JP2015534550A - エンザルタミドの多形形態およびその調製 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願の局面は、薬学的に受容可能な剤形を作製するのに有用なエンザルタミドの多形形態、およびその調製のためのプロセスに関する。
一局面において、本出願は、約12.3±0.2、13.1±0.2、15.0±0.2、および17.5±0.2度2θにおいて一つもしくは一つより多くのピークを有する粉末X線回折(PXRD)パターンによって特徴付けられる、結晶エンザルタミド形態R1を提供する。
a)溶媒中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)結晶エンザルタミド形態R1を単離する工程
を包含する。
a)メタノールもしくはギ酸中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)結晶エンザルタミド形態R2を単離する工程
を包含する。
a)溶媒中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)エンザルタミドの非晶質形態を単離する工程
を包含する。
a)適切な溶媒もしくは溶媒混合物中に、エンザルタミドの溶液を1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアと組み合わせて提供する工程;および
b)1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアを伴う非晶質エンザルタミドの固体分散物を単離する工程
を包含する。
一局面において、本出願は、約12.3±0.2、13.1±0.2、15.0±0.2、および17.5±0.2度2θにおいて一つもしくは一つより多くのピークを有する粉末X線回折(PXRD)パターンによって特徴付けられる、結晶エンザルタミド形態R1を提供する。
a)溶媒中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)結晶エンザルタミド形態R1を単離する工程
を包含する。
i)エンザルタミドの合成過程において得られるエンザルタミドを含む反応混合物の直接使用;もしくは
ii)溶媒中にエンザルタミドを溶解させる工程
を含む。
a)メタノールもしくはギ酸中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)結晶エンザルタミド形態R2を単離する工程
を包含する。
i)エンザルタミドの合成過程において得られるエンザルタミドを含む反応混合物の直接使用;もしくは
ii)メタノールもしくはギ酸中にエンザルタミドを溶解する工程
を含む。
a)溶媒中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)エンザルタミドの非晶質形態を単離する工程
を包含する。
i)エンザルタミドの合成過程で得られるエンザルタミドを含む反応混合物の直接使用;もしくは
ii)溶媒にエンザルタミドを溶解する工程
を包含する。
a)適切な溶媒もしくは溶媒混合物中に、エンザルタミドの溶液を1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアと組み合わせて提供する工程;
b)1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアを伴う非晶質エンザルタミドの固体分散物を単離する工程
を包含する。
工程a)は、1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアを伴うエンザルタミドの溶液を形成する工程を包含し得る。実施形態において、キャリアは、溶媒を除去する際に上記非晶質固体の安定性を増強する。
i)エンザルタミドの製造過程において得られるエンザルタミドを含む反応混合物の直接使用であって、望ましい場合には、1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアの添加後の直接使用;または
ii)適切な溶媒中でのエンザルタミドの、単独でのもしくは1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアと組み合わせての溶解
を包含する。
以下の定義は、文脈が別段示さなければ、本出願と関連して使用される。用語「貧溶媒」とは、エンザルタミドの溶液と合わせられる場合、溶液中のエンザルタミドの溶解度を低下させ、ある場合には自発的に、他の場合にはさらなる工程(例えば、エージング、シーディング、冷却、スクラッチング(scratching)および/もしくは濃縮)を伴って、結晶化もしくは沈殿を引き起こす液体をいう。セライト(登録商標)は、融剤焼成珪藻土である。セライト(登録商標)は、World Minerals Inc.の登録商標である。Hyflowは、炭酸ナトリウムで処理した融剤焼成珪藻土である。Hyflo Super CelTMは、Manville Corpの登録商標である。多形は、同じ分子構造を有するが、同じ構造の他の多形と比較した場合に、別個の物理的特性を有する、異なる固体である。
収量:68mg
Claims (14)
- エンザルタミドの結晶形態R1を調製するためのプロセスであって、該プロセスは、
a)溶媒中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)結晶エンザルタミド形態R1を単離する工程
を包含する、プロセス。 - 前記工程a)の溶媒は、C1−C6アルコール、ニトリル、アミド、スルホキシド、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、エステル、エーテル、ケトン、水、酢酸もしくはこれらの混合物から選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記溶媒は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール、t−ブチルアルコール、アセトニトリル、プロピオニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸t−ブチル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルt−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、2−メトキシエタノール、アニソール、アセトン、エチルメチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、水、酢酸もしくはこれらの混合物から選択される、請求項2に記載のプロセス。
- 前記工程b)の結晶形態R1の単離が、冷却する工程、クラッシュ冷却する工程、濃縮する工程、貧溶媒を添加する工程、種晶を添加する工程、もしくはエバポレーションまたはこれらの組み合わせによって行われる、請求項1に記載のプロセス。
- 前記貧溶媒は、水、飽和の、不飽和の、直鎖状の、分枝鎖状の、環式もしくは非環式のC1−C10炭化水素もしくはエーテルまたはこれらの混合物から選択される、請求項4に記載のプロセス。
- 前記貧溶媒は、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンもしくはジメトキシエタンまたはこれらの混合物から選択される、請求項5に記載のプロセス。
- 約4.8±0.2、11.3±0.2および20.2±0.2度2θにおいて一つもしくは一つより多くのピークを有する粉末X線回折(PXRD)パターンによって特徴付けられる、エンザルタミドの結晶形態R2。
- 約9.7±0.2、14.5±0.2、15.6±0.2、16.9±0.2および25.5±0.2度2θにおいてさらなるピークを有する粉末X線回折パターンによってさらに特徴付けられる、請求項7に記載のエンザルタミドの結晶形態R2。
- 図2によって実質的に図示されるとおりのPXRDパターンによって特徴付けられる、エンザルタミドの結晶形態R2。
- エンザルタミドの結晶形態R2を調製するためのプロセスであって、該プロセスは、
a)メタノールもしくはギ酸中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)結晶エンザルタミド形態R2を単離する工程
を包含する、プロセス。 - エンザルタミドの非晶質形態。
- エンザルタミドの非晶質形態を調製するためのプロセスであって、該プロセスは、
a)溶媒中のエンザルタミドの溶液を提供する工程;および
b)エンザルタミドの非晶質形態を単離する工程
を包含する、プロセス。 - エンザルタミドおよび1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアを含む、非晶質固体分散物。
- エンザルタミドおよび1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアを含む非晶質固体分散物を調製するためのプロセスであって、該プロセスは、
a)適切な溶媒もしくは溶媒混合物中のエンザルタミドおよび1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアの溶液を提供する工程;および
b)エンザルタミドおよび1種もしくは1種超の薬学的に受容可能なキャリアを含む非晶質固体分散物を単離する工程
を包含する、プロセス。
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