JP2015535795A - 水素を援用するスート体のフッ素化 - Google Patents
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Abstract
Description
以下の工程:
a)スート体を調製する工程、及び
b)スート体を、CnF2n+2(n=1又は2)及び水素を含むガス混合物で、(1280−n*250)℃〜(1220−n*100℃)の範囲内の温度で処理する工程、
を含むスート体のフッ素化方法に関する。
以下の工程
i)スート体を製造又は調製する工程、
ii)本発明によるフッ素化に応じて、スート体をフッ素化する工程、
iii)任意に、フッ素化されたスート体を塩素化する工程、及び
iv)フッ素化されたスート体を、0.1barを下回る、好ましくは10-2barを下回る圧力で、フッ素化温度を上回る温度、好ましくは1250℃〜1500℃でガラス化する工程
を含む光学エレメント用合成ガラスの製造方法である。
スート体のフッ素化を、5体積%(Vol.−%)C2F6、5Vol.−%水素及び90Vol.−%窒素からなるガス混合物を用いて第1の変法において行う。ガス混合物を50cm3/分のガス流を用いて3時間にわたり900℃の温度で多孔質のスート体と接触させる。フッ素化を、反応器外圧、すなわち、周囲雰囲気圧を5mbar下回る反応器内圧で行う。
スート体のフッ素化を、5体積%(Vol.−%)CF4、5Vol.−%水素及び90Vol.−%窒素からなるガス混合物を用いて第2の変法において行う。ガス混合物を50cm3/分のガス流を用いて3時間にわたり900℃の温度で多孔質のスート体と接触させる。フッ素化を、反応器外圧、すなわち、周囲雰囲気圧を5mbar下回る反応器内圧で行う。
Claims (15)
- 以下の工程
a)スート体を調製する工程、及び
b)スート体を、CnF2n+2(n=1又は2)及び水素を含むガス混合物で、(1280−n*250)℃〜(1220−n*100℃)の範囲内の温度で処理する工程、
を含むスート体のフッ素化方法。 - スート体の処理を、CF4及び水素を含むガス混合物を用いて、1050〜1120℃の温度範囲で行うことを特徴とする請求項1記載の方法。
- スート体の処理を、C2F6及び水素を含むガス混合物を用いて、750〜1000℃、好ましくは850〜980℃の温度範囲で行うことを特徴とする請求項1記載の方法。
- ガス混合物が、そのつど25℃でのガス混合物の全体積に対して65Vol.−%まで、好ましくは5〜35Vol.−%のCnF2n+2(n=1又は2)及び水素を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の方法。
- ガス混合物が、そのつど25℃でのガス混合物の全体積に対して10〜60Vol.−%、好ましくは12〜30Vol.−%のC2F6又はCF4を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の方法。
- ガス混合物が、そのつど25℃でのガス混合物の全体積に対して35〜95Vol.−%、好ましくは70〜90Vol.−%の窒素を含むことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項記載の方法。
- ガス混合物が、そのつど25℃でのガス混合物の全体積に対して、15Vol.−%まで、好ましくは5Vol.−%まで、特に1〜4Vol.−%、特別に1〜3Vol.−%の量で水素を含むことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項記載の方法。
- スート体が、多孔質SiO2スート体であり、好ましくは析出したSiO2粒子を含むスート管であり、特に平均密度0.48g/cm3〜0.77g/cm3及び5m2/gより大きい比表面積を有することを特徴とする請求項1から7のいずれか1項記載の方法。
- 請求項1から8のいずれか1項記載の方法により得られるフッ素化スート体。
- 以下の工程
i)スート体を製造又は調製する工程、
ii)請求項1から8のいずれか1項記載のスート体をフッ素化する工程、
iii)任意に、フッ素化されたスート体を塩素化する工程、及び
iv)フッ素化されたスート体を、0.1barを下回る、好ましくは10-2barを下回る圧力で、かつフッ素化温度を上回る温度、好ましくは1250℃〜1500℃でガラス化する工程
を含む光学エレメント用合成ガラスの製造方法。 - スート体の製造を、少なくとも1の、好ましくは少なくとも2の析出バーナーを用いて、材料被着のためにSiO2粒子をその長軸を中心に回転する支持体に析出することにより行うことを特徴とする請求項10記載の方法。
- 合成ガラスがガラス管であることを特徴とする請求項10又は11記載の方法。
- 請求項10から12のいずれか1項記載の方法により得ることができるか又は得られるガラス。
- 請求項1から8のいずれか1項記載の方法、又は請求項9記載のフッ素化されたスート体、又は請求項10から12のいずれか1項記載の方法、又は請求項13記載のガラスを、光学エレメント、特に光ファイバーの製造に用いる使用。
- ガラスを、被覆管又は基盤管を形成しつつ伸長させ、好ましくは基盤管の内壁にコーティングさせることで、請求項13記載のガラスを光ファイバーの一部として用いる使用。
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