JP2016003919A - 顕微鏡システム、較正方法、及び、高さ測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】顕微鏡システム100は、顕微鏡装置400と演算装置700を備える。顕微鏡装置400は、光学顕微鏡200とSPM300を備えている。演算装置700は、光学顕微鏡200での高さ測定により得られる試料Sの第1の高さ情報と、SPM300での高さ測定により生じる測定誤差を補正するための予め取得された補正値であって対象物の高さ毎の補正値とに基づいて、SPM300での高さ測定で使用される補正値を決定する。
【選択図】図1
Description
図8に示すステップS31の処理は、図6に示すステップS1の処理と同様である。
200 光学顕微鏡
201 レボルバ
202 対物レンズ
203 ステージ
204 レーザ光源
205 PBS
206 光走査部
207 1/4λ板
208 結像レンズ
209 ピンホール板
210 光検出器
211 AD変換器
212 白色光源
213 結像レンズ
214 CCDカメラ
300 SPM
301 探針
302 カンチレバー
303、303a、303b ピエゾ素子
304 レーザダイオード
305 レンズ
306 4分割フォトダイオード
400 顕微鏡装置
500 コントローラ
600 SPMコントローラ
700 演算装置
701 CPU
702 メモリ
703 記憶装置
704 読取装置
705 表示IF
706 入力IF
707 通信IF
708 バス
709 可搬記録媒体
800 モニタ
900 入力装置
S 試料
Claims (9)
- 光学顕微鏡と走査型プローブ顕微鏡を備える顕微鏡装置と、
前記光学顕微鏡での高さ測定により得られる試料の第1の高さ情報と、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定により生じる測定誤差を補正するための予め取得された補正値であって対象物の高さ毎の補正値とに基づいて、前記試料に対する前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される補正値を決定する演算装置と、を備える
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 請求項1に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記走査型プローブ顕微鏡は、前記試料を走査する探針と、前記探針と前記試料の間の相対的な距離を変化させる駆動素子と、を備え、
前記演算装置は、前記第1の高さ情報と、前記駆動素子が有するヒステリシスと前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で許容される許容誤差とに基づいて決定された高さ間隔で予め取得された対象物の高さ毎の前記補正値とに基づいて、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される前記補正値を決定する
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 請求項1又は請求項2に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される補正値は、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定により得られる前記試料の第2の高さ情報を補正する補正値である
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 請求項2に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される補正値は、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で前記駆動素子への入力を補正する補正値である
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の顕微鏡システムにおいて、
前記演算装置は、前記第1の高さ情報に基づいて、対象物の高さ毎の前記補正値から前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される前記補正値を選択する
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の顕微鏡システムにおいて、さらに、
対象物の高さ毎の前記補正値を記憶する記憶装置を備える
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の顕微鏡システムにおいて、さらに、
前記第1の高さ情報に対応する高さが前記走査型プローブ顕微鏡の測定性能が保証される高さ範囲外であることを報知する報知部を備える
ことを特徴とする顕微鏡システム。 - 光学顕微鏡と走査型プローブ顕微鏡を備える顕微鏡装置の較正方法であって、
前記光学顕微鏡で試料の高さを測定し、
前記光学顕微鏡での高さ測定により得られる前記試料の第1の高さ情報と、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定により生じる測定誤差を補正するための予め取得された補正値であって対象物の高さ毎の補正値とに基づいて、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される補正値を決定する
ことを特徴とする較正方法。 - 光学顕微鏡と走査型プローブ顕微鏡を備える顕微鏡装置の高さ測定方法であって、
前記光学顕微鏡で試料の高さを測定し、
前記光学顕微鏡での高さ測定により得られる前記試料の第1の高さ情報と、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定により生じる測定誤差を補正するための予め取得された補正値であって対象物の高さ毎の補正値とに基づいて、前記走査型プローブ顕微鏡での高さ測定で使用される補正値を決定し、
決定した前記補正値を使用して前記走査型プローブ顕微鏡で前記試料の高さを測定して、前記試料の高さを算出する
ことを特徴とする高さ測定方法。
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JP2007139557A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Olympus Corp | 複合型顕微鏡 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5644512A (en) * | 1996-03-04 | 1997-07-01 | Advanced Surface Microscopy, Inc. | High precision calibration and feature measurement system for a scanning probe microscope |
JP2002350320A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
JP2007139557A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Olympus Corp | 複合型顕微鏡 |
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