JP2016008344A - めっき用治具 - Google Patents
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Abstract
【課題】ウェハを保持した状態での厚みを薄くすることができるとともに、めっき液が内部に残留しにくいめっき用治具を提供する。
【解決手段】本発明に係るめっき用治具は、被めっき基材であるウェハ7の一方の面に当接するステージ123を有する保持ベース12と、ウェハ7の他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部131を有するかぶせ部材13と、複数の被係止部131と係止する複数の係止部141を有し、かぶせ部材13の外周の外側において保持ベース12に対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の係止部141を複数の被係止部131に係止し、ウェハ7を保持ベース12及びかぶせ部材13の間に挟んで保持する回転リング14とを備える。
【選択図】図4
【解決手段】本発明に係るめっき用治具は、被めっき基材であるウェハ7の一方の面に当接するステージ123を有する保持ベース12と、ウェハ7の他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部131を有するかぶせ部材13と、複数の被係止部131と係止する複数の係止部141を有し、かぶせ部材13の外周の外側において保持ベース12に対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の係止部141を複数の被係止部131に係止し、ウェハ7を保持ベース12及びかぶせ部材13の間に挟んで保持する回転リング14とを備える。
【選択図】図4
Description
本発明は、ウェハを保持した状態での厚みを薄くすることができるとともに、めっき液が内部に残留することを防止することが可能なめっき用治具に関する。
半導体を実装する基板として用いるウェハの表面には、例えば銅めっきが施される。具体的には、めっき用治具にウェハを装着し、ウェハが装着されためっき用治具の全体をめっき槽内に貯留されている銅めっき液に浸漬することで、ウェハの表面をめっき処理する。
例えば特許文献1には、第1保持部材と第2保持部材との間に半導体ウェハを保持することができる半導体ウェハのめっき治具が開示されている。特許文献1では、円環状の固定リングを回転させることにより凸部(係止部)と逆L字状の爪(被係止部)とを係止し、その状態でめっき槽中のめっき液に浸漬させ、半導体ウェハをめっきする。
例えば特許文献2には、2枚一組でウェハを保持することができるウェハのめっき用ラックが開示されている。特許文献2では、表裏それぞれ独立してウェハを着脱することができる。
しかし、特許文献1では、円環状の固定リングを配置しているので、固定リングの上面と、ウェハのめっき処理の対象面との間の距離が大きくなり、めっき用治具の厚みを薄くすることが困難である。したがって、めっき液を十分に撹拌することができず、めっき厚の分布にバラツキが生じやすいという問題点があった。
また、固定リングが円環状であることから、めっき液が固定リングの内側に滞留し、めっき液の持ち出し量が多くなる。したがって、めっき処理費用の増大を招くおそれがあるという問題点もあった。さらに、表裏両面でウェハを保持する場合、それぞれ独立して保持する必要があるため、ユーザの作業が煩雑になるという問題点もあった。
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、ウェハを保持した状態での厚みを薄くすることができるとともに、めっき液が内部に残留しにくいめっき用治具を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明に係るめっき用治具は、被めっき基材であるウェハの一方の面に当接するステージを有する保持ベースと、前記ウェハの他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有するかぶせ部材と、複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記かぶせ部材の外周の外側において前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記ウェハを前記保持ベース及び前記かぶせ部材の間に挟んで保持する回転リングとを備えることを特徴とする。
上記構成では、ウェハ上に固定リングを設けるのではなく、かぶせ部材の外周の外側において保持ベースに対して回転リングを設け、複数の係止部を有する回転リングを回転移動させて複数の被係止部を係止することにより、ウェハを保持ベース及びかぶせ部材の間に挟んで保持するので、ウェハのめっきの対象面とめっき槽内に設置する撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽を小さくすることも可能となる。
また、本発明に係るめっき用治具は、前記回転リングが、前記ウェハの外縁に沿った形状の回転リングスリットを複数有し、前記保持ベースが、該回転リングの移動方向を案内するガイドピンを、前記回転リングスリットの一端又は他端に対応する位置に備えていることが好ましい。
上記構成では、回転リングが、ウェハの外縁に沿った形状の回転リングスリットを複数有しており、保持ベースが、回転リングの移動方向を案内するガイドピンを、回転リングスリットの一端又は他端に対応する位置に備えているので、回転リングの回転移動により複数の係止部を移動させ、複数の被係止部を均一に係止することができ、ウェハ全面のシール性が安定し、位置ずれが少なくなるので、液漏れ不良、通電不良、シール位置ずれ不良等のめっき不良を低減することができる。
また、本発明に係るめっき用治具は、前記ウェハが保持された状態で、前記ウェハのめっきの対象面が鉛直方向に設置された場合に、前記回転リングは、前記ウェハの前記めっきの対象面の中心を通る鉛直線上の下部にめっき液の排出口を備えることが好ましい。
上記構成では、回転リングは、ウェハのめっきの対象面の中心を通る鉛直線上の下部にめっき液の排出口を備えているので、内部にめっき液が残留した場合であってもめっき液の排出口から外部に排出される。したがって、環状の回転リングであっても、めっき液が回転リングの内側に滞留することがなく、めっき処理費用の増大を招くおそれがない。
また、本発明に係るめっき用治具は、前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部は前記被係止部よりも高い位置に設けられており、前記係止部の底面又は前記被係止部の上面は傾斜しており、前記被係止部は、前記保持ベース及び前記係止部の間に挟まれて係止されることが好ましい。
上記構成では、ウェハの面に対して平行な、保持ベースの一方の面を基準面として、係止部は被係止部よりも高い位置に設けられており、係止部の底面又は被係止部の上面は傾斜しており、被係止部は、保持ベース及び係止部の間に挟まれて係止される。これにより、係止部を移動させることにより被係止部を確実に係止することができ、ウェハを確実に保持することが可能となる。
また、本発明に係るめっき用治具は、前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部の上面は、前記かぶせ部材の上面の高さ以下の位置に設けられていることが好ましい。
上記構成では、係止部が、かぶせ部材の上面の高さ以下の位置に設けられていることにより、めっき槽内に設置する撹拌パドルをウェハのめっきの対象面に近づけることができ、めっきの対象面付近のめっき液を十分に撹拌することができる。
また、本発明に係るめっき用治具は、前記保持ベースが、他方の面にも被めっき基材である他のウェハを搭載するステージと、前記他のウェハの外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有する他のかぶせ部材と、複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記他のウェハを前記保持ベース及び前記他のかぶせ部材の間に挟んで保持する他の回転リングとを備え、前記回転リングと前記他の回転リングとを連結させ、一体として回転移動することを可能とする連結部を備えることが好ましい。
上記構成では、連結部を介して回転リングと他の回転リングとを連結させ、一体として回転移動させることができるので、一方の面のステージに搭載されたウェハと他方の面のステージに搭載された他のウェハとを同時に着脱することができ、ユーザの作業が簡略化される。
また、本発明に係るめっき用治具は、前記回転リング及び前記他の回転リングは、中心角を等分した半径の延長部分に複数の突起部を有し、前記保持ベースは、前記回転リング及び前記他の回転リングのリング形状に沿った複数の保持ベーススリットを、複数の前記突起部の位置に合わせて備えており、前記突起部を連結する連結ピンを、連結部として前記保持ベーススリットに挿通してあることが好ましい。
上記構成では、連結部として保持ベーススリットに挿通した連結ピンにより回転リングと他の回転リングとを連結しているので、回転リング又は他の回転リングのいずれかを回転させることで、他方も同時に回転する。したがって、一方の面のウェハと他方の面の他のウェハとを同時に着脱することができ、作業が煩雑にならない。
上記構成によれば、ウェハ上に固定リングを設けるのではなく、かぶせ部材の外周の外側において保持ベースに対して回転リングを設け、複数の係止部を有する回転リングを回転移動させて複数の被係止部を係止することにより、ウェハを保持ベース及びかぶせ部材の間に挟んで保持するので、ウェハのめっきの対象面とめっき槽内に設置する撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽を小さくすることも可能となる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具を用いる、めっき装置の概要を説明するための模式図である。図1に示すように、本実施の形態に係るめっき用治具10を用いる、めっき装置1は、めっき槽30にめっき液40が貯留されている。
めっき槽30には、陽極電極20が設置されており、被めっき基材であるウェハ7を保持しためっき用治具10を、めっき液40が貯留されているめっき槽30に出し入れする。直流電源50の陽極は陽極電極20に、負極はめっき用治具10に、それぞれ接続されており、直流電流を供給することにより、ウェハ7の表面にめっき膜を生成する。
図2は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10の使用状態を示す斜視図である。図2に示すように、本実施の形態に係るめっき用治具10は、把持部11が図示しない搬送ユニットに把持され、めっき槽30の直上まで移動される。そして、めっき用治具10を矢印方向に下降させて、ウェハ7を保持した保持ベース12をめっき槽30内部に貯留されているめっき液40へ浸漬させることにより、ウェハ7表面へのめっき処理を実行する。
めっき槽30は、一のめっき装置1に複数設けてある。図3は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10を用いるめっき装置1の側面図である。図3に示すように、めっき装置1は、ウェハ7を保持しためっき用治具10をめっき槽30の上方から出し入れする複数のめっき槽30を設けている。
めっき装置1は、めっき槽30が上部から見て配列状に配置されており、複数のめっき槽30からなるめっき槽群に隣接して、めっき液を水で洗い落とす水洗槽31と、図示しない乾燥槽とが設けられている。めっき処理時には、ウェハ7を保持しためっき用治具10を、一のめっき槽30に浸漬させ、所定の時間通電することでめっき処理を実行する。めっき処理が実行された後、めっき用治具10を引き上げて水洗槽31へ移動する。付着しているめっき液を水洗槽31で水洗した後、乾燥槽へ移動させて表面に付着している水滴を排除する。
図4は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10の構成を示す斜視図である。図4に示すように、本実施の形態に係るめっき用治具10は、上述した把持部11と、板状であり、合成樹脂等の電気絶縁材料で形成された保持ベース12と、ウェハ7の外縁を密封し、外周に複数の被係止部131を有するかぶせ部材13と、かぶせ部材13の外周の外側において保持ベース12に対して回転移動可能に取り付けられている回転リング14とで構成されている。回転リング14は、内周側に、複数の被係止部131と係止する複数の係止部141を備えている。なお、係止部141は、回転リング14の一部であり、実質的に被係止部131と係止する部分を意味する。
ウェハ7を保持ベース12のステージ123の上に搭載し、かぶせ部材13をかぶせてウェハ7をステージ123に押し付け、回転リング14を回転させることにより回転リング14の係止部141をかぶせ部材13の被係止部131に係止させる。これにより、ウェハ7を保持ベース12及びかぶせ部材13の間に挟んで保持する。かぶせ部材13の内縁部135とウェハ7との間にはシール部材(図示せず)が設けられていても良い。
図4の例では、めっき用治具10は、円板状のウェハ7を搭載するべく、対応する形状のステージ123を保持ベース12の中央部分に備え、ウェハ7を取り囲むように環状の回転リング14が設けられている。回転リング14の複数の係止部141は、ウェハ7が搭載された状態で、ウェハ7のめっきの対象面(めっき対象面T)が鉛直方向に設置された場合に、ウェハ7のめっきの対象面の中心を通る鉛直線に対して対称な位置に4個配置されていることが好ましい。ウェハ7を均等に保持することができるからである。
また、保持ベース12のステージ123には、めっき用治具10のめっき槽30への移動方向と同一の方向に2本のアーム逃げ溝124が設けられている。ウェハ7は、アーム逃げ溝124に沿って移動するウェハ供給アーム(図示せず)により、ステージ123上に搭載される。
図5は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10の回転リング14の構成を示す斜視図(裏側から見た図)である。図5に示すように、回転リング14は、環状であり、リング形状に沿った複数の(4つの)回転リングスリット142が設けてある。回転リング14には、ウェハ7を保持した状態でめっき用治具10をめっき対象面Tが鉛直方向となるように設置した場合に、保持ベース12と当接する面であって、鉛直下側になる箇所にめっき液の排出口150が設けられている。上記構造により、回転リング14の裏側にめっき液などが残りにくくなる。
保持ベース12は、回転リング14の移動方向を案内する複数のガイドピン130を備えている。ガイドピン130は、回転リング14に設けられた複数の回転リングスリット142に挿通しており、保持ベース12に固定されている。回転リング14は、ガイドピン130にガイドされながらウェハの面に対して平行に回転移動し、複数の係止部141が移動(回転移動)して、かぶせ部材13の被係止部131を係止する。これにより、ウェハ7の全面のシール性が安定し、位置ずれが少なくなるので、液漏れ不良、通電不良、シール位置ずれ不良等のめっき不良を低減することができる。
なお、回転リング14は、中心角を等分した半径の延長部分(直径方向の外周側)へ2ヶ所の突起部143を備えており、表裏2枚の回転リング14を連結する連結部として後述する連結ピン111を挿通するピン孔144を備えている。
図6は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10のウェハ搭載時の構成を示す斜視図である。図6(a)に示すように、ステージ123の直上に、図6(b)に示すように円板状のウェハ7を移動させ、図6(c)に示すようにウェハ7を搭載する。この上からかぶせ部材13をかぶせることにより、ウェハ7を押さえ付ける。
図7は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10のかぶせ部材13の装着前の構成を示す斜視図である。図7に示すように、ウェハ7がステージ123上に搭載された側の面と反対側から、かぶせ部材13をかぶせることにより、ウェハ7を押さえ付ける。かぶせ部材13は、ウェハ7のめっき対象面Tの外縁を密封してウェハ7を押さえ付け、かぶせ部材13の外周に外側に向けて突出する複数の被係止部131を備えている。
図8は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10のかぶせ部材13の装着時の構成を示す斜視図である。図8に示すように、かぶせ部材13を回転リング14の内側に配置し、かぶせ部材13の内縁部135をウェハ7のめっき対象面Tの外縁に当接させることにより、ウェハ7をステージ123に密着させる。かぶせ部材13をかぶせる場合、被係止部131が、係止部141に重ならないようにかぶせる。なお、かぶせ部材13は、係止する際に保持ベース12に対して回転摺動しないように、図示しない位置決めピンなどにより位置規制される。
そして、係止部141を回転移動させて、被係止部131を係止部141に係止させる。図9は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10のかぶせ部材13の係止時の構成を示す斜視図である。図9に示すように、複数の係止部141を矢印方向へ回転移動させることにより、係止部141が被係止部131の上に覆いかぶさり、係止部141により係止される。これにより、ウェハ7を保持ベース12及びかぶせ部材13の間に挟んで保持することができる。
図10Aは、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10のかぶせ部材13の係止時の構成を示す部分斜視図である。図10A(a)に示すように、かぶせ部材13をかぶせる場合、かぶせ部材13の被係止部131が、回転リング14の係止部141に重ならないようにかぶせる。具体的には、回転リング14の凹部145に被係止部131が入るようにかぶせる。
かぶせ部材13をかぶせた時点で、保持ベース12の一方の面(ウェハ7の面に対して平行な面)を基準面Sとして、回転リング14の複数の係止部141の底面bは、かぶせ部材13の被係止部131の上面uよりも高い位置となるよう設けられている。これにより、係止部141が移動(回転移動)することにより、かぶせ部材13を係止することができる。
すなわち、図10A(b)に示すように、係止部141を回転移動させることにより、係止部141が被係止部131の上に覆いかぶさり被係止部131が係止され、かぶせ部材13が係止される。図10Bは、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10の部分断面図である。図10Bに示すように、回転リング14に設けられた回転リングスリット142に、保持ベース12に設けてある回転リングスリット142の移動方向を案内するガイドピン130を挿通している。これにより、回転リングスリット142の形状に沿って係止部141が摺動可能となり、係止部141が回転移動することができる。
これにより、回転リング14の回転移動により複数の係止部141を複数の被係止部131に均一に係止させることができ、ウェハ7の全面のシール性が安定し、位置ずれが少なくなるので、液漏れ不良、通電不良、シール位置ずれ不良等のめっき不良を低減することができる。
なお、係止部141の底面b又は被係止部131の上面uは傾斜していることが好ましい。係止部141が移動することにより、係止部141の底面bと被係止部131の上面uとの接触度合を変えることができ、より堅固にかぶせ部材13を固着することができ、ウェハ7をより確実に保持することができるからである。
図10Cは、本発明の実施の形態に係るめっき用治具10の係止部141の底面bと被係止部131の上面uとの係止状態を示す部分断面図である。図10Cの例では、係止部141の移動方向に沿って、係止部141の底面bが次第に低くなるよう傾斜している場合を示している。
この場合、図10C(a)に示すように、係止部141は、底面bの高さが高い方から被係止部131に接近する。そして、図10C(b)に示すように、被係止部131の上面uが係止部141の底面bに接触することにより、係止部141の移動を抑制するとともに、強く押し込むことにより、係止部141の底面bと被係止部131の上面uとの摩擦力が増大し、被係止部131を確実に係止部141に係止することが可能となり、ウェハ7を両面に確実に保持することができる。
本実施の形態では、保持ベース12の一方の面を基準面Sとして、係止部141の上面u2の高さは、かぶせ部材13の上面u1の高さに比べて同じ又はそれより低い位置、すなわちかぶせ部材13の高さ以下の位置に設けられている。
これにより、ウェハ7のめっきの対象面と図示しない撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具10自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽30を小さくすることも可能となる。
なお、図10Bでは、ガイドピン130の上面u3が回転リング14(係止部141)の上面u2よりも高くなる構造としているが、ガイドピン130の頭部を回転リング14内に埋め込み、ガイドピン130の上面u3が回転リング14の上面u2よりも低くなる構造であっても良い。
また、ウェハ7をめっき用治具10の両面に保持しても良い。図11は、本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具10の両面にウェハ7を保持する場合の、ウェハ7の開放時の構成を示す平面図及び側面図である。図11(a)は、めっき用治具10の両面にウェハ7を保持する場合の、ウェハ7の開放時の構成を示す平面図を、図11(b)は、めっき用治具10の両面にウェハ7を保持する場合の、ウェハ7の開放時の構成を示す側面図を、それぞれ示している。
図11に示すように、保持ベース12は、表裏両面にウェハ7を搭載するステージ123を備えている。両面のステージ123にそれぞれウェハ7を搭載し、外周に複数の被係止部131を有するかぶせ部材13a、13bをかぶせている。表裏両面に回転リング14a、14bを備えており、突起部143を連結する連結ピン111を、連結部として保持ベース12の保持ベーススリット112に挿通させている。
連結部である連結ピン111を保持ベーススリット112に沿って移動させることにより、表裏両面の回転リング14a、14bが同時に回転移動し、それに伴い複数の係止部141を移動させて複数の被係止部131を係止する。これにより、表裏両面のステージ123に搭載されたそれぞれのウェハ7を保持ベース12及びかぶせ部材13a、13bの間に挟んで保持することができる。
図12は、本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具10の両面にウェハ7を保持する場合の、ウェハ7の保持時の構成を示す平面図である。図11及び図12では、保持ベース12は、ウェハ7が両面に保持された状態で、ウェハ7のめっきの対象面が鉛直方向に設置された場合の上下に連結用の保持ベーススリット112を備えている。連結部である連結ピン111は、保持ベーススリット112の反時計回りの終端(図11)に位置している。この位置では、係止部141は被係止部131を係止していない。
そして、表裏両面の回転リング14a、14bを回転移動させる。すなわち、図12に示すように、連結部である連結ピン111が、保持ベーススリット112に沿って時計回りに移動するよう、回転リング14aを時計回りに回転移動させる。表側から回転リング14bを透視した場合、回転リング14bも時計回りに回転移動させられる。連結部である連結ピン111は、保持ベーススリット112の時計回りの終端に位置している。この位置では、係止部141は被係止部131を係止している。
そして、図13は、本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具10の両面にウェハ7を保持する場合の、ウェハ7の保持時の構成を示す斜視図である。図13に示すように、連結ピン111は、保持ベーススリット112の時計回りの終端まで移動しており、係止部141が被係止部131を係止している。つまり、表裏両面の回転リング14を同時に回転させることで、表裏両面のウェハ7を同時に保持することが可能となる。
以上のように本実施の形態によれば、ウェハ7上に固定リングを設けるのではなく、かぶせ部材13の外周の外側において保持ベース12に対して回転リング14を設け、複数の係止部141を有する回転リング14を回転移動させて複数の被係止部131を係止することにより、ウェハ7を保持ベース12及びかぶせ部材13の間に挟んで保持するので、ウェハ7のめっきの対象面とめっき槽内に設置する撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具10自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽30を小さくすることも可能となる。
その他、上述した実施の形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更することができることは言うまでもない。例えば係止部141及び被係止部131の配置は、上述した実施例に限定されるものではなく、ウェハ7を確実に保持できるよう複数配置されていれば良い。したがって、個数についても、特に限定されるものではない。
1 めっき装置
7 ウェハ
10 めっき用治具
12 保持ベース
13 かぶせ部材
14、14a、14b 回転リング
111 連結ピン
112 保持ベーススリット
123 ステージ
130 ガイドピン
131 被係止部
141 係止部
142 回転リングスリット
150 めっき液の排出口
7 ウェハ
10 めっき用治具
12 保持ベース
13 かぶせ部材
14、14a、14b 回転リング
111 連結ピン
112 保持ベーススリット
123 ステージ
130 ガイドピン
131 被係止部
141 係止部
142 回転リングスリット
150 めっき液の排出口
Claims (7)
- 被めっき基材であるウェハの一方の面に当接するステージを有する保持ベースと、
前記ウェハの他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有するかぶせ部材と、
複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記かぶせ部材の外周の外側において前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記ウェハを前記保持ベース及び前記かぶせ部材の間に挟んで保持する回転リングと
を備えることを特徴とするめっき用治具。 - 前記回転リングは、前記ウェハの外縁に沿った形状の回転リングスリットを複数有し、
前記保持ベースは、該回転リングの移動方向を案内するガイドピンを、前記回転リングスリットの一端又は他端に対応する位置に備えていることを特徴とする請求項1に記載のめっき用治具。 - 前記ウェハが保持された状態で、前記ウェハのめっきの対象面が鉛直方向に設置された場合に、前記回転リングは、前記ウェハの前記めっきの対象面の中心を通る鉛直線上の下部にめっき液の排出口を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のめっき用治具。
- 前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部は前記被係止部よりも高い位置に設けられており、
前記係止部の底面又は前記被係止部の上面は傾斜しており、
前記被係止部は、前記保持ベース及び前記係止部の間に挟まれて係止されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のめっき用治具。 - 前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部の上面は、前記かぶせ部材の上面の高さ以下の位置に設けられていることを特徴とする請求項1乃至4に記載のめっき用治具。
- 前記保持ベースは、他方の面にも被めっき基材である他のウェハを搭載するステージと、
前記他のウェハの外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有する他のかぶせ部材と、
複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記他のウェハを前記保持ベース及び前記他のかぶせ部材の間に挟んで保持する他の回転リングと
を備え、
前記回転リングと前記他の回転リングとを連結させ、一体として回転移動することを可能とする連結部を備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のめっき用治具。 - 前記回転リング及び前記他の回転リングは、中心角を等分した半径の延長部分に複数の突起部を有し、
前記保持ベースは、前記回転リング及び前記他の回転リングのリング形状に沿った複数の保持ベーススリットを、複数の前記突起部の位置に合わせて備えており、
前記突起部を連結する連結ピンを、連結部として前記保持ベーススリットに挿通してあることを特徴とする請求項6に記載のめっき用治具。
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JP2014131069A JP2016008344A (ja) | 2014-06-26 | 2014-06-26 | めっき用治具 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109072475A (zh) * | 2016-03-22 | 2018-12-21 | 株式会社荏原制作所 | 基板保持架及镀覆装置 |
CN111212935A (zh) * | 2017-10-27 | 2020-05-29 | 上村工业株式会社 | 工件保持夹具及装载/卸载装置 |
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2014
- 2014-06-26 JP JP2014131069A patent/JP2016008344A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109072475A (zh) * | 2016-03-22 | 2018-12-21 | 株式会社荏原制作所 | 基板保持架及镀覆装置 |
CN111212935A (zh) * | 2017-10-27 | 2020-05-29 | 上村工业株式会社 | 工件保持夹具及装载/卸载装置 |
KR20200079490A (ko) * | 2017-10-27 | 2020-07-03 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그(Jig) 및 로딩 / 언로딩 장치 |
EP3702494A4 (en) * | 2017-10-27 | 2021-07-21 | C. Uyemura & Co., Ltd. | PART HOLDING TEMPLATE AND LOADING / UNLOADING DEVICE |
CN111212935B (zh) * | 2017-10-27 | 2022-03-11 | 上村工业株式会社 | 工件保持夹具及装载/卸载装置 |
US11427923B2 (en) | 2017-10-27 | 2022-08-30 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Workpiece holding jig and loading and unloading apparatus |
KR102540023B1 (ko) | 2017-10-27 | 2023-06-02 | 우에무라 고교 가부시키가이샤 | 워크 유지 지그(Jig) 및 로딩 / 언로딩 장치 |
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