JP2015506835A5

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Publication number: JP2015506835A5
Application number: JP2014555382A
Authority: JP
Filing date: 2013-02-06
Publication date: 2016-03-24
Anticipated expiration: 2033-02-06

Claims

窒素酸化物を含有するガスストリームを処理するための方法であって、
（１）１種または複数の窒素酸化物を含有するガスストリームを提供する工程と、
（２）工程（１）で提供されたガスストリームと遷移金属を含有するＢＥＡタイプの骨格構造を有するゼオライト材料とを接触させて、１種または複数の窒素酸化物に反応を起こさせる工程と
を含み、ゼオライト材料が、有機テンプレート不要合成法から得られる、方法。
１種または複数の窒素酸化物が、Ｎ_２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ_２、Ｎ_２Ｏ_３、Ｎ_２Ｏ_４、Ｎ_２Ｏ_５、ＮＯ_３、およびこれらの２種以上の混合物からなる群から選択される１種または複数の化合物を含む、請求項１に記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、１０から１０，０００ｐｐｍｖの範囲に含まれる量でＮ_２Ｏを含む、請求項１または２に記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、０から５，０００ｐｐｍｖの範囲に含まれる量でＮＯ_ｘを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、１：５０から５：１の範囲に含まれるＮＯ_ｘ：Ｎ_２Ｏのモル比でＮ_２ＯおよびＮＯ_ｘを含む、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、１種または複数の還元剤をさらに含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
１種または複数の還元剤が、炭化水素、一酸化炭素、水素、およびこれらの２種以上の組合せからなる群から選択される１種または複数の化合物を含む、請求項６に記載の方法。
１種または複数の還元剤対１種または複数の窒素酸化物の化学量論比が、０．０５から５０の範囲に含まれる、請求項６または７に記載の方法。
還元剤が、アンモニアおよび／または尿素を含まない、請求項６から８のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、０から１０体積％の酸素を含む、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、０から１０体積％のＨ_２Ｏを含む、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、１種または複数の廃ガスを含む、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリームが、内燃機関からの１種または複数の廃ガスを含む、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
工程（１）で提供されるガスストリーム中に含まれる１種または複数の廃ガスが、予めＮ_２Ｏおよび／またはＮＯ_ｘの削減のための触媒処理手順に供されていない、請求項１２または１３に記載の方法。
工程（２）における、ガスストリームと遷移金属含有ゼオライト材料との接触が、２５０から５５０℃の範囲に含まれる温度で実施される、請求項１から１４のいずれかに記載の方法。
工程（２）における、ガスストリームと遷移金属含有ゼオライト材料との接触が、１から５０バールの範囲に含まれる圧力で実施される、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
前記方法が連続法である、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
窒素酸化物を含有するガスストリームを処理するための装置であって、
（ｉ）処理されるガスストリームと流体接触して提供される触媒床
を備え、触媒床が、遷移金属を含有するＢＥＡタイプの骨格構造を有するゼオライト材料を含み、ゼオライト材料が、有機テンプレート不要の合成法から得られる、装置。
触媒床が、固定床触媒または流動床触媒である、請求項１８に記載の装置。
（ｉｉ）１種または複数の還元剤をガスストリーム中に噴射するための、触媒床の上流に設けられる１つまたは複数の装置
をさらに備える、請求項１８または１９に記載の装置。
ゼオライト材料に含まれる１種または複数の遷移金属が、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈおよびこれらの２種以上の組合せからなる群から選択される、請求項１から１７のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２０のいずれかに記載の装置。
１種または複数の遷移金属が、ゼオライト材料中に非骨格元素として含まれる、請求項１から１７、もしくは２１のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２１のいずれかに記載の装置。
ゼオライト材料のＢＥＡタイプの骨格構造が、ＹＯ_２およびＸ_２Ｏ_３（式中、Ｙは四価の元素であり、Ｘは三価の元素である）を含む、請求項１から１７、２１もしくは２２のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２２のいずれかに記載の装置。
Ｙが、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ、およびこれらの２種以上の混合物からなる群から選択される、請求項１から１７、もしくは２１から２３のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２３のいずれかに記載の装置。
Ｘが、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、およびこれらの２種以上の混合物からなる群から選択される、請求項１から１７、もしくは２１から２４のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２４のいずれかに記載の装置。
ＹＯ_２：Ｘ_２Ｏ_３のモル比が、２から１００の範囲である、請求項１から１７、もしくは２１から２５のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２５のいずれかに記載の装置。
ＢＥＡタイプの骨格構造中に含まれる、１種または複数の遷移金属対Ｘ_２Ｏ_３のモル比が、０．００５から１０の範囲である、請求項１から１７、もしくは２１から２６のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２６のいずれかに記載の装置。
ＢＥＡタイプの骨格構造を有するゼオライト材料のＸ線回折パターンが、少なくとも以下の反射

を含み、１００％が、Ｘ線粉末回折パターンにおける最大ピークの強度に関連する、請求項１から１７、もしくは２１から２７のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２７のいずれかに記載の装置。
ＢＥＡタイプの骨格構造を有するゼオライト材料が、ゼオライトベータを含む、請求項１から１７、もしくは２１から２８のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２８のいずれかに記載の装置。
遷移金属含有ゼオライト材料が、成形品中に含まれる、請求項１から１７、もしくは２１から２９のいずれかに記載の方法、または請求項１８から２９のいずれかに記載の装置。