JP2015198121A - リソグラフィ装置、ステージ装置、及び物品の製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、ステージ装置、及び物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015198121A JP2015198121A JP2014074064A JP2014074064A JP2015198121A JP 2015198121 A JP2015198121 A JP 2015198121A JP 2014074064 A JP2014074064 A JP 2014074064A JP 2014074064 A JP2014074064 A JP 2014074064A JP 2015198121 A JP2015198121 A JP 2015198121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving body
- stage
- scanning direction
- movement
- moves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70816—Bearings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
(描画装置の構成)
本発明に係るステージ装置の実施形態について、図1(a)(b)を用いて説明する。図1(a)はレジストの塗布されているウエハ(基板)W上に電子線を照射してパターン形成を行う描画装置(リソグラフィ装置)1の正面図である。Y軸方向に対する、ステージ装置の構成は図2を用いて後述する。
ステージXMは、リニアモータXLM(図1(b)に図示)によって定盤BS上をX軸方向に移動する。転動体が転がる機構を利用したガイド(第2ガイド)(以下、リニアガイドと称す)XGは、ステージXMを定盤BSに対して接触支持しながらX軸方向への移動を案内する。リニアガイドXGはガイド軸XGSとスライダーXGMによって構成されている。本実施形態におけるステージ装置は、図1(a)に示すようにX軸方向に2つ、図1(b)に示すようにY軸方向に2つ、の合計4つのスライダーXGMを有している。
以上の構成により、ステージXMはリニアガイドXGによって支持されながらX軸方向へ進み、ステージYMは浮上ユニットLVによって支持されながらY軸方向へ進む。ステージXMとステージYMの移動によって、ウエハWは図3に示すような軌跡を描く。電子線でパターンを描画している最中にY軸方向に長距離移動するスキャン動作(実線部)と、電子線を照射していない間にX軸方向に短距離移動するステップ動作(破線部)とを繰り返す。ステップ動作中には、Y軸方向への移動成分も含まれるため、Uターンを示す軌跡となっている。
図4は第2の実施形態に係るステージ装置を有する描画装置1を、鉛直方向上側からステージYMを見た図示している。第2の実施形態では、1枚のウエハWに対して4本の鏡筒CLから射出される電子線で描画を行う点で第1の実施形態とは異なる。電子線を射出する鏡筒が4倍になった分、一度に描画できるX軸方向の幅が4倍となる。1つの鏡筒CLによる描画領域を整数倍することで他の鏡筒CLによる描画領域となるように4本の鏡筒CLを適切な間隔で並べれば、ステージXMの合計の移動量を約1/4に低減することが可能となる。
磁気力によって支持されて移動するステージとリニアガイドで支持されて移動するステージのどちらが上方でも構わないが、前述の実施形態のように磁気力によって支持されながら移動するステージが上となる構成のほうが好ましい。逆にしてしまうと、ステージの重力に逆らって浮上させるための強力な磁性体を用意するか、あるいはZ軸方向への移動用のアクチュエータ機構に対してより大きな動力を与えなければならないからである。
本発明の物品(半導体集積回路素子、液晶表示素子、CD−RW、フォトマスク等)の製造方法は、前述の実施形態のステージ装置を用いて基板(ウエハやガラス板等)上にパターンを露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを含む。さらに、他の周知の処理工程(酸化、成膜、蒸着、エッチング、イオン注入、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含んでも良い。
3 制御部(ステージ用)
4 主制御部
CL 鏡筒
CV 真空チャンバ
EO 光学系
LV 浮上ユニット
LVMM1、LVMM2 永久磁石
XG リニアガイド
XLM リニアモータ
XM、YM ステージ
W ウエハ
ZAC 磁石ユニット(Z軸方向用)
ZAC コイル(Z軸方向用)
Claims (11)
- 基板上にビームを照射する光学系を有する鏡筒と、前記基板の主走査方向への長距離移動と副走査方向への短距離移動とを繰り返すステージ装置とを備え、前記ビームにより前記基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記ステージ装置が、
前記主走査方向に移動する第1移動体と、
該第1移動体を磁気力により浮上支持し、前記主走査方向に移動可能とする浮上ユニットと、
前記副走査方向に移動する第2移動体と、
該第2移動体を接触支持し、前記副走査方向に移動可能とするリニアガイドとを有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第1移動体は前記第2移動体の上方にあり、前記第1移動体は前記第2移動体と連動して前記副走査方向にも移動することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 真空チャンバを有し、前記ステージ装置は、前記真空チャンバ内で移動することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 1枚の前記基板に対する前記パターンの形成に伴う、前記第2移動体の総移動距離は、前記第1移動体の総移動距離の1/500以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ステージ装置の移動を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記パターンを形成している間における前記第1移動体の最大速度が1000mm/s以上の速度となるように制御することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ステージ装置の移動を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記パターンを形成している間における前記第2移動体の最大速度が5mm/s以下の速度となるように制御することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記浮上ユニットは、前記第1移動体に設けられている永久磁石と、前記第1移動体の下方に固定して設けられている磁性体とを有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 複数の前記鏡筒を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 主走査方向に長距離移動する第1移動体と、
該第1移動体を磁気力により浮上支持し、移動可能とする浮上ユニットと、
副走査方向に短距離移動する第2移動体と、
該第2移動体を接触支持し、移動可能とするリニアガイドとを有し、
前記第1移動体と前記第2移動体とが連動して移動することを特徴とするステージ装置。 - 第1方向に移動する第1移動体と、前記第1方向の移動量より短い移動量で、前記第1方向とは異なる第2方向に移動する第2移動体とを有し、前記第1移動体と前記第2移動体とが連動して移動するステージ装置であって、
前記第1移動体を磁気力により浮上支持し、前記第1方向に移動可能とする第1ガイドと、
該第2移動体を接触支持し、前記第2方向に移動可能とする第2ガイドとを有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板にビームを照射する工程と、前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014074064A JP2015198121A (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | リソグラフィ装置、ステージ装置、及び物品の製造方法 |
US14/671,898 US9823587B2 (en) | 2014-03-31 | 2015-03-27 | Lithography apparatus, stage apparatus, and method of manufacturing articles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014074064A JP2015198121A (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | リソグラフィ装置、ステージ装置、及び物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015198121A true JP2015198121A (ja) | 2015-11-09 |
JP2015198121A5 JP2015198121A5 (ja) | 2017-05-18 |
Family
ID=54190128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014074064A Pending JP2015198121A (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | リソグラフィ装置、ステージ装置、及び物品の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9823587B2 (ja) |
JP (1) | JP2015198121A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112818428A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-18 | 新拓三维技术(深圳)有限公司 | 一种用于cad模型面结构光全自动扫描路径规划方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6316084B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2018-04-25 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
JP6700932B2 (ja) * | 2016-04-20 | 2020-05-27 | キヤノン株式会社 | 検出装置、検出方法、プログラム、リソグラフィ装置、および物品製造方法 |
CN106382301B (zh) * | 2016-10-17 | 2018-05-25 | 哈尔滨工业大学 | 气悬浮***的多气足过定位水平共面调节方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040080730A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-04-29 | Michael Binnard | System and method for clamping a device holder with reduced deformation |
JP2005079368A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Nikon Corp | 磁気浮上式ステージ装置及び露光装置 |
JP2009212240A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Canon Inc | 駆動装置、産業機械、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2011510477A (ja) * | 2007-12-17 | 2011-03-31 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | マルチチャック走査ステージ |
JP2011199317A (ja) * | 2004-11-02 | 2011-10-06 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 |
US20130293865A1 (en) * | 2011-09-06 | 2013-11-07 | Kla-Tencor Corporation | Linear Stage for Reflective Electron Beam Lithography |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4266713B2 (ja) | 2003-06-03 | 2009-05-20 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置及び露光装置 |
-
2014
- 2014-03-31 JP JP2014074064A patent/JP2015198121A/ja active Pending
-
2015
- 2015-03-27 US US14/671,898 patent/US9823587B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040080730A1 (en) * | 2002-10-29 | 2004-04-29 | Michael Binnard | System and method for clamping a device holder with reduced deformation |
JP2005079368A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Nikon Corp | 磁気浮上式ステージ装置及び露光装置 |
JP2011199317A (ja) * | 2004-11-02 | 2011-10-06 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 |
JP2011510477A (ja) * | 2007-12-17 | 2011-03-31 | ケーエルエー−テンカー・コーポレーション | マルチチャック走査ステージ |
JP2009212240A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Canon Inc | 駆動装置、産業機械、露光装置およびデバイス製造方法 |
US20130293865A1 (en) * | 2011-09-06 | 2013-11-07 | Kla-Tencor Corporation | Linear Stage for Reflective Electron Beam Lithography |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112818428A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-18 | 新拓三维技术(深圳)有限公司 | 一种用于cad模型面结构光全自动扫描路径规划方法 |
CN112818428B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-04-18 | 新拓三维技术(深圳)有限公司 | 一种用于cad模型面结构光全自动扫描路径规划方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150277229A1 (en) | 2015-10-01 |
US9823587B2 (en) | 2017-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4027916B2 (ja) | レチクルマスキングブレードシステムおよびレチクルマスキングブレードの制御方法 | |
KR102027589B1 (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5505871B2 (ja) | 移動体装置及び露光装置 | |
JP4446951B2 (ja) | 位置決めデバイス、リソグラフィ装置及び駆動ユニット | |
US6639225B2 (en) | Six-axis positioning system having a zero-magnetic-field space | |
KR20120091159A (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2015198121A (ja) | リソグラフィ装置、ステージ装置、及び物品の製造方法 | |
KR20120091160A (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
KR102022788B1 (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP4590846B2 (ja) | 磁気浮上式ステージ装置及び露光装置 | |
US11460786B2 (en) | Positioning system and a method for positioning a substage or a stage with respect to a frame | |
JP2015073083A (ja) | ステージ装置、およびその駆動方法 | |
JP6132079B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP4020890B2 (ja) | レチクルマスキングブレードシステムおよびレチクルマスキングブレードの制御方法およびレチクルマスキングブレードの浮上装置 | |
JP2008182210A (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2018189748A (ja) | ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 | |
JP2003178958A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
KR102151930B1 (ko) | 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2011040740A (ja) | フレームに対して基板を位置決めする位置決めシステムおよび方法 | |
JP2015230926A (ja) | 移動装置、荷電粒子線描画装置 | |
JP2002343706A (ja) | ステージ装置及びステージの駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス及びその製造方法 | |
JP6086299B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2015230927A (ja) | 移動装置、荷電粒子線描画装置 | |
JP2021081548A (ja) | ステージ装置 | |
TWI827081B (zh) | 載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170330 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180116 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180710 |