JP6526689B2 - Mww型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料 - Google Patents
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Description
更に、Microporous and Mesoporous Materials 165(2013),第210頁〜第218頁において、MWW骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料の、2−アダマンタノンのバイヤー・ビリガー酸化反応における使用が記載されている。この文献によれば、該ゼオライト材料は、ホウ素含有前駆体材料から得られるが、それは脱ホウ素化を受けず、こうして比較的高いホウ素含量を有する材料が得られる。
これらの先行技術文献によれば、MWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライトは、MWW型の骨格構造を有するとともに空の四面体骨格サイトを有するゼオライト材料をスズイオン源の存在下で水熱処理することによってゼオライト骨格中にスズを導入することによって製造される。しかしながら、このスズの水熱的な導入に関して、長い合成時間、HFのような結晶化助剤の使用の必要性、またはコストのかかるテンプレート剤といった欠点を考慮に入れる必要がある。更にまた、比較的低いスズ含量を有するMWW型を有するスズ含有のゼオライトしか得ることができなかった。
(i) X2O3およびYO2[式中、Yは、Si、Ti、Zr、Geおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される四価の元素であり、かつXは、Al、B、In、Ga、Feおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される三価の元素である]を含み、空の四面体骨格サイトを有する、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料を準備するステップ、
(ii) スズイオン源を固体形で準備するステップ、
(iii) 前記ステップ(i)で準備されたゼオライト材料を、前記ステップ(ii)で準備されたスズイオン源と固体イオン交換条件下で接触させることによって、該ステップ(i)で準備されたゼオライト材料中にスズを導入することで、MWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料を得るステップ、
を含む、前記方法に関する。
本発明の方法のステップ(i)によれば、X2O3およびYO2[式中、Yは、Si、Ti、Zr、Geおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される四価の元素であり、かつXは、Al、B、In、Ga、Feおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される三価の元素である]を含むMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料であって、空の四面体骨格サイトを有するゼオライト材料が準備される。
より好ましくは、前記四価の元素YはSiであり、かつ前記三価の元素XはBである。従って、本発明は、ステップ(i)によれば、X2O3およびYO2[式中、YはSiであり、かつXはBである]を含むMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料が準備される方法に関する。
(i.1) MWW型の骨格構造を有するゼオライト出発材料を準備するステップ、その際、該ゼオライト出発材料の骨格構造は、X2O3およびYO2、好ましくはB2O3およびSiO2を含み、かつX2O3:YO2の、好ましくはB2O3とSiO2とのモル比は、少なくとも0.03:1であり、好ましくは0.03:1から0.09:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.08:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.07:1までの範囲であり;
(i.2) ステップ(i.1)で準備されたゼオライト出発材料を液体溶剤系で、好ましくは還流下に処理することによって空の四面体骨格サイトを生成させることで、0.03未満:1のX2O3:YO2の、好ましくはB2O3とSiO2とのモル比を有するゼオライト材料を得るステップ、その際、前記液体溶剤系は、好ましくは、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−1,2−ジオール、プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、プロパン−1,2,3−トリオールおよびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、前記液体溶剤系は、より好ましくは水であり、より好ましくは、前記液体溶剤系は、無機酸もしくは有機酸またはそれらの塩を含有せず、かつ前記処理は、好ましくは50℃から125℃までの範囲の、より好ましくは90℃から115℃までの範囲の、より好ましくは95℃から105℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは6時間から20時間までの範囲の、より好ましくは7時間から17時間までの範囲の、より好ましくは8時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われる。
一般的に、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料がステップ(i.1)でどのように準備されるかについて特段の制限は存在しない。例えば、MWW型の骨格構造を有する適切な市販のゼオライト材料を購入することが考えられるかもしれない。更に、例えばそのようなゼオライトの任意の考えられる合成方法を該ゼオライト材料の準備のために使用することができる。好ましくは、前記ゼオライト材料は、X2O3およびYO2の適切な起源から、構造指向剤又は構造規定剤(structure directing agent)とも呼ばれる適切なテンプレート化合物の存在下に出発する方法によって準備される。
(i.1.1) Yの起源、好ましくはケイ素源、より好ましくはアンモニアで安定化されたコロイダルシリカ、Yの起源、好ましくはホウ素源、好ましくはホウ酸、およびMWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、およびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるMWWテンプレート化合物を含有する水性合成混合物からMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体を水熱合成することで、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体をその母液中で得るステップ、
(i.1.2) 前記MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体をその母液から分離するステップであって、好ましくは該MWW型の骨格材料を有するゼオライト材料の前駆体を乾燥することを含むステップ
を含む方法によって準備され、その際、ステップ(i.1.1)の合成混合物において、前記Xの起源中に含まれるX2O3として計算されるXの、好ましくはホウ素源中に含まれるB2O3として計算されるBの、Yの起源中に含まれるYO2として計算されるYに対する、好ましくはSiの起源中に含まれるSiO2として計算されるSiに対するモル比が、好ましくは0.4:1から0.6:1までの、より好ましくは0.45:1から0.55:1までの、より好ましくは0.47:1から0.52:1までの範囲にあり、
前記MWWテンプレート化合物の、Yの起源中に含まれるYO2として計算されるYに対する、好ましくはSi源中に含まれるSiO2として計算されるSiに対するモル比は、好ましくは0.8:1から1.7:1までの、より好ましくは1.0:1から1.5:1までの、より好ましくは1.1:1から1.3:1までの範囲にあり、かつ
H2Oの、Yの起源中に含まれるYO2として計算されるYに対する、好ましくはSi源中に含まれるSiO2として計算されるSiに対するモル比は、好ましくは12:1から20:1までの、より好ましくは13:1から18:1までの、より好ましくは14:1から16:1までの範囲にある。
ステップ(i.1.1)で使用されるケイ素源に関する限り特段の制限は存在しない。好ましくは、該ケイ素源は、フュームドシリカまたはコロイダルシリカ、例えばアンモニアで安定化されたコロイダルシリカであり、その際、アンモニアで安定化されたコロイダルシリカが特に好ましい。
水熱合成の後に、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の得られた前駆体は、好ましくは適宜、その母液からステップ(i.1.2)に従って分離される。MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体をその母液から分離するあらゆる考えられる方法が可能である。これらの方法は、例えば濾過、限外濾過、透析濾過および遠心分離法または、例えば噴霧乾燥法および噴霧造粒法を含む。これらの方法の2種以上の組み合わせを適用することができる。
好ましい乾燥の後に、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体を焼成にかけることで、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料が得られる。焼成の間に、MWWテンプレート化合物は、好ましくは少なくとも部分的に、より好ましくは実質的に完全に該骨格構造から除去される。好ましい焼成温度は、400℃から700℃までの範囲であり、より好ましくは500℃から675℃までの範囲であり、より好ましくは550℃から650℃までの範囲である。焼成が行われるのに好ましい雰囲気は、工業用窒素、空気、またはリーンエアを含む。好ましい焼成時間は、0.5時間から12時間までの範囲であり、より好ましくは1時間から10時間までの範囲であり、より好ましくは2時間から6時間までの範囲である。
(i.1.3) ステップ(i.1.2)から得られたMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体を焼成することで、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料を得るステップ
を含む。
(i.1.1) Yの起源、好ましくはケイ素源、より好ましくはアンモニアで安定化されたコロイダルシリカ、Yの起源、好ましくはホウ素源、好ましくはホウ酸、およびMWWテンプレート化合物、好ましくはピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N,N’,N’,N’−ヘキサメチル−1,5−ペンタンジアンモニウムイオン、1,4−ビス(N−メチルピロリジニウム)ブタン、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘプチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、およびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されるMWWテンプレート化合物を含有する水性合成混合物からMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体を水熱合成することで、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体をその母液中で得るステップ、
(i.1.2) 前記MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体をその母液から分離するステップであって、乾燥を含み、好ましくはMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体の噴霧乾燥を含むステップ、
(i.1.3) ステップ(i.1.2)から得られたMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料の前駆体を、好ましくは400℃から700℃までの範囲の、より好ましくは500℃から675℃までの範囲の、より好ましくは550℃から650℃までの範囲の温度で、好ましくは0.5時間から12時間までの範囲の、より好ましくは1時間から10時間までの、より好ましくは2時間から6時間までの時間にわたり焼成することで、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料を得るステップ、
を含む方法によって準備され、その際、ステップ(i.1.1)の合成において、前記Xの起源中に含まれるX2O3として計算されるXの、好ましくはホウ素源中に含まれるB2O3として計算されるBの、Yの起源中に含まれるYO2として計算されるYに対する、好ましくはSi源中に含まれるSiO2として計算されるSiに対するモル比が、好ましくは0.4:1から0.6:1までの、より好ましくは0.45:1から0.55:1までの、より好ましくは0.47:1から0.52:1までの範囲であり、
前記MWWテンプレート化合物の、Yの起源中に含まれるYO2として計算されるYに対する、好ましくはSi源中に含まれるSiO2として計算されるSiに対するモル比は、好ましくは0.8:1から1.7:1までの、より好ましくは1.0:1から1.5:1までの、より好ましくは1.1:1から1.3:1までの範囲であり、かつ
H2Oの、Yの起源中に含まれるYO2として計算されるYに対する、好ましくはSi源中に含まれるSiO2として計算されるSiに対するモル比は、好ましくは12:1から20:1までの、より好ましくは13:1から18:1までの、より好ましくは14:1から16:1までの範囲にある、前記方法に関する。
本発明の方法のステップ(i.2)によれば、空の四面体骨格サイトは、ステップ(i.1)で準備されたゼオライト出発材料を液体溶剤系で処理することによって作成される。好ましくは、ステップ(i.1)で準備される分離され、噴霧乾燥され、そして焼成されたゼオライト材料は、ステップ(i.2)により液体溶剤系での処理にかけられ、そこから0.03未満:1のモル比X2O3:YO2、好ましくはB2O3:SiO2を有するゼオライト材料が得られる。
(i.2) ステップ(i.1)で準備されたゼオライト材料を液体溶剤系、好ましくは水で処理することによって、0.03未満:1のモル比X2O3:YO2、好ましくはB2O3:SiO2を有するゼオライト材料を、開放系中で還流下に95℃から105℃までの範囲の温度で得て、そして該ゼオライト材料を液体溶剤系から少なくとも部分的に分離するステップ
を含む、前記方法に関する。
(i.3) ステップ(i.2)から得られたゼオライト材料を液体溶剤系から少なくとも部分的に分離するステップであって、場合により乾燥を含むステップ
を含む前記方法に関する。
ゼオライト材料を液体溶剤系から分離する全ての方法が考えられる。これらの方法は、例えば濾過、限外濾過、透析濾過および遠心分離法または、例えば噴霧乾燥法および噴霧造粒法を含み、その際、濾過法は、吸引ステップおよび/または圧力濾過ステップを含んでよい。これらの方法の2種以上の組み合わせを適用することができる。
(i.3) ステップ(i.2)から得られたゼオライト材料を液体溶剤系から少なくとも部分的に分離する、乾燥を含むステップであって、好ましくは100℃から180℃までの範囲の、より好ましくは110℃から140℃までの範囲の温度で行われるステップ
を含む前記方法に関する。
(i.1) MWW型の骨格構造を有するゼオライト出発材料を準備するステップであって、該ゼオライト出発材料の骨格構造が、X2O3およびYO2を含み、かつX2O3:YO2のモル比が、少なくとも0.03:1であり、好ましくは0.03:1から0.09:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.08:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.07:1までの範囲であるステップ、
(i.2) ステップ(i.1)で準備されたゼオライト出発材料を液体溶剤系で、好ましくは還流下に処理することによって空の四面体骨格サイトを生成させることで、0.03未満:1のX2O3:YO2のモル比を有するゼオライト材料を得るステップであって、前記液体溶剤系が、好ましくは、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−1,2−ジオール、プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、プロパン−1,2,3−トリオールおよびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、前記液体溶剤系が、より好ましくは水であり、より好ましくは前記液体溶剤系が、無機酸もしくは有機酸またはそれらの塩を含有せず、かつ前記処理が、好ましくは50℃から125℃までの範囲の、より好ましくは90℃から115℃までの範囲の、より好ましくは95℃から105℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは6時間から20時間までの範囲の、より好ましくは7時間から17時間までの範囲の、より好ましくは8時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われるステップ、
(i.3) ステップ(i.2)から得られたゼオライト材料を、前記液体溶剤系から少なくとも部分的に分離するステップであって、乾燥を含み、好ましくは100℃から180℃までの範囲の、より好ましくは110℃から140℃までの範囲の温度で行われるステップ、
を含む方法によって準備される。
好ましくは、ステップ(i.4)による焼成は、空気、リーンエア、または窒素等の適切な雰囲気中で、400℃から800℃までの範囲の、好ましくは600℃から700℃までの範囲の温度で、1時間から10時間までの、好ましくは2時間から6時間までの範囲の時間にわたり行われる。
(i.1) MWW型の骨格構造を有するゼオライト出発材料を準備するステップであって、該ゼオライト出発材料の骨格構造が、X2O3およびYO2を含み、かつX2O3:YO2のモル比が、少なくとも0.03:1であり、好ましくは0.03:1から0.09:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.08:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.07:1までの範囲であるステップ、
(i.2) ステップ(i.1)で準備されたゼオライト出発材料を液体溶剤系で、好ましくは還流下に処理することによって空の四面体骨格サイトを生成させることで、0.03未満:1のX2O3:YO2のモル比を有するゼオライト材料を得るステップであって、前記液体溶剤系が、好ましくは、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−1,2−ジオール、プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、プロパン−1,2,3−トリオールおよびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、前記液体溶剤系が、より好ましくは水であり、より好ましくは前記液体溶剤系が、無機酸もしくは有機酸またはそれらの塩を含有せず、かつ前記処理が、好ましくは50℃から125℃までの範囲の、より好ましくは90℃から115℃までの範囲の、より好ましくは95℃から105℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは6時間から20時間までの範囲の、より好ましくは7時間から17時間までの範囲の、より好ましくは8時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われるステップ、
(i.3) ステップ(i.2)から得られたゼオライト材料を、前記液体溶剤系から少なくとも部分的に分離するステップであって、乾燥を含み、好ましくは100℃から180℃までの範囲の、より好ましくは110℃から140℃までの範囲の温度で行われるステップ、
(i.4) 場合により、ステップ(i.3)から得られた分離されたゼオライト材料を、好ましくは400℃から800℃までの範囲の、より好ましくは600℃から700℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは1時間から10時間までの範囲の、より好ましくは2時間から6時間までの範囲の時間にわたり焼成するステップ、
を含む方法によって準備される。
(i.1) MWW型の骨格構造を有するゼオライト出発材料を準備するステップであって、該ゼオライト出発材料の骨格構造が、X2O3およびYO2を含み、かつX2O3:YO2のモル比が、少なくとも0.03:1であり、好ましくは0.03:1から0.09:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.08:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.07:1までの範囲であるステップ、
(i.2) ステップ(i.1)で準備されたゼオライト出発材料を液体溶剤系で、好ましくは還流下に処理することによって空の四面体骨格サイトを生成させることで、0.03未満:1のX2O3:YO2のモル比を有するゼオライト材料を得るステップであって、前記液体溶剤系が、好ましくは、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−1,2−ジオール、プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、プロパン−1,2,3−トリオールおよびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、前記液体溶剤系が、より好ましくは水であり、より好ましくは前記液体溶剤系が、無機酸もしくは有機酸またはそれらの塩を含有せず、かつ前記処理が、好ましくは50℃から125℃までの範囲の、より好ましくは90℃から115℃までの範囲の、より好ましくは95℃から105℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは6時間から20時間までの範囲の、より好ましくは7時間から17時間までの範囲の、より好ましくは8時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われるステップ、
(i.3) ステップ(i.2)から得られたゼオライト材料を、前記液体溶剤系から少なくとも部分的に分離するステップであって、乾燥を含み、好ましくは100℃から180℃までの範囲の、より好ましくは110℃から140℃までの範囲の温度で行われるステップ、
を含む方法によって準備され、ステップ(i.3)の後で、かつステップ(iii)の前に、好ましくは乾燥されたゼオライト材料は、600℃から700℃までの範囲の温度で、かつ2時間から6時間までの範囲の時間で焼成にかけられず、好ましくは400℃から800℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは1時間から10時間までの範囲の時間にわたり焼成にかけられず、より好ましくは焼成にかけられない。
本発明の方法のステップ(ii)によれば、スズイオン源は、固体形で準備される。
本発明の方法のステップ(iii)によれば、ステップ(i)で準備されたゼオライト材料とステップ(ii)で準備されたスズイオン源とを固体イオン交換条件下で接触させることによって、スズをステップ(i)で準備されたゼオライト材料中へと導入することで、MWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料が得られる。
(iv) ステップ(iii)から得られたゼオライト材料を熱処理にかけるステップ
を含む、前記方法に関する。
本発明の方法のステップ(iv)によれば、ステップ(iii)から得られたゼオライト材料は、熱処理にかけられる。
(v) ステップ(iii)または(iv)から、好ましくは(iv)から得られたゼオライト材料を、高くても5のpHを有する水溶液で処理するステップ
を含む、前記方法に関する。
本発明の方法のステップ(v)によれば、ステップ(iv)で得られた熱処理されたゼオライト材料は、高くても5のpHを有する水溶液で処理される。
乾燥条件に関して特段の制限は存在しない。好ましくは、乾燥は、90℃から180℃までの範囲の、より好ましくは100℃から150℃までの範囲の温度で行われる。好ましくは、該乾燥は、1時間から24時間までの範囲の、より好ましくは6時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われる。前記乾燥は、酸素を含む雰囲気、例えば純粋な酸素、空気もしくはリーンエア中で、または不活性雰囲気、例えば窒素もしくはアルゴン中で、好ましくは酸素を含む雰囲気中で、より好ましくは空気もしくはリーンエア中で行うことができる。前記乾燥は、スタティックオーブン中で、または連続的な乾燥装置中で行うことができる。
(vi) ステップ(v)から得られたゼオライト材料を、場合により洗浄後に、乾燥および/または焼成するステップであって、前記乾燥が、好ましくは90℃から180℃までの範囲の、好ましくは100℃から150℃までの範囲の温度で、1時間から24時間までの範囲の、好ましくは6時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われ、かつ前記焼成が、好ましくは400℃から700℃までの範囲の、好ましくは450℃から600℃までの範囲の温度で、1時間から24時間までの範囲の、好ましくは6時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われるステップ
を含む、前記方法に関する。
本発明によれば、MWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライトであって、先行技術において知られるMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライトと比較してより高いスズ含量を有しうるとともに、それを触媒活性材料として、好ましくは酸化反応もしくは異性体化反応において、特にα−ピネンオキシドからカンフォレンアルデヒドへとの異性体化のために使用した場合に好ましい特性を示すゼオライトが製造される。
一般的に、ゼオライト粉末として、またはゼオライト噴霧乾燥粉末として、そのままで、更なる改変を一切加えずに存在する本発明によるゼオライト材料を、例えば触媒として、触媒担体として、モレキュラーシーブとして、吸着剤として、充填剤として、または同等物として使用することが可能である。
(vii) ステップ(iii)または(iv)または(v)または(vi)から、好ましくは(iii)または(vi)から得られたMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料を成形して、成形物を得るステップ
を含む、前記方法に関する。
(vii) ステップ(v)または(vi)から、好ましくは(vi)から得られたMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料を成形することで、成形物を得るステップ、
(viii) ステップ(vii)から得られた成形物を乾燥および/または焼成するステップ、
(ix) 場合により、ステップ(vii)または(viii)から、好ましくはステップ(viii)から得られた成形物を水処理にかけるステップであって、前記水処理が、該成形物を液体の水でオートクレーブ中で自圧下(自生圧力下又は自発生圧力下ともいう)に100℃から200℃までの範囲の温度で処理することを含むステップ、
(x) 場合により、ステップ(ix)から得られた水処理された成形物を乾燥および/または焼成するステップ、
を含む、前記方法に関する。
参考例1:結晶化度の測定
本発明によるゼオライト材料の結晶化度は、XRD分析によって測定した。データは、Cu−X線源とエネルギー分散型点検出器を備えた標準的なブラッグ−ブレンターノ型の回折計を使用して収集した。2°から70°までの角度範囲(2シータ)は0.02°のステップサイズで走査し、その一方で、可変発散スリットは、照射されたサンプルの長さが一定の20mmとなるように調節される。次いで、それらのデータをTOPAS V4ソフトウェアを使用して解析する。その際、複数の先鋭な回折ピークが、以下の出発パラメータ:空間群P6/mmmにおいてa=14.4オングストロームおよびc=25.2オングストロームを有する単位格子を含むPawleyフィッティングを使用してモデル化される。これらを抽出することでデータをフィッティングする。独立したピークを、以下の位置8.4°、22.4°、28.2°および43°に挿入する。線形のバックグラウンドがモデル化される。これらは、非晶質分を記述するために使用される。晶質分は、非晶質分に対応付けられた強度に対する晶質シグナルの強度として記述する。
2.1 MWW型の骨格構造を有するホウ素含有のゼオライト材料(B−MWW)の製造
480kgの脱イオン水を容器中に準備した。70rpm(1分間あたりの回転数)で撹拌しながら、166kgのホウ酸を室温で水中に懸濁した。該懸濁液を、室温で更に3時間にわたり撹拌した。引き続き、278kgのピペリジンを添加し、そして該混合物を更に1時間にわたり撹拌した。得られた溶液に、400kgのLudox(登録商標)AS−40を添加し、そして得られた混合物を室温で更に1時間にわたり70rpmで撹拌した。最終的に得られた混合物を、結晶化容器へと移し、170℃で5時間にわたり自圧下で撹拌(50rpm)しながら加熱した。170℃の温度を実質的に一定に120時間にわたり維持した。この120時間の間に、該混合物は50rpmで撹拌した。引き続き、該混合物を50℃〜60℃の温度に冷却した。B−MWW前駆体を含有する水性懸濁液は、pH検知電極での測定により測定された11.3のpHを有するものであった。前記懸濁液から、B−MWW前駆体を濾過によって分離した。次いで濾過ケークを脱イオン水で室温において、洗浄水が500μS/cm未満の導電性となるまで洗浄した。こうして得られた濾過ケークを、懸濁液の全質量に対して15質量%の固体含量を有するその水性懸濁液を製造した後に、噴霧塔において以下の噴霧乾燥条件で噴霧乾燥にかけた:
乾燥ガス、ノズルガス: 工業用窒素
乾燥ガスの温度:
− 噴霧塔の温度(入口): 235℃
− 噴霧塔の温度(出口): 140℃
ノズル:
− 上部コンポーネントノズル: 供給業者Gerig:サイズ0
− ノズルガス温度: 室温
− ノズルガス圧力: 1bar
作動モード: 窒素直接式(nitrogen straight)
使用装置: 1つのノズルを備えた噴霧塔
構成: 噴霧塔−フィルタ−スクラバ
ガス流量: 1500kg/h
フィルタ材料: Nomex(登録商標)ニードルフェルト20m2
フレキシブルチューブポンプを介して計量供給: SP VF 15(供給業者:Verder)。
脱イオン水1590kgおよび前記2.1により得られた焼成された材料106kgを、100℃で70rpmでの撹拌下に10時間にわたり還流させた。得られた脱ホウ素化されたゼオライト材料を、濾過により懸濁液から分離し、そして150lの脱イオン水で4回、室温において洗浄した。濾過後に、濾過ケークを120℃で16時間にわたり乾燥させた。
参考例2により得られた脱ホウ素化されたゼオライト材料30gを、ミキサー(ミル型のMicroton MB550)中で8.9gのSn(OAc)2(酢酸スズ(II)、CAS番号:638−39−1、Sigma−Aldrich)と一緒に添加した。それらの2種の成分を15分間にわたり14000rpm(1分間あたりの回転数)の撹拌速度で一緒に粉砕した。その後に、こうして得られた粉末10.8gを磁器製の入れ物へと移し、スタティックオーブン中で5時間にわたり550℃で2K/分の加熱速度で焼成した。焼成された粉末は、以下の元素組成:Sn 12.0質量%、Si 35.5質量%、およびTOC0.1質量%未満を有していた。DIN66131に準じて測定されたBET比表面積は383m2/gであり、XRDにより測定された結晶化度は75%であった。
参考例2により得られた脱ホウ素化されたゼオライト材料30gを、ミキサー(ミル型のMicroton MB550)中で8.9gのSn(OAc)2(酢酸スズ(II)、CAS番号:638−39−1、Sigma−Aldrich)と一緒に添加した。それらの2種の成分を15分間にわたり14000rpm(1分間あたりの回転数)の撹拌速度で一緒に粉砕した。その後に、こうして得られた粉末10.8gを磁器製の入れ物へと移し、120℃で10時間にわたり乾燥させた。
参考例2により得られた脱ホウ素化されたゼオライト材料120gを、ミキサー(ミル型のMicroton MB550)中で34gのSn(OAc)2(酢酸スズ(II)、CAS番号:638−39−1、Sigma−Aldrich)と一緒に添加した。それらの2種の成分を15分間にわたり14000rpm(1分間あたりの回転数)の撹拌速度で一緒に粉砕した。その後に、こうして得られた粉末28gを磁器製の入れ物へと移し、スタティックオーブン中で3時間にわたり500℃で2K/分の加熱速度で焼成した。焼成された粉末は、以下の元素組成:Sn 11.5質量%、Si 35質量%、およびTOC0.1質量%未満を有していた。DIN66131に準じて測定されたBET比表面積は392m2/gであり、XRDにより測定された結晶化度は79%であった。該ゼオライト材料のXRDスペクトルは、図1に示されている。
1.1 MWW型の骨格構造を有するホウ素含有のゼオライト材料の製造
480kgの脱イオン水を容器中に準備した。70rpm(1分間あたりの回転数)で撹拌しながら、166kgのホウ酸を室温で水中に懸濁した。該懸濁液を、室温で更に3時間にわたり撹拌した。引き続き、278kgのピペリジンを添加し、そして該混合物を更に1時間にわたり撹拌した。得られた溶液に、400kgのLudox(登録商標)AS−40を添加し、そして得られた混合物を室温で更に1時間にわたり70rpmで撹拌した。最終的に得られた混合物を、結晶化容器へと移し、170℃で5時間にわたり自圧下で撹拌(50rpm)しながら加熱した。170℃の温度を実質的に一定に120時間にわたり維持した。この120時間の間に、該混合物は50rpmで撹拌した。引き続き、該混合物を50℃〜60℃の温度に冷却した。B−MWW前駆体を含有する水性懸濁液は、pH検知電極での測定により測定された11.3のpHを有するものであった。前記懸濁液から、B−MWW前駆体を濾過によって分離した。次いで濾過ケークを脱イオン水で室温において、洗浄水が700μS/cm未満の導電性となるまで洗浄した。こうして得られた濾過ケークを、懸濁液の全質量に対して15質量%の固体含量を有するその水性懸濁液を製造した後に、噴霧塔において以下の噴霧乾燥条件で噴霧乾燥にかけた:
乾燥ガス、ノズルガス: 工業用窒素
乾燥ガスの温度:
− 噴霧塔の温度(入口): 235℃
− 噴霧塔の温度(出口): 140℃
ノズル:
− 上部コンポーネントノズル: 供給業者Gerig:サイズ0
− ノズルガス温度: 室温
− ノズルガス圧力: 1bar
作動モード: 窒素直接式
使用装置: 1つのノズルを備えた噴霧塔
構成: 噴霧塔−フィルタ−スクラバ
ガス流量: 1500kg/h
フィルタ材料: Nomex(登録商標)ニードルフェルト20m2
フレキシブルチューブポンプを介して計量供給: SP VF 15(供給業者:Verder)。
脱イオン水9kgおよび例1の(i)により得られた焼成されたゼオライト600gを、100℃で250rpmでの撹拌下に10時間にわたり還流させた。得られた脱ホウ素化されたゼオライト材料を、濾過により懸濁液から分離し、そして4lの脱イオン水で室温において洗浄した。濾過後に、濾過ケークを120℃で16時間にわたり乾燥させた。
776.25gの脱イオン水をガラスビーカー中に準備し、375gのピペリジンを撹拌しながら添加した。この懸濁液に、2.9gの酢酸スズ(II)を添加し、その懸濁液を更に10分間にわたり撹拌した。前記2.2により得られた脱ホウ素化されたゼオライト材料172.4gを、その混合物に添加し、そして得られた混合物を室温で20分間(200rpm)にわたり撹拌した。次いで得られた懸濁液をオートクレーブ中に充填した。該混合物を、170℃の温度で撹拌(100rpm)しながら48時間にわたり処理した。その後に、オートクレーブを室温にまで冷やし、そして得られたゼオライト材料を室温での濾過により懸濁液から分離し、そして脱イオン水で、洗浄水が200μS/cm未満の導電性となるまで洗浄した。濾過後に、濾過ケークを120℃で16時間にわたり乾燥させた。
前記2.3により得られたゼオライト50gを、丸底フラスコ中に準備し、0から1までの範囲のpHを有する30質量%のHNO3水溶液1500gを添加した。該混合物を100℃の温度で20時間の時間にわたり撹拌した(200rpm)。該懸濁液を濾過し、そして濾過ケークを脱イオン水で室温において、洗浄水が約7のpHを有するまで洗浄した。得られたゼオライト材料を、120℃で16時間にわたり乾燥させ、そして550℃へと加熱(2K/分)し、引き続き550℃で10時間にわたり加熱することによって焼成した。
α−ピネンオキシドのカンフォレンアルデヒドへの異性体化
実施例2および比較例1により製造されたゼオライト粉末を、α−ピネンオキシドのカンフォレンアルデヒドへの異性体化反応において触媒として使用した:
Claims (27)
- MWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料の製造方法であって、
(i) X2O3およびYO2[式中、Yは、Si、Ti、Zr、Geおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される四価の元素であり、かつXは、Al、B、In、Ga、Feおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される三価の元素である]を含み、空の四面体骨格サイトを有する、MWW型の骨格構造を有するゼオライト材料を準備するステップ、
(ii) スズイオン源を固体形で準備するステップ、
(iii) 前記ステップ(i)で準備されたゼオライト材料を、前記ステップ(ii)で準備されたスズイオン源と固体イオン交換条件下で接触させることによって、該ステップ(i)で準備されたゼオライト材料中にスズを導入することで、MWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料を得るステップ
を含む、前記方法。 - 請求項1に記載の方法であって、YがSiであり、かつXがBである、前記方法。
- 請求項1または2に記載の方法であって、ステップ(i)による、空の四面体骨格サイトを有するMWW型の骨格構造を有するゼオライト材料は、以下のステップ(i.1)〜(i.4):
(i.1) MWW型の骨格構造を有するゼオライト出発材料を準備するステップであって、該ゼオライト出発材料の骨格構造が、X2O3およびYO2を含み、かつX2O3:YO2のモル比が、少なくとも0.03:1であり、好ましくは0.03:1から0.09:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.08:1までの範囲であり、より好ましくは0.03:1から0.07:1までの範囲であるステップ、
(i.2) ステップ(i.1)で準備されたゼオライト出発材料を液体溶剤系で、好ましくは還流下に処理することによって空の四面体骨格サイトを生成させることで、0.03未満:1のX2O3:YO2のモル比を有するゼオライト材料を得るステップであって、前記液体溶剤系が、好ましくは、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−1,2−ジオール、プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、プロパン−1,2,3−トリオールおよびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、前記液体溶剤系が、より好ましくは水であり、より好ましくは前記液体溶剤系が、無機酸もしくは有機酸またはそれらの塩を含有せず、かつ前記処理が、好ましくは50℃から125℃までの範囲の、より好ましくは90℃から115℃までの範囲の、より好ましくは95℃から105℃までの範囲の温度で、かつ好ましくは6時間から20時間までの範囲の、より好ましくは7時間から17時間までの範囲の、より好ましくは8時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われるステップ、
(i.3) ステップ(i.2)から得られたゼオライト材料を、前記液体溶剤系から少なくとも部分的に分離するステップであって、任意に乾燥を含み、好ましくは100℃から180℃までの範囲の、より好ましくは110℃から140℃までの範囲の温度で行われるステップ、
(i.4) 場合により、ステップ(i.3)から得られた分離されたゼオライト材料を、好ましくは400℃から800℃までの範囲の、より好ましくは600℃から700℃までの範囲の温度で焼成するステップ
を含む方法によって準備される、前記方法。 - 請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(i)で準備されたゼオライト材料の骨格構造において、X2O3:YO2のモル比が、大きくても0.01:1であり、好ましくは0.001:1から0.01:1までの範囲であり、より好ましくは0.001:1から0.003:1までの範囲である、前記方法。
- 請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(i)で準備されるゼオライト材料の骨格構造の少なくとも95質量%、好ましくは少なくとも98質量%、より好ましくは少なくとも99質量%が、X2O3およびYO2からなる、前記方法。
- 請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(ii)で準備されたスズイオン源は、スズ(II)アルコキシド、スズ(IV)アルコキシド、有機酸のスズ(II)塩、有機酸のスズ(IV)塩およびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは1個から4個までの炭素原子を有するスズ(II)アルコキシド、1個から4個までの炭素原子を有するスズ(IV)アルコキシド、1個から6個までの炭素原子を有する有機酸のスズ(II)塩、1個から6個までの炭素原子を有する有機酸のスズ(IV)塩、およびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、その際、より好ましくは、ステップ(ii)で準備されるスズイオン源は酢酸スズ(II)である、前記方法。
- 請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(iii)による、前記ゼオライト材料と接触されるスズイオン源中に含まれるスズの、前記ゼオライト材料の空の四面体骨格サイトに対するモル比は、大きくても1:1である、前記方法。
- 請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(iii)において、ステップ(i)で準備されたゼオライト材料を、ステップ(ii)で準備されたスズイオン源と、固体イオン交換条件下で接触させることは、ステップ(i)で準備された該ゼオライト材料を該スズイオン源と一緒に混合することを含む、前記方法。
- 請求項8に記載の方法であって、ステップ(iii)において、前記ゼオライト材料は、前記スズイオン源と一緒に、2分間から5時間までの範囲の、好ましくは5分間から3時間までの範囲の、より好ましくは10分間から2時間までの範囲の時間にわたり混合される、前記方法。
- 請求項8または9に記載の方法であって、100Wから1000Wまでの範囲の、好ましくは200Wから800Wまでの範囲の、より好ましくは300Wから600Wまでの範囲の撹拌エネルギー入力で撹拌しながら粉砕が行われる、前記方法。
- 請求項8から10までのいずれか1項に記載の方法であって、
前記ゼオライト材料を前記スズイオン源と一緒に粉砕する前に、前記ゼオライト材料を磨砕および/または粉砕するか、または
前記ゼオライト材料を前記スズイオン源と一緒に粉砕する前に、前記スズイオン源を磨砕および/または粉砕するか、または
前記ゼオライト材料を前記スズイオン源と一緒に粉砕する前に、前記ゼオライト材料を磨砕および/または粉砕し、かつ前記ゼオライト材料を前記スズイオン源と一緒に粉砕する前に、前記スズイオン源を磨砕および/または粉砕することを含む、前記方法。 - 請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法であって、更に
(iv) ステップ(iii)から得られたゼオライト材料を熱処理にかけるステップ
を含む、前記方法。 - 請求項12に記載の方法であって、ステップ(iv)による熱処理は乾燥を含み、そして該乾燥は、75℃から175℃までの範囲の、好ましくは100℃から150℃までの範囲の温度で、2時間から48時間までの範囲の、より好ましくは6時間から24時間までの範囲の時間にわたり、好ましくは少なくとも部分的に、酸素を含む雰囲気中で行われる、前記方法。
- 請求項12または13に記載の方法であって、ステップ(iv)による熱処理は焼成を含み、そして該焼成は、400℃から700℃までの範囲の、好ましくは450℃から600℃までの範囲の温度で、1時間から10時間までの範囲の、より好ましくは2時間から8時間までの範囲の時間にわたり、好ましくは少なくとも部分的に、酸素を含む雰囲気中で行われる、前記方法。
- 請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法であって、更に
(v) ステップ(iii)または(iv)から、好ましくはステップ(iv)から得られたゼオライト材料を、高くても5のpHを有する水溶液で処理するステップ
を含む、前記方法。 - 請求項15に記載の方法であって、ステップ(v)において、前記水溶液は、有機酸、好ましくはシュウ酸、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸およびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択される有機酸を含み、および/または無機酸、好ましくはリン酸、硫酸、塩化水素酸、硝酸およびそれらの2種以上の混合物からなる群から選択される無機酸を含み、その際、前記無機酸は、好ましくは硝酸である、前記方法。
- 請求項15または16に記載の方法であって、ステップ(v)において、前記水溶液は、0から5までの範囲の、好ましくは0から3.5までの範囲の、より好ましくは0から2までの範囲のpHを有する、前記方法。
- 請求項15から17までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(v)において、ゼオライト材料を、前記水溶液によって、70℃から100℃までの範囲の、好ましくは80℃から100℃までの範囲の、より好ましくは90℃から100℃までの範囲の温度で、好ましくは閉鎖系において自圧下で処理する、前記方法。
- 請求項15から18までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(v)において、前記ゼオライト材料を、前記水溶液によって、10分間から40時間までの範囲の、好ましくは30分間から30時間までの範囲の、より好ましくは1時間から25時間までの範囲の時間にわたり処理する、前記方法。
- 請求項15から19までのいずれか1項に記載の方法であって、ステップ(v)において、前記ゼオライト材料を、前記水溶液によって、2:1から50:1までの、好ましくは8:1から40:1までの、より好ましくは10:1から35:1までの範囲の前記水溶液の前記ゼオライト材料に対する質量比で処理する、前記方法。
- 請求項15から20までのいずれか1項に記載の方法であって、更に、
(vi) ステップ(v)で得られたゼオライト材料を、好ましくは洗浄後に、乾燥および焼成するステップであって、前記乾燥が、好ましくは90℃から180℃までの範囲の、好ましくは100℃から150℃までの範囲の温度で、1時間から24時間までの範囲の、好ましくは6時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われ、かつ前記焼成が、好ましくは400℃から700℃までの範囲の、好ましくは450℃から600℃までの範囲の温度で、1時間から24時間までの範囲の、好ましくは6時間から12時間までの範囲の時間にわたり行われるステップを含む、前記方法。 - 請求項1から21までのいずれか1項に記載の方法であって、更に
(vii) ステップ(iii)、(iv)、(v)または(vi)から、好ましくは(iii)または(vi)から、より好ましくは(vi)から得られたMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料を、好ましくはバインダーまたはその前駆体とともに、より好ましくはシリカバインダーまたはその前駆体とともに成形することで、成形物を得るステップ、
(viii) ステップ(vii)から得られた成形物を乾燥および/または焼成するステップ、
(ix) 場合により、ステップ(vii)または(viii)から、好ましくはステップ(viii)から得られた成形物を水処理にかけるステップであって、前記水処理が、該成形物を液体の水でオートクレーブ中で自圧下に100℃から200℃までの範囲の温度で処理することを含むステップ、
(x) 場合により、ステップ(ix)から得られた水処理された成形物を乾燥および/または焼成するステップ
を含む、前記方法。 - X2O3およびYO2[式中、Yは、Si、Ti、Zr、Geおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される四価の元素であり、Yは、好ましくはSiであり、Xは、Al、B、In、Ga、Feおよびそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択される三価の元素であり、Xは、好ましくはBである]を含むMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料であって、前記骨格構造は、追加的にスズを含み、ここで該ゼオライト材料の骨格構造において、X2O3:YO2のモル比は、大きくても0.01:1であり、好ましくは0.001:1から0.01:1までの範囲であり、より好ましくは0.001:1から0.003:1までの範囲であり、その際、前記ゼオライト材料の骨格構造の少なくとも95質量%、好ましくは少なくとも98質量%、より好ましくは少なくとも99質量%は、X、Y、Oおよびスズからなり、かつ前記スズ含有のゼオライト材料は、該スズ含有のゼオライト材料の全質量に対して、少なくとも10質量%のスズ含量を有する、前記スズ含有のゼオライト材料。
- 請求項23に記載のスズ含有のゼオライト材料であって、該スズ含有のゼオライト材料の全質量に対して、10質量%から20質量%までの、より好ましくは11質量%から18質量%までの、より好ましくは12質量%から16質量%までの範囲のスズ含量を有する、前記スズ含有のゼオライト材料。
- 成形物中に含まれる請求項23又は24に記載のスズ含有のゼオライト材料であって、前記成形物が、好ましくは追加的にバインダー、好ましくはシリカバインダーを含む、前記スズ含有のゼオライト材料。
- 請求項23から25までのいずれか1項に記載のMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料の、α−ピネンオキシドのカンフォレンアルデヒドへの異性体化のための、又は、バイヤー・ビリガー型酸化のための、触媒活性材料としての使用。
- 請求項23又は24に記載のMWW型の骨格構造を有するスズ含有のゼオライト材料および好ましくはバインダー、より好ましくはシリカバインダーを含む成形物であって、α−ピネンオキシドのカンフォレンアルデヒドへの異性体化のための、又は、バイヤー・ビリガー型酸化のための、触媒として使用するための前記成形物。
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