度信号との間の同期ずれを抑制できるため、高精度の光軸調整を高速に達成できる。

本発明の実施の形態１に係る光軸調整装置を示す構成図である。 比較例として従来の光軸調整方法を示すフロー図である。 本発明に係る光軸調整方法の一例を示すフロー図である。 ＬＤモジュールに複数のＬＤ素子が実装された場合、走査位置と光強度の関係の一例を示すグラフである。 図５（ａ）は渦巻きスキャンの一例を示す説明図であり、図５（ｂ）はラスタースキャン一例を示す説明図である。

実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係る光軸調整装置を示す構成図である。光軸調整装置は、ＬＤモジュール１と、光ファイバ２と、ＸＹステージ３と、Ｚステージ４と、位置センサ５と、分波器６と、光検出器７と、Ａ／Ｄ変換器８と、コンピュータ９などを備える。ここで理解容易のため、ＬＤモジュール１からの光が進む方向をＺ方向、Ｚ方向に対して垂直かつ紙面と垂直な方向をＹ方向、Ｚ方向に対して垂直かつ紙面と平行な方向をＸ方向とする。

ＬＤモジュール１は、単一または複数のＬＤ素子およびレンズを内蔵しており、ＸＹステージ３の可動部に装着される。ＬＤ素子は、給電冶具（不図示）を経由してＬＤ電源（不図示）から所望のタイミングで給電される。波長分割多重通信（ＷＤＭ）の場合、ＬＤモジュール１には発光波長の異なる複数のＬＤ素子が実装され、各ＬＤ素子の光軸はほぼ共軸となるように位置決めされる。

ＸＹステージ３は、固定部と、該固定部に対してＸ方向およびＹ方向に変位する可動部と、可動部を駆動するＸモータおよびＹモータなどを備える。各モータには、コンピュータ９からの命令に従って動作する駆動回路（不図示）が接続される。ＸＹステージ３には、可動部のＸ方向およびＹ方向の相対位置に対応したアナログ位置信号を出力する２つの位置センサ５が設けられる。

光ファイバ２は、ＬＤモジュール１から出射される光を受光して伝送する機能を有しており、Ｚステージ４の可動部に装着される。

Ｚステージ４は、固定部と、該固定部に対してＺ方向に変位する可動部と、可動部を駆動するＺモータなどを備える。Ｚモータには、コンピュータ９からの命令に従って動作する駆動回路（不図示）が接続される。Ｚステージ４には、可動部のＺ方向の相対位置に対応したアナログ位置信号を出力する１つの位置センサ５が設けられる。

光ファイバ２の後端には、ＬＤモジュール１から光ファイバ２に入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号を出力する光検出器７が設けられる。波長分割多重通信（ＷＤＭ）の場合、光ファイバ２の後端に、光ファイバ２で伝送される光を波長別に分波する分波器６が介在し、分波器６の後段には、分波された光のアナログ光強度信号を出力する複数の光検出器７が波長毎に設けられる。光検出器７は、出力インターフェースとしてアナログ電圧出力を備えたタイプのＯ／Ｅコンバータ、パワーメータなどが使用できる。

Ａ／Ｄ変換器８は、位置センサ５からのアナログ位置信号および光検出器７からのアナログ光強度信号の両方を相互に同期して、それぞれ対応するデジタル値に変換する機能を有する。Ａ／Ｄ変換器８には、好ましくはバッファメモリ８ａが搭載されており、予め設定された周期毎に変換されるデジタル値が一時的に保存され、さらに所望のタイミングでコンピュータ９の記憶部９ｂに転送、保存される。

Ａ／Ｄ変換器８が、入力されるアナログ信号をデジタル値に変換するタイミングとして、外部からトリガ信号を与える方法と、入力信号の電圧値自体をトリガとする方法があるが、本発明においてはいずれのトリガ方法も使用できる。外部トリガ信号を用いる場合は、装置にトリガ信号発生器を設ける必要がある。また、アナログ信号の変換を停止する場合においても、いずれのトリガ方法も使用できる。

コンピュータ９は、マイクロプロセッサなどの演算部９ａと、ＲＯＭ、ＲＡＭ、磁気ディスク装置などの記憶部９ｂと、各種インタフェースなどを備えたパーソナルコンピュータなどで構成され、装置全体の動作を制御するとともに、記憶部９ｂに保存されたデジタル値に基づいて、光軸調整に最適な相対位置、例えば、最大光強度が得られる相対位置を探索する機能を有する。こうした機能は、一般にソフトウェアで実現できる。

本実施形態では、ＬＤモジュール１と光ファイバ２との間の相対位置を制御する移動機構として、ＸＹステージ３をＬＤモジュール１側に、Ｚステージ４を光ファイバ２側に設置した場合を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ＸＹステージ３を光ファイバ２側に、Ｚステージ４をＬＤモジュール１側に設置してもよく、あるいは、ＬＤモジュール１および光ファイバ２のいずれか一方を固定した状態で、他方の側にＸＹＺ方向に変位するＸＹＺステージを設けてもよい。

さらに、図１には図示していないが、ＬＤモジュール１および光ファイバ２のいずれか一方の側に、Ｘ軸周りおよびＹ軸周りの回転方向（θｘ、θｙ）に調整し面合わせを行う機構（例えば、ゴニオステージ等）、及び／又はＺ軸周りの回転方向（θｚ）に調整する機構（例えば、回転ステージ等）を追加して設けてもよい。

また本実施形態では、ＸＹステージ３およびＺステージ４に、Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向の相対位置に対応したアナログ位置信号を出力する位置センサ５を設けている。位置センサ５の出力は、ステージ位置の変化に対して線形的に変化することが好ましいが、単調増加曲線または単調減少曲線など、両者の値が一意に決まる関係式であれば足りる。

また、ＸＹステージ３およびＺステージ４を駆動するモータとして、ステッピングモータ、サーボモータなどが使用でき、さらにステージ内に位置センサ５を内蔵したピエゾステージを用いてもよい。なお、ピエゾステージは、高い分解能を有するが、その駆動範囲は、前述のステッピングモータ、サーボモータより小さいことから、これらを組み合わせて使用することが好ましい。

次に、光軸調整方法について説明する。図２は、比較例として従来の光軸調整方法を示すフロー図である。ここでは、ＸＹ平面上での光軸調整手順を示す。

まず始めに、ＸＹステージ３の可動部をいずれか１軸、例えばＸ方向に定量分だけ移動させ（ステップａ１）、そして一旦停止した状態で、光検出器７を用いて光強度を測定する（ステップａ２）。次に、測定した光強度が規格を満足するかを判定する（ステップａ３）。規格を満足しない場合は、ステップａ１に戻って再度ＸＹステージ３の可動部を同じ方向に定量分だけ移動させ、光強度を測定し（ステップａ２）、光強度が規格を満足するまで、繰り返し実行する。一方、ステップａ３において規格を満足する場合は、Ｘ方向のステージ移動は終了し、Ｘ方向の光軸調整は完了となる。

次に、残りの座標軸について光軸調整を行う。ＸＹステージ３の可動部をＹ方向に定量分だけ移動させ（ステップａ４）、そして一旦停止した状態で、光検出器７を用いて光強度を測定する（ステップａ５）。次に、測定した光強度が規格を満足するかを判定する（ステップａ６）。規格を満足しない場合は、ステップａ４に戻って再度ＸＹステージ３の可動部を同じ方向に定量分だけ移動させ、光強度を測定し（ステップａ５）、光強度が規格を満足するまで、繰り返し実行する。一方、ステップａ６において規格を満足する場合は、Ｙ方向のステージ移動は終了し、Ｙ方向の光軸調整は完了となる。こうしてＸ方向およびＹ方向の光軸調整が完了する。

ここで、ステップａ１，ａ４におけるＸＹステージの移動量は、ＬＤモジュール１と光ファイバ２の相対位置変化に対する光強度の変化量から決定する。例えば、移動量を１μｍ程度とした場合、ＸＹ方向の光軸調整範囲が１００μｍとすると、最大で１００００（＝１００×１００）点のデータを取得することなる。そのためステップ移動毎に停止していることから、光軸調整時間が長くなってしまう。そこで、一般的には、最初に１０μｍ程度の移動量としておき、ある程度光強度が得られるよう光軸調整し（粗調整）、最終的には調整範囲を絞った状態で１μｍの刻み幅で光軸調整（精調整）するといったように、移動量を段階に分けて調整している。また、ステージ走査方法としては、渦巻きスキャン、ラスタースキャンなどが一般に用いられる。

図３は、本発明に係る光軸調整方法の一例を示すフロー図である。ここでは、ＸＹ平面上で４つの座標（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ），（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｓ），（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｅ），（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｅ）で囲まれた矩形状の走査範囲内での光軸調整手順を示す。以下、この走査範囲を外周から内周に向けて渦巻きスキャンを行う場合を例示する。

［ステップｂ１］
まず始めに、ＸＹステージ３の可動部をＸ方向に座標（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ）から（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｅ）まで、停止することなく連続的に一定の速度で走査する。即ち、Ｘ方向走査と同時に光強度のアナログ測定を行いながら、Ａ／Ｄ変換器８のバッファメモリ８ａへのデータ蓄積を行う。このとき可動部のＸ方向の位置変化を測定している位置センサ５は、可動部の移動量に応じて連続的にアナログ電圧を出力しており、光強度測定データと同期してＡ／Ｄ変換器８のバッファメモリ８ａに蓄積される。ここで、波長分割多重通信（ＷＤＭ）の場合、光ファイバ２を通して伝送される光は分波器６により波長毎に分波されており、波長別の光強度測定データが同時にバッファメモリ８ａに蓄積される。

図４は、ＬＤモジュール１に複数のＬＤ素子が実装された場合、走査位置と光強度の関係の一例を示すグラフである。ここでは、４つのＬＤ素子が実装された例を示す。ＸＹステージ３の可動部をＸ方向に開始位置Ｘ_Ｓから終了位置Ｘ_Ｅまで走査した場合、４つのＬＤ素子に対応した光強度測定データＤ１〜Ｄ４が得られる。これらのデータＤ１〜Ｄ４は、ＬＤ素子の実装位置の変動に起因して、ピーク位置Ｘ１〜Ｘ４およびピーク高さが変動していることが判る。

［ステップｂ２］
ＸＹステージ３の可動部が開始位置Ｘ_Ｓから終了位置Ｘ_Ｅに到達すると、ＸＹステージ３の動作を停止させる。

［ステップｂ３］
今度は、ＸＹステージ３の可動部をＹ方向に座標（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｓ）から（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｅ）まで、停止することなく連続的に一定の速度で走査する。ステップｂ１と同様に、Ｙ方向走査と同時に光強度のアナログ測定を行いながら、Ａ／Ｄ変換器８のバッファメモリ８ａへのデータ蓄積を行う。このとき可動部のＹ方向の位置変化を測定している位置センサ５は、可動部の移動量に応じて連続的にアナログ電圧を出力しており、光強度測定データと同期してＡ／Ｄ変換器８のバッファメモリ８ａに蓄積される。ＬＤモジュール１に複数のＬＤ素子が実装された場合は、素子の個数分の光強度測定データが得られる。

［ステップｂ４］
ＸＹステージ３の可動部が開始位置Ｙ_Ｓから終了位置Ｙ_Ｅに到達すると、ＸＹステージ３の動作を停止させる。

［ステップｂ５］
上記の走査範囲に渡って、ＸＹ座標位置およびこれに対応する光強度測定データが網羅的に取得できるまで、ステップｂ１〜ｂ４を繰り返す。従って、渦巻きスキャンの場合は、図５（ａ）に示すように、続いて座標（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｅ）→（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｅ）→（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ＋１）→（Ｘ_Ｅ−１，Ｙ_Ｓ＋１）→（Ｘ_Ｅ−１，Ｙ_Ｅ−１）→（Ｘ_Ｓ＋１，Ｙ_Ｅ−１）→（Ｘ_Ｓ＋１，Ｙ_Ｓ＋２）→（Ｘ_Ｓ＋２，Ｙ_Ｅ−２）→…のようにして走査を行う。なお、代替としてラスタースキャンを行う場合は、図５（ｂ）に示すように、座標（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ）→（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｓ）→（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｓ＋１）→（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ＋１）→（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ＋２）→（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｓ＋２）→（Ｘ_Ｅ，Ｙ_Ｓ＋３）→（Ｘ_Ｓ，Ｙ_Ｓ＋３）→…のようにして走査を行う。

ここで、ＸＹステージ３においてピエゾステージを使用する場合は、光軸調整範囲がモータステージよりも小さいため、別途モータステージを設けてもよい。ピエゾステージの駆動範囲内において、光強度の規定量を満足しない場合、モータステージをピエゾステージの駆動範囲分だけ駆動させ、再度ステップ１ａから光軸調整を行うことで、より広い範囲で光軸調整が可能となる。

［ステップｂ６］
所定範囲の走査が完了すると、コンピュータ９の演算部９ａは、記憶部９ｂに保存されたＸＹ座標位置およびこれに対応する光強度測定データを参照して、光軸調整に最適な座標位置、例えば、最大光強度が得られる座標位置を探索する。

［ステップｂ７］
ステップｂ６で得られた最適な座標位置になるように、ＸＹステージ３の可動部を位置決めする。

ここで、波長分割多重通信（ＷＤＭ）の場合、分波器６によって分波された光は、Ａ／Ｄ変換器８に対してそれぞれ別のチャンネルとして入力されている。そのため、図４に示すように、４つのＬＤ素子に対応した光強度測定データＤ１〜Ｄ４ごとに光強度が最大となるステージ位置Ｘ１〜Ｘ４を求めることが可能である。なお、Ｙ方向走査についても同様に、４つのＬＤ素子ごとに光強度が最大となるステージ位置Ｙ１〜Ｙ４を求めることが可能である。

この場合、光軸調整に最適な座標位置を決定する手法として、ａ）位置Ｘ１〜Ｘ４の平均値および位置Ｙ１〜Ｙ４の平均値、ｂ）各ＬＤ素子の光強度が均一となるＸＹ位置、などが考えられる。

上記の説明では、１つのＺ平面（Ｚ＝Ｚａ）において光軸調整を行い、ＬＤモジュール１と光ファイバ２の相対位置が最適となるように、ＸＹステージ３の位置決めを行った。

続いて、光ファイバ２側に設けたＺステージ４を駆動して、別のＺ平面（Ｚ＝Ｚｂ）に変化させた状態でＸＹ方向に前述の光軸調整を行うことによって、Ｚステージ４の最適位置を決定できる。

最終的に、ＬＤモジュール１と光ファイバ２の間の最適な相対位置がＸ座標、Ｙ座標およびＺ座標について決定されると、最適な相対位置に位置決めした状態でＬＤモジュール１および光ファイバ２を共通ハウジング（不図示）に固定する。その固定方法は、一般にＹＡＧレーザ溶接、接着などが用いられる。

以上のように、従来の手法では、光強度測定の度に駆動ステージを停止させていたため、光軸調整時間が長くなってしまう。一方、本発明では、ＸＹステージ３を停止させることなく走査しながら、光強度信号およびステージ位置信号を相互に同期して測定することによって、光軸調整時間を大幅に短縮することが可能である。

また、光ファイバ２を通して伝送させる光を分波器６により分波し、Ａ／Ｄ変換器８のそれぞれ別のチャンネルに入力することによって、１つのモジュール内に複数のＬＤ素子を実装している集積型光通信モジュールにおいても、１回の光軸調整で全てのＬＤ素子に対して最適な光軸調整位置を求めることができ、光軸調整回数を削減できる。

１ ＬＤモジュール、 ２ 光ファイバ、 ３ ＸＹステージ、 ４ Ｚステージ、
５ 位置センサ、 ６ 分波器、 ７ 光検出器、 ８ Ａ／Ｄ変換器、
８ａ バッファメモリ、 ９ コンピュータ、 ９ａ 演算部、 ９ｂ 記憶部。

Claims (5)

1. 光素子モジュールと光ファイバとの光軸調整を行うための光軸調整装置であって、
   前記光素子モジュールと前記光ファイバとの間の相対位置を制御する移動機構と、
   該相対位置に対応したアナログ位置信号を出力する位置センサと、
   前記光素子モジュールから前記光ファイバに入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号を出力する光検出器と、
   アナログ位置信号およびアナログ光強度信号を相互に同期してそれぞれ対応するデジタル値に変換するアナログデジタル変換器と、
   該アナログデジタル変換器からのデジタル値を保存する記憶部と、
   該記憶部に保存されたデジタル値に基づいて、光軸調整に最適な相対位置を探索する演算部と、を備えることを特徴とする光軸調整装置。
2. 前記光素子モジュールには、発光波長の異なる複数の発光素子が実装されており、
   前記光ファイバで伝送される光を波長別に分波し、波長毎に設けられた前記光検出器に供給する分波器をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の光軸調整装置。
3. 光素子モジュールと光ファイバとの光軸調整を行うための光軸調整方法であって、
   前記光素子モジュールと前記光ファイバとの間の相対位置を予め定めた走査範囲内で連続的に走査しながら、前記光素子モジュールから前記光ファイバに入射する光の強度に対応したアナログ光強度信号および前記相対位置に対応したアナログ位置信号を相互に同期してそれぞれ対応するデジタル値に変換し、記憶部に保存する連続走査ステップと、
   該記憶部に保存されたデジタル値に基づいて、光軸調整に最適な相対位置を探索する探索ステップと、を含むことを特徴とする光軸調整方法。
4. 前記光素子モジュールには、発光波長の異なる複数の発光素子が実装されており、
   前記探索ステップでは、分波器を用いて前記光ファイバで伝送される光を波長別に分波し、最大光強度が得られる相対位置を波長別に探索することを特徴とする請求項３記載の光軸調整方法。
5. 前記光素子モジュールと前記光ファイバとの間の相対位置が、波長別の最大光強度位置の平均値になるように位置決めを行うステップをさらに含むことを特徴とする請求項４記載の光軸調整方法。

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