JP2015503276A - カプセル化デバイスを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
−上記要素は、上記カプセル化デバイスを閉鎖するよう設計されたカバーであり;
−上記要素は、カプセル化デバイスのキャビティを形成するよう設計された主部であり;
−上記要素はセラミック又は金属で形成され;
−上記少なくとも1つの金属層は、ニッケル及び/又は銅及び/又は金を含み;
−上記少なくとも1つの金属層は、上記要素の本体で形成され;
−上記少なくとも1つの金属層は更に、上記要素の上記本体に接着するための接着層を含み;
−上記接着層は、モリブデン及び/又はタングステン及び/又はチタン及び/又はクロムを含み;
−上記金属間化合物は金を含み;
−融点が250℃未満である上記材料は、インジウム又はスズである。
a)上記要素を形成するステップ;
b)コーティングによって保護された少なくとも1つの金属層を含む金属被覆を蒸着するステップ
を含み、本方法は更に以下のステップ:
c)融点が250℃未満の材料の層を上記コーティング上に蒸着するステップ;
d)融点が250℃未満の上記材料をコーティング内に部分的に拡散して、コーティングを金属間化合物に完全に変換し、融点が250℃未満の材料の非拡散部分を残すステップ
を含むことを特徴とする。
−上記要素は、上記セラミック又は金属で形成され;
−上記少なくとも1つの金属層は、ニッケル及び/又は銅及び/又は金を含み;
−上記少なくとも1つの金属層は、上記要素の本体で形成され;
−本方法は、ステップa)とステップb)との間に、上記少なくとも1つの金属層のために接着層を蒸着することからなるステップを含み;
−上記接着層は、モリブデン及び/又はタングステン及び/又はチタン及び/又はクロムを含み;
−上記コーティングは金を含む。
−密閉手段は、融点が250℃未満の材料を用いて少なくとも1つの第2の金属によって形成された上記第1の金属間化合物に隣接する第2の金属間化合物を含み;
−上記少なくとも1つの第2の金属は、金を含み;
−密閉手段は、第1の金属間化合物と実質的に同一の性質を有する第3の金属間化合物を含み、ここで第1及び第3の金属間化合物は、第2の金属間化合物の両側に位置し;
−密閉手段は、ケースに接着する少なくとも1つの層を含み;
−密閉手段は、カバーと上記金属間化合物との間、及び主部と上記金属間化合物との間に、上記少なくとも1つの金属の層を含み;
−密閉手段は、主部と上記金属間化合物との間及びカバー内に、上記少なくとも1つの金属の層を含み;
−融点が250℃未満の上記材料は、インジウム又はスズであり;
−上記少なくとも1つの金属層は、ニッケル及び/又は銅及び/又は金を含み;
−ケースはセラミック及び/又は金属で形成され;
−キャビティは、真空又は制御された雰囲気にある。
e)上記構成部品を形成するステップ;
f)第1の金属被覆を含みキャビティを形成する主部、及び第2の金属被覆を含むカバーを形成するステップであって、主部又はカバーは上述の実施形態のいずれかによる方法によって作製される、ステップ;
g)構成部品をキャビティに設置するステップ;
h)主部又はカバーの、融点が250℃未満の材料のうちステップd)で拡散されない部分を、それぞれカバー又は主部の金属被覆に対して組み付けるステップ;
i)融点が250℃未満の上記材料の非拡散部分を、上記隣接する金属被覆に完全に拡散させるステップであって、融点が250℃未満の上記材料を、上記構成部品を上記カプセル化デバイス内に気密閉鎖できる第2の金属間化合物に完全に変換する、ステップ
を含むことを特徴とする。
−本方法は、ステップf)とステップg)との間に、非拡散部分で覆われていない上記金属被覆を保護するために、保護層を蒸着することからなるステップを含み;
−主部及びカバーは、セラミック及び/又は金属で形成され;
−ステップi)は、真空又は制御された雰囲気で実施され;
−上記構成部品は、石英音叉型共振器であり;
−融点が250℃未満の上記材料は、インジウム又はスズである。
Claims (37)
- 要素(2、4、44、64)であって、
金属被覆(11、9、49、69)によって少なくとも部分的に覆われた前記要素(2、4、44、64)を含む構成部品(5)のためのカプセル化デバイス(3)を形成するために別の部品(4、2)と協働するよう配設される、要素(2、4、44、64)において、
前記金属被覆は、融点が250℃未満である材料の非拡散部分(12’、52’、72’)で覆われた金属間化合物(19、59、79)で保護される、少なくとも1つの金属層(15、16、55、64)を含むことを特徴とする、要素(2、4、44、64)。 - 0010
前記カプセル化デバイス(3)を閉鎖するよう設計されたカバー(4、44、64)であることを特徴とする、先行する請求項に記載の要素(2、4、44、64)。 - 前記カプセル化デバイス(3)のキャビティ(10)を形成するよう設計された主部(2)であることを特徴とする、請求項1に記載の要素(2、4、44、64)。
- セラミック又は金属で形成されることを特徴とする、先行する全請求項のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 前記少なくとも1つの金属層(15、16、55、64)は、ニッケル及び/又は銅及び/又は金を含むことを特徴とする、先行する全請求項のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 前記少なくとも1つの金属層は、前記要素(64)の本体で形成されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 前記少なくとも1つの金属層(15、16)は更に、前記要素(2、4)の前記本体に接着するための接着層(13、14)を含むことを特徴とする、先行する全請求項のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 前記接着層(13、14)は、モリブデン及び/又はタングステン及び/又はチタン及び/又はクロムを含むことを特徴とする、先行する請求項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 前記金属間化合物(19、59、79)は金を含むことを特徴とする、先行する全請求項のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 融点が250℃未満の前記材料はインジウムであることを特徴とする、先行する全請求項のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 融点が250℃未満の前記材料はスズであることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の要素(2、4、44、64)。
- 構成部品(5)のためのカプセル化デバイス(3)を形成するために別の部品(4、2)と協働するよう配設される要素(2、4、44、64)を製造するための方法(24、26)であって、
以下のステップ:
a)前記要素(2、4、44、64)を形成するステップ;
b)コーティング(17、18、57、75)によって保護された少なくとも1つの金属層(15、16、55)を含む金属被覆(9、11、49、69)を蒸着するステップ
を含む、方法(24、26)において、
更に以下のステップ:
c)融点が250℃未満の材料の層(12、52、72)を前記前記コーティング(17、18、57、75)上に蒸着するステップ;
d)融点が250℃未満の前記材料を前記コーティング(17、18、57、75)内に部分的に拡散して、前記コーティング(17、18、57、75)を金属間化合物に完全に変換し、融点が250℃未満の前記材料の非拡散部分(12’、52’、72’)を残すステップ
を含むことを特徴とする、方法(24、26)。 - 前記要素(2、4、44、64)は、セラミック又は金属で形成されることを特徴とする、先行する請求項に記載の方法(24、26)。
- 前記少なくとも1つの金属層(15、16、55)は、ニッケル及び/又は銅及び/又は金を含むことを特徴とする、請求項12又は13に記載の方法(24、26)。
- 前記少なくとも1つの金属層は、前記要素(64)の本体で形成されることを特徴とする、請求項12又は13に記載の方法(24、26)。
- 前記ステップa)と前記ステップb)との間に、前記少なくとも1つの金属層(15、16)のための接着層(13、14、33、34)を蒸着することからなるステップを含むことを特徴とする、請求項12〜15のいずれか1項に記載の方法(24、26)。
- 前記接着層(13、14)は、モリブデン及び/又はタングステン及び/又はチタン及び/又はクロムを含むことを特徴とする、請求項16に記載の方法(24、26)。
- 前記コーティング(17、18、57、75)は金を含むことを特徴とする、請求項12〜16のいずれか1項に記載の方法(24、26)。
- 密閉手段(6)の助けでカバー(4、44、64)を用いて気密閉鎖されるキャビティ(10)を形成する主部(2)を備えるケース(7)を含む構成部品(5)を受承するよう配設される、カプセル化デバイス(3)であって、
前記密閉手段(6)は、融点が250℃未満の材料(12、52、72)を用いて少なくとも1つの金属(15、16、15’、16’、55、64)で形成された金属間化合物(20、40)を含み、これによって、前記金属間化合物を液体状態で前記少なくとも1つの金属と相互拡散させることができることを特徴とする、カプセル化デバイス(3)。 - 前記密閉手段(6)は、融点が250℃未満の前記材料(12、52、72)を用いて少なくとも1つの第2の金属(17、18、57、75)によって形成された前記第1の金属間化合物(20、40)に隣接する、第2の金属間化合物(19、19’、39、39’、59、79)を含むことを特徴とする、請求項19に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記少なくとも1つの第2の金属(17、18、57、75)は、金を含むことを特徴とする、請求項20に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記密閉手段(6)は、前記第1の金属間化合物と実質的に同一の性質を有する第3の金属間化合物(40)を含み、
前記第1及び第3の金属間化合物は、前記第2の金属間化合物(39’)の両側に位置する
ことを特徴とする、請求項20又は21に記載のカプセル化デバイス(3)。 - 前記密閉手段(6)は、前記ケース(7)に接着する少なくとも1つの接着層(13、14、33、34)を含むことを特徴とする、請求項19〜22のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記密閉手段(6)は、前記カバー(4、44、64)と前記金属間化合物(20、40)との間、及び前記主部(2)と前記金属間化合物(20、40)との間に、前記少なくとも1つの金属(15、16、15’、16’、55、64)の層を含むことを特徴とする、請求項19〜23のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記密閉手段(6)は、前記主部(2)と前記金属間化合物(20、40)との間及び前記カバー(64)内に、前記少なくとも1つの金属(15、16、15’、16’、44)の層を含むことを特徴とする、請求項19〜23のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 融点が250℃未満の前記材料は、インジウムであることを特徴とする、請求項19〜25のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 融点が250℃未満の前記材料は、スズであることを特徴とする、請求項19〜25のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記少なくとも1つの金属(15、16、15’、16’、55、64)は、ニッケル及び/又は銅及び/又は金を含むことを特徴とする、請求項19〜27のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記ケース(7)は、セラミック及び/又は金属で形成されることを特徴とする、請求項19〜28のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 前記キャビティ(10)は、真空又は制御された雰囲気にあることを特徴とする、請求項19〜29のいずれか1項に記載のカプセル化デバイス(3)。
- 0016
構成部品(5)のためのカプセル化デバイス(3)を製造する方法であって、
以下のステップ:
e)前記構成部品(5)を形成するステップ;
f)第1の金属被覆(11)を含みキャビティ(10)を形成する主部(2)、及び第2の金属被覆(9、49、69)を含むカバー(4、44、64)を形成するステップであって、前記主部(2)又は前記カバー(4、44、64)は請求項12〜17のいずれか1項による方法(24、26)によって作製される、ステップ;
g)前記構成部品(5)を前記キャビティ(10)に設置するステップ;
h)前記主部(2)又は前記カバー(4、44、64)の、融点が250℃未満の材料のうち前記ステップd)で拡散されない部分(12’、52’、72’)を、それぞれ前記カバー(4、44、64)又は前記主部(2)の前記金属被覆(9、11)に対して組み付けるステップ;
i)融点が250℃未満の前記材料の前記非拡散部分(12’、52’、72’)を、前記隣接する金属被覆(11、9、49、69)に完全に拡散させるステップであって、融点が250℃未満の前記材料を、前記構成部品を前記カプセル化デバイス内に気密閉鎖できる第2の金属間化合物(20)に完全に変換する、ステップ
を含むことを特徴とする、方法(21)。 - 0019
前記ステップf)と前記ステップg)との間に、前記非拡散部分(12’、52’、72’)で覆われていない前記金属被覆を保護するために、保護層(18、17、57、75)を蒸着することからなるステップを含むことを特徴とする、先行する請求項に記載の方法(21)。 - 前記主部(2)及び前記カバー(4、44、64)は、セラミック及び/又は金属で形成されることを特徴とする、請求項31又は32に記載の方法(21)。
- 前記ステップi)は、真空又は制御された雰囲気で実施されることを特徴とする、請求項31〜33のいずれか1項に記載の方法(21)。
- 前記構成部品(5)は、石英音叉型共振器であることを特徴とする、請求項12〜17及び31〜34のいずれか1項に記載の方法(21、24、26)。
- 融点が250℃未満の前記材料は、インジウムであることを特徴とする、請求項12〜17及び31〜35のいずれか1項に記載の方法(21、24、26)。
- 融点が250℃未満の前記材料は、スズであることを特徴とする、請求項12〜17及び31〜35のいずれか1項に記載の方法(21、24、26)。
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