JP2015534937A - Mww型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)SiO2及びB2O3を含んでなり、MWW骨格構造を有するホウ素含有ゼオライト材料(B−MWW)を準備する工程;
(ii) (i)において準備されたB−MWWを、5.5〜8の範囲内のpHを有する液体溶剤系で処理することにより、該B−MWWを脱ホウ素処理する工程;
(iii)以下の工程を含んでなる方法により、Snを、(ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWW中へ組み込む工程:
(iii.1) (ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWWと、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチル−ピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものと、スズ源とを含有する水性合成混合物を製造する工程、その際に該合成混合物中で、Sn(SnO2として計算して)対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、多くとも0.015:1であり;
(iii.2) (iii.1)から得られた合成混合物から、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を水熱合成し、それにより、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料をその母液中に得る工程;
(iii.3) (iii.2)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、その母液から分離する工程;
(iv) (iii)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、多くとも5のpHを有する水溶液で処理し、それにより、元素として計算し、かつSn−MWWの質量を基準として多くとも2質量%のSn含有量を有する該Sn−MWWを得る工程、及び任意に、該Sn−MWWを該水溶液から分離する工程
を含んでなる。
一般的に、該B−MWWが(i)においてどのように準備されるかは特に限定されない。例えば、適しており、商業的に入手可能なMWW骨格構造を有するホウ素含有ゼオライト材料を購入することが考えられうる。更に、例えば、そのようなゼオライトを合成する、考えられるあらゆる方法が、該ゼオライト材料を準備するのに使用することができる。好ましくは、該ゼオライト材料は、(i)において、B2O3及びSiO2の適した源から出発して、構造規定剤とも呼ばれる適したテンプレート化合物の存在下で該ゼオライト材料を水熱合成することを含む方法により、準備される。
(a)B−MWW前駆体を、ケイ素源、好ましくはアンモニア安定化コロイダルシリカと、ホウ素源、好ましくはホウ酸と、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものとを含有する水性合成混合物から水熱合成して、該B−MWW前駆体をその母液中に得る工程;
(b)該B−MWW前駆体をその母液から分離し、好ましくは該B−MWW前駆体の乾燥を含んでなる、工程、その際に該乾燥は好ましくは、100〜180℃、より好ましくは110〜140℃の範囲内の温度で実施され、
その際に、(a)における合成混合物中で、
B(B2O3として計算し、かつ該ホウ素源中に含まれる)対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、0.4:1〜0.6:1、より好ましくは0.45:1〜0.55:1、より好ましくは0.47:1〜0.52:1の範囲内であり;
該MWWテンプレート化合物対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、0.8:1〜1.7:1、より好ましくは1.0:1〜1.5:1、より好ましくは1.1:1〜1.3:1の範囲内であり;かつ
H2O対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、12:1〜20:1、より好ましくは13:1〜18:1、より好ましくは14:1〜16:1の範囲内である。
本発明によれば、該B−MWW、特に好ましくは(i)において準備された、分離され、乾燥され、好ましくは噴霧乾燥され、かつか焼されたB−MWWは好ましくは、(ii)において、5.5〜8の範囲内のpHを有する液体溶剤系での処理により、脱ホウ素処理される。
本発明によれば、(ii)から得られた、好ましくは分離され、かつ乾燥され、かつ任意にか焼された、脱ホウ素処理B−MWWは更に、工程(iii)にかけられ、その際にスズが該材料中へ導入されて、スズ含有ゼオライト材料が得られる。特に、(iii)において、スズは、以下の工程を含んでなる方法により、(ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWW中へ導入される:
(iii.1) (ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWWと、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものと、スズ源とを含有する水性合成混合物を製造する工程、その際に該合成混合物中で、Sn(SnO2として計算して)対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、多くとも0.015:1であり;
(iii.2)(iii.1)から得られた合成混合物から、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を水熱合成し、それにより、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料をその母液中に得る工程;
(iii.3) (iii.2)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、その母液から分離する工程。
本発明によれば、(iii)から得られた、分離され、かつ好ましくは乾燥されたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料は、段階(iv)にかけられ、その際にMWW型骨格構造を有する該スズ含有ゼオライト材料は、多くとも5のpHを有する水溶液で処理され、それにより、元素として計算し、かつSn−MWWの質量を基準として2質量%未満のSn含有量を有する該Sn−MWWが得られ、かつ任意に、該Sn−MWWは該水溶液から分離される。
前記のように、(iv)から、元素として計算し、かつSn−MWWの質量を基準として多くとも2.0質量%のスズ含有量を有するSn−MWWが得られる。好ましくは、新規なSn−MWWのスズ含有量は、0.05〜2.0質量%、より好ましくは0.1〜1.9質量%、より好ましくは0.1〜1.8質量%、より好ましくは0.1〜1.7質量%、より好ましくは0.1〜1.6質量%、より好ましくは0.1〜1.5質量%、より好ましくは0.1〜1.4質量%、より好ましくは0.1〜1.3質量%、より好ましくは0.1〜1.2質量%、より好ましくは0.1〜1.0質量%の範囲内である。更に好ましくは、新規なSn−MWWのスズ含有量は、0.1〜1.9質量%、より好ましくは0.3〜1.5質量%、より好ましくは0.4〜1.2質量%、より好ましくは0.5〜1.0質量%の範囲内である。更に好ましくは、新規なSn−MWWのスズ含有量は、0.1〜1.9質量%、より好ましくは0.2〜1.5質量%、より好ましくは0.3〜1.2質量%、より好ましくは0.4〜1.0質量%の範囲内である。考えられる好ましい範囲は、例えば、0.15〜0.9質量%又は0.2〜0.8質量%又は0.25〜0.7質量%又は0.3〜0.6質量%又は0.35〜0.5質量%である。
水性系での該Sn−MWWの処理
更に、(iv)から得られたSn−MWW、好ましくは分離され、乾燥され、かつか焼されたSn−MWWが、5.5〜8の範囲内のpHを有する水性系で処理されることが考えられる。
(iv.1) (iv)から得られたSn−MWWを、5.5〜8の範囲内のpHを有する水性系で処理する工程;
(iv.2) (iv.1)から得られたSn−MWWを乾燥及び/又はか焼する工程
を含んでなる、上記で定義された方法にも関する。
新規なSn−MWWの特定の用途に応じて、(iv)から、任意に(iv.1)又は(iv.2)から得られた粉末又はスプレー粉末が、更に加工されて、該粉末又は該スプレー粉末を含んでなる成形物を製造することが考えられる。
(v) (iv)から得られたSn−MWWを含んでなる成形可能な混合物を製造する工程、その際に該成形可能な混合物は任意に、バインダー又はバインダー前駆体を含んでなり;
(vi) (v)から得られた混合物を成形して、該Sn−MWWを含有する成形物を得る工程;
(vii)任意に、(vi)において得られた該成形物を乾燥及び/又はか焼する工程
を含んでなる、上記で定義された方法にも関する。
更に、(vi)又は(vii)、好ましくは(vii)から得られたSn−MWWを含んでなる成形物が、5.5〜8の範囲内のpHを有する水性系で処理されることが考えられる。
(viii) (vi)又は(vii)、好ましくは(vii)から得られた成形物を、5.5〜8の範囲内のpHを有する水性系で処理する工程;
(ix)任意に、(viii)から得られた成形物を乾燥及び/又はか焼する工程
を含んでなる、上記で定義された方法にも関する。
本発明による、好ましくは本発明による方法により得ることができるか又は得られた、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)及び/又は本発明による、好ましくは本発明による方法により得ることができるか又は得られた、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)を含んでなる本発明の成形物は一般的に、考えられるあらゆる目的のため、例えば触媒活性物質、触媒担体、モレキュラーシーブ、吸着剤、充填剤等に使用することができる。
(i)式(I)の化合物を、任意に溶剤の存在下で、過酸化水素と、本発明によるSn−MWW又は本発明の方法により得ることができるか又は得られたSn−MWWの存在下で、好ましくは50〜150℃、好ましくは70〜120℃、より好ましくは90〜110℃の範囲内の温度で、反応させて、式(II)
その際に、R1もR2も水素原子ではない場合には、R1及びR2は、カルボニル基又はカルボキシル基と一緒になって、環を形成してよく、かつ式(I)の化合物は、
(ii)任意に、式(II)の化合物を、(i)において得られた混合物から分離する工程を含んでなり;
好ましくは、その際にR1及びR2は、互いに独立して、炭素原子1〜20個を有する線状又は分枝鎖状のアルキル基、炭素原子2〜20個を有する線状又は分枝鎖状のアルケニル基、炭素原子4〜20個を有するアリール又はヘテロアリール基又は水素原子であり、かつR1もR2も水素原子ではない場合には、R1及びR2は、カルボニル基又はカルボキシル基と一緒になって、炭素原子4〜20個を有する環を形成してよい。
(i)式(I)の化合物を、任意に溶剤の存在下で、過酸化水素と、本発明によるSn−MWW又は本発明の方法により得ることができるか又は得られたSn−MWWの存在下で、好ましくは50〜150℃、好ましくは70〜120℃、より好ましくは90〜110℃の範囲内の温度で、反応させて、式(II)
その際に、R1もR2も水素原子ではない場合には、R1及びR2は、カルボニル基又はカルボキシル基と一緒になって、環を形成してよく、かつ式(I)の化合物は、
(ii)任意に、式(II)の化合物を、(i)において得られた混合物から分離する工程を含んでなり;
好ましくは、その際に、R1及びR2は、互いに独立して、炭素原子1〜20個を有する線状又は分枝鎖状のアルキル基、炭素原子2〜20個を有する線状又は分枝鎖状のアルケニル基、炭素原子4〜20個を有するアリール又はヘテロアリール基又は水素原子であり、かつR1もR2も水素原子ではない場合には、R1及びR2は、カルボニル基又はカルボキシル基と一緒になって、炭素原子4〜20個を有する環を形成してよい。
1.MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)を製造する方法であって、
(i)SiO2及びB2O3を含んでなるMWW骨格構造を有するホウ素含有ゼオライト材料(B−MWW)を準備する工程;
(ii) (i)において準備されたB−MWWを、5.5〜8の範囲内のpHを有する液体溶剤系で処理することにより、該B−MWWを脱ホウ素処理する工程;
(iii)以下の工程を含んでなる方法により、Snを、(ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWW中へ組み込む工程:
(iii.1) (ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWWと、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものと、スズ源とを含有する水性合成混合物を製造する工程、その際に該合成混合物中で、Sn(SnO2として計算して)対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、多くとも0.015:1であり;
(iii.2) (iii.1)から得られた該合成混合物から、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を水熱合成し、それにより、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料をその母液中に得る工程;
(iii.3) (iii.2)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、その母液から分離する工程;
(iv) (iii)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、多くとも5のpHを有する水溶液で処理し、それにより、元素として計算し、かつSn−MWWの質量を基準として多くとも2質量%のSn含有量を有する該Sn−MWWを得る工程、及び任意に、該Sn−MWWを該水溶液から分離する工程
を含んでなる、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)を製造する方法。
(a)B−MWW前駆体を、ケイ素源、好ましくはアンモニア安定化コロイダルシリカと、ホウ素源、好ましくはホウ酸と、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものとを含有する水性合成混合物から水熱合成して、該B−MWW前駆体をその母液中に得る工程;
(b)該B−MWW前駆体をその母液から分離し、好ましくは該B−MWW前駆体を乾燥することを含んでなる、工程、その際に該乾燥は好ましくは、100〜180℃、より好ましくは110〜140℃の範囲内の温度で実施され、
を含んでなる方法により準備し、
その際に、(a)における合成混合物中で、
B(B2O3として計算し、かつ該ホウ素源中に含まれる)対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、0.4:1〜0.6:1、より好ましくは0.45:1〜0.55:1、より好ましくは0.47:1〜0.52:1の範囲内であり;
該MWWテンプレート化合物対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、0.8:1〜1.7:1、より好ましくは1.0:1〜1.5:1、より好ましくは1.1:1〜1.3:1の範囲内であり;かつ
H2O対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、12:1〜20:1、より好ましくは13:1〜18:1、より好ましくは14:1〜16:1の範囲内である、
実施態様1の方法。
(v) (iv)から得られたSn−MWWを含んでなる成形可能な混合物を製造する工程、その際に該成形可能な混合物は任意に、バインダー又はバインダー前駆体、好ましくはシリカバインダー又はシリカバインダー前駆体を含んでなり;
(vi) (v)から得られた混合物を成形にして、該Sn−MWWを含有する成形物を得る工程;
(vii)任意に、(v)において得られた成形物を乾燥及び/又はか焼する工程
を含んでなる、実施態様1〜42のいずれかの方法。
元素として計算し、かつ該Sn−MWWの質量を基準として多くとも2質量%のスズ含有量を有し、かつ(6.6±0.1)°の2θ回折角でのピーク、好ましくは(6.6±0.1)°の2θ回折角でのピークと、(7.1±0.1)°の2θ回折角でのピークと、(7.9±0.1)°の2θ回折角でのピークとを含んでなるX線回折図形を有する、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)。
(i)B−MWWの製造
脱イオン水480kgを容器中に準備した。70rpm(毎分回転数)で撹拌しながら、ホウ酸166kgを該水中に室温で懸濁させた。該懸濁液を室温で更に3h撹拌した。その後に、ピペリジン278kgを添加し、該混合物を、更に1時間撹拌した。生じた溶液に、Ludox(登録商標) AS-40 400kgを添加し、生じた混合物を70rpmで室温で更に1時間撹拌した。最終的に得られた混合物を、結晶化容器に移し、自生圧下でかつ撹拌しながら(50rpm)5h以内に170℃に加熱した。170℃の温度を、120hにわたって本質的に一定に維持した。この120hの間に、該混合物を50rpmで撹拌した。その後に、該混合物を50〜60℃の温度に冷却した。B−MWW前駆体を含有する水性懸濁液は、pH感応電極を用いる測定により決定して11.3のpHを有していた。前記懸濁液から、該B−MWW前駆体を、ろ過により分離した。そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が700μS/cm未満の導電率を有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。こうして得られたろ過ケークを、次の噴霧乾燥条件でのスプレー塔中で噴霧乾燥させた:
乾燥ガス、ノズルガス:工業用窒素
乾燥ガスの温度:
・スプレー塔(入口)の温度:235℃
・スプレー塔(出口)の温度:140℃
ノズル:
・トップコンポーネントノズル 供給者Gerig;サイズ0
・ノズルガス温度:室温
・ノズルガス圧力:1バール
運転モード:窒素ストレート
使用される装置:1個のノズルを有するスプレー塔
構成:スプレー塔−フィルター−スクラバー
ガス流量:1500kg/h
フィルター材料:Nomex(登録商標) ニードルフェルト20m2
フレキシブルチューブポンプによる送液:SP VF 15(供給者:Verder)。
脱イオン水9kg及び例1(i)により得られた、か焼させたゼオライト材料600gを、100℃で250rpmで撹拌しながら10h還流させた。生じた脱ホウ素処理ゼオライト材料を、該懸濁液からろ過により分離し、室温で脱イオン水4lで洗浄した。該ろ過後に、該ろ過ケークを120℃の温度で16h乾燥させた。
脱イオン水776.25gをガラスビーカー中に準備し、ピペリジン280gを撹拌しながら添加し、更に20分間撹拌した。別個に、グローブボックス中で、スズ(IV)−t−ブトキシド5gを、窒素雰囲気下にピペリジン95g中に溶解させた。該混合物を、該水性ピペリジン懸濁液に添加し、更に10分間撹拌した。例1(ii)により得られたゼオライト材料172.4gを、該混合物に添加し、室温で1h撹拌した(200rpm)。得られた懸濁液を、次いでオートクレーブ中に充填した。該混合物を、撹拌しながら(100rpm)、170℃の温度で120h処理した。
例1(iii)により得られたゼオライト材料170gを丸底フラスコ中に準備し、0〜1の範囲内のpHを有する30質量%HNO3水溶液5.1kgを添加した。該混合物を、100℃の温度で20hの期間にわたって撹拌した(200rpm)。該懸濁液をろ過し、そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が約7のpHを有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。得られたゼオライト材料を、120℃で16h乾燥させ、550℃への加熱(毎分2℃)及びその後の550℃で10hの加熱により、か焼させた。
本発明によれば、スズ含有ゼオライト材料を、例1において、脱ホウ素処理と、Snの組込み及びその後の酸性溶液での処理との組合せにより製造し、その際にSn対Siのモル比は、最終的に得られたSn−MWWが、多くとも2質量%のスズ含有量を有するように選択された。この組合せは、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)をもたらし、その際に該X線回折図形は、(6.6±0.1)°の2θ回折角でのピークを含んでなり、これは、該スズ含有ゼオライト材料の層の間でより大きい層間距離を示す。この層間距離は、該骨格構造の格子パラメーターcにより表現され、これは27.069Åの値を有する。
(i)B−MWWの製造
脱イオン水470.4kgを容器中に準備した。70rpm(毎分回転数)で撹拌しながら、ホウ酸162.5kgを、該水中に室温で懸濁させた。該懸濁液を室温で更に3h撹拌した。その後に、ピペリジン272.5kgを添加し、該混合物を更に1時間撹拌した。生じた溶液に、Ludox(登録商標) AS-40 492kgを添加し、生じた混合物を70rpmで室温で更に1時間撹拌した。最終的に得られた混合物を、結晶化容器に移し、自生圧下でかつ撹拌しながら(50rpm)5h以内に170℃に加熱した。170℃の温度を、120hにわたって本質的に一定に維持した。この120hの間に、該混合物を50rpmで撹拌した。その後に、該混合物を50〜60℃の温度に冷却した。B−MWW前駆体を含有する水性懸濁液は、pH感応電極を用いる測定により決定して11.3のpHを有していた。前記懸濁液から、該B−MWW前駆体を、ろ過により分離した。そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が500μS/cm未満の導電率を有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。こうして得られたろ過ケークを、次の噴霧乾燥条件でのスプレー塔中で噴霧乾燥させた:
乾燥ガス、ノズルガス:工業用窒素
乾燥ガスの温度:
・スプレー塔(入口)の温度:235℃
・スプレー塔(出口)の温度:140℃
ノズル:
・トップコンポーネントノズル 供給者Gerig;サイズ0
・ノズルガス温度:室温
・ノズルガス圧力:1バール
運転モード:窒素ストレート
使用される装置:1個のノズルを有するスプレー塔
構成:スプレー塔−フィルター−スクラバー
ガス流量:1500kg/h
フィルター材料:Nomex(登録商標) ニードルフェルト20m2
フレキシブルチューブポンプによる送液:SP VF 15(供給者:Verder)。
脱イオン水360kg及びか焼させた材料12kgを、100℃で70rpmで撹拌しながら20h還流させた。生じた脱ホウ素処理ゼオライト材料を、該懸濁液からろ過により分離し、室温で脱イオン水240lで洗浄した。該ろ過後に、そのろ過ケークを、120℃の温度で48h乾燥させた。
脱イオン水675gをガラスビーカー中に準備し、ピペリジン226.1gを撹拌しながら添加し、更に20分間撹拌した。別個に、グローブボックス中で、スズ(IV)−t−ブトキシド4.35gを、窒素雰囲気下にピペリジン100g中に溶解させた。該混合物を、該水性ピペリジン懸濁液に添加し、更に10分間撹拌した。例1(ii)により得られたゼオライト材料150gを、該混合物に添加し、室温で1h撹拌した(200rpm)。得られた懸濁液を、次いでオートクレーブ中に充填した。該混合物を、撹拌しながら(100rpm)、170℃の温度で120h処理した。
例1(iii)により得られたゼオライト材料150gを丸底フラスコ中に準備し、0〜1の範囲内のpHを有する30質量%HNO3水溶液4.5kgを添加した。該混合物を、100℃の温度で20hの期間にわたって撹拌した(200rpm)。該懸濁液をろ過し、そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が約7のpHを有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。得られたゼオライト材料を、120℃で16h乾燥させ、550℃への加熱(毎分2℃)及びその後の550℃で10hの加熱により、か焼させた。
例1のように、例2も、本発明の方法、すなわち、脱ホウ素処理と、Sn対Siのモル比が、最終的に得られたSn−MWWが2質量%より低いスズ含有量を有するように選択されたSnの組込み及びその後の酸性溶液での処理との組合せが、その骨格構造の格子パラメーターcにより与えられる大きい層間距離を有し、このパラメーターcが26.92Åの値を有するMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)をもたらすことを示している。
(i)B−MWWの製造
脱イオン水470.4kgを容器中に準備した。70rpm(毎分回転数)で撹拌しながら、ホウ酸162.5kgを、該水中に室温で懸濁させた。該懸濁液を室温で更に3h撹拌した。その後に、ピペリジン272.5kgを添加し、該混合物を更に1時間撹拌した。生じた溶液に、Ludox(登録商標) AS-40 492kgを添加し、生じた混合物を70rpmで室温で更に1時間撹拌した。最終的に得られた混合物を、結晶化容器に移し、自生圧下でかつ撹拌しながら(50rpm)5h以内に170℃に加熱した。170℃の温度を、120hにわたって本質的に一定に維持した。この120hの間に、該混合物を50rpmで撹拌した。その後に、該混合物を50〜60℃の温度に冷却した。B−MWW前駆体を含有する該水性懸濁液は、pH感応電極を用いる測定により決定して11.3のpHを有していた。前記懸濁液から、該B−MWW前駆体を、ろ過により分離した。そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が500μS/cm未満の導電率を有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。こうして得られたろ過ケークを、次の噴霧乾燥条件でのスプレー塔中で噴霧乾燥させた:
乾燥ガス、ノズルガス:工業用窒素
乾燥ガスの温度:
・スプレー塔(入口)の温度:235℃
・スプレー塔(出口)の温度:140℃
ノズル:
・トップコンポーネントノズル 供給者Gerig;サイズ0
・ノズルガス温度:室温
・ノズルガス圧力:1バール
運転モード:窒素ストレート
使用される装置:1個のノズルを有するスプレー塔
構成:スプレー塔−フィルター−スクラバー
ガス流量:1500kg/h
フィルター材料:Nomex(登録商標) ニードルフェルト20m2
フレキシブルチューブポンプによる送液:SP VF 15(供給者:Verder)。
脱イオン水360kg及びか焼させた材料12kgを、100℃で70rpmで撹拌しながら20h還流させた。生じた脱ホウ素処理ゼオライト材料を、該懸濁液からろ過により分離し、室温で脱イオン水240lで洗浄した。該ろ過後に、そのろ過ケークを、120℃の温度で48h乾燥させた。
脱イオン水675gをガラスビーカー中に準備し、ピペリジン226.1gを撹拌しながら添加し、更に20分間撹拌した。別個に、グローブボックス中で、スズ(IV)−t−ブトキシド11.69gを、窒素雰囲気下でピペリジン100g中に溶解させた。該混合物を、該水性ピペリジン懸濁液に添加し、更に10分間撹拌した。例1(ii)により得られたゼオライト材料150gを、該混合物に添加し、室温で1h撹拌した(200rpm)。得られた懸濁液を、次いでオートクレーブ中に充填した。該混合物を、170℃の温度で撹拌しながら(100rpm)120h処理した。
比較例2(iii)により得られたゼオライト材料150gを、丸底フラスコ中に準備し、0〜1の範囲内のpHを有する30質量%HNO3水溶液4.5kgを添加した。該混合物を、100℃の温度で20hの期間にわたって撹拌した(200rpm)。該懸濁液をろ過し、そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が約7のpHを有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。得られたゼオライト材料を、120℃で16h乾燥させ、550℃への加熱(毎分2℃)及びその後の550℃で10hの加熱により、か焼させた。
比較例1において、MWW骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を製造し、その際に該ゼオライト材料は2.1質量%のスズ含有量を有していた。その層間距離は、該骨格構造の格子パラメーターcにより与えられ、これは26.64Åの値を有していた。本発明による方法により得られたスズ含有ゼオライト材料と比べて、該格子パラメーターcは、有意により低い。該X線回折図形に関する限り、本発明による新規なSn−MWWのX線回折図形とは異なり、(6.6±0.1)°の2θ角で、ピークは存在しない。
ガラス容器に、シクロヘキサノン1.5g、アセトニトリル45g及び例1により得られたゼオライト材料1.6gを装入した。該混合物を還流に加熱した(95℃)。H2O2 0.5gの水溶液(70質量%)を添加し、その反応混合物を4h撹拌した。室温に冷却した後に、該溶液をろ過し、該触媒をジオキサン50mLで洗浄した。
例3において、42%のシクロヘキサノン転化率が、例1(iv)により得られたゼオライト材料の使用により達成された。更に、該酸化反応の生成物、すなわちε−カプロラクトンへの選択率は、50%であった。
ガラス容器に、シクロヘキサノン1.5g、アセトニトリル45g及び比較例1により得られたゼオライト材料0.6gを装入した。該混合物を還流に加熱した(95℃)。H2O2 0.5gの水溶液(70質量%)を添加し、その反応混合物を4h撹拌した。室温に冷却した後に、該溶液をろ過し、かつ該触媒をジオキサン50mLで洗浄した。
例3.3において、22%のシクロヘキサノン転化率が、例1(iii)により得られたゼオライト材料の使用により達成された。更に、該酸化反応の生成物、すなわちε−カプロラクトンへの選択率は、37%であった。
以下の第1表に示されるように、比較例1によるゼオライト材料、すなわち、MWW骨格構造を有する従来のスズ含有ゼオライト材料を用いて、(6.6±0.1)の2θ回折角でのピークを示さないXRD回折図形、22%のシクロヘキサノン転化率及び37%の該シクロヘキサノンに対するε−カプロラクトンの選択率が、得られた。
(i)上記の例1のとおり
(ii)上記の例1のとおり
(iii)Snの組込み
脱イオン水776.25gをガラスビーカー中に準備し、ピペリジン375gを撹拌しながら添加した。この懸濁液に、Sn(OAc)2(酢酸Sn(II))1.45gを添加し、該懸濁液を更に10分間撹拌した。例1(ii)により得られたゼオライト材料172.4gを該混合物に添加し、室温で20分間撹拌した(200rpm)。得られた懸濁液を、次いでオートクレーブ中に充填した。該混合物を、撹拌しながら(100rpm)、170℃の温度で48h処理した。
例4(iii)により得られたゼオライト材料173.4gを丸底フラスコ中に準備し、0〜1の範囲内のpHを有する30質量%HNO3水溶液5202gを添加した。該混合物を、還流下に100℃の温度で20hの期間にわたって撹拌した(200rpm)。該懸濁液をろ過し、該ろ過ケークを次いで、その洗浄水が約7のpHを有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。得られたゼオライト材料を、120℃で16h乾燥させ、550℃への加熱(毎分2℃)及びその後の550℃で10hの加熱により、か焼させた。
例1及び2のように、例4も、本発明の方法、すなわち、脱ホウ素処理と、Sn対Siのモル比が、最終的に得られたSn−MWWが2質量%より低いスズ含有量を有するように選択されたSnの組込み及びその後の酸性溶液での処理との組合せが、その骨格構造の格子パラメーターcにより与えられる大きい層間距離を有し、このパラメーターcが26.91Åの値を有するMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)をもたらすことを示している。
100mlガラスフラスコ容器に、シクロヘキサノン1.5g、0.46質量%のSn含有量を有する参考例2により得られたゼオライト材料1.2g及びジクロロエタン45gを装入した。該混合物を還流に加熱した(95℃)。H2O2 0.5gの水溶液(70質量%)を添加し、その反応混合物を4h撹拌した。室温に冷却した後に、該溶液をろ過し、内標準としてジ−n−ブチルエーテルを用いる定量GC分析により分析した。ε−カプロラクトンが得られ、その際にシクロヘキサノンを基準としたε−カプロラクトンへの54%の選択率が達成された。
(i)B−MWWの製造
脱イオン水480kgを容器中に準備した。70rpm(毎分回転数)で撹拌しながら、ホウ酸166kgを、該水中に室温で懸濁させた。該懸濁液を室温で更に3h撹拌した。その後に、ピペリジン278kgを添加し、該混合物を更に1時間撹拌した。生じた溶液に、Ludox(登録商標) AS-40 400kgを添加し、生じた混合物を、70rpmで室温で更に1時間撹拌した。最終的に得られた混合物を、結晶化容器に移し、自生圧下でかつ撹拌しながら(50rpm)5h以内に170℃に加熱した。170℃の温度を、120hにわたって本質的に一定に維持した。この120hの間に、該混合物を50rpmで撹拌した。その後に、該混合物を50〜60℃の温度に冷却した。B−MWWを含有する該水性懸濁液は、pH感応電極を用いる測定により決定して11.3のpHを有していた。前記懸濁液から、該B−MWWを、ろ過により分離した。そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が500μS/cm未満の導電率を有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。こうして得られたろ過ケークを、次の噴霧乾燥条件でのスプレー塔中で噴霧乾燥させた:
乾燥ガス、ノズルガス:工業用窒素
乾燥ガスの温度:
・スプレー塔(入口)の温度:235℃
・スプレー塔(出口)の温度:140℃
ノズル:
・トップコンポーネントノズル 供給者Gerig;サイズ0
・ノズルガス温度:室温
・ノズルガス圧力:1バール
運転モード:窒素ストレート
使用される装置:1個のノズルを有するスプレー塔
構成:スプレー塔−フィルター−スクラバー
ガス流量:1500kg/h
フィルター材料:Nomex(登録商標) ニードルフェルト20m2
フレキシブルチューブポンプによる送液:SP VF 15(供給者:Verder)。
脱イオン水1590kg及び(i)から得られたか焼させた材料106kgを、100℃で70rpmで撹拌しながら10h還流させた。生じた脱ホウ素処理ゼオライト材料を、該懸濁液からろ過により分離し、室温で脱イオン水150lで4回洗浄した。該ろ過後に、そのろ過ケークを、120℃の温度で16h乾燥させた。
脱イオン水776.25gをガラスビーカー中に準備し、ピペリジン375gを、撹拌しながら添加した。この懸濁液に、ピペリジン25g中に予め溶解させたSn(IV)ブトキシド2.5gを添加し、該懸濁液を更に10分間撹拌した。上記の(ii)により得られた脱ホウ素処理ゼオライト材料172.4gを、該混合物に添加し、室温で60分間撹拌した(200rpm)。得られた懸濁液を、次いでオートクレーブ中に充填した。該混合物を、撹拌しながら(100rpm)、170℃の温度で120h処理した。その後、該オートクレーブを室温に冷却し、生じたゼオライト材料を、該懸濁液から室温でのろ過により分離し、その洗浄水が200μS/cm未満の導電率を有するまで、脱イオン水で洗浄した。該ろ過後に、そのろ過ケークを、120℃の温度で16h乾燥させた。
上記の(iii)から得られたスズ含有ゼオライト材料174gを、丸底フラスコ中に準備し、0〜1の範囲内のpHを有する30質量%HNO3水溶液5220kgを添加した。該混合物を、100℃の温度で20hの期間にわたって撹拌した(200rpm)。該懸濁液をろ過し、そのろ過ケークを次いで、その洗浄水が約7のpHを有するまで、脱イオン水で室温で洗浄した。得られたゼオライト材料を、120℃で16h乾燥させ、550℃への加熱(2K/分)及びその後の550℃で10hの加熱により、か焼させた。
(iv)から得られたか焼させたゼオライト材料140g及びWalocel 8.4gを、エッジミル中で5分間混練した。混練中に、Ludox(登録商標) AS-40 82.6gを連続的に添加した。10分後に、脱イオン水150mlの添加を開始した。更に30分後に、その混練物を、脱イオン水30mlの添加により調節した。50分の全混練時間後に、該混練物は押し出し可能であり、かつ該混練物を、100〜150バールの圧力で1分にわたって押し出した。得られたストランドを、オーブン中で120℃で8h乾燥させ、500℃で5hか焼させた。1.7mmの直径を有する白色ストランド137.2gが得られた。
サーモスタット調温用のジャケットを備えた管形反応器(長さ:1.4m、内径:7mm)に、1.7mmの直径を有するストランドの形態の上記の(v)から得られた触媒15gを装入した。残りの反応器容積を、不活性材料で充填した(ステアタイト球、直径が2mm、該反応器の下端部で約5cmの高さまで及び該反応器の上端部で残部)。該反応器を、熱媒体である水とエチレングリコールとの混合物を該ジャケットに流すことにより、サーモスタット調温した。該熱媒体を、該ジャケットの下端部で供給して、並流モードで該反応器内容物に流した。該ジャケットの入口での該熱媒体の温度が、その反応温度として定義される。該熱媒体の流量を、入口温度と出口温度との差が多くとも1Kであるように調節した。該反応器中の圧力を、適した圧力制御弁により制御し、20バール(絶対)で一定に維持した。
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Claims (30)
- MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)を製造する方法であって、
(i)SiO2及びB2O3を含んでなるMWW骨格構造を有するホウ素含有ゼオライト材料(B−MWW)を準備する工程;
(ii) (i)において準備されたB−MWWを、5.5〜8の範囲内のpHを有する液体溶剤系で処理することにより、該B−MWWを脱ホウ素処理する工程;
(iii)以下の工程を含んでなる方法により、Snを、(ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWW中へ組み込む工程:
(iii.1) (ii)から得られた脱ホウ素処理B−MWWと、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものと、スズ源とを含有する水性合成混合物を製造する工程、その際に該合成混合物中で、Sn(SnO2として計算して)対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、多くとも0.015:1であり;
(iii.2) (iii.1)から得られた合成混合物から、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を水熱合成して、それにより、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料をその母液中に得る工程;
(iii.3) (iii.2)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、その母液から分離する工程;
(iv) (iii)から得られたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料を、多くとも5のpHを有する水溶液で処理して、それにより、元素として計算し、かつSn−MWWの質量を基準として多くとも2質量%のSn含有量を有する該Sn−MWWを得る工程、及び任意に、該Sn−MWWを該水溶液から分離する工程
を含んでなる、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)を製造する方法。 - (i)において、該B−MWWを、以下の工程:
(a)B−MWW前駆体を、ケイ素源、好ましくはアンモニア安定化コロイダルシリカと、ホウ素源、好ましくはホウ酸と、MWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものとを含有する水性合成混合物から水熱合成して、該B−MWW前駆体をその母液中に得る工程;
(b)該B−MWW前駆体を、その母液から分離し、好ましくは該B−MWW前駆体の乾燥を含んでなる工程、その際に該乾燥は、好ましくは100〜180℃、より好ましくは110〜140℃の範囲内の温度で実施される、
を含んでなる方法により準備し、
その際に(a)における合成混合物中で、
B(B2O3として計算し、かつ該ホウ素源中に含まれる)対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、0.4:1〜0.6:1、より好ましくは0.45:1〜0.55:1、より好ましくは0.47:1〜0.52:1の範囲内であり;
該MWWテンプレート化合物対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、0.8:1〜1.7:1、より好ましくは1.0:1〜1.5:1、より好ましくは1.1:1〜1.3:1の範囲内であり;かつ
H2O対Si(SiO2として計算し、かつ該Si源中に含まれる)のモル比は好ましくは、12:1〜20:1、より好ましくは13:1〜18:1、より好ましくは14:1〜16:1の範囲内である、
請求項1記載の方法。 - (b)が、分離され、かつ好ましくは乾燥されたB−MWW前駆体のか焼を含んでなり、その際に該か焼が好ましくは、400〜800℃、より好ましくは600〜700℃の範囲内の温度で実施される、請求項2記載の方法。
- (i)において、該B−MWWの骨格構造の少なくとも95質量%、好ましくは少なくとも98質量%、より好ましくは少なくとも99質量%が、B2O3及びSiO2からなり、かつ該B−MWWのモル比B2O3:SiO2が、少なくとも0.03:1であり、好ましくは、0.03:1〜0.09:1、より好ましくは0.03:1〜0.08:1、より好ましくは0.03:1〜0.07:1の範囲内である、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- (ii)において、該液体溶剤系が、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−1,2−ジオール、プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、プロパン−1,2,3−トリオール及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは水であり、その際に好ましくは、該液体溶剤系は、無機酸又は有機酸又はそれらの塩を含有しない、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- (ii)において、該液体溶剤系対B−MWWの質量比は、40:1〜5:1、好ましくは30:1〜10:1、より好ましくは20:1〜10:1の範囲内であり、該処理が、50〜125℃、好ましくは90〜115℃、より好ましくは95〜105℃の範囲内の温度で、かつ6〜20h、好ましくは7〜17h、より好ましくは8〜12hの範囲内の期間にわたって実施される、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- (ii)において、該処理が、閉じた系中で自生圧下で又は開いた系中で還流下に実施される、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- (ii)が、該脱ホウ素処理B−MWWの乾燥を含んでなり、その際に該乾燥が好ましくは、100〜180℃、より好ましくは110〜140℃の範囲内の温度で実施される、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- (ii)が、分離され、かつ好ましくは乾燥された脱ホウ素処理B−MWWのか焼を含んでなり、その際に該か焼が好ましくは、400〜800℃、より好ましくは600〜700℃の範囲内の温度で実施される、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 該脱ホウ素処理B−MWWが、多くとも0.01:1の、好ましくは0.001:1〜0.01:1、より好ましくは0.001:1〜0.003:1の範囲内のモル比B2O3:SiO2を有する、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 該スズ源が、SnCl4、酢酸Sn(IV)、Sn(IV)−t−ブトキシド、SnBr4、SnCl4、SnF4、Sn(IV)−ビスアセチルアセトナートジクロリド;Sn(IV)−ビスアセチルアセトナートジブロミド、酢酸Sn(II)、Sn(II)アセチルアセトナート、クエン酸Sn(II)、SnCl2、SnF2、SnI2、SnSO4及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、その際に該スズ源は好ましくは、Sn(IV)−t−ブトキシドである、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- (iii.1)における合成混合物中で、Sn(SnO2として計算して)対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、0.001:1〜0.015:1、好ましくは0.001:1〜0.010:1、より好ましくは0.001:1〜0.0075:1、より好ましくは0.001:1〜0.005:1の範囲内であり、
該MWWテンプレート化合物対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、1.0:1〜2.0:1、好ましくは1.2:1〜1.8:1、より好ましくは1.4:1〜1.6:1の範囲内であり、かつ
H2O対Si(SiO2として計算し、かつ該脱ホウ素処理B−MWW中に含まれる)のモル比は、10:1〜20:1、好ましくは12:1〜18:1、より好ましくは14:1〜16:1の範囲内である、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。 - (iii.2)による水熱合成が、80〜250℃、好ましくは120〜200℃、より好ましくは160〜180℃の範囲内の温度で、20〜200h、より好ましくは60〜160h、より好ましくは110〜125hの範囲内の期間にわたって実施される、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- (iii.3)が、MWW型骨格構造を有する該スズ含有ゼオライト材料の乾燥を含んでなり、その際に該乾燥が好ましくは、100〜180℃、より好ましくは110〜140℃の範囲内の温度で実施される、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
- (iii.3)においてかつ(iv)の前に、分離され、かつ好ましくは乾燥されたMWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料はか焼されない、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
- (iv)において、該水溶液が、有機酸、好ましくはシュウ酸、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるもの、及び/又は無機酸、好ましくはリン酸、硫酸、塩酸、硝酸及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるものを含んでなり、その際に該無機酸はより好ましくは、硝酸であり、かつ該水溶液が、0〜5、好ましくは0〜3、より好ましくは0〜2の範囲内のpHを有する、請求項1から15までのいずれか1項記載の方法。
- (iv)において、MWW型骨格構造を有する該スズ含有ゼオライト材料が該水溶液で、50〜175℃、好ましくは70〜125℃、より好ましくは95〜105℃の範囲内の温度で、1〜40h、より好ましくは12〜24h、より好ましくは18〜22hの範囲内の期間にわたって処理される、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
- (iv)において、該水溶液対MWW型骨格構造を有する該スズ含有ゼオライト材料の質量比が、10:1〜50:1、好ましくは20:1〜40:1、より好ましくは25:1〜35:1の範囲内である、請求項1から17までのいずれか1項記載の方法。
- (iv)において、該処理が、閉じた系中で自生圧下で又は開いた系中で還流下に実施される、請求項1から18までのいずれか1項記載の方法。
- 元素として計算し、かつ該Sn−MWWの質量を基準として、(iv)から得られたSn−MWWのスズ含有量が、0.1〜1.9質量%、より好ましくは1.5質量%まで、より好ましくは0.3〜1.2質量%、より好ましくは0.4〜1.0質量%の範囲内である、請求項1から19までのいずれか1項記載の方法。
- (iv)が、該Sn−MWWの乾燥を含んでなり、その際に該乾燥が好ましくは、100〜180℃、より好ましくは110〜130℃の範囲内の温度で実施され、かつ(iv)が、好ましくは分離され、かつ乾燥されたSn−MWWのか焼を好ましくは含んでなり、その際に該か焼が好ましくは、400〜800℃、より好ましくは450〜700℃、より好ましくは500〜600℃の範囲内の温度で、1〜20h、より好ましくは8〜12hの範囲内の期間にわたって実施される、請求項1から20までのいずれか1項記載の方法。
- 更に、
(v) (iv)から得られたSn−MWWを含んでなる成形可能な混合物を製造する工程、その際に該成形可能な混合物は任意に、バインダー又はバインダー前駆体を含んでなり;
(vi) (v)から得られた混合物を、好ましくは押出により、成形して、該Sn−MWWを含有する成形物を得る工程;
(vii)任意に、(v)において得られた成形物を乾燥及び/又はか焼する工程
を含んでなる、請求項1から21までのいずれか1項記載の方法。 - MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)であって、元素として計算し、かつ該Sn−MWWの質量を基準として多くとも2質量%のスズ含有量を有し、かつ(6.6±0.1)°の2θ回折角でのピーク、好ましくは(6.6±0.1)°の2θ回折角でのピークと、(7.1±0.1)°の2θ回折角でのピークと、(7.9±0.1)°の2θ回折角でのピークとを含んでなるX線回折図形を有する、MWW型骨格構造を有するスズ含有ゼオライト材料(Sn−MWW)。
- 該ゼオライト材料が、元素として計算し、かつ該Sn−MWWの質量を基準として、0.1〜1.9質量%、より好ましくは0.2〜1.5質量%、より好ましくは0.3〜1.2質量%、より好ましくは0.4〜1.0質量%の範囲内のスズ含有量を有する、請求項23記載のゼオライト材料。
- (6.6±0.1)°、(7.1±0.1)°、(7.9±0.1)°、(9.6±0.1)°、(12.8±0.1)°、(14.4±0.1)°、(14.7±0.1)°、(15.8±0.1)°、(19.3±0.1)°、(20.1±0.1)°、(21.7±0.1)°、(21.9±0.1)°、(22.6±0.1)°、(22.9±0.1)°、(23.6±0.1)°、(25.1±0.1)°、(26.1±0.1)°、(26.9±0.1)°、(28.6±0.1)°及び(29.1±0.1)°の2θ回折角でのピークを含んでなるX線回折図形を有する、請求項23又は24記載のゼオライト材料。
- XRDにより測定されるcパラメーターが、(27.1±0.2)Åである、請求項23から25までのいずれか1項記載のゼオライト材料。
- 該Sn−MWWのMWW型骨格構造が、SiO2及びB2O3を含んでなり、かつモル比B2O3:SiO2が、多くとも0.01:1であり、好ましくは0.001:1〜0.01:1、より好ましくは0.001:1〜0.003:1の範囲内であり、該Sn−MWWのMWW型骨格構造の少なくとも95質量%、好ましくは少なくとも98質量%、より好ましくは少なくとも99質量%が、SiO2及びB2O3及び任意にSnからなる、請求項23から26までのいずれか1項記載のゼオライト材料。
- 請求項1から22までのいずれか1項記載の方法により得ることができるか又は得られた、請求項23から27までのいずれか1項記載のゼオライト材料、又は請求項1から22までのいずれか1項記載の方法により得ることができるか又は得られたゼオライト材料。
- スプレー粉末としての、任意に成形物中に含まれており、その際に前記成形物が好ましくは、バインダーを付加的に含んでなる、請求項23から28までのいずれか1項記載のゼオライト材料。
- 触媒として、好ましくは酸化反応における触媒として、より好ましくはバイヤー−ビリガー型酸化用の触媒としての、請求項23から29までのいずれか1項記載のゼオライト材料の使用。
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