JP2016008967A - 粒子の収集および分析をするための方法およびシステム - Google Patents

Abstract

【課題】入口および出口を有する筺体内に収容された粒子発生源からの粒子の収集および分析をする一方法例が記述される。【解決手段】この方法は、濾過済み空気を入口から筺体の中に供給するステップと、真空源を用いて、粒子発生源からの粒子を含むエアロゾルストリームを出口から取り出すステップと、エアロゾルストリームを筺体の出口からサンプリングタワー経由で真空源へ方向付けるステップと、を含む。サンプリングタワーは、エアロゾルストリームをサンプリングするための少なくとも１つのノズルを含む。方法は、ノズルに結合された検出機器を用いて、エアロゾルストリーム中の粒子の少なくとも１つの特性を検出するステップと、エアロゾルストリーム中の粒子の検出済み特性に関するデータを計算装置に出力するステップと、を含む。【選択図】なし

Description

本開示の分野は、機械加工プロセスからの粒子の収集および分析をするための方法およびシステムに関する。

多くの材料の乾式の（すなわち、切削油剤を用いない）穴開け、フライス削り、研削、およびその他の機械加工によりダスト粒子が生成される。生成されるダスト粒子は、異なる材料間、単一材料に対する単独運転中、材料に対する異なる種類の運転の間、異なる切削工具間、などでサイズが異なることがある。いくつかの既知の材料の機械加工からの粒子は、サイズのうちでとりわけ、超微細な粒子を含む可能性があり、吸い込まれ得る。

いくつかの既知のシステムは、粒子発生装置（particle generating device）の周りの空気中の粒子のオープンエアサンプリング（open air sampling）を行う。粒子供給源に対する検出機器の距離および位置は、かかるシステムにおける粒子分析の結果に大きな影響を及ぼす可能性がある。さらに、研究されている粒子生成装置（particle-producing device）が活性化ダスト抽出システムと共に使用される場合、かかるサンプリングの結果は、装置によって生成された粒子を正確には表さない。しかし、粒子生成装置が活性化ダスト抽出システムを用いずに研究される場合、装置の周りの領域は、粒子生成装置からのダストで汚染される可能性がある。

本開示の一態様は、粒子の収集および分析に使用するシステムである。システムは、筺体、フィルタ、真空源、およびサンプリングタワーを含む。筺体は粒子生成装置に取り付けられるように構成され、入口および出口を含む。フィルタは筺体の入口に結合されるように構成され、入口を通って筺体に向けられる空気を濾過するように構成される。真空源は、筺体から真空源までのエアロゾルストリーム（aerosol stream）を発生させるために、筺体の出口と流れ連通して結合されるように構成される。エアロゾルストリームは、粒子生成装置によって生成された粒子を含む。サンプリングタワーは、真空源と筺体出口との間に結合されるように構成される。サンプリングタワーは、サンプリングタワーの中に延伸し、筺体から真空源までのエアロゾルストリームのサンプリングに使用するために構成された少なくとも１つのサンプリングノズルを含む。

本開示の別の態様は、入口および出口を有する筺体内に収容された粒子発生源からの粒子の収集および分析をする方法である。この方法は、濾過済み空気を入口から筺体の中に供給するステップと、真空源を用いて、粒子発生源から出口までの粒子を含むエアロゾルストリームを取り出すステップと、エアロゾルストリームを筺体の出口からサンプリングタワー経由で真空源へ方向付けるステップと、を含む。サンプリングタワーは、エアロゾルストリームをサンプリングするための少なくとも１つのノズルを含む。方法は、ノズルに結合された検出機器を用いて、エアロゾルストリーム中の粒子の少なくとも１つの特性を検出するステップと、エアロゾルストリーム中の粒子の検出済み特性に関するデータを計算装置に出力するステップと、を含む。

別の態様では、粒子生成装置の粒子生成箇所に生成された粒子の収集および分析に使用する閉システムが、筺体、フィルタ、第１の真空源、およびサンプリングタワーを含む。筺体は粒子生成装置に取り付けられる。筺体および粒子生成装置は、粒子生成箇所の周りに実質的に密閉された体積を協働して作り出す。筺体は、密閉された体積への入口および密閉された体積からの出口を含む。フィルタは筺体の入口に結合され、入口を通って筺体に向けられる空気を濾過するように構成される。第１の真空源は入口および出口を有する。第１の真空源の入口は、筺体から第１の真空源までのエアロゾルストリームを発生させるために、筺体出口と流れ連通して結合される。エアロゾルストリームは粒子生成装置によって生成された粒子を含む。第１の真空源の出口は、筺体に濾過済み空気を供給するためにフィルタと流れ連通して結合される。サンプリングタワーは、第１の真空源入口と筺体出口との間に結合される。サンプリングタワーは、サンプリングタワーの中に延伸し、筺体から真空源までのエアロゾルストリームをサンプリングするように構成された複数のサンプリングノズルを含む。

論じられている特徴、機能、および利点は、様々な実施形態で独立して達成することができ、あるいはされに他の実施形態では組み合わされてもよく、他の実施形態のさらなる詳細は以下の説明および図面を参照して分かる。

さらに、本開示は下記条項による諸実施形態を含む。
条項１．
粒子の収集および分析に使用するシステムであって、
粒子生成装置に取り付けられるように構成された筺体であって、入口および出口を含む筺体と、
前記筺体の入口に結合されるように構成され、かつ入口を通って前記筺体に向けられる空気を濾過するように構成されたフィルタと、
前記筺体から真空源までのエアロゾルストリームを発生させるために前記筺体の出口と流れ連通して結合されるように構成された真空源であって、エアロゾルストリームが粒子生成装置によって生成された粒子を含む、真空源と、
前記真空源と前記筺体出口との間に結合されるように構成されたサンプリングタワーであって、前記サンプリングタワーの中に延伸し、前記筺体から前記真空源までのエアロゾルストリームをサンプリングするように構成された少なくとも１つのサンプリングノズルを含む、サンプリングタワーと
を備えるシステム。
条項２．
前記筺体に濾過済み空気を供給するために前記フィルタに結合されるように構成された送風機をさらに備える、条項１に記載のシステム。
条項３．
前記送風機が、前記筺体から空気を取り出すように構成された前記真空源がと略同じ速度で、前記筺体に空気を供給するように構成される、条項２に記載のシステム。
条項４．
前記少なくとも１つのサンプリングノズルが等速サンプリングノズルを備える、条項１に記載のシステム。
条項５．
エアロゾルストリーム中に含まれる粒子の少なくとも１つの特性を検出するように構成された検出機器をさらに備える、条項４に記載のシステム。
条項６．
前記検出機器から、エアロゾルストリーム中に含まれる粒子の検出された特性に関するデータを受け取るために、前記検出機器に通信可能に結合されるように構成された計算装置をさらに備える、条項５に記載のシステム。
条項７．
前記機器が、カスケードインパクタ、粒子計数器、質量濃度モニタ、および単段インパクタのうちの１つである、条項５に記載のシステム。
条項８．
前記サンプリングタワーが、前記サンプリングタワー内のエアロゾルストリームの速度を検出するために、差圧計に結合されたピトー管をさらに備える、条項４に記載のシステム。
条項９．
前記真空源が、前記筺体に濾過済み空気を供給するために、前記フィルタに結合されるように構成された送風機出口を含む、条項１に記載のシステム。
条項１０．
粒子生成装置が粒子発生箇所を含み、前記筺体が、粒子発生箇所に対して前記筺体出口を略固定された箇所に維持するように構成される、条項１に記載のシステム。
条項１１．
粒子生成装置が粒子発生箇所を含み、前記筺体は、前記筺体が粒子生成装置に取り付けられた場合に、粒子発生箇所の周りに略密閉された体積を設けるように構成される、条項１に記載のシステム。
条項１２．
入口および出口を有する筺体内に収容された粒子生成源からの粒子の収集および分析をする方法であって、
濾過済み空気を入口から筺体の中に供給するステップと、
真空源を用いて、粒子を含むエアロゾルストリームを粒子生成源から出口を通り取り出すステップと、
エアロゾルストリームを筺体の出口からサンプリングタワー経由で真空源へ方向付けるステップであって、サンプリングタワーがエアロゾルストリームをサンプリングするための少なくとも１つのノズルを含む、ステップと、
ノズルに結合された検出機器を用いて、エアロゾルストリーム中の粒子の少なくとも１つの特性を検出するステップと、
エアロゾルストリーム中の粒子の検出された特性に関するデータを計算装置に出力するステップと
を含む方法。
条項１３．
サンプリングタワーを通るサンプルエアロゾルストリームの速度を決定するステップと、
サンプルエアロゾルストリームの決定済み速度に少なくとも部分的に基づいて、少なくとも１つのノズルの中の速度が決定済み速度と略同じになるように少なくとも１つのノズルのサイズを決定するステップと、
決定済みサイズを有する少なくとも１つのノズルをサンプリングタワー内に設置するステップと
をさらに含む、条項１２に記載の方法。
条項１４．
粒子生成源が粒子生成装置の一部であり、
筺体が粒子生成源を略収容するように筺体を粒子生成装置に取り付けるステップであって、筺体が可撓性膜を備える、ステップをさらに含む、条項１２に記載の方法。
条項１５．
サンプリングタワーがエアロゾルストリームをサンプリングするための複数のノズルを含み、ノズルに結合された前記検出機器が、エアロゾルストリーム中の粒子の複数の特性を検出する、条項１２に記載の方法。
条項１６．
サンプリングタワーが略円形の断面を有し、前記方法が、サンプリングタワー内の複数のノズルをサンプリングタワーの周囲に円周方向に互い違いに配置するステップをさらに含む、条項１５に記載の方法。
条項１７．
粒子生成装置の粒子生成箇所に生成された粒子の収集および分析に使用するシステムであって、
粒子生成装置に取り付けられた筺体であって、前記筺体および粒子生成装置が、粒子生成箇所の周りに略密閉された体積を協働して作り出し、密閉された体積への入口および密閉された体積からの出口を含む筺体と、
前記筺体の入口に結合され、かつ入口を通って前記筺体に向けられる空気を濾過するように構成されたフィルタと、
入口および出口を有する第１の真空源であって、前記第１の真空源入口が、前記筺体から前記第１の真空源までのエアロゾルストリームを発生させるために前記筺体出口と流れ連通して結合され、エアロゾルストリームが粒子生成装置によって生成された粒子を含み、前記第１の真空源出口が、前記筺体に濾過済み空気を供給するために前記フィルタと流れ連通して結合される、第１の真空源と、
前記第１の真空源の入口と前記筺体出口との間に結合されたサンプリングタワーであって、前記サンプリングタワーの中に延伸し、前記筺体から前記真空源までのエアロゾルストリームをサンプリングするように構成された複数のサンプリングノズルを含む、サンプリングタワーと
を備えるシステム。
条項１８．
入口および出口を有する第２の真空源をさらに備え、前記第２の真空源入口が、前記筺体の外側の体積と流れ連通して結合され、前記第２の真空源出口が、前記筺体に濾過済み空気を供給するために前記フィルタと流れ連通して結合される、条項１７に記載のシステム。
条項１９．
複数のノズルに結合された複数の検出機器をさらに備え、各検出機器がエアロゾルストリーム中の粒子の少なくとも１つの特性を検出するように構成される、条項１７に記載のシステム。
条項２０．
前記筺体が、前記粒子生成箇所に対して前記筺体出口を略固定された位置に維持するように構成される、条項１７に記載のシステム。

計算装置のブロック図である。 粒子生成装置によって生成された粒子の収集および分析をするためのシステムのブロック図である。 図２に示されているシステムの一実施態様の図である。 図２に示されているシステムの別の実施態様の図である。 粒子の収集および分析をするためのシステムを設計する際に使用する方法のフローチャートである。 図２、図３および／または図４に示されているシステムに使用するノズルの分解図である。 図３に示されているサンプリングタワーの断面図である。

本明細書に記載されている主題は、工業プロセスによって生成される粒子に関する。より詳細には、主題は、粒子の収集および分析をするための方法およびシステムに関する。

本明細書では、単数形で記載され、「１つの（ａ）」または「１つの（ａｎ）」という語で始まる要素または段部は、複数形の要素または段部の除外が明確に記載されていない限り、複数形の要素または段部を除外しないものとして理解されるべきである。さらに、本発明の「一実施態様（one implementation）」または「例示的な実施態様（exemplary implementation）」の言及は、記載した特徴も組み込んだ追加の実施態様の存在を除外するものとして解釈されるべきものではない。

本明細書に記載されている方法およびシステムの例は、１つまたは複数のコントローラーで実施されてもよく、かつ／または、１つまたは複数のコントローラーを含んでいてもよい。コントローラーは、本明細書に記載されているように実行することができるアナログコントローラーおよび／またはデジタルコントローラーを任意適当に組み合わせたものを含んでいてもよい。いくつかの実施態様では、コントローラーは計算装置を含む。図１は、推進剤移送（propellant transfer）を推定するためのシステムに使用されうる例示的な計算装置１００のブロック図である。例示的な実施態様では、計算装置１００は、メモリ１０６と、プログラム化した命令を実行するための、メモリ１０６に結合されたプロセッサ１０４とを含む。プロセッサ１０４は、１つまたは複数の処理ユニット（例えば、マルチコア構成）を含むことができる。計算装置１００は、プログラミングメモリ１０６および／またはプロセッサ１０４によって本明細書に記載されている１つまたは複数の演算を実行するようにプログラム可能である。例えば、プロセッサ１０４は、演算を１つまたは複数の実行可能な命令として符号化し、その実行可能な命令をメモリ装置１０６に設けることによってプログラム化されうる。

プロセッサ１０４は、以下に限定するものではないが、汎用中央処理装置（ＣＰＵ）、マイクロコントローラー、縮小命令セットコンピューター（ＲＩＳＣ）プロセッサ、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、プログラム可能論理回路（ＰＬＣ）、および／または本明細書に記載されている機能を実行することができる他の回路またはプロセッサを含むことができる。本明細書に記載されている方法は、制限なく、記憶装置および／またはメモリ装置を含むコンピューター読み取り可能な媒体で具現される実行可能命令として符号化されうる。この種の命令は、プロセッサ１０４によって実行されると、プロセッサ１０４に本明細書に記載されている方法の少なくとも一部を実行させる。上記の例は例示にすぎず、したがって、プロセッサという用語の定義および／または意味を何ら限定するものではない。

本明細書に記載されているメモリ装置１０６は、実行可能命令などの情報および／またはその他のデータが保存または検索されることを可能にする１つまたは複数の装置である。メモリ装置１０６は、制限なく、ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＲＡＭ）、スタティックランダムアクセスメモリ（ＳＲＡＭ）、ソリッドステートディスク、および／またはハードディスクなどの１つまたは複数のコンピューター読み取り可能な媒体を含んでいてもよい。メモリ装置１０６は、制限なく、メンテナンスイベントログ、診断エントリ、故障メッセージ、および／または本明細書に記載されている方法およびシステムで使用するのに適した他のタイプのデータを保存するように構成されうる。

例示的な実施態様では、計算装置１００は、プロセッサ１０４に結合された提示インタフェース１０８を含む。提示インタフェース１０８は、以下に限定されるものではないが、インストールデータ、構成データ、テストデータ、エラーデータ、および／または他のタイプのデータなどの情報をユーザ１１４に出力する（例えば、表示、印刷、および／またはその他の方法で出力する）。例えば、提示インタフェース１０８は、ディスプレイ装置、例えば、陰極線管（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイ、有機ＬＥＤ（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、および／または「電子インク」ディスプレイに結合されたディスプレイアダプタ（図１に示されていない）を含んでいてもよい。いくつかの実施態様では、提示インタフェース１０８は複数のディスプレイ装置を含む。加えて、または別の方法で、提示インタフェース１０８はプリンタを含んでいてもよい。

例示的な実施態様では、計算装置１００は、ユーザ１１４からの入力を受ける入力インタフェース１１０を含む。例えば、入力インタフェース１１０は、選択、要求、証明書、および／または本明細書に記載されている方法およびシステムでの使用に適したユーザ１１４からの他のタイプの入力を受けるように構成されうる。例示的な実施態様では、入力インタフェース１１０はプロセッサ１０４に結合され、例えば、キーボード、カードリーダ（例えば、スマートカードリーダ）、ポインティングデバイス、マウス、スタイラス、タッチ感応パネル（例えば、タッチパッドまたはタッチスクリーン）、ジャイロスコープ、加速度計、位置検出器、および／または音声入力インタフェースを含んでいてもよい。タッチスクリーンなどの単一構成要素は、提示インタフェース１０８のディスプレイ装置と入力インタフェース１１０の両方として機能することができる。

例示的な実施態様では、計算装置１００は、メモリ１０６および／またはプロセッサ１０４に結合された通信インタフェース１１２を含む。通信インタフェース１１２は、別の計算装置１００、遠隔センサ、検出機器などの遠隔装置と通信して結合される。例えば、通信インタフェース１１２は、制限なく、有線ネットワークアダプタ、無線ネットワークアダプタ、機器入力ポート、および／または移動体通信アダプタを含んでいてもよい。

システムおよびアプリケーションを動かすための命令は、本明細書に記載されているプロセスのうちの１つまたは複数を行うためにプロセッサ１０４によって実行される非一時的メモリ１０６上に関数形式で配置される。異なる実施態様におけるこれらの命令は、メモリ１０６などの異なる物理的もしくは有形のコンピューター読み取り可能な媒体、またはコンピューター読み取り可能な媒体１１８などの別のメモリ上に具現されてもよく、コンピューター読み取り可能な媒体１１８は、制限なく、フラッシュドライブ、ＣＤ−ＲＯＭ、サムドライブ、フロッピー（登録商標）ディスクなどを含んでいてもよい。さらに、命令は、非一時的コンピューター読み取り可能な媒体１１８上に関数形式で配置され、非一時的コンピューター読み取り可能な媒体１１８は、制限なく、フラッシュドライブ、ＣＤ−ＲＯＭ、サムドライブ、フロッピーディスクなどを含んでいてもよい。コンピューター読み取り可能な媒体１１８は、プロセッサ１０４によるアクセスおよび／または実行を可能にするために、計算装置１００から選択的にインサート可能でありかつ／または取外し可能である。一例では、コンピューター読み取り可能な媒体１１８は、メモリ１０６および／またはプロセッサ１０４に関連するＣＤ／ＤＶＤドライブまたは他の装置の中にインサートまたは配置された光ディスクまたは磁気ディスクを含む。いくつかの例では、コンピューター読み取り可能な媒体１１８は取外し可能でなくてもよい。

図２は、粒子の収集および分析に使用するシステム２００の一実施態様例の簡略図である。システム２００は、粒子生成装置２０２からの粒子を収集しかつ／または分析するために使用される。

粒子生成装置２０２は、対象の１つまたは複数の粒子２０４を生成するまたは発生させる、あるいはそうでなければ対象の１つまたは複数の粒子２０４の供給源である任意の装置である。例えば、いくつかの実施態様では、粒子生成装置２０２は、工作物を切削、穴開け、フライス削り、溝切り、成形、研削、機械加工などをする製造工具（例えば、鋸、フライス盤、ドリル、多軸工作機械、マシニングセンタ、携帯用穴開けシステム、研削センタなど）である。粒子生成装置２０２によって行われるプロセスは、工作物が作られている材料の一部を取り除いて、粒子２０４（例えば、ダスト）を作り出す。他の実施態様では、粒子生成装置２０２は、収集および／または分析されうる粒子２０４を生成する他の装置である。粒子２０４は、粒子生成装置２０２によって行われるプロセスの副産物でもよく、または、それ自体が粒子生成装置２０２によって行われるプロセスの最終生産物でもよい。システム２００は、具体的には、粒子生成装置２０２の粒子発生源（図２には示されていない）からの粒子を収集する。例えば、粒子生成装置２０２が鋸である場合、粒子発生源は鋸刃である。粒子発生箇所（粒子生成箇所とも称される）は、粒子生成装置２０２上／内の粒子供給源の箇所である。

システム２００は、粒子生成装置２０２に装着された筺体２０６を含む。図２において、筺体２０６は、粒子生成装置２０２を実質的に取り囲む。他の実施態様では、筺体２０６は、例えば、粒子供給源または粒子供給源を取り囲む空間の体積を取り囲むことにより、粒子発生箇所を実質的に取り囲む。筺体２０６は、それ自体で、あるいは粒子生成装置２０２の１つまたは複数の部分、別の構造（壁や床など）、または別の装置と協働して、粒子発生箇所を実質的に取り囲むことができる。例えば、粒子生成装置２０２の筺体２０６およびテーブル（図１には示されていない）は、粒子供給源を収容する実質的に密閉された体積を協働して画定することができる。

筺体２０６は、粒子発生箇所の周りの体積を実質的に収容するための任意適当な材料で製作されうる。例えば、筺体２０６は、木材、金属、プラスチック、ゴム、ガラス、繊維ガラス、アクリル樹脂材料、積層材などで製作されうる。さらに、筺体２０６は、複数の材料を組み合わせたもので製作されてもよい。例えば、筺体２０６の一部が剛性材料または半剛性材料で製作されてもよく、筺体２０６の別の一部が可撓性材料で製作される。特に、いくつかの実施態様は、筺体が粒子生成装置２０２の移動構成要素、例えばカッターヘッドやＸ−Ｙテーブルなどと共に移動できるようにするために、筺体に可撓性部分を含む。可撓性部分は、具体的には、研究されている機械のタイプのために構成されうる。例えば、別の構成が、固定された工作物に対して移動するビット（カッター）を有するボール盤に使用されることになる固定カッターおよび移動工作物台を有する二次元装置に使用されてもよい。さらに、粒子生成装置２０２の工作物、カッター、または他の構成要素の移動量は、筺体２０６の所望の構成に影響を及ぼす可能性がある。

筺体２０６は入口２０８および出口２１０を含む。出口２１０は、筺体２０６からの粒子２０４を取り出すためのノズル（図２には示されていない）を含む。例示的な実施態様では、ノズルは、粒子を効率的に除去するために粒子供給源に近接して配置される可撓性の帯電防止ノズルである。粒子生成装置２０２に一体のノズルを含む任意適当なタイプのノズルが使用されてもよい。他の実施態様はノズルを含まない。ノズルによる捕獲効率を実証するために、粒子計数器または「スニッファ（sniffers）」（図示せず）を使用することができる。入口２０８は、筺体２０６によって少なくとも部分的に画定された体積２０７（二次元の体積２０７だけが図２に示されている）の中に濾過済み空気を供給するために、フィルタ２１２に結合される。例示的な実施態様では、フィルタ２１２は高効率粒子空気（ＨＥＰＡ）フィルタである。他の実施態様では、フィルタ２１２は、筺体２０６に濾過済み空気を供給するための他の任意適当なフィルタでもよい。筺体２０６に濾過済み空気を供給するために、送風機２１４がフィルタ２１２を介して入口２０８と流れ連通して結合される。例示的な実施態様では、送風機２１４は、集塵機（shop vacuum）などの真空装置の送風機出力部である。あるいは、送風機２１４は、専用送風機または筺体２０６によって画定された体積２０７の中に気流を供給するのに適した他の任意の装置でもよい。いくつかの実施態様では、送風機２１４は内蔵フィルタも含み、内蔵フィルタは、送風機２１４によって排出された空気を濾過するように構成され結合されたＨＥＰＡフィルタまたは他の任意適当なタイプのフィルタとすることができる。

筺体２０６の内部から空気および粒子２０４を取り出して筺体２０６から真空源２１６までのストリーム（例えば、空気および／または粒子２０４のエアロゾルストリームまたは流れ）を発生させるために、真空源２１６が出口２１０と流れ連通して結合される。例示的な実施態様では、真空源２１６は集塵機などの真空である。あるいは、真空源は、真空および／または空気流の他の任意適当な供給源でもよい。いくつかの実施態様では、真空源２１６はフィルタも含み、フィルタは、真空源２１６の排気を濾過するように構成され結合されたＨＥＰＡフィルタまたは他の任意適当なタイプのフィルタでもよい。

サンプリングタワー２１８は、筺体２０６から真空源２１６までのストリームがサンプリングタワー２１８を通過するように、真空源２１６と出口２１０との間に結合される。サンプリングタワー２１８は、４〜１０インチなどの既知の一定直径の円形断面を有する導電性のパイプまたは管（例えばアルミニウム）で製作される。他の実施態様では、サンプリングタワー２１８は、より大きかろうとより小さかろうと、他の任意適当な直径を有していてもよく、かつ／または他の任意適当な材料から製作されてもよい。さらに、いくつかの実施態様では、サンプリングタワー２１８は円形でない断面を有する。サンプリングタワー２１８は、より大きな粒子（「玉石（boulders）」と称されることもある）、例えば５０マイクロメートルより大きい粒子の重力による真空源２１６への移動を容易にするために垂直に向けられる。他の実施態様では、サンプリングタワー２１８は水平に向けられる。

サンプリングタワー２１８は、筺体２０６から真空源２１６までのストリームのサンプリングを可能にするために、サンプリングタワー２１８の中に延伸するノズル２２０を含む。単一のノズル２２０が図２に示されているが、システム２００は任意適当な数のノズル２２０を含んでいてもよい。例示的な実施態様では、ノズル２２０は等速ノズルである。他の実施態様では、サンプリングタワー２１８は他の任意適当なタイプのノズルを含む。ノズル２２０は、ストリーム中の空気および粒子２０４がノズル２２０に入ることができるように、サンプリングタワー２１８内のほぼ中心にかつ筺体２０６から真空源２１６までのストリームの流れ方向と平行に配置される。いくつかの実施態様では、サンプリングタワー２１８は、１つまたは複数の追加のセンサまたは検出器、例えばピトー管、差圧センサ、風速計などを含む。

ノズル２２０は検出システム２２２に結合される。検出システム２２２は、検出機器および／または計算装置（どちらも図２に個別に示されていない）を含む。検出機器は、ノズル２２０と共に使用する任意適当な検出機器であり、例えば、カスケードインパクタ、粒子計数器、質量濃度モニタ、単段インパクタなどである。計算装置は、例えば、計算装置１００または他の任意適当な計算装置でもよい。検出システム２２２は、ストリームおよび／またはストリーム中の粒子２０４の少なくとも１つの特性を検出する。検出された特性は、ストリーム中の粒子２０４の濃度、粒子２０４のサイズ、粒子の数、異なるサイズの粒子の濃度、粒子２０４の質量、粒子２０４の組成などを含むことができる。

等速サンプリング条件を満たすには、ノズル２２０における速度がサンプリングタワー２１８内の速度と同等であるべきである。これは、システム２００において、ピトー管または同等の方法を用いてタワー２１８内の速度を測定すること、および、一般に０．７〜２８lpmの検出機器の流量によって決定される適切な直径のノズル２２０を選択することによって達成されうる。いくつかの実施態様では、サンプリングタワー２１８または検出機器を通る流量（流速）は、等速サンプリング条件に対するノズル２２０内の所要速度を達成するように調整される。

サンプリングタワー２１８の長さ２２１は、ノズル２２０の所要比および／またはサンプリングタワー２１８に含まれる他のセンサ／検出器の要件に基づいて等速サンプリング条件を容易にするように決定される。例えば、ピトー管の場合、サンプリングタワー２１８は、ピトー管の上流側の長さがタワー２１８の直径の８．５倍であり、ピトー管の下流側の長さがタワー２１８の直径の少なくとも１．５倍であることが示唆される。したがって、直径４インチのサンプリングタワー２１８の場合、サンプリングタワー２１８の最小長さ２２１（ピトー管のみを基準にしている）は４０インチである。

ノズル２２０は、検出システム２２２と共に、筺体２０６から真空源２１６までのストリームおよび／または粒子２０４の特性の直読およびリアルタイムモニタリングを可能にする。さらに、ノズル２２０および検出システム２２２は、ストリームおよび粒子２０４の特性を後で監視するために使用されてもよい。例えば、収集されたデータは、その後の検索または分析のために計算装置１００に転送されてもよい。さらに、いくつかの検出機器は、検出機器によって監視されている特性を記述するデータを生成するために、その次の分析または対話（リアルタイムで行われなくてもよい）を必要とするデータを生成することができる。分析の出力、例えば検出システム２２２の出力は、正規化粒子数分布グラフ、総数および濃度のグラフ、フィルタ当たりの収集材料の質量（多数のフィルタが使用される場合）、正規化粒子質量分布チャート、室内空気質分析、粒度確率チャート、および／または他の任意適当な分析結果を含むことができる。

真空源２１６、サンプリングタワー２１８、および出口２１０は、ダクト２２４によって流れ連通して互いに結合される。例示的なダクト２２４は、可撓性で帯電防止もしくは導電性の真空ホースである。導電性もしくは帯電防止の真空ダクトは、粒子がダクト２２４の壁に粘着する可能性を制限する。あるいは、ストリームを筺体２０６からサンプリングタワー２１８を経由して真空源２１６まで案内するために、他の任意適当なダクト構造が使用されてもよい。

一般に、システム２００は、真空を使用して粒子２０４を捕獲することによって動作する。出口２１０は、すべてまたはほとんどの粒子２０４が収集されるのを確実にしようとする代表的運転に十分な吸気をもたらすように構成される。筺体２０６は、粒子供給源の周りに配置され、送風機２１４からフィルタ２１２を通ったＨＥＰＡ濾過済みパージ空気で軽く加圧される。濾過済み空気は、筺体２０６内の浄化を維持して外部の汚染物質を隔離するため、対象の発生粒子２０４だけが捕獲され、続いて分析される。いくつかの実施態様では、筺体２０６内に送り込まれた空気が拡散器などによって拡散され、したがって、その空気は粒子の抽出を妨げない。送風機２１４から筺体２０６の中への流れは、バランスをとるために筺体２０６から真空源２１６への流れにほぼ等しい。筺体２０６が可撓性部分を含んでいる実施態様では、パージ空気と真空流量とのバランスをとることにより、筺体２０６を軽く膨らんだ状態に保って粒子生成装置２０２の動作への妨害を回避するのが容易になる。発生した粒子２０４は、帯電防止ダクト２２４を通って等速サンプリングタワー２１８まで行く。ストリーム中の粒子２０４の一部がノズル２２０によって捕獲され検出システム２２２に供給され、検出システム２２２は粒子２０４および／またはストリームの少なくとも１つの特性を決定する。

図３は、粒子の収集および分析に使用するシステム３００の略図である。システム３００は、上述したシステム２００の一実施態様である。類似構成要素は同じ参照番号で識別される。以下に特に説明されている場合を除いて、システム３００はシステム２００と類似しており、システム２００と同じ機能をする。

図３において、粒子生成装置２０２は三次元工作機械３０２である。工作機械３０２は作業台３０４を有し、作業台３０４上に工作物３０６が取り付けられる。ｚ軸コラム３０８が、ｚ軸コラム３０８に取り付けられた切削工具３１０と共に、作業台３０４の上方に配置される。切削工具３１０は、工作物３０６を切削するための工具であり、ドリルビット、フライスビットなどである。切削工具３１０が工作物３０６上で動作すると（すなわち切削すると）、工作物３０６を作る材料の粒子が発生する。したがって、切削工具３１０は粒子供給源と見なすことができ、切削工具３１０の周りの領域は粒子生成箇所３１１（粒子生成発生箇所と称されることもある）と見なすことができる。作業台３０４は、Ｘ方向およびＹ方向（図３に示されているページの左右方向および内外方向）に移動して工作物３０６をコラム３０８（および切削工具３１０）に対して移動させ、コラム３０８（および切削工具３１０）はＸ方向およびＹ方向に対して定位置のままである。ｚ軸コラム３０８は、工作物３０６に対する切削工具３１０の高さを変えるために、Ｚ方向（図３に示されているように上下方向）に移動する。

図３に示されている実施態様では、筺体２０６は工作機械３０２上に取り付けられる。筺体２０６は、筺体２０６および工作機械３０２によって協働して画定された体積２０７を収容する。より具体的には、体積２０７は、筺体２０６、作業台３０４、およびコラム３０８の各部によって画定される。

図３では、筺体２０６は第１の部分３１２および第２の部分３１４を有する。例示的な実施態様では、第１の部分３１２は、剛性プラスチック材料やアクリル樹脂材料などの実質的に剛性の材料で製作され、第２の部分３１４は可撓性膜である。あるいは、第１の部分３１２および第２の部分３１４は共に可撓性の材料から製作されてもよい。筺体２０６は、入口２０８および出口２１０を除いて体積２０７が実質的に密閉されるように、工作機械３０２に堅固に取り付けられる。取り付けおよび密閉の方法は、特定の粒子生成装置２０２および所望される（例えば、恒久的な対一時的な／取外し可能な）特定の設備に適合するように異なっていてもよい。例えば、筺体２０６は、テープ、接着剤、コーキング、可撓性シーラント、ねじ／締め具、溶接などを用いて工作機械３０２に取り付けられかつ／または密閉されてもよい。可撓性の第２の部分３１４により、工作物３０６への作業中にコラム３０８および／または作業台３０４が移動するときに、筺体２０６が移動するとともに、工作機械３０２に実質的に密閉されたままでいることが可能になる。筺体２０６の材料、特に第２の部分３１４の材料は、筺体２０６が粒子生成箇所３１１の周りに実質的に密閉された体積２０７を保つのを確実にするために、異なる移動方向および移動量を伴う異なる粒子生成装置２０２の場合に異なっていてもよい。さらに、図１に示されているように、筺体２０６は、粒子生成装置２０２を完全に取り囲むサイズとなされてもよく、筺体２０６の実施態様は可撓性の第２の部分３１４を全く必要としないかもしれない。

出口２１０は調整可能な出口ノズル３１６を含む。ノズル３１６はｚ軸コラム３０８に装着され、切削工具３１０に対するノズル３１６の位置を変えるように調整されうる。例えば、ノズル３１６は、切削工具３１０に対する開口部３１８の位置を変えるために、屈曲、回転、延伸などがなされてもよい。ノズル３１６はコラム３０８に取り付けられるため、ノズル３１６はコラム３０８と共に移動し、切削工具３１０および粒子生成箇所３１１との実質的に固定された関係を維持する。したがって、粒子供給源は、出口ノズル３１６から粒子供給源までの距離を変えないので、出口ノズル３１６は粒子収集効率を変更してもよい。出口ノズル３１６は、クランプ、テープ、ねじ／ボルト、リベット、フック、ループ締め具などの任意適当な締め具によってコラム３０８に装着されうる。

図３に示されている実施態様では、サンプリングタワー２１８は２つのノズル２２０を含む。サンプリングタワー２１８は、粒子２０４を含むストリームの速度を検出するために、外部圧力計に結合されたピトー管３３０も含む。ノズル２２０は、ストリームの流れ方向と平行にかつノズル２２０の開口部３２０がやってくる空気および粒子２０４のストリーム（図３には示されていない）に面して、サンプリングタワー２１８の中に延伸する。ノズル２２０のサイズは、開口部３２０の直径を含めて、特定の検出機器のためにかつ等速サンプリング条件を維持するために、異なっていてもよい。ノズル２２０は、計算装置１００および２つの検出機器３２２および３２４を含む検出システム２２２に結合される。例示的な実施態様では、検出機器３２２は、粒子計数器、質量濃度検出器などのリアルタイム検出機器である。検出機器３２４は、カスケードインパクタ３２６およびサンプリングポンプ３２８を含むカスケードインパクタシステムである。検出機器３２２および３２４は、さらなる処理、保存、および／またはユーザへの表示のために、検出機器３２２および３２４によって取得および／または計算されたデータを計算装置１００に与える。計算装置１００は、システム３００の残り部分と共に配置されてもよく、あるいは遠隔設置され、検出器具と直接結合するかまたはローカルエリアネットワーク、広域ネットワーク、インターネットなどのネットワークを介して結合してもよい。他の実施態様は計算装置１００を含まない。さらに、いくつかの実施態様では、検出機器３２２および３２４は計算装置１００と一体化されてもよい。

図４は、粒子の収集および分析に使用する閉システム４００の略図である。システム４００は、上述したシステム２００の閉ループ実施態様である。さらに、いくつかの実施態様では、システム４００は自給式のシステムである。類似構成要素は同じ参照番号で識別される。以下に特に説明されている場合を除いて、システム４００は、上述したシステム２００および３００と類似しており、システム２００および３００と同じ機能をする。明瞭にするために、ノズル２２０、ピトー管３３０、圧力計３３２、検出システム２２２、および検出システム２２２の構成要素は図４に示されていないが、システム４００に含まれうる。

システム４００は、システム３００と同じように工作機械３０２に取り付けられた筺体２０６を含む。工作機械３０２および筺体２０６はより大きな筺体４０２の中に配置される。実施態様例では、筺体４０２は建築物内の部屋である。他の実施態様では、筺体４０２は、工作機械３０２および筺体２０６を収容することができる実質的に密閉された筺体でもよい。送風機２１４、真空源２１６、サンプリングタワー２１８、フィルタ２１２、およびダクト２２４の一部は、筺体４０２の外側に示されているが、これらは筺体４０２の中に配置されてもよい。

図４の例示の実施態様では、送風機２１４は、筺体４０２によって画定された体積４０６（体積４０６の２つの寸法だけが図４に示されている）と流れ連通する空気取入れ口４０４を含む。筺体４０２は筺体２０６の周りの外側筺体であり、送風機２１４用の入口供給源として働く。したがって、送風機２１４がフィルタ２１２経由で筺体２０６に出力する吸気は筺体４０２の中から取り出される。さらに、例示的な実施態様では、真空源２１６は、送風機２１４を補完するために、追加の吹込み空気を筺体２０６に供給する。真空源２１６は空気を出力する（すなわち、吹き込む）出力部４０８を含む。出力部４０８は、フィルタ２１２を介して筺体２０６と流れ連通して結合される。他の実施態様では、送風機２１４は吹込み空気を筺体２０６に供給せず、真空源２１６は、システム４００のための真空源と送風機の両方として機能する。真空源２１６が追加の吹込み空気を筺体２０６に供給しないいくつかの実施態様では、出力部４０８は体積４０６と流れ連通して結合される。そのような実施態様では、送風機２１４用の入口および真空源２１６用の排気管は同じ容積（すなわち、体積４０６）であり、したがって自己完結システム４００を提供する。

筺体２０６への空気流と体積４０６からの空気流とのバランスをとるために、バランス弁４１０が送風機２１４と真空源出力部４０８とフィルタ２１２との間に結合される。バランス弁４１０は、筺体４０２内の圧力を許容できないレベルに低下させうる、筺体４０２から過剰な空気が抜き出されることを防止するとともに、筺体２０６内の圧力を許容できないくらい高いレベルに上昇させうる、筺体２０６に過剰な空気が供給されることを防止する。さらに、バランス弁４１０は、筺体２０６への入力流れを筺体２０６からの出力流れとほぼ同じ流量に保つのを助ける。

図５は、システム２００、３００、および／または４００などの、粒子の収集および分析に使用するシステムを設計する方法５００のフローチャートである。特に、方法５００は、円形断面幾何形状を有するサンプリングタワー２１８および／またはダクト２２４を使用するシステムに関して説明する。方法５００は、方法５００で使用される式の適切な変化を伴って、異なる幾何形状（例えば、正方形、六角形など）をもつダクトおよびサンプリングタワーを有するシステムに使用されうる。

５０２において、最低限必要な真空能力が決定される。最低限必要な真空能力（例えば、ＨＰ、流量（ｃｆｍ））は、供給源で満足のいく割合の発生粒子を捕獲するための最小限の要件によって決定される。これによって必要とされる真空源のサイズが決まる。いくつかの実施態様では、システムは既に所定の位置にあってもよく、真空能力は設置されたシステムによって決定されてもよい。粒子捕獲効率は、試験およびピトー管や風速計などによって測定された流れによって決定することができる。許容流れを決定するための一定流量および直径を与えるために、供給源からの延長管が使用されてもよい。

試験に使用される機器は、５０４において識別される。機器は、所望の出力、例えば粒子数分布、粒子質量分布などに基づいて選択される。いくつかの機器は、すべての範囲に対して固定流量を有する。他の機器は、異なる分析範囲に対する異なる流量に適応してもよい。例えば、１つの既知の携帯用エアロゾルスペクトロメータは、粒度濃度および粒子質量分布を出力し、１．２リットル／分（lpm）の空気流を必要とする。既知の超微粒子計数器は０．７lpmの空気流を必要とする。別の既知のエアロゾルモニタは、粒子の質量濃度を測定し、粒度範囲に応じて１．５〜８lpmの空気流を必要とする。いくつかの既知のカスケードインパクタは９lpmの流れを必要とする。異なる検出機器の流れ要件に関する変動性を前提とすると、所望される特定のデータ、およびそのデータを取得するために使用されるべき特定の機器は、空気流要件を決定するために決定されなければならない。

５０６において、方法は、サンプリングダクト（例えば、サンプリングタワー２１８）の直径を決定することを含む。この直径は、ピトー管を含む、使用されるべきサンプリングプローブの数、真空源の流量、およびサンプリングタワー用の利用可能なパイプ／管のサイズに基づいて決定される。選択される機器に応じて、ダクト内の目標速度は約２〜２５lpmとすることができる。製造業者が既存の等速ノズルを有する場合、速度はノズルの目標とされる。ダクトの直径は一般に下記式によって決定される。
Ｑ＝ＶＡ （１）
ただし、Ｑ＝流量、Ｖ＝速度、Ａ＝面積であり、
Ａ＝πＤ^２／４ （２）
ただし、Ｄはダクトの直径である。選択された直径はまた、ダクト内でノズル／管に対して十分な遊びがあるくらい大きくする必要がある。

サンプリングタワー２１８の長さは５０８において決定される。この長さは、ノズル２２０および／または他のセンサ、検出器などの上流側要件と下流側要件の所要比、推奨比、または所望比に基づいて決定される。例えば、ピトー管は、より高い精度に所望されるより長い部分を有する上流側部分と下流側部分の最小所要比を有する。サンプリングタワー２１８内のノズル２２０の配置箇所は、サンプリングタワーの長さにも影響を及ぼしうる。大ざっぱに言えば、サンプリングノズル２２０は、サンプリングタワー２１８の直径の４倍よりもサンプリングタワー２１８の入口に近接しているべきでない。システムが持ち運びできることを意図している場合、サンプリングタワー２１８の長さは、粒子生成装置相互間でサンプリングタワー２１８を移動させるのを容易にするために、ノズル２２０または他の装置の要件を依然として満たしながら、できる限り短く保たれるべきである。

５１０において、ノズル孔の直径は、選択される機器、サンプリングタワーの直径、およびサンプリングタワー内の目標速度に基づいて決定される。等速性条件では、ノズルの直径は上記の式（１）および式（２）から計算される。ただし、Ｖはノズル速度およびサンプリングタワー内の速度であり、Ｑは、ノズルが結合される相手の機器の所要流量であり、Ｄはノズル孔の直径である。

ノズル管およびノズル管の外径は５１２において決定される。図６はノズル２２０の一例の図である。図６に示されているように、ノズル２２０は、管６００と管６００に装着された先端部６０２とを含む。最大の可撓性および携帯性を得るために、ノズル先端部は交換できるように設計される。これは、ねじ付きノズル先端部を使用することによって実現される。ノズル管の直径は、５１０において決定されたノズル孔の直径と、利用可能な小さい方のねじ径および大きい方のねじ径と、利用可能な管のサイズとから大きさが定められる。例示的な実施態様では、ノズル２２０（管６００および先端部６０２を含む）は３１６ステンレス鋼で製作される。あるいは、ノズル２２０は任意適当な材料で製作されてもよい。ノズル孔（すなわち、ノズル先端部の孔）はねじ山の小さい方の直径より小さくすべきであり、ねじ山の大きい方の直径はノズル管にぴったり収まらなければならない。ノズル管の直径は、サンプリングタワー内の粒子への干渉を制限するために、できる限り小さく保たれるべきである。

サンプリングタワー２１８内でのノズル２２０の配置は５１４において決定される。図７は、図３に示されているサンプリングタワー２１８の線Ａ−Ａに沿って見た断面図である。ノズル２２０およびピトー管３３０は、粒子流れへの干渉を回避するために、サンプリングタワー２１８内に、サンプリングタワー２１８の周囲に互い違いに配置される。ノズル２２０は、サンプリングタワー２１８内の最大流れを許容するように配置されるべきであり、サンプリングタワー２１８の中心７００にできる限り近接して配置される先端部６０２を有するべきである。各ノズル２２０は、サンプリングタワー２１８に沿って（例えば、図２および図３に示されている長さ２２１に沿って）長手方向に離間されてもよい。上流側のノズル２２０は下流側のノズル２２０を妨害すべきでなく、このことは、上流側のノズル２２０と下流側のノズル２２０がサンプリングタワー２１８の周囲に互い違いに配置された場合に起こりうる。

５１６において、さらなる最適化が所望される場合、方法５００は、ノズル２２０の配置が決定されてから５０２に戻る。さらなる最適化が所望されないとき、５１８においてパージ空気供給源が選択される。パージ空気供給源（例えば、送風機２１４）は、例えば、集塵機からの送風機、専用送風機などとすることができる。選択されたパージ空気供給源は、少なくとも、選択された真空源によって筺体２０６から吸引されている空気の量と少なくとも同じ量の空気を供給することができるべきである。

設計されたシステムが携帯用システムであることを意図している場合、システムの設計は、システムが別の装置へ移動されるときに調整される必要があるかもしれない。そのために設計されている粒子生成装置２０２以外の粒子生成装置２０２に同じ等速サンプリングタワー２１８を使用するには、新しい粒子生成装置２０２に連結された場合にサンプリングタワー２１８内の速度がピトー管や差圧計などを用いて計算または測定される。新しいサンプリングタワー２１８の速度が分かると、ノズル管６００上のノズル先端部６０２は、（新しい速度が古い速度と異なる場合に）ノズル内の速度がサンプリングタワー２１８内の新しい速度と同等になるノズル先端部６０２に置き換えることができる。新しい先端部６０２は５１０に記載されているように選択されうる。新しい速度が元の速度と異なる場合、５１８に関して説明したように、新しいパージ空気供給源が選択される必要がありうる、または供給源が調整される必要がありうる。

本明細書に記載されている例示的なシステムおよび方法により、粒子生成装置によって生成される粒子の実質的にすべての定量化および特性化が可能になる。製造から生成される粒子のサイズ、分布、および量を正確に定量化することは、加工技術および安全衛生の研究の助けとなる。生成された全粒子のサイズ、数、および分布を理解することは、捕獲の効率を高め、切削工具の設計を最適化し、新しい材料系を研究し、生産プロセスおよび安全プロセスを作り出すのに役立つことができる。例示的なシステムは、ダストが真空によって捕獲されうるほとんどすべてのプロセスで役に立ち、持ち運び可能であり、様々な機械（可動機械を含む）、切削工具、プロセス、および材料に適合することができる。システムは、多種多様の検出／サンプリング機器を使用することができる。例示的なシステムは比較的安価であり、設置するのが比較的容易である。濾過済み空気をパージとして使用することは、研究されている装置によって生成された粒子だけが分析されるようにするために汚染物質を制限するのに役立つ。さらに、例示的なシステムは、既存のシステムへの妨害を最小限に抑え、設置を簡略化し、システムの携帯性を高め、かつコストを最小限に抑えるために、既存の真空ラインおよび／または既存の集塵システムに結合することができる。本明細書に記載されている方法およびシステムを使用することにより、材料除去プロセスから生成される粒子を理解し特性化することが可能である。生成される粒子に関する知識は、労働者の健康および安全を守る、環境影響を最小限に抑える、切削工具の設計を改善する、除去プロセス（例えば、ステップの順序、１パス当たりの切込み量など）を改善する、および集塵システムの設計を改善するために有用である。例示的なシステムを使用すると、粒子分析を通じて異なる処理条件下での材料破壊の理解を深めることができる。新しい材料系に関する考えられる安全上の懸念および新しい機械の効率を研究することができ、現行システムの理解を深めることができる。例示的なシステムは、新しい材料系に対する新たな基準または定量的に対処されるべき既存基準の変更を可能にする。さらに、システムは、粒子の意図的な生成（例えば、補強材、充填材など）のためのリアルタイム監視に使用されてもよい。さらに、上述したシステムの閉バージョンは、危険物質または潜在的に危険な物質を伴うプロセスを監視および／または制御するために有用となりうる。

本開示の１つまたは複数の態様は、本明細書に記載されている機能、方法、および／またはプロセスを実行するように構成されると、汎用計算装置を専用計算装置に変えることができることが理解されるべきである。

本明細書は、最良の形態を含む様々な実施態様を開示するために、また、当業者が、任意の装置またはシステムを製作または使用すること、および、任意の組み込まれている方法を実行することを含めて、それらの実施形態を実施できるようにするために、実施例を使用している。特許可能な範囲は、特許請求の範囲によって定義され、当業者には思いつく他の実施例を含むことができる。かかる他の実施例は、それらの実施例が特許請求の範囲の文言と異ならない構造要素を有する場合、または、それらの実施例が特許請求の範囲の文言と実質的に異ならない同等の構造要素を含む場合、特許請求の範囲内にあることを意図している。

２００ システム
２０２ 粒子生成装置
２０４ 粒子
２０６ 筺体
２０７ 体積
２０８ 入口
２１０ 出口
２１２ フィルタ
２１４ 送風機
２１６ 真空源
２１８ サンプリングタワー
２２０ ノズル
２２１ 長さ
２２２ 検出システム
２２４ ダクト
３００ システム
３０２ 工作機械
３０４ 作業台
３０６ 工作物
３０８ ｚ軸コラム
３１０ 切削工具
３１１ 粒子生成箇所
３１２ 第１の部分
３１４ 第２の部分
３１６ 出口ノズル
３１８，３２０ 開口部
３２２，３２４ 検出機器
３２６ カスケードインパクタ
３２８ サンプリングポンプ
３３０ ピトー管
３３２ 圧力計
４００ 閉システム
４０２ 筺体
４０４ 空気取入れ口
４０６ 体積
４０８ 出力部
４１０ バランス弁
６００ 管
６０２ 先端部

Claims (15)

1. 粒子の収集および分析に使用するシステム（２００）であって、
   粒子生成装置（２０２）に取り付けられるように構成された筺体（２０６）であって、入口（２０８）および出口（２１０）を含む筺体（２０６）と、
   前記筺体の前記入口に結合されるように構成され、かつ前記入口を通って前記筺体に向けられる空気を濾過するように構成されたフィルタ（２１２）と、
   前記筺体から真空源までのエアロゾルストリームを発生させるために前記筺体の前記出口と流れ連通して結合されるように構成された真空源（２１６）であって、前記エアロゾルストリームが前記粒子生成装置によって生成された粒子（２０４）を含む、真空源（２１６）と、
   前記真空源と前記筺体の出口との間に結合されるように構成されたサンプリングタワー（２１８）であって、前記サンプリングタワーの中に延伸し、前記筺体から前記真空源までの前記エアロゾルストリームをサンプリングするように構成された少なくとも１つのサンプリングノズル（２２０）を含む、サンプリングタワー（２１８）と
   を備えるシステム（２００）。
2. 前記筺体（２０６）に濾過済み空気を供給するために前記フィルタ（２１２）に結合されるように構成された送風機（２１４）をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
3. 前記送風機（２１４）が、前記筺体から空気を抽出するように構成された前記真空源と略同じ速度で、前記筺体（２０６）に空気を供給するように構成される、請求項２に記載のシステム。
4. 前記少なくとも１つのサンプリングノズル（２２０）が等速サンプリングノズルを備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシステム。
5. 前記エアロゾルストリーム中に含まれる粒子の少なくとも１つの特性を検出するように構成された検出機器（３２２、３２４）をさらに備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載のシステム。
6. 前記検出機器から、前記エアロゾルストリーム中に含まれる前記粒子の検出された特性に関するデータを受け取るために、前記検出機器（３２２、３２４）に通信可能に結合されるように構成された計算装置（１００）をさらに備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載のシステム。
7. 前記機器が、カスケードインパクタ、粒子計数器、質量濃度モニタ、および単段インパクタのうちの１つである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のシステム。
8. 前記サンプリングタワー（２１８）が、前記サンプリングタワー内の前記エアロゾルストリームの速度を検出するために、差圧計に結合されたピトー管（３３０）をさらに備える、請求項１〜７のいずれか一項に記載のシステム。
9. 前記真空源（２１６）が、前記筺体に濾過済み空気を供給するために、前記フィルタ（２１２）に結合されるように構成された送風機出口を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載のシステム。
10. 前記粒子生成装置（２０２）が粒子発生箇所を含み、前記筺体が、前記粒子発生箇所に対して前記筺体の出口を略固定された位置に維持するように構成される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のシステム。
11. 前記粒子生成装置（２０２）が粒子発生箇所を含み、前記筺体（２０６）は、前記筺体が前記粒子生成装置に取り付けられた場合に、前記粒子発生箇所の周りに略密閉された体積を設けるように構成される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシステム。
12. 入口（２０８）および出口（２１０）を有する筺体（２０６）内に収容された粒子生成源からの粒子の収集および分析をする方法であって、
    濾過済み空気を前記入口から前記筺体の中に供給するステップと、
    真空源（２１６）を用いて、粒子を含むエアロゾルストリームを前記粒子生成源から前記出口（２１０）を通り取り出すステップと、
    前記エアロゾルストリームを前記筺体の前記出口（２１０）からサンプリングタワー（２１８）経由で前記真空源（２１６）へ方向付けるステップであって、前記サンプリングタワーが前記エアロゾルストリームをサンプリングするための少なくとも１つのノズル（２２０）を含む、ステップと、
    前記ノズルに結合された検出機器を用いて、前記エアロゾルストリーム中の粒子の少なくとも１つの特性を検出するステップと、
    前記エアロゾルストリーム中の前記粒子の検出された特性に関するデータを計算装置に出力するステップと
    を含む方法。
13. 前記サンプリングタワー（２１８）を通るサンプルエアロゾルストリームの速度を決定するステップと、
    前記サンプルエアロゾルストリームの決定済み速度に少なくとも部分的に基づいて、前記少なくとも１つのノズルの中の速度が前記決定済み速度と略同じになるように前記少なくとも１つのノズル（２２０）のサイズを決定するステップと、
    前記決定済みサイズを有する前記少なくとも１つのノズル（２２０）を前記サンプリングタワー内に設置するステップと
    をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
14. 前記粒子生成源が粒子生成装置（２０２）の一部であり、
    前記筺体が前記粒子生成源を略収容するように前記筺体（２０６）を前記粒子生成装置（２０２）に取り付けるステップであって、前記筺体が可撓性膜を備える、ステップ
    をさらに含む、請求項１２または１３に記載の方法。
15. 前記サンプリングタワー（２１８）が略円形の断面を有し、前記方法が、前記サンプリングタワー内の複数の前記ノズルを前記サンプリングタワーの周囲に円周方向に互い違いに配置するステップをさらに含む、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。

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