JP2015194688A - レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ - Google Patents
レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015194688A JP2015194688A JP2014231393A JP2014231393A JP2015194688A JP 2015194688 A JP2015194688 A JP 2015194688A JP 2014231393 A JP2014231393 A JP 2014231393A JP 2014231393 A JP2014231393 A JP 2014231393A JP 2015194688 A JP2015194688 A JP 2015194688A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist composition
- organic solvent
- color
- composition according
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
また、特許文献2には、ジプロピレングルコールジメチルエーテル溶剤は、スリットノズル部分に発生する着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の再溶解性が高く、突沸孔が発生しない着色層形成用感放射線性組成物を与えるということが開示されている。また、特許文献2には、使用できる溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)が例示されている。また、特許文献3には、アルキル基含有芳香族系溶剤を含有する溶剤を用いた、保存安定性に優れるカラーフィルタ用感光性樹脂組成物が開示されている。また、特許文献3には、使用できる溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)が例示されている。
即ち、本発明は、(A)アルカリ現像性樹脂組成物、(B)光重合開始剤及び(C)有機溶剤を含有するレジスト組成物において、該(C)有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)と、二塩基酸エステルとを必須の成分として含有するレジスト組成物を提供するものである。
また、本発明は、上記レジスト組成物に、(D)色材を加えたカラーレジスト組成物を提供するものである。
また、本発明は、基板上に、着色層及び/又は遮光層(ブラックマトリクス)を具備し、該着色層及び遮光層の少なくとも一層が上記カラーレジスト組成物の硬化物であることを特徴とする液晶表示素子用カラーフィルタを提供するものである。
本発明のレジスト組成物は、(A)アルカリ現像性樹脂組成物、(B)光重合開始剤及び(C)有機溶剤を含有する。
該(C)有機溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)と、二塩基酸エステルとを必須の成分として含有することを特徴とする。以下(A)〜(C)の各成分について説明する。
(A)アルカリ現像性樹脂組成物は、重合の前後でアルカリ性現像液への溶解性が変化することにより現像によるネガ型パターニングを可能とするものである。アルカリ現像性樹脂としては、エチレン性不飽和結合等を有するラジカル重合性樹脂やエポキシ樹脂等のカチオン重合性樹脂を主成分とするものが挙げられる。また、アルカリ現像性基としては、カルボン酸基やスルホン酸基等の酸性基を有するものが好ましい。
また、(A)アルカリ現像性樹脂組成物は、現像性、硬化後の物性を調整するために低分子のモノマー又はオリゴマー成分を含有してもよい。
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物としては、エチレン性不飽和結合と酸性基を有するものがパターニング性と現像性に優れるので好ましい。
31、R−710(三井化学社製)、エピコート190P、エピコート191P、エピコート604、エピコート801、エピコート828、エピコート871、エピコート872、エピコート1031、エピコートRXE15、エピコートYX−4000、エピコートYDE−205、エピコートYDE−305(ジャパンエポキシレジン社製)、スミエポキシELM−120、スミエポキシELM−434(住友化学社製)、デナコールEM−150、デナコールEX−201、デナコールEX−211、デナコールEX−212、デナコールEX−313、デナコールEX−314、デナコールEX−322、デナコールEX−411、デナコールEX−421、デナコールEX−512、デナコールEX−521、デナコールEX−614、デナコールEX−711、デナコールEX−721、デナコールEX−731、デナコールEX−811、デナコールEX−821、デナコールEX−850、デナコールEX−851、デナコールEX−911、(ナガセケムテックス社製)、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト400E、エポライト80MF、エポライト100MF、エポライト1500NP、エポライト1600、エポライト3002、エポライト4000、エポライトFR−1500、エポライトM−1230、エポライトEHDG−L(共栄社化学社製)、SB−20(岡村製油社製)、エピクロン720(大日本インキ化学社製)、UVR−6100、UVR−6105、UVR−6110、UVR−6200、UVR−6228(ユニオン・カーバイド社製)、セロキサイド2000、セロキサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、セロキサイド3000、サイクロマーA200、サイクロマーM100、サイクロマーM101、エポリードGT−301、エポリードGT−302、エポリード401、エポリード403、エポリードHD300、EHPE−3150、ETHB、エポブレンド(ダイセル化学社製)、PY−306、0163、DY−022(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、サントートST0000、エポトートYD−011、エポトートYD−115、エポトートYD−127、エポトートYD−134、エポトートYD−172、エポトートYD−6020、エポトートYD−716、エポトートYD−7011R、エポトートYD−901、エポトートYDPN−638、エポトートYH−300、ネオトートPG−202、ネオトートPG−207(東都化成社製)、ブレンマーG(日本油脂社製)等が挙げられる。
(式中、X1は下記式(イ)、(ロ)若しくは(ハ)で表される置換基を表し、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、mは0〜10の整数である。)
(式中、Y1は、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、炭素原子数2〜20の複素環基、又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基及びアリールアルキル基中のアルキレン部分は、不飽和結合、−O−又は−S−で中断されていてもよく、Y1は、隣接するY1同士で環を形成していてもよく、nは0〜4の整数を表す。)
(式中、Y2及びZ2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、炭素原子数2〜20の複素環基、又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基及びアリールアルキル基中のアルキレン部分は、不飽和結合、−O−又は−S−で中断されていてもよく、Z2は、隣接するZ2同士で環を形成していてもよく、pは0〜4の整数を表し、qは0〜8の整数を表し、rは0〜4の整数を表し、sは0〜4の整数を表し、rとsの数の合計は2〜4の整数である。)
R1、R2、R3及びR4で表される炭素原子数1〜8のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、iso−プロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、iso−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ等が挙げられ、
R1、R2、R3及びR4で表される炭素原子数2〜5のアルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、プロペニル等が挙げられ、
R1、R2、R3及びR4で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。尚、本明細書中におけるハロゲン原子は全てこれと同様である。
Y1で表される炭素原子数6〜30のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセン−1−イル、フェナントレン−1−イル、o−トリル、m−トリル、p−トリル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ−t−ブチルフェニル、2,5−ジ−t−ブチルフェニル、2,6−ジ−t−ブチルフェニル、2,4−ジ−t−ペンチルフェニル、2,5−ジ−t−アミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、2,4,5−トリメチルフェニル、4−クロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、4−トリクロロフェニル、4−トリフルオロフェニル、パーフルオロフェニル等が挙げられ、
Y1で表される炭素原子数7〜30のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル、4−クロロフェニルメチル等が挙げられ、
Y1で表される炭素原子数2〜20の複素環基としては、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等が挙げられる。
上記光重合開始剤(B)としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、1−ヒドロキシ−1−ベンゾイルシクロヘキサン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、1−ベンジル−1−ジメチルアミノ−1−(4'−モルホリノベンゾイル)プロパン、2−モルホリル−2−(4'−メチルメルカプト)ベンゾイルプロパン、チオキサントン、1−クロル−4−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、2−ヒドロキシ−2−ベンゾイルプロパン、2−ヒドロキシ−2−(4'−イソプロピル)ベンゾイルプロパン、4−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、4−フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、1,7−ビス(9'−アクリジニル)ヘプタン、9−n−ブチル−3,6−ビス(2'−モルホリノイソブチロイル)カルバゾール、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ナフチル−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、下記一般式(2)で表される化合物等が挙げられ、これらの中でも、感度及び耐熱性の点から、一般式(2)で表される化合物が好ましい。
(式中、R21及びR22は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、
R23及びR24は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、R25、OR26、SR27、NR28R29、COR30、SOR31、SO2R32又はCONR33R34を表し、R23及びR24は、互いに結合して環を形成していてもよく、
R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33及びR34は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環基を表し、
X2は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CR35R36、CO、NR37又はPR38を表し、
X3は、単結合又はCOを表し、
R35、R36、R37及びR38は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、該アルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基又は複素環基で置換されていてもよく、−O−で中断されていてもよく、
R35、R36、R37及びR38は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよく、
aは、0〜4の整数を表し、
bは、0〜5の整数を表す。)
R35、R36、R37及びR38で表されるアルキル基又はアリールアルキル基を置換してもよい複素環基としては、上記一般式(1)中のX1である(イ)の説明で例示した複素環基と同様のものが挙げられる。
R23及びR24が互いに結合して形成してもよい環としては、上記一般式(1)中のX1である(イ)における隣接するY1同士で形成してもよい環と同様の環が挙げられる。
本発明に係る(C)有機溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)と、二塩基酸エステルとを必須の成分として含有するものであり、本発明のレジスト組成物に対して、密着性を改善し、現像時のハガレや浮きを抑制する効果を有する。
これらの中でも、塗布ムラの点から、無水コハク酸、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、グルタル酸ジメチル、グルタル酸ジエチル或いはこれらの組み合わせが好ましい。
数種類の有機溶剤を用いることにより、具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、3−メトキシブチルアセテート、3−エトキシプロピオン酸エチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチルから選択される有機溶剤の組み合わせが有機溶媒が徐々に揮発するので塗布性が向上するため好ましい。
・Pigment Blue:
<C.I>1,1:2,1:x,9:x,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:5,15:6,16,24,24:x,56,60,61,62・Pigment Green:
<C.I>1,1:x,2,2:x,4,7,10,36
・Pigment Orange
<C.I>2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,59,60,61,62,64
・Pigment Red
<C.I>1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:3,81:x,83,88,90,112,119,122,123,144,146,149,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,224、226
・Pigment Violet:
<C.I>1,1:x,3,3:3,3:x,5:1,19,23,27,32,42
・Pigment Yellow
<C.I>1,3,12,13,14,16,17,24,55,60,65,73,74,81,83,93,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,116,117,119,120,126,127,128,129,138,139,150,151,152,153,154,156,175
先ず、基板上に、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコート等により、(A)色材にカーボンブラック等の黒色顔料を用いてブラックレジストとして調製した本発明のカラーレジスト組成物を均一に塗布し、乾燥させる。この工程において形成される層を「カラーレジスト組成物層」と呼ぶ。カラーレジスト組成物層が形成される基板としては、透明基板が好適であり、具体的には、ガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンフタレート等の樹脂基板が好適に用いられる。また、必要に応じて、カラーレジスト組成物層を形成する側に平坦化処理を行なったものを使用することもできる。
先ず、クロム等の遮光性膜或いは遮光性黒色樹脂によって遮光層を形成した基板上に、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコート等により、(D)色材に例えば緑色顔料を用いてグリーンレジストとして調製した本発明のカラーレジスト組成物を均一に塗布し、乾燥させてカラーレジスト組成物層を形成する。以下、同様にして緑色の着色層を形成する。同様の操作を赤色、青色の着色層について繰り返すことで、着色層が本発明のカラーレジスト組成物の硬化物であるカラーフィルタを製造することができる。本工程では、遮光層を予め設けた基板を用いたが、遮光層は、必要に応じて設ければよく、また着色層は、一層のみを本発明のカラーレジスト組成物の硬化物としてもよく、二層以上を本発明のカラーレジスト組成物の硬化物としてもよい。
1,1−ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕インダンの30.0g、アクリル酸7.52g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.080g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.183g及び、PGMEA11.0gを仕込み、90℃で1時間、105℃で1時間及び120℃で17時間撹拌した。室温まで冷却し、無水コハク酸8.11g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.427g及びPGMEA11.1gを加えて、100℃で5時間撹拌した。更に、1,1−ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕インダン12.0g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.080g及び、PGMEA0.600gを加えて、90℃で90分、120℃で5時間撹拌後、PGMEA24.0gを加えて、PGMEA溶液としてアルカリ現像性樹脂組成物1を得た。
9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン75.0g、アクリル酸23.8g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.273g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.585g、及びPGMEA65.9gを仕込み、90℃で1時間、100℃ で1時間、110℃ で1時間及び120℃ で14時間撹拌した。室温まで冷却し、無水コハク酸25.9g、テトラブチルアンモニウムクロリド0.427g、及びPGMEA1.37gを加えて、100℃で5時間撹拌した。更に、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン30.0g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.269g、及びPGMEA1.50gを加えて、90℃で90分、120℃で4時間撹拌後、PGMEA93.4gを加えて、PGMEA溶液としてアルカリ現像性樹脂組成物2を得た。
ビス〔4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル〕−4−ビフェニリル(シクロヘキシル)メタン89.9g、アクリル酸23.5g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール0.457g、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド0.534g及びPGMEA75.6gを仕込み、120℃ で16時間撹拌した。室温まで冷却し、2,4−ペンタンジオン12.0g、トリエチルアミン1.0gを仕込み、92℃ で17時間撹拌した。室温まで冷却し、無水コハク酸25.6g、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド1.39g、PGMEA40.42gを加えて100℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、PGMEA46.7gを加えて、PGMEA溶液としてアルカリ現像性樹脂組成物3を得た。
[表1]の配合に従い、レジスト組成物No.1〜No.4及び比較レジスト組成物No.1〜No.4を得た。尚、数字は質量部を表す。
〔表2〕及び〔表3〕の配合に従い、カラーレジスト組成物No.5〜No.13及び比較カラーレジスト組成物No.5〜No.9を得た。尚、数字は質量部を表す。
A−2 アルカリ現像性樹脂組成物2
A−3 アルカリ現像性樹脂組成物3
B−1 NCI−831(ADEKA社製)
B−2 NCI−930(ADEKA社製)
B−3 OXE−01(BASF社製)
C−1 PGMEA
C−2 コハク酸ジメチル(沸点200℃)
C−3 コハク酸ジエチル(沸点218℃)
C−4 DBE(三協化学社製二塩基酸エステル、沸点196〜225℃)
C−5 アジピン酸ジメチル(沸点109〜110℃)
C−6 グルタル酸ジメチル(沸点96〜103℃)
C−7 3−メトキシブチルアセテート(沸点172℃)
C−8 3−エトキシプロピオン酸エチル(沸点170℃)
C−9 シクロヘキサノン
D−1 MA100(カーボンブラック;三菱化学社製)
E−1 カヤラッドDPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;日本化薬社製)
E−2 SE−TX−5010(アルコキシシランカップリング剤;ADEKA社製)
E−3 KBM−403(アルコキシシランカップリング剤:信越化学社製)
(透明性)
基板にレジスト組成物を膜厚2μmとなるようスピンコートし乾燥させた。110℃で2分間プリベークを行った後、100mJ/cm2にて高圧水銀ランプを用いて露光し、230℃20分ポストベークを行った。得られたクリア膜について、400nmにおける透過率が95%以上あるものを○、95%未満であるものを×とした。
(密着性)
上記で得られたクリア膜について、120℃、2atm、相対湿度100%の条件下で5時間静置した。JIS K5600−5−6の方法に準じて百マス試験を行った。クリア層が全くはがれなかったものを○、少しでもはがれたものを×とした。
(体積抵抗率)
クロム基板にレジスト組成物を膜厚2μmとなるようスピンコートし乾燥させた。110℃で2分間プリベークを行った後、100mJ/cm2にて高圧水銀ランプを用いて露光し、230℃、30分ポストベークを行った。得られたクリア膜について、85℃85%の高温高湿装置内で100時間静置し、体積抵抗率を測定した。
(真空乾燥ムラ)
基板にレジスト組成物を膜厚2μmとなるようスピンコートし、1分間静置した。真空乾燥機を用いて50Paで減圧乾燥を行い、クリア膜の表面にムラのないものを○、ムラが発生したものを×とした。
(感度)
基板にレジスト組成物を膜厚2μmとなるようスピンコートし乾燥させた。110℃で2分間プリベークを行った後、高圧水銀ランプを用いて露光した。30mJ/cm2で硬化したものをA、100mJ/cm2以上でないと硬化しなかったものをBとした。
〔表2〕及び〔表3〕の結果から、比較カラーレジスト組成物No.1〜No.3はいずれも若干の塗布ムラが観察され、漆黒性も低いものであった。また、プリベーク後の膜の表面は粘着性(タック)があった。これに対し、カラーレジスト組成物No.1〜No.9には、塗布ムラは観察されず、漆黒性の高いものであった。また、プリベーク後の膜の表面には粘着性(タック)はなかった。
ガラス基板上にカラーレジスト組成物をスピンコート(500r.p.m、7秒間)し乾燥させた。70℃で15分間プリベークを行った後、光源として超高圧水銀ランプを用いて、露光量40mJ/cm2で露光した後、2.5質量%炭酸ナトリウム溶液の現像液に26℃、40秒間の現像時間で浸漬現像し、充分に水洗し、230℃で60分間ポストベークを行なった後、ベタサンプルを得た。各カラーレジスト組成物について各々ベタサンプルの密着性を評価した。尚、フォトマスク開口部の線幅6μm以下の線幅が残っているものを○、残っていないものを×とした。結果を上記〔表2〕及び〔表3〕に示す。
Claims (10)
- (A)アルカリ現像性樹脂組成物、(B)光重合開始剤及び(C)有機溶剤を含有するレジスト組成物において、該(C)有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)と、二塩基酸エステルとを必須の成分として含有するレジスト組成物。
- 上記(C)有機溶剤の組成が、PGMEA100質量部に対し、二塩基酸エステルが1〜10質量部である請求項1に記載のレジスト組成物。
- 上記二塩基酸エステルが、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、グルタル酸ジメチル、グルタル酸ジエチルから選ばれる請求項1又は2に記載のレジスト組成物。
- 上記(C)有機溶剤が、更に沸点160℃以上、215℃以下の有機溶剤(但し、コハク酸ジメチルを除く)を含有する請求項1〜3の何れか1項に記載のレジスト組成物。
- 上記沸点160℃以上、215℃以下の有機溶剤(但し、コハク酸ジメチルを除く)が、1,3−ブタンジオール、ジイソブチルケトン、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、γ−
ブチロラクトン、N−メチルピロリドンから選ばれる請求項4に記載のレジスト組成物。 - 上記(C)有機溶剤中の沸点160℃以上、215℃以下の有機溶剤(但し、コハク酸ジメチルを除く)の含有量が、(C)有機溶剤全体に対して、0.1〜30質量%である請求項4又は5に記載のレジスト組成物。
- 上記(A)アルカリ現像性樹脂組成物が、エチレン性不飽和結合を有する請求項1〜6の何れか1項に記載のレジスト組成物。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載のレジスト組成物に、色材(D)を加えたカラーレジスト組成物。
- 上記(D)色材が、カーボンブラックである請求項8記載のカラーレジスト組成物。
- 基板上に、着色層及び/又は遮光層を具備し、該着色層及び遮光層の少なくとも一層が請求項8又は9に記載のカラーレジスト組成物の硬化物であることを特徴とする液晶表示素子用カラーフィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014231393A JP6420634B2 (ja) | 2014-03-26 | 2014-11-14 | レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014064504 | 2014-03-26 | ||
JP2014064504 | 2014-03-26 | ||
JP2014231393A JP6420634B2 (ja) | 2014-03-26 | 2014-11-14 | レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015194688A true JP2015194688A (ja) | 2015-11-05 |
JP6420634B2 JP6420634B2 (ja) | 2018-11-07 |
Family
ID=54433730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014231393A Active JP6420634B2 (ja) | 2014-03-26 | 2014-11-14 | レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6420634B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017038708A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、および、硬化膜の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001164095A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2001163948A (ja) * | 1999-10-20 | 2001-06-19 | Rohm & Haas Co | 柔軟なオリゴマーを含むフォトイメージャブル組成物 |
JP2004012820A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Showa Denko Kk | 光重合開始剤組成物及びそれを含む光重合性組成物 |
JP2008176046A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Daicel Chem Ind Ltd | レジスト組成物 |
JP2009237150A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ |
CN103293856A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-09-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 着色感光树脂组合物、彩色滤光片和显示装置 |
-
2014
- 2014-11-14 JP JP2014231393A patent/JP6420634B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001163948A (ja) * | 1999-10-20 | 2001-06-19 | Rohm & Haas Co | 柔軟なオリゴマーを含むフォトイメージャブル組成物 |
JP2001164095A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2004012820A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Showa Denko Kk | 光重合開始剤組成物及びそれを含む光重合性組成物 |
JP2008176046A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Daicel Chem Ind Ltd | レジスト組成物 |
JP2009237150A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ |
CN103293856A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-09-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 着色感光树脂组合物、彩色滤光片和显示装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017038708A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、および、硬化膜の製造方法 |
JPWO2017038708A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2018-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、および、硬化膜の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6420634B2 (ja) | 2018-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5020142B2 (ja) | カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ | |
JP4684293B2 (ja) | 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ | |
JP6423215B2 (ja) | 光硬化性組成物 | |
CN111367143B (zh) | 遮光膜用黑色树脂组合物、带遮光膜的基板、彩色滤光片及触控屏 | |
KR20200078476A (ko) | 화합물, 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법 | |
KR102392964B1 (ko) | 차광막용 감광성 수지 조성물, 이것을 경화시킨 차광막을 구비한 디스플레이용 기판, 및 디스플레이용 기판의 제조 방법 | |
TW201732424A (zh) | 具有間隔件功能之遮光膜用之感光性樹脂組成物、遮光膜、液晶顯示裝置、具有間隔件功能之遮光膜用之感光性樹脂組成物的製造方法、遮光膜之製造方法、及液晶顯示裝置之製造方法 | |
KR102597826B1 (ko) | 중합성 조성물, 블랙 매트릭스용 감광성 조성물 및 블랙 칼럼 스페이서용 감광성 조성물 | |
TW201839513A (zh) | 聚合性組合物及黑柱間隔物用感光性組合物 | |
JP2014232249A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2018189877A (ja) | 重合性組成物、ブラックマトリクス用感光性組成物及び硬化物 | |
JP6075763B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、及びそれを用いた表示素子用着色スペーサー及び/またはブラックマトリックス | |
JP2007248678A (ja) | 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ | |
JP6294689B2 (ja) | 光硬化性組成物 | |
JP6420634B2 (ja) | レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ | |
JP6529213B2 (ja) | タッチパネル用遮光性組成物及びタッチパネル | |
JP6388776B2 (ja) | 白色感光性樹脂組成物、それを用いた硬化物、及びその硬化物を構成成分として含むタッチパネル | |
JP5014054B2 (ja) | 液晶表示装置用基板及び該基板を備えた液晶表示装置 | |
JP2007286369A (ja) | 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ | |
JP2007292807A (ja) | 液晶分割配向制御用突起付き基板及び該基板を備えた液晶表示装置 | |
JP2016193984A (ja) | 樹脂及び該樹脂を用いた組成物 | |
JP5112948B2 (ja) | 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルタ並びに液晶分割配向制御用突起付き基板及び該基板を備えた液晶表示装置 | |
JP4675246B2 (ja) | 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルタ | |
JP2017014418A (ja) | ラジカル重合性組成物 | |
CN113050372A (zh) | 黑色阻剂用感光性树脂组合物、遮光膜、滤色器、触控面板及显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20160121 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170907 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170907 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180717 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180919 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181002 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181012 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6420634 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |