JP2015219654A - Display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、インセル方式のタッチパネルを備えた表示装置に関する。 The present invention relates to a display device including an in-cell type touch panel.
表示機能と入力機能を兼ね備え、表示された画像を触れるように操作することで操作が行われるコンピュータ機器や携帯型の電子機器の普及が進んでいる。このような電子機器に使用される表示パネルはタッチパネル(若しくはタッチスクリーン)とも呼ばれている。タッチパネルは静電容量式のものが主流となっており、センサ電極の静電容量の変化を検出し、これを入力信号に変換する方式が主流となっている。 Computer devices and portable electronic devices that have both a display function and an input function and are operated by touching displayed images are becoming widespread. A display panel used in such an electronic device is also called a touch panel (or touch screen). Capacitance type touch panels are mainly used, and a method of detecting changes in the capacitance of sensor electrodes and converting them into input signals is mainly used.
例えば、透明基板の片面に透明導電膜よりなる複数のX電極を行方向に且つ複数行配設した第1電極パターンを形成し、その上に中間絶縁層を形成し当該中間絶縁層の上に、第1電極パターンに対してマトリックス状に透明導電膜からなる複数のY電極を列方向に複数列配設した第2電極パターンを設けた静電容量式のタッチパネルが開示されている(特許文献1参照)。このタッチパネルを液晶パネル等の表示パネルに重ね合わせれば、外付け型のタッチパネルを構成することができる。しかし、表示パネルとタッチセンサパネルを単純に一体化すると、パネルが厚型化し重量も増加してしまうことになる。 For example, a first electrode pattern in which a plurality of X electrodes made of a transparent conductive film are arranged in a row direction and in a plurality of rows is formed on one side of a transparent substrate, an intermediate insulating layer is formed thereon, and the intermediate insulating layer is formed on the intermediate insulating layer An electrostatic capacitance type touch panel is disclosed in which a second electrode pattern is provided in which a plurality of Y electrodes made of a transparent conductive film are arranged in a matrix with respect to the first electrode pattern (Patent Literature). 1). When this touch panel is superimposed on a display panel such as a liquid crystal panel, an external touch panel can be configured. However, if the display panel and the touch sensor panel are simply integrated, the panel becomes thicker and the weight increases.
これに対して内蔵型(インセル型)と呼ばれるタッチパネルでは、表示素子が形成される素子基板とこれに対向配置される対向基板とを備えた表示装置において、例えば、表示面側に位置する対向基板にタッチセンサが作り込まれる。例えば、センサ内蔵型の一例として、静電容量式タッチセンサの検知電極と駆動電極とを透明基板の一方の面と他方の面とに形成する構造が開示されている(特許文献2参照)。 On the other hand, in a touch panel called a built-in type (in-cell type), in a display device including an element substrate on which a display element is formed and a counter substrate disposed to face the element substrate, for example, a counter substrate positioned on the display surface side Touch sensor is built in. For example, as an example of a sensor built-in type, a structure is disclosed in which detection electrodes and drive electrodes of a capacitive touch sensor are formed on one surface and the other surface of a transparent substrate (see Patent Document 2).
静電容量式タッチセンサの一対の電極のうち対向基板の内側の面、すなわち素子基板側を向いた面に形成されたものは外部の配線を接続しにくい。 Of the pair of electrodes of the capacitive touch sensor, those formed on the inner surface of the counter substrate, that is, the surface facing the element substrate side, are difficult to connect external wiring.
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、対向基板の内側の面に形成された電極への配線接続を容易とする表示装置を提供する。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a display device that facilitates wiring connection to electrodes formed on the inner surface of a counter substrate.
(1)本発明に係る表示装置は、対向配置された表示面側基板と背面側基板との間に画像を形成する画素構造を配された表示装置であって、前記背面側基板、及び前記画素構造に電気信号を供給する表示用配線が形成された層を含む第1の積層構造体と、前記第1の積層構造体に間隔を置いて対向配置された積層構造体であって、前記表示面側基板、並びに静電容量式タッチセンサの駆動電極及び検知電極を含み、かつ前記駆動電極又は前記検知電極が前記背面側基板から見て前記表示面側基板よりも手前に位置した内側電極である第2の積層構造体と、絶縁材料からなり前記間隔に充填され前記第1の積層構造体と前記第2の積層構造体とを接合する接合部と、前記内側電極から引き出された第1のセンサ用配線と、前記第1の積層構造体の表面に形成され、前記第1のセンサ用配線との間に対向部分を有する第2のセンサ用配線と、を有し、前記対向部分に設けられる前記接合部は、導電性ビーズを混入され前記第1のセンサ用配線と前記第2のセンサ用配線との間を電気的に接続する。
(1) A display device according to the present invention is a display device in which a pixel structure for forming an image is disposed between a display surface side substrate and a back surface substrate that are arranged to face each other, and the back side substrate, A first laminated structure including a layer in which a display wiring for supplying an electric signal to the pixel structure is formed; and a laminated structure disposed opposite to the first laminated structure with an interval therebetween, An inner electrode including a display surface side substrate, and a drive electrode and a detection electrode of a capacitive touch sensor, and the drive electrode or the detection electrode is positioned in front of the display surface side substrate when viewed from the rear surface side substrate A second laminated structure made of an insulating material, a joint filled in the gap and joining the first laminated structure and the second laminated structure, and a second drawn out from the
(2)上記(1)に記載する表示装置において、前記表示用配線は、前記第1の積層構造体にて前記第2のセンサ用配線より下層に位置する下地層上に形成され、前記第1の積層構造体は、前記下地層上に形成された回路が露出する露出領域を有し、前記露出領域には、前記第2のセンサ用配線に繋げられる第3のセンサ用配線が形成され、前記第2のセンサ用配線は前記露出領域との境界まで延伸し、当該境界にて導電性ペーストで前記第3のセンサ用配線に接続される構造とすることができる。
(2) In the display device according to (1), the display wiring is formed on a base layer positioned below the second sensor wiring in the first stacked structure, The laminated
(3)上記(1)に記載する表示装置において、前記表示用配線は、前記第1の積層構造体にて前記第2のセンサ用配線より下層に位置する下地層上に形成され、前記第1の積層構造体は、前記第2のセンサ用配線の形成領域に隣接して、前記下地層上に形成された回路が露出する露出領域を有し、前記露出領域に延伸された前記表示用配線と前記第2のセンサ用配線とが共通のフレキシブルプリント基板に接続される構造とすることができる。 (3) In the display device according to (1), the display wiring is formed on a base layer positioned below the second sensor wiring in the first stacked structure, and the first wiring The laminated structure of 1 has an exposed region where a circuit formed on the base layer is exposed adjacent to a region where the second sensor wiring is formed, and the display structure extended to the exposed region The wiring and the second sensor wiring may be connected to a common flexible printed board.
(4)上記(2)に記載する表示装置において、前記表示用配線は、前記第3のセンサ用配線の形成領域に隣接する前記露出領域に延伸され、前記表示用配線と前記第3のセンサ用配線とが前記露出領域にて共通のフレキシブルプリント基板に接続される構造とすることができる。 (4) In the display device according to (2), the display wiring is extended to the exposed region adjacent to a formation region of the third sensor wiring, and the display wiring and the third sensor The wiring can be connected to a common flexible printed circuit board in the exposed region.
(5)上記(1)から(4)に記載する表示装置において、前記駆動電極は前記内側電極として前記表示面側基板の一方主面に積層され、前記検知電極は前記表示面側基板の他方主面に積層される構造とすることができる。 (5) In the display device described in (1) to (4) above, the drive electrode is stacked on the one main surface of the display surface side substrate as the inner electrode, and the detection electrode is the other of the display surface side substrate. It can be set as the structure laminated | stacked on a main surface.
(6)上記(1)から(4)に記載する表示装置において、前記接合部は、前記画素構造が形成された表示領域を囲むように閉ループのパターンを有し、前記画素構造を密封するシール部を含み、前記閉ループの内側に形成される前記第1のセンサ用配線と前記閉ループの外側に形成される前記第2のセンサ用配線とが、前記シール部にて前記導電性ビーズにより接続される構造とすることができる。 (6) In the display device described in (1) to (4) above, the bonding portion has a closed loop pattern so as to surround the display region in which the pixel structure is formed, and seals that seal the pixel structure The first sensor wiring formed inside the closed loop and the second sensor wiring formed outside the closed loop are connected by the conductive beads at the seal portion. It can be set as a structure.
以下、本発明の実施の形態(以下実施形態という)について、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described with reference to the drawings.
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate modifications while maintaining the gist of the invention are naturally included in the scope of the present invention. In addition, the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, and the like of each part in comparison with actual aspects for the sake of clarity of explanation, but are merely examples, and the interpretation of the present invention is not limited. It is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, elements similar to those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate.
[第1の実施形態]
本実施形態は、入力機能を有する表示装置100の構成について例示する。図1は本実施形態に係る表示装置100の模式的な平面図である。表示装置100は、対向基板102(表示面側基板)と素子基板104(背面側基板)とを有している。対向基板102と素子基板104とは対向配置され、それらの間には画像を形成する画素構造を配される。
[First Embodiment]
This embodiment illustrates the configuration of the
対向基板102には、一方向(例えば、X方向)に第1の電極パターン108が設けられており、一方向と交差する方向(例えば、Y方向)に第2の電極パターン110が設けられている。第1の電極パターン108と第2の電極パターン110は、それぞれ複数個が用意され、マトリクスを形成するように配設されることで静電容量式タッチセンサであるセンシング部106が形成されている。例えば、第1の電極パターン108は静電容量式タッチセンサの駆動電極(送信電極)Txであり、第2の電極パターン110は検知電極(受信電極)Rxである。
The
素子基板104には画素構造を配される画素部が設けられている。具体的には画素部には表示素子が配列される。素子基板104において表示素子は対向基板102のセンシング部106と重なる領域に配列される。また、素子基板104には画素構造として、表示素子を制御する画素回路や、表示素子や当該回路に電気信号を供給する配線(表示用配線)が設けられる。さらに、素子基板104には、各画素回路に電気信号を供給するドライバ回路が設けられる場合もある。
The
それぞれ上述の積層構造を形成された素子基板104(第1の積層構造体)と対向基板102(第2の積層構造体)とはシール材118によって固定されている。
The element substrate 104 (first stacked structure) and the counter substrate 102 (second stacked structure) each having the above-described stacked structure are fixed by a sealing
対向基板102のセンシング部106は、表示装置100の表示画面と重なる領域に設けられるので、第1の電極パターン108と第2の電極パターン110は透光性の導電材料で形成される。例えば、酸化インジウム・スズ(ITO)、酸化インジウム・スズと酸化亜鉛の複合材料(IZO)等の透明導電膜によって、第1の電極パターン108と第2の電極パターン110は形成される。
Since the
第1の電極パターン108と第2の電極パターン110によるセンシング部106は、静電容量の変化によって接触位置を検出する。すなわち、X方向については駆動パルスを印加した第1の電極パターン108の位置を、またY方向については第2の電極パターン110における静電容量の変化を検出することで、センシング部106の面内のどの位置にタッチされたのか位置を特定することができる。なお、本実施形態で例示する表示装置100は、対向基板102において、第1の電極パターン108が素子基板104側の面に設けられた電極(内側電極)であり、一方、第2の電極パターン110が素子基板104とは反対側の面に設けられている。
The
第1の電極パターン108は配線112(第1のセンサ用配線)と電気的に接続される。配線112は第1の電極パターン108と外部回路とを接続する配線の一部を構成する。配線112は信号の減衰を抑制するために低抵抗の金属材料により形成される。配線112は複数本必要であり、これを集積して束ねると非透過領域となるため、素子基板104の画素部と重ならないように、対向基板102の端部に沿って金属細線で形成される。
The
保護絶縁層114は、配線112に沿って設けられている。保護絶縁層114は、配線112を埋設するように設けられている。保護絶縁層114は配線112が埋め込まれるように厚く形成することが好ましく、配線112による段差を緩和するように、断面形状から見るとテーパ状の側端面を有していることが好ましい。
The protective
シール材118は、センシング部106を囲むように、閉ループのパターンをもって形成される。このためシール材118は、配線112が引き回されている領域では、該配線112及び保護絶縁層114と重なるように設けられている。したがって、何ら措置をとらなければ、シール材118が対向基板102と接する面は一様ではなく、接触面の素材や高さが場所によって異なってしまうことになる。
The sealing
しかしながら本実施形態においては、シール材118と重なるように外周部材116が設けられている。外周部材116は、少なくとも配線112が形成されない領域に設けられている。もしくは外周部材116がシール材118と重なるように、配線112及び保護絶縁層114が形成された領域からそれ以外の領域に渡って連続的に設けられていても良い。
However, in this embodiment, the outer
このように外周部材116を設けることによって、シール材118が接する面の均一化を図ることが可能となる。また、外周部材116の高さを保護絶縁層114の厚さと略一致させることで、シール材118が対向基板102と接する領域の高さの均一化も図ることができる。
By providing the outer
なお、後述するように、対向基板102側にてシール材118の閉ループの内側に形成された配線112は、シール材118に混入した導電性ビーズを介し、素子基板104側にてシール材118の閉ループの外側に形成された配線200(第2のセンサ用配線)に接続される。よって、配線200の端子からなる第1の端子部120は素子基板104側に設けられる。配線200及び第1の端子部120は素子基板104に積層される層のうちシール材118が接する層、例えば、後述するパッシベーション層160の表面に、金属材料で例えばマスク蒸着で形成される。
As will be described later, the
一方、第2の電極パターン110の端子からなる第2の端子部122は対向基板102側に設けられる。第2の端子部122は第2の電極パターン110と同様、対向基板102の上面側に設けられる。
On the other hand, the second
また、素子基板104の上面側には、第1の端子部120に並んで、画素に接続される表示用配線や、素子基板104に配置されるドライバ回路を外部と接続するための第3の端子部124も設けられている。但し、表示用配線は、例えば、画素回路等の下地層など、配線200より下層に位置する層の表面に形成され、これに対応して、第3の端子部124を形成する領域からはパッシベーション層160等が除去され、当該領域は下地層及びその表面に形成された表示用配線や第3の端子部124が露出する露出領域とされる。すなわち、第1の端子部120と第3の端子部124とは互いに異なる層の表面に位置する。
In addition, on the upper surface side of the
次に、配線112、保護絶縁層114、外周部材116及びシール材118の詳細を、図2を参照して説明する。図1において、一点鎖線で示すA−B線及びC−D線に対応する断面構造を、それぞれ図2(A)、(B)に示す。
Next, details of the
シール材118は素子基板104と対向基板102が重なる領域において、その周縁部に沿って設けられている。シール材118と重畳するように外周部材116が設けられている。外周部材116の幅は、シール材118によるシールパターンの幅よりも狭いものとなっている。また外周部材116は、シール材118の厚さよりも薄いものとなっている。すなわち図2(A)で示すように、外周部材116はシール材118により埋設されている。シール材118は、対向基板102と素子基板104に挟まれて、両基板を固着すると共に、シール材118による閉ループパターンの内側領域に配置される画素部を内包し、該画素部が大気に直接触れないように密閉し保護している。このためシール部は、外周部材116とシール材118によって構成されているとみなすことができる。
The sealing
ここで、外周部材116とシール材118は絶縁性を有した有機樹脂材料で形成することが好ましい。この場合において、外周部材116は対向基板102に形成されるものであるため、有機樹脂材料の選択に自由度がある。一方、シール材118は素子基板104と対向基板102とを接着させるものであるため、素子基板104に形成される表示素子等に影響を与えないようなプロセス条件及び材質に限定されてしまう。
Here, the outer
例えば、外周部材116は比較的付着強度の高い熱硬化性の有機樹脂材料を用いることができる。一方、シール材118は比較的低温で処理が可能な熱硬化性樹脂もしくは光硬化性樹脂を用いることが好ましい。このように材質の異なる部材によってシール部を形成することで、シール部の強度を向上させることができる。また、シール材118の使用量を低減することができるので、製造コストを低減することができる。
For example, the outer
配線112は、対向基板102の外端部に沿うように設けられ、そこから第1の電極パターン108の方に延びている。配線112は配線抵抗を下げるために、アルミニウム等の金属材料を用いることが好ましい。図2(B)で示すように、保護絶縁層114は、配線112の側面及び上端角部を覆って、段差を緩和するように設けることが好ましい。換言すれば、配線112は保護絶縁層114によって埋設されているとみることができる。
The
保護絶縁層114は配線112の上面部を露出させる開口部を有している。第1の電極パターン108は保護絶縁層114の表面に沿って形成され、当該開口部において配線112と接触し、電気的な接続を形成している。このとき保護絶縁層114の断面形状は階段状の段差を有するのではなく、断面形状からみて傾斜面(テーパ形状)を有するように形成されていることが好ましい。
The protective
このように配線112と第1の電極パターン108を接続する場合において、保護絶縁層114が介在するようにすることで、電気的な接続を確実なものとすることができる。仮に保護絶縁層114がないと、配線112を形成した後に第1の電極パターン108を同一平面に形成してコンタクトを形成しようとしても、配線112の段差により第1の電極パターン108が切れてしまい、電気的な接続が不良になってしまう場合がある。配線112の端部をテーパ形状に加工すれば、段差部における接続不良は解消できるが、全ての配線の端部をテーパ形状にすると配線の微細化(集積化)が困難になってしまう。また、配線112を形成する金属パターンが露出した状態で、透明導電膜で形成される第1の電極パターン108をドライエッチングすると金属パターンもエッチングされてしまう。また、透明導電膜で形成される第1の電極パターン108をウェットエッチングで加工しようとすると、アルミニウム等の金属材料で形成される配線112が電気化学的反応により腐食してしまう。
When the
これに対し、配線112の側面及び上端部を被覆するように保護絶縁層114を設け、該保護絶縁層114の上面に設けられた開口部から第1の電極パターン108が配線112と接触するようにすることで、かかる問題を解消することができる。保護絶縁層114は複数の配線112を埋設するように設けることが可能であるため、保護絶縁層114の側端部をテーパ形状としても配線112の集積度を低下させずに済むことになる。また、保護絶縁層114は配線112の保護膜として機能するので、傷による断線や、水分による腐食を防ぐことができる。第1の電極パターン108をドライエッチングやウェットエッチングで加工する際にも、配線112が露出する面積を最小限にすることができるので、かかる不具合を解消することができる。
On the other hand, the protective insulating
さらに図2の(B)に示されるように、保護絶縁膜114上および、この保護絶縁膜114に設けられた開口部に露出した配線112を覆うように被覆配線308が設けられる。この被覆配線308に関して、本実施形態においてはこの被覆配線308は第1の電極108と同一工程で形成され、同一材料で形成されるものである。これは配線112の材料に依存するが、第1の電極108をウェットエッチングする際に電蝕を防止するために、図2にように被覆配線308で配線112を被覆する構成にすることが好ましいからである。
Further, as shown in FIG. 2B, a covered
外周部材116と保護絶縁層114は同じ絶縁材料を用いて形成しても良い。かかる場合、外周部材116と保護絶縁層114が連続するように形成しても良い。外周部材116と保護絶縁層114を連続的に設けることで、シール材118が外周部材116及び保護絶縁層114と接する面の高さを揃えることができ、シール材118の強度を一様にすることができる。なお、外周部材116と保護絶縁層114を形成する絶縁材料としては有機樹脂材料を用いることが好ましく、例えば、アクリル系、イミド系の有機樹脂材料を用いることができる。
The outer
図3はセンシング部106の詳細を示す。個々の第1の電極パターン108は図3において横方向(X方向とする)に伸びた矩形である。第1の電極パターン108は縦方向(Y方向とする)に複数配列される。第2の電極パターン110は、Y方向に周期的に密に配列された複数の菱形の電極が当該菱形より細い配線で互いに接続されたパターンを有する。
FIG. 3 shows details of the
なお、第1の電極パターン108は、第2の電極パターン110と比較して、面積の大きい矩形のパターンとしている。第1の電極パターン108をこのような形態とすることにより、電極自体の抵抗を下げることができる。そして、第1の電極パターン108は単に第2の電極パターン110と重なるように設ければ良いので、電極の合わせ精度を緩和することができる。また、第1の出力配線112との接触面積を大きくすることができ、接続抵抗を低減することができる。
Note that the
第2の電極パターン110の周辺には、視認性の観点から、同じ材質のダミーパターン110’を設けておくことが好ましい。例えば、菱形電極の周期パターンで第2の電極パターン110が設けられているとき、その周囲にも同じ略同じ周期で菱形のダミーパターン110’が設けられている。このようにダミーパターン110’を設けることで、外観的には電極パターンの不可視化を図ることができる。
A
図4は表示装置100の模式的な断面図である。対向基板102において第1の電極パターン108が素子基板104と対向する面に設けられ、第2の電極パターン110がその反対側の面に設けられる。そして対向基板102と素子基板104はシール材118で固定されている。対向基板102の基材は透明なガラス基板若しくはプラスチック基板等が用いられるので、第1の電極パターン108と第2の電極パターン110はガラス若しくはプラスチック等の絶縁部材を挟んで直流的には絶縁されている。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the
図4は配線112に沿った垂直断面図であり、配線112に沿って第1の電極パターン108も設けられる。配線112に沿って設けられた第1の電極パターン108は配線112とコンタクトしつつ配線112と一緒に引き回されている。第1のセンサ用配線である配線112は、これに積層される第1の電極パターン108と共に画素部に形成された矩形の第1の電極パターン108から引き出され、第1の端子部120が設けられる側における対向基板102の端部まで延設される。第1のセンサ用配線は当該端部に形成されるシール部の位置、つまりシール材118の配置領域まで延設される。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view along the
素子基板104側においては、平面図上にて各配線112の延長線に沿って配線200が設けられる。配線200はシール材118の配置領域にて配線112と対向する部分202を有し、当該対向部分202にて配線200と配線112は導電ビーズ204にて電気的に接続される。
On the
図5は配線112と配線200との接続部分を示す模式的な平面図であり、図6は当該接続部分の配線112,200に沿った(図5のA−A’線に沿った)模式的な垂直断面図である。シール材118は配線112と配線200とはそれらの対向部分202に導電性ビーズ204を混入される。導電性ビーズ204により配線112と配線200とを接続し、また配線200を金属配線とすることにより、第1の電極パターン108と第1の端子部120との間を低抵抗で安定して接続することができる。
FIG. 5 is a schematic plan view showing a connection portion between the
導電性ビーズ204のサイズは、互いに隣接する配線112の間、及び互いに隣接する配線200の間を短絡しないように、それぞれ並行配置される配線112及び配線200の間隔よりも小さくされ、一方、対向基板102を素子基板104に接合したときに対向部分202にて配線112と配線200とに挟持される大きさとされる。また、導電性ビーズ204のシール材118への混入密度は、各対向部分202に少なくとも1つの導電性ビーズ204が確実に存在し、一方、導電性ビーズ204同士が接触して配線112間及び配線200間の短絡を生じないような範囲内に設定される。なお、導電性ビーズ204は基本的には対向部分202に導入されていれば十分であるが、画素部を取り込む全周に亘ってシール材118に導入されていてもよい。
The size of the
配線112は保護絶縁層114に被覆されているが、シール材118がある個所において露出されている。この露出箇所には被覆配線308が配置されており、その下に導電性ビーズ204が配置されている。このような配置となることにより、図2の説明箇所にて説明したように、保護絶縁層114は複数の配線112を埋設するように設けることが可能であるため、保護絶縁層114の側端部をテーパ形状としても配線112の集積度を低下させずに済むことになる。また、保護絶縁層114は配線112の保護膜として機能するので、傷による断線や、水分による腐食を防ぐことができる。第1の電極パターン108をドライエッチングやウェットエッチングで加工する際にも、配線112が露出する面積を最小限にすることができるので、かかる不具合を解消することができる。更に、保護絶縁層114が配線112の端部を覆う構造となっており、配線112を精密に加工しつつ保護ができるため、配線112の端部がシール材118からはみ出すこともなくなる。さらに保護絶縁層114における配線112の露出箇所がくぼみとなるために、このくぼみに導電性ビーズ204がはまりやすくなり、確実に配線112と配線200との電気接続を行うことができる。
The
さらに図2にて説明したように被覆配線308に関して、本実施例においてはこの被覆配線308は第1の電極108と同一工程で形成され、同一材料で形成されるものである。これは配線112の材料に依存するが、第1の電極108をウェットエッチングする際に電蝕を防止するために、図2にように被覆配線308で配線112を被覆する構成にすることが好ましいからである。
Further, as described with reference to FIG. 2, with respect to the covered
図7は、フレキシブルプリント基板(Flexible Printed Circuits:以下「FPC」ともいう)を取り付けた表示装置100の模式的な平面図である。また、図8はFPCを取り付けた表示装置100の模式的な断面図であり、図4と同じ位置における垂直断面図である。
FIG. 7 is a schematic plan view of the
上述のように対向基板102側にて第1の電極パターン108に接続された配線112を、素子基板104側の配線200に接続したことにより、配線200の端子からなる第1の端子部120は表示用配線等の第3の端子部124と同じく素子基板104側に位置する。つまり、第1の端子部120と第3の端子部124とは大体同じ高さであるので、共通のFPCに接続することができる。そこで、素子基板104側には、第1の電極パターン108に対する配線200と表示用配線等とに電気的に接続される第1のFPC基板126が取り付けられる。一方、対向基板102側には第2の電極パターン110と電気的に接続される第2のFPC基板128が取り付けられる。
As described above, by connecting the
なお、本実施形態の表示装置における画素部の詳細を図9に示す。図9は、第1の画素132r、第2の画素132g及び第3の画素132bの断面構造を示す。ここで、第1の画素132rは赤色画素、第2の画素132gは緑色画素、第3の画素132bは青色画素を例示するものとするが、各画素の構成は基本的に共通している。
Details of the pixel portion in the display device of this embodiment are shown in FIG. FIG. 9 shows a cross-sectional structure of the
各画素にはトランジスタ134と保持容量136と発光素子138が設けられている。トランジスタ134は、半導体層140、ゲート絶縁層142及びゲート電極144によって構成され、ソース・ドレイン電極148が画素電極152と接続されている。ゲート電極144とソース・ドレイン電極148の間には第1の層間絶縁層146が設けられ、ソース・ドレイン電極148と画素電極152との間には第2の層間絶縁層150が設けられている。発光素子138は、画素電極152、発光層156及び対向電極158が積層されることによって構成されている。発光層156は有機エレクトロルミネセンス材料を含んで構成されている。そして、画素ごとに発光色の異なる有機エレクトロルミネセンス材料を用いることで、第1の画素132rを赤色画素、第2の画素132gを緑色画素、第3の画素132bを青色画素とすることができる。それにより、カラー表示に対応したグラフィカルインターフェイスを有する入力機能を備えた表示装置とすることができる。
Each pixel is provided with a
なお、隔壁層154は画素電極の間に設けられそれぞれの画素を区画している。パッシベーション層160は対向電極158上に設けられ、発光素子138が水分等によって劣化しないように保護している。また、対向基板102には、素子基板104と対向する側に第1の電極パターン108が設けられ、その反対側の面に第2の電極パターン110が設けられている。さらに、素子基板104と対向基板102は空隙をもって対向配置されており、その空隙部に充填材162が設けられている。充填材162には乾燥剤が含まれていてもよく、これによって発光素子138の劣化を抑制することができる。また、充填材162を設けることによって素子基板104と対向基板102の接着強度および機械強度を高めることもできる。
Note that the
素子基板104と対向基板102との間にはスペーサ164が設けられていても良い。スペーサ164は素子基板104と対向基板102との間に充填材162が設けられるとしても、充填材162の中に立設するように設けることができる。このスペーサ164は対向基板102側に形成することができ、かかる場合には外周部材116と同じ有機樹脂材料を用いて形成することができる。すなわち外周部材116と工程的には同時に作製することができる。
A
スペーサ164は隔壁層154と重なる領域に設けることで画素の開口率を低下させないようにすることができる。スペーサ164は全ての画素に対応して設けることもできるが、複数の画素に対して一つ設けるように、所定の間隔をおいて設けるようにしても良い。
The
スペーサ164は素子基板104と対向基板102との間隔を一定に保つ機能を有している。また、素子基板104と対向基板102との間に充填材を設けない場合にもスペーサ164を設けることが好ましい。素子基板104と対向基板102との間の間隙部を減圧状態で保持する場合には、スペーサ164が存在することによって、大気圧がかかっても両基板の間隔を一定に保つことができる。
The
図10を参照して、このような表示装置の製造工程の概略を説明する。図10(A)は対向基板102の製造工程を示す。対向基板102の基材に配線112を形成する。配線112はアルミニウム等の金属材料で形成する。配線112は、対向基板102の周縁部に形成する。
The outline of the manufacturing process of such a display device will be described with reference to FIG. FIG. 10A shows a manufacturing process of the
そして、配線112の側面部及び上端部を覆う保護絶縁層114を形成する。保護絶縁層114はアクリル樹脂などの有機材料を用いて形成することが好ましい。このとき保護絶縁層114の側面部が傾斜面を有するように形成することが好ましい。また、保護絶縁層114に開口部を設け、配線112の一部が露出するように加工する。
Then, a protective
対向基板102の周縁部に外周部材116を形成する。外周部材は任意の材料で形成可能であるが、保護絶縁層114と同時に形成することが好ましい。保護絶縁層114と外周部材116を同時に形成することで工程を簡略化することができる。いずれにしても、外周部材116と保護絶縁層114の厚さ(高さ)を略同一となるように形成することが好ましい。両者の高さを揃えておくことで、後の工程で形成するシール材118の高さを均一に保つことができる。保護絶縁層114と外周部材116は、有機樹脂材料を用いて形成した場合であっても、この段階で硬化させ対向基板102の基材にしっかりと固定する。
An outer
第1の電極パターン108を配線112が形成される対向基板102の一方の面に形成し、第2の電極パターン110を他方の面に形成する。第1の電極パターン108と第2の電極パターン110は透明導電膜で形成する。第1の電極パターン108は配線112まで延設され、その延設部では、保護絶縁層114の表面に沿って形成され、開口部において配線112とコンタクトするように設けられる。
The
図10(B)はシール材118を形成する工程を示す。シール材118は外周部材116が形成された領域に合わせて形成する。シール材118は、外周部材116よりも厚膜で、かつ幅広に形成することが好ましい。また、シール材118は配線112が形成される領域にも形成される。シール材118は、ディスペンサを用いて閉ループパターンをもって形成される。シール材118は光硬化性であり接着性のある有機樹脂組成物を用いること好ましいが、これに代えて熱硬化性の有機樹脂組成物を用いてもよい。シール材118が形成される領域に予め外周部材116を設けておくことで、シール材118の使用量を減らすことができる。シール材118は、描画した段階では完全に硬化せず、未硬化の状態で維持される。
FIG. 10B shows a step of forming the sealing
図10(C)は、このように作製された対向基板102と素子基板104を貼り合わせる工程を示す。まず、充填材162をループ状に形成されたシール材118の内側領域に滴下若しくは塗布する。充填材162は、対向基板102と素子基板104とを、間隙をもって貼り合わせたとき、当該間隙部に空洞がなく充満するように必要量滴下する。充填材162は有機樹脂材料を用いれば良く、例えばゲル状乾燥剤を用いることもできる。
FIG. 10C shows a step of bonding the
その後、画素部が設けられた素子基板104を対向させ、充填材162が盛られた対向基板102と貼り合わせる。対向基板102と素子基板104の貼り合わせは減圧下で行われる。そして、対向基板102と素子基板104を貼り合わせた状態で、減圧下から大気圧に戻すと、対向基板102と素子基板104は大気圧によって押される。対向基板102と素子基板104に大気圧がかかることにより、間隙部の間隔が狭くなると、充填材162が圧縮されるので、シール材118にその押圧力が作用する。このような場合でも、外周部材116がシール材118に埋設されるように設けられているので、シール材118が決壊することがなく、充填材162が外に漏れ出すことを防ぐことができる。また、当該押圧力により、配線112及び配線200とそれらに挟持された導電性ビーズ204との電気的接触が確実に行われる。そして、この状態でシール材118を硬化して、対向基板102と素子基板104とを固着させる。以上のようにして、表示装置を作製することができる。
After that, the
このように本実施形態によれば、配線112を保護絶縁層で覆うことにより、傷による断線や水分等による腐食を防ぐことができる。配線112に重ねて第1の電極パターンを形成するときにも、該配線上に保護絶縁層が存在することにより、エッチングダメージを防止することができる。また、シール部においては、材質の異なる部材によってシールパターンを形成することで、シールの強度を向上させることができる。それによって配線基板と素子基板が貼り合わされるパネルの強度を向上させることができる。そして、シール材の使用量を低減することができるので製造コストを低減することができる。
As described above, according to the present embodiment, by covering the
<変形例>
上述した実施形態では、配線112が形成されない領域にてシール材118と重なるように、図2(A)に示す構造の外周部材116を設けた。この外周部材116を、図11(A)に示す、配線112と同じ構造を有するダミー配線パターン166を埋設した構造としてもよい。このダミー配線パターン166は、シール材118によるシールパターンが配線112と重なる領域以外の領域において、シールパターンの概略全周に渡って設けられている。すなわち外周部材116と重なるように設けられている。例えば、ダミー配線パターン166は配線112と同時に形成することができる。しかしながら、ダミー配線パターン166は切欠部があって配線112とは絶縁分離されている。
<Modification>
In the embodiment described above, the outer
次にこの構成を図11を参照してさらに詳細に説明する。本変形例によれば、図1のA−B線における断面は、図2(A)に示す構造に代えて図11(A)に示す構造となる。図1のC−D線における断面は変わらず、本変形例における図11(B)に示す断面は図2(B)と同じ構造となる。 Next, this configuration will be described in more detail with reference to FIG. According to this modification, the cross section taken along line AB in FIG. 1 has the structure shown in FIG. 11A instead of the structure shown in FIG. The cross section taken along the line CD in FIG. 1 does not change, and the cross section shown in FIG. 11B in this modification has the same structure as FIG.
ダミー配線パターン166は、配線112と同じ金属層で形成される金属層112’と、第1の電極パターン108と同じ層で形成される導電層108’を含んで構成されている。つまり、図11(A)で示すように、配線112が設けられない領域においても、配線112と同じ構造を有するダミー配線パターン166が、シール材118に埋設されるように設けられ、図11(B)又は図2(B)と同様の構造が形成される。
The
このように外周部材116のみならず配線112と同じ構造を有するダミー配線パターン166を、シール材118が埋設するように設けることで、配線112が設けられる領域と、それ以外の領域においてシール材118が設けられる領域の形態を均一にすることが可能となる。なお、それ以外の有利な効果は図1乃至図10で説明した表示装置100と同様である。
Thus, by providing the
[第2の実施形態]
本実施形態では、センサ用配線の構造が異なる表示装置について例示する。本実施形態では、配線200がさらに配線210(第3のセンサ用配線)に接続される。
[Second Embodiment]
In the present embodiment, display devices having different sensor wiring structures are illustrated. In the present embodiment, the
図12は本実施形態に係る表示装置100の模式的な平面図である。図13は表示装置100の模式的な断面図である。既に述べたように、配線200はパッシベーション層160上に形成される一方、第3の端子部124はパッシベーション層160より下の層を下地層としてその上に形成される。配線210は第3の端子部124と同様、当該下地層の表面に形成される。また、これにより、第1の端子部120は配線210の端子からなる第1の端子部120も第3の端子部124と同じく、下地層の表面に位置する。配線210、第1の端子部120は第3の端子部124や表示用配線と共に、低抵抗の金属材料で下地層上に例えばフォトリソグラフィ技術により形成される。配線210、第1の端子部120及び第3の端子部124の上には、素子基板104の他の領域と同様に一旦、パッシベーション層160まで積層され、パッシベーション層160の表面に配線200が形成される。その後、配線210、第1の端子部120及び第3の端子部124を形成する領域からはパッシベーション層160等が除去され、当該領域は下地層及びその表面に形成された配線210、第1の端子部120及び第3の端子部124が露出する露出領域とされる。
FIG. 12 is a schematic plan view of the
図14は配線112と配線200との接続部分、及び配線200と配線210との接続部分を示す模式的な平面図であり、図15は当該接続部分の配線112,200,210に沿った(図14のA−A’線に沿った)模式的な垂直断面図である。配線112は導電性ビーズ204を介して配線200に接続される。配線210は平面図上にて各配線200の延長線に沿って配置される。配線200は露出領域との境界まで延伸し、当該境界にて導電性ペースト212で配線210に電気的に接続される。これにより第1の実施形態と同様、第1の電極パターン108と第1の端子部120との間を低抵抗で安定して接続することができる。パッシベーション層160は第1の端子部120や第3の端子部124を露出する際の対向基板102をマスクにしたエッチングにて、対向基板102下および配線200下のもの以外は除去される。
14 is a schematic plan view showing a connection portion between the
配線210はフォトリソグラフィ技術で形成でき、マスク蒸着で形成される配線200より微細に加工できる。よって、例えば、配線210の間隔を図14に示すように配線200より詰めて、そのレイアウトスペースを小さくすることができる。画素部外となる素子基板104の第1の端子部120等が設けられる部分に必要とされる面積が小さくなることにより、狭額縁化を図ることができる。
The
図16は、FPCを取り付けた表示装置100の模式的な平面図である。また、図17はFPCを取り付けた表示装置100の模式的な断面図であり、図4と同じ位置における垂直断面図である。本実施形態では、第1の端子部120と第3の端子部124とは基本的に同じ高さであるので、第1の電極パターン108に対する配線210と表示用配線等とに共通に接続される第1のFPC基板126を取り付けることが容易である。
FIG. 16 is a schematic plan view of the
[第1及び第2の実施形態に共通する変形例]
本発明の一実施形態に係る表示装置において、対向基板102にカラーフィルタを設けることができる。図18はカラーフィルタを設けた画素部の一例を示す。
[Modifications Common to First and Second Embodiments]
In the display device according to one embodiment of the present invention, a color filter can be provided on the
第1の画素132rを赤色画素、第2の画素132gを緑色画素、第3の画素132bを青色画素とする場合、それぞれの画素に対応して、赤色光を透過するカラーフィルタ層178r、緑色光を透過するカラーフィルタ層178g、青色光を透過するカラーフィルタ層178bが対向基板102に設けられている。透過光が異なるカラーフィルタ層の境界領域には遮光層176が設けられており、隣接する画素間での混色を防いでいる。また、カラーフィルタ層及びスペーサ164の上層には第1の電極パターン108が設けられている。
In the case where the
対向基板102にカラーフィルタを設ける場合、白色発光する発光層156を設けることができる。このようにすれば画素ごとに発光層を作り分ける必要がなくなり、全画素共通の発光層とすることもできる。発光層156において白色光を出射するには、赤(R)、緑(G)、青(B)の各色を発光する発光層、又は青(B)色と黄色(Y)を発光する発光層を積層した構造とすればよい。
In the case where a color filter is provided on the
なお、図19で示すように、カラーフィルタ層の上層にオーバーコート層180を設け、平坦化された表面の上にスペーサ164及び第1の電極108を設けてもよい。対向基板102側にスペーサを形成する場合、オーバーコート層180によって平坦化された表面にスペーサ164を設けることで、当該スペーサの高さがより均一化されるため、素子基板104と対向基板102との間隔を、より均一に保つことができる。
Note that as shown in FIG. 19, an
対向基板102にカラーフィルタを設けた画素の構成は、第1及び第2の実施形態で例示するいずれの表示装置に対しても適用することができる。それにより、カラー表示に対応したグラフィカルインターフェイスを有する入力機能を備えた表示装置とすることができる。
The configuration of a pixel in which a color filter is provided on the
[第3の実施形態]
本実施形態では、センサ用配線の構造が異なる表示装置について例示する。本実施形態では、第2の電極パターン110がさらに配線214および導電性ビーズ204を介して配線300に接続される。第1および第2の実施形態の表示装置ではFPC基板が2つ必要であったが、本実施形態では1つでよい。
[Third Embodiment]
In the present embodiment, display devices having different sensor wiring structures are illustrated. In the present embodiment, the
第2の電極パターン110も素子基板104から見て対向基板102よりも手前に配置することができる。例えば、第2の電極パターン110は図20および図21の構成のように、対向基板102とカラーフィルタ層178との間に配置することができる。この場合、第2の電極パターン110に対する配線214も第1の電極パターン108に対する配線と同様にして、素子基板104側に設けた配線300に接続することができる。図22の構成のように、第2の電極パターン110から配線214へ接続し、導電性ビーズを介して配線300へ接続することができる。配線300は第4の端子部224に接続されている。この第4の端子部224は第1の端子部120や第3の端子部124が配置された辺と同じ辺に沿って配置されている。このことでこの辺に接続された1つのFPC基板226で表示装置が駆動可能となる。配線214、配線300、第4の端子部224はそれぞれ複数あることは言うまでもない。なお、配線214から配線300までの接続は、図24の構成とすることができる。配線214が被覆配線310で覆われている構造となっている。本実施形態においてはこの被覆配線310は第2の電極110と同一工程で形成され、同一材料で形成されるものである。これは配線214の材料に依存するが、第2の電極110をウェットエッチングする際に電蝕を防止するために、図23にように被覆配線310で配線214を被覆する構成にすることが好ましいからである。第1の電極108と同一材料の被覆配線308は特になくても良いが、ウェットエッチング等による歩留り低下の対策にある方がよい。
The
本発明の一実施形態に係る表示装置は、グラフィカルユーザーインターフェースを必要とする様々な電子機器に適用することができる。例えば、表示された画像を触れるように操作することで操作が行われるコンピュータ機器や携帯型の電子機器に加え、インフォメーションパネル、券売機、キャッシュディスペンサ等その他の特殊用途の電子機械器具に対して、本発明の一実施形態に係る表示装置を適用することができる。 The display device according to an embodiment of the present invention can be applied to various electronic devices that require a graphical user interface. For example, in addition to computer devices and portable electronic devices that are operated by touching the displayed image, for other special-purpose electronic mechanical devices such as information panels, ticket vending machines, cash dispensers, A display device according to an embodiment of the present invention can be applied.
100:表示装置、102:対向基板、104:素子基板、106:センシング部、108:第1の電極パターン、110:第2の電極パターン、112,200,210,214,300:配線、114:保護絶縁層、116:外周部材、118:シール材、120:第1の端子部、122:第2の端子部、124:第3の端子部、126:第1のFPC基板、128:第2のFPC基板、132:画素、134:トランジスタ、136:保持容量、138:発光素子、140:半導体層、142:ゲート絶縁層、144:ゲート電極、146:第1の層間絶縁層、148:ソース・ドレイン電極、150:第2の層間絶縁層、152:画素電極、154:隔壁層、156:発光層、158:対向電極、160:パッシベーション層、162:充填材、164:スペーサ、166:ダミー配線パターン、176:遮光層、178:カラーフィルタ層、180:オーバーコート層、204:導電性ビーズ、212:導電性ペースト、224:第4の端子部。 100: display device, 102: counter substrate, 104: element substrate, 106: sensing unit, 108: first electrode pattern, 110: second electrode pattern, 112, 200, 210, 214, 300: wiring, 114: Protective insulating layer, 116: outer peripheral member, 118: sealing material, 120: first terminal portion, 122: second terminal portion, 124: third terminal portion, 126: first FPC board, 128: second FPC substrate, 132: pixel, 134: transistor, 136: storage capacitor, 138: light emitting element, 140: semiconductor layer, 142: gate insulating layer, 144: gate electrode, 146: first interlayer insulating layer, 148: source Drain electrode, 150: second interlayer insulating layer, 152: pixel electrode, 154: partition wall layer, 156: light emitting layer, 158: counter electrode, 160: passivation layer, 16 : Filler, 164: Spacer, 166: Dummy wiring pattern, 176: Light shielding layer, 178: Color filter layer, 180: Overcoat layer, 204: Conductive beads, 212: Conductive paste, 224: Fourth terminal portion .
Claims (6)
前記背面側基板、及び前記画素構造に電気信号を供給する表示用配線が形成された層を含む第1の積層構造体と、
前記第1の積層構造体に間隔を置いて対向配置された積層構造体であって、前記表示面側基板、並びに静電容量式タッチセンサの駆動電極及び検知電極を含み、かつ前記駆動電極又は前記検知電極が前記背面側基板から見て前記表示面側基板よりも手前に位置した内側電極である第2の積層構造体と、
絶縁材料からなり前記間隔に充填され前記第1の積層構造体と前記第2の積層構造体とを接合する接合部と、
前記内側電極から引き出された第1のセンサ用配線と、
前記第1の積層構造体の表面に形成され、前記第1のセンサ用配線との間に対向部分を有する第2のセンサ用配線と、を有し、
前記対向部分に設けられる前記接合部は、導電性ビーズを混入され前記第1のセンサ用配線と前記第2のセンサ用配線との間を電気的に接続すること、
を特徴とする表示装置。 A display device in which a pixel structure for forming an image is arranged between a display-side substrate and a back-side substrate that are arranged to face each other.
A first laminated structure including a layer in which display wiring for supplying an electric signal to the pixel structure is formed on the back side substrate;
A laminated structure disposed opposite to the first laminated structure with an interval, including the display surface side substrate, and a drive electrode and a detection electrode of a capacitive touch sensor, and the drive electrode or A second laminated structure in which the detection electrode is an inner electrode positioned in front of the display surface side substrate when viewed from the back side substrate;
A joining portion made of an insulating material and filled in the gap to join the first laminated structure and the second laminated structure;
A first sensor wiring drawn from the inner electrode;
A second sensor wiring formed on the surface of the first laminated structure and having a facing portion between the first sensor wiring;
The joint provided in the facing portion is mixed with conductive beads to electrically connect the first sensor wiring and the second sensor wiring;
A display device.
前記表示用配線は、前記第1の積層構造体にて前記第2のセンサ用配線より下層に位置する下地層上に形成され、
前記第1の積層構造体は、前記下地層上に形成された回路が露出する露出領域を有し、
前記露出領域には、前記第2のセンサ用配線に繋げられる第3のセンサ用配線が形成され、
前記第2のセンサ用配線は前記露出領域との境界まで延伸し、当該境界にて導電性ペーストで前記第3のセンサ用配線に接続されること、
を特徴とする表示装置。 The display device according to claim 1,
The display wiring is formed on a base layer positioned below the second sensor wiring in the first stacked structure,
The first laminated structure has an exposed region where a circuit formed on the base layer is exposed,
In the exposed area, a third sensor wiring connected to the second sensor wiring is formed,
The second sensor wiring extends to a boundary with the exposed region, and is connected to the third sensor wiring with a conductive paste at the boundary;
A display device.
前記表示用配線は、前記第1の積層構造体にて前記第2のセンサ用配線より下層に位置する下地層上に形成され、
前記第1の積層構造体は、前記第2のセンサ用配線の形成領域に隣接して、前記下地層上に形成された回路が露出する露出領域を有し、
前記露出領域に延伸された前記表示用配線と前記第2のセンサ用配線とが共通のフレキシブルプリント基板に接続されること、
を特徴とする表示装置。 The display device according to claim 1,
The display wiring is formed on a base layer positioned below the second sensor wiring in the first stacked structure,
The first laminated structure has an exposed region where a circuit formed on the base layer is exposed, adjacent to a formation region of the second sensor wiring,
The display wiring and the second sensor wiring extended to the exposed region are connected to a common flexible printed circuit board;
A display device.
前記表示用配線は、前記第3のセンサ用配線の形成領域に隣接する前記露出領域に延伸され、
前記表示用配線と前記第3のセンサ用配線とが前記露出領域にて共通のフレキシブルプリント基板に接続されること、
を特徴とする表示装置。 The display device according to claim 2,
The display wiring is extended to the exposed region adjacent to the formation region of the third sensor wiring,
The display wiring and the third sensor wiring are connected to a common flexible printed circuit board in the exposed region;
A display device.
前記駆動電極は前記内側電極として前記表示面側基板の一方主面に積層され、前記検知電極は前記表示面側基板の他方主面に積層されること、
を特徴とする表示装置。 In the display device according to any one of claims 1 to 4,
The drive electrode is stacked on the one main surface of the display surface side substrate as the inner electrode, and the detection electrode is stacked on the other main surface of the display surface side substrate;
A display device.
前記接合部は、前記画素構造が形成された表示領域を囲むように閉ループのパターンを有し、前記画素構造を密封するシール部を含み、
前記閉ループの内側に形成される前記第1のセンサ用配線と前記閉ループの外側に形成される前記第2のセンサ用配線とが、前記シール部にて前記導電性ビーズにより接続されること、
を特徴とする表示装置。 In the display device according to any one of claims 1 to 4,
The joint includes a seal portion that has a closed loop pattern so as to surround a display region in which the pixel structure is formed, and seals the pixel structure;
The first sensor wiring formed inside the closed loop and the second sensor wiring formed outside the closed loop are connected by the conductive beads at the seal portion;
A display device.
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