JP2015203571A - 散乱x線除去用グリッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
X線透過部の形状が溝状のエアー・グリッドには、細長い板状のX線吸収部とX線透過部(エアー部)を交互に縞状に配した溝型の平行グリッドや集束グリッドがあるが、繰り返し使用においてX線吸収部とX線透過部との当初の配設精度を長く維持するのが難しく、機械的強度も強いとは言い難いので、使用寿命に課題を残している。
エアー・グリッドの製法には、レーザ直接加工法(特許文献1、2)、レーザを使用する3次元光造形法(特許文献3)、フォトリソグラフィー法(特許文献4,5)、ウエット/ドライ・エッチング法(特許文献1、6)、モールド法(特許文献1)、ナノプリント法(特許文献7)などがある。
本発明のもう一つの目的は、1次X線の透過特性に優れた散乱X線除去用グリッドを簡易且つ安価に製造できる散乱X線除去用グリッド製造方法を提供することである。
本発明の更に別の目的は、前記課題1〜3を一挙に解決して、散乱X線の除去率、解像度及び機械的強度に優れた散乱X線除去用グリッドをスループット良く一挙に製造できる散乱X線除去用グリッド製造方法を提供することである。
図1Bは、図1Aにおいて一点破線X1−X2で示す箇所で切断した場合の、模式的拡大切断面部分図を示す。
図1Aに示すエアー・グリッド100は、X線吸収部101と該X線吸収部101を介して所定間隔で配列している複数のX線透過部102で構成されている。X線吸収部101は、照射されるX線を吸収する機能の他、エアー・グリッド100の構造体としての機能も併せ持ち、構成材料の選択如何によってはエアー・グリッド100に自立性を持たせることも出来る。
図2Aは主に露光工程説明図、図2B及び図2Cは、主に一次加工体を作成する工程の工程説明図、図2Dは、主に無電解メッキの工程を説明するための工程説明図、図2Eは、主に二次加工体を作成するための工程を説明する工程説明図である。
フォトレジストとしては、使用するシンクロトロン放射光の波長とエネルギー、フォトマスクの材質に応じて、適宜選択されて使用される。また、使用するフォトレジストは、ポジ型でのネガ型でも差支えないが、目的に応じて適切なものが選択されて使用される。
係るフォトレジストとしては、例えば、ノボラック樹脂をベースポリマーとしナフトキノンを溶解阻止剤とするフォトレジスト、フッ素を含むポリマーやシロキサン系ポリマーを主成分とするフォトレジスト、アダマンタンやノルボルネン等の環状の脂環基を持つ高分子系のフォトレジスト、環化ゴムとビスアジト化合物からなるフォトレジスト、化学増幅型フォトレジストなどが挙げられる。
特に、高感度、高解像度であるという点で、化学増幅型フォトレジストの使用は望ましい。
この他、東京応化工業製の商品名TSMR−V90,TMMR S2000,PMER−900、化学マイクロム製の商品名SU−8 3000,KMPR,スイスClariant社製の商品名AZ4903等が好ましいものとして使用され得る。更に加えて、感光性ポリイミド、感光性ポリベンゾオキサゾール等の感光性樹脂も好ましい材料の一つであり、ジアゾナフトキノン(DNQ)ノボラック系厚膜用ポジ型レジストも使用可能である。
本発明においては、露光光204には、輝度・エネルギーが高く指向性に優れているシンクロトロン放射光が採用される。
プロキシミテイー(近接)露光方式は、マスクと試料(被加工体)を非接触にしてマスクの傷の発生を防ぐことが出来るが、露光波長とマスク・試料間のギャップ精度から、微細化は2μmが限度といわれている。
これらの2方式の限界を超えて更に微細化するには、プロジェクション(投影)方式が適している。
無電解メッキ可能な金属Mとしては、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、銅(Cu)、金(Au)、パラジウム(Pd)などの白金族金属が挙げられる。
本発明において使用される還元剤には、次亜燐酸と其の塩、硼水素化合物、ヒドラジンとその誘導体、ホルマリンなどが挙げられる。
グリッド厚み (X線透過部の長さ「(Lx)」;グリッド高さ)・・・・720μm
X線吸収部の厚さ(d)(壁幅)・・・・15μm
X線透過部のパターン周期(D)・・・・100μm
平面サイズ・・・・(52mm)X(52 mm)
(b)「作成条件」
X線吸収部・・・・(無電解ニッケルメッキ)+(金メッキ)
フォトレジスト・・・ TDUR−P722(東京応化工業社製)
現像液・・・ NMD−3(東京応化工業社製)
無電解ニッケル液・・・ Ni-P系メッキ液
無電解メッキ製造条件・・・ 自己触媒型還元反応メッキ
シンクロトロン放射光・・・・偏向電磁石光源、白色光
ビームサイズ・・・・120mm(H)×10mm(V)
試料雰囲気ガス・・・ヘリウム、窒素、アルゴン
上記の製造条件により得られたエアー・グリッドは所定通り(設計通り)の寸法で形成されていた。このエアー・グリッドを使用してX線撮像を行ったところ極めて鮮明な所定の解像度の画像が得られた。
図3は、本発明の一実施形態であるX線グリッド製造装置の概略構成を示す。
この実施形態のX線グリッド製造装置は、CPUを含むマイクロプロセッサで構成された制御装置1と、製法プログラムを格納したROM2と、各種データを記憶するワークエリアを有したRAM3とを有した制御部を有する。このX線グリッド製造装置には、グリッド本体の成形加工に使用するシンクロトロン光ビーム成形装置4と、X線吸収層になる無電解メッキ層を形成するための無電解メッキ処理装置5と、加工物の搬送に使用する搬送装置6及び各製造工程における加工物の搬送位置を検知する位置検出手段7が含まれている。
シンクロトロン光ビーム成形装置4は、シンクロトロン装置10と、シンクロトロン装置10の射出口18から射出されたシンクロトロン光ビーム14を照射する被照射物17の照射位置をXY平面上で可変するX−Yステージ装置15とを有する。
無電解メッキ処理装置5は、無電解メッキ溶液21を収容した無電解メッキ溶液槽20と、被メッキ物を浸漬する浸漬位置と、浸漬しない待機位置との間で無電解メッキ溶液槽20を昇降させる昇降台機構22とを有する。制御部から昇降台機構22に駆動信号を出力することにより、浸漬位置への移動制御が行われる。無電解メッキ処理時間の経過後には浸漬位置から待機位置に戻すための駆動信号が制御部から昇降台機構22に出力される。
本実施形態においては、X線グリッド製造処理内容として、シンクロトロン光を照射することにより所定の貫通パターンを樹脂基板GSに成形する貫通パターン成形工程(ステップST1)、貫通パターンの成形済基板に対して無電解メッキ溶液槽20を使用して無電解メッキ法によりメッキ層を形成する無電解メッキ処理工程(ステップST2)及び、メッキ層形成後のグリッド組立工程(ステップST3)を有している。即ち、本実施形態に係るX線グリッド製造装置は、樹脂基板GSにシンクロトロン光ビームを照射することにより、6角形の単位貫通部を所定間隔をおいて配置した貫通パターンを形成した一次加工基板を成形する成形工程と、X線吸収性を備えた金属(Au)を含む無電解メッキ溶液に該一次加工基板を浸漬することにより、各単位貫通部間の連結部分の表裏面及び単位貫通部の内面にAu金属を無電解メッキする無電解メッキ工程とを有したX線グリッド製造方法に基づいて、単位貫通部の貫通領域をX線透過部とし、かつ該連結部分の表裏面及び該内面のメッキ層をX線吸収部としたX線グリッドを製造し得る構成となっている。
図11は、本発明に係るX線グリッドの各種透過構造の部分拡大図である。この図11には、各種の貫通パターンを部分拡大した構造が示されている。同図(11A)は円形状単位貫通部H1により構成された貫通パターンであり、(11B)は四角形状単位貫通部H2により構成された貫通パターンである。なお、貫通パターンに代えて、有底凹部パターンを使用することができる。
グリッド本体Gの各単位貫通部Hの内面と、単位貫通部H間の連結部分Bの表裏面に無電解金メッキ層PTがハニカム形状の貫通パターン全体に形成されている。
(1)貫通パターン成形工程において、樹脂基板GSにシンクロトロン光ビームを照射することにより、6角形状単位貫通部Hを、所定間隔をおいて複数配置した貫通パターンを形成した一次加工基板を成形することができる。従って、高エネルギービームの指向特性を有したシンクロトロン光ビームの照射によって、貫通方向にテーパ形状にならずに真直度の高い単位貫通部Hを形成することができるので、X線グリッドの透過特性の向上に寄与することができる。
(2)無電解メッキ処理工程において、X線吸収性を備えた金属(Au)を含む無電解メッキ溶液に該一次加工基板を浸漬することにより、単位貫通部Hの間の連結部分Bの表裏面及び単位貫通部Hの内面に該金属Auを無電解メッキすることができる。従って、貫通パターン成形工程(1)で成形された真直度の高い貫通パターンに対して、電解メッキ法と比べて複雑なメッキ工程設備を設けなくて済む無電解メッキ法によって簡易且つ安価にX線吸収性を備えた金メッキ層を形成することができる。
以上の特徴点(1)及び(2)によって、本実施形態においては、単位貫通部Hの貫通パターンを具備してX線透過特性に優れたX線グリッドを簡易且つ安価に製造することができる。図3のX線グリッド製造装置においても、方向可変機構(図示せず)をX−Yステージ装置15に設けることによって斜方成形可能にして集束グリッド型X線グリッドを製造することができる。
焦点に相当するX線源70から1次X線74が人体73に対し照射される。散乱されない殆どの1次X線74は1次X線矢印方向D1にX線透過部75を透過してX線検出器72に到達する。他方、1次X線74の一部は、人体73の中でコンプトン効果などにより散乱されて方向が変化し、その散乱X線77は散乱X線矢印方向D2へと変化してX線吸収部76の壁面に衝突する。衝突により、散乱X線77はX線吸収部76に吸収され、X線検出器72には到達しない。その結果、散乱X線を除去できるので、X線検出器72には鮮明な画像が形成される。X線検出器72はX線フィルムでも良いことは云うまでもない。
101 X線吸収部
102 X線透過部
103 開口
104Aa 上面
104Bb 下面
105 内壁
200 エアー・グリッド被加工体
200a 被加工体
200b 一次加工体
200c 二次加工体
201 支持基板
202 感光性樹脂層
202a 露光済樹脂層
203 フォトマスク
204 露光光
205 部分A
206 部分B
206a 空間部(溝部)
206b 金属充填部
207 非金属充填部
207a 空間部
1 制御装置
2 ROM
3 RAM
4 シンクロトロン光ビーム成形装置
5 無電解メッキ処理装置
6 搬送装置
7 位置検出手段
10 シンクロトロン装置
11 電子蓄積リング
12 電子リニアック
13 電子銃
14 シンクロトロン光ビーム
15 X−Yステージ装置
16 支持部
17 被照射物
18 射出口
19 X−Yステージ本体
20 無電解メッキ溶液槽
21 無電解メッキ溶液
22 昇降台機構
23 移動搬送機
24 ロボットハンド
25 搬送レール
26 成形済基板
70 X線源
71 集束型X線グリッド
72 X線検出器
73 人体
74 1次X線
75 X線透過部
76 X線吸収部
GS 樹脂基板
H 単位貫通部
H1 円形状単位貫通部
H2 四角形状単位貫通部
H3 溝形状単位貫通部
G グリッド本体
B 連結部分
P2 無電解金メッキ層
P3 無電解金メッキ層
Claims (2)
- X線透過部がX線吸収部を介して所定間隔で配列している散乱X線除去用グリッドの製造方法であって、
支持基板の表面に設けた感光性樹脂層にX線吸収部とX線透過部を形成するための所定のパターンを有するフォトマスクを介してシンクロトロン放射光を露光する工程、
次いで、X線吸収部に相当するパターン領域の樹脂層を除去してX線吸収部形成用溝部の溝パターンを作成して一次加工体を得る工程、
その後、前記一次加工体を、金属を含む無電解メッキ溶液に浸漬することにより前記X線吸収部形成用溝部に前記金属を充填して金属充填部を形成した後、非金属充填部にある残渣樹脂を除去してX線吸収部としての空隙部を形成することで二次加工体を得る工程、
次いで、前記空隙部の内壁と前記金属充填部の露出表面壁をX線吸収性の金属膜で覆ってX線吸収部を形成する工程を含むことを特徴とする散乱X線除去用グリッドの製造方法。 - X線透過部がX線吸収部を介して所定間隔で配列している散乱X線除去用グリッドの製造方法であって、
支持基板の表面に設けた感光性樹脂層にX線吸収部とX線透過部を形成するための所定のパターンを有するフォトマスクを介してシンクロトロン放射光を露光する工程、
次いで、X線吸収部に相当するパターン領域の樹脂層を除去してX線吸収部形成用溝部の溝パターンを作成して一次加工体を得る工程、
その後、前記一次加工体を、X線吸収性の金属を含む無電解メッキ溶液に浸漬することにより前記X線吸収部形成用溝部に前記金属を充填してX線吸収部となる金属充填部を形成した後、非金属充填部にある残渣樹脂を除去してX線吸収部としての空隙部を形成する工程を含むことを特徴とする散乱X線除去用グリッドの製造方法。
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