JP2015184123A

JP2015184123A - Thickness measuring method, thickness measuring system, and manufacturing method of laminated body

Info

Publication number: JP2015184123A
Application number: JP2014060333A
Authority: JP
Inventors: 道生金井; Michio Kanai
Original assignee: Lintec Corp
Current assignee: Lintec Corp
Priority date: 2014-03-24
Filing date: 2014-03-24
Publication date: 2015-10-22

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thickness measuring method, a thickness measuring system, and a manufacturing method of a laminated body which are capable of improving a measuring accuracy of the thickness of respective layers in the laminated body.SOLUTION: A thickness measuring method sets a refractive index difference among respective layers neighboring to a laminated body 1 having a plurality of layers to 0.020 or greater, and measures the thickness of the respective layers of the laminated body 1 using the spectral interference system. A thickens measuring system 200 includes: the laminated body 1 in which a refractive index difference among the neighboring respective layers is 0.020 or greater; a light source 21 for radiating a light beam to the laminated body 1; a spectrometer 22 which disperses the light beam reflected from the laminated body 1; and an analyzer 23 for analyzing a waveform dispersed by the spectrometer 22. The manufacturing method of the laminated body laminates a plurality of layers so that the refractive index difference among the respective neighboring layers is 0.020 or greater.

Description

本発明は、厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to a thickness measuring method, a thickness measuring system, and a laminate manufacturing method.

従来、複数の層が積層された積層体の各層の厚みを精度良く測定することが要求されている。積層体は、各層同士が、互いに異なる組成、性質、膜厚等を有する場合がある。
各層の厚みを測定する方法としては、例えば、各層を形成する度に厚みを測定し、積層後の厚みと積層前の厚みとの差に基づいて算出する方法が挙げられる。しかしながら、このような方法では、厚みの測定を複数回実施する必要があり、簡便ではない。例えば、積層体を製造するラインにおいてインラインで膜厚を測定しようとする場合、各層を形成する工程が終わる度に厚み測定を行うことになる。そのため、各層ごとに、層形成および厚み測定のための装置を設ける必要があり、製造ラインが長くなったり、製造装置が大型化したり、製造装置のコストが高くなったりして、好ましくない。
積層体の各層の厚みを測定する方法として、例えば、特許文献１には、光干渉方式の膜厚測定装置を用いて多層膜フィルムの各層の膜厚を測定する方法が記載されている。 Conventionally, it has been required to accurately measure the thickness of each layer of a laminate in which a plurality of layers are laminated. In the laminate, each layer may have a different composition, property, film thickness, and the like.
Examples of the method for measuring the thickness of each layer include a method of measuring the thickness every time each layer is formed, and calculating based on the difference between the thickness after lamination and the thickness before lamination. However, such a method is not simple because it is necessary to measure the thickness a plurality of times. For example, when a film thickness is to be measured in-line on a line for manufacturing a laminate, the thickness measurement is performed every time the step of forming each layer is completed. Therefore, it is necessary to provide an apparatus for layer formation and thickness measurement for each layer, which is not preferable because the production line becomes longer, the production apparatus becomes larger, or the production apparatus costs increase.
As a method for measuring the thickness of each layer of the laminated body, for example, Patent Document 1 describes a method of measuring the film thickness of each layer of a multilayer film using a light interference type film thickness measuring device.

特開２００３−１６１６０５号公報JP 2003-161605 A

近年、積層体に求められる性能も多様化し各層の膜厚制御が重要になってきているため、積層体における各層の厚みの測定精度を向上させることが要望されている。 In recent years, the performance required for a laminate is diversified, and control of the film thickness of each layer has become important. Therefore, it is desired to improve the measurement accuracy of the thickness of each layer in the laminate.

本発明の目的は、積層体における各層の厚みの測定精度を向上させることのできる厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a thickness measurement method, a thickness measurement system, and a laminate manufacturing method that can improve the measurement accuracy of the thickness of each layer in the laminate.

本発明の一実施形態に係る厚み測定方法は、複数の層を有する積層体の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して前記各層の厚みを測定することを特徴とする。 In the thickness measurement method according to an embodiment of the present invention, a difference in refractive index between adjacent layers of a laminate having a plurality of layers is set to 0.020 or more, and the thickness of each layer is set using a spectral interference method. It is characterized by measuring.

本発明の一実施形態に係る厚み測定システムは、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体と、前記積層体に光を照射する光源と、前記積層体から反射された光を分光させる分光器と、前記分光器で分光した波形を解析する解析器と、を有することを特徴とする。 In a thickness measurement system according to an embodiment of the present invention, a laminate having a refractive index difference between adjacent layers of 0.020 or more, a light source that irradiates light to the laminate, and a reflection from the laminate. It has a spectroscope for spectrally separating light, and an analyzer for analyzing a waveform dispersed by the spectroscope.

本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法は、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させることを特徴とする。 A manufacturing method of a layered product concerning one embodiment of the present invention is characterized by laminating a plurality of layers so that a refractive index difference between adjacent layers may be 0.020 or more.

本発明の一実施形態に係る厚み測定方法によれば、積層体の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して各層の厚みを測定するので、測定精度を向上させることができる。 According to the thickness measurement method according to an embodiment of the present invention, the refractive index difference between adjacent layers of the laminate is set to 0.020 or more, and the thickness of each layer is measured using a spectral interference method. Measurement accuracy can be improved.

また、本発明の一実施形態に係る厚み測定システムによれば、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体に光源からの光を照射し、反射された光を分光器で分光させて、分光した波形を解析器で解析する。そのため、積層体の各層の厚みの測定精度を向上させることができる。 Moreover, according to the thickness measurement system which concerns on one Embodiment of this invention, the light from a light source is irradiated to the laminated body whose refractive index difference between adjacent layers is 0.020 or more, and the reflected light is a spectrometer. , And the analyzed waveform is analyzed with an analyzer. Therefore, the measurement accuracy of the thickness of each layer of the laminate can be improved.

また、本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法によれば、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させるため、製造される積層体の各層の厚みを分光干渉方式により測定する際の精度を向上させることができる。 Moreover, according to the manufacturing method of the laminated body which concerns on one Embodiment of this invention, in order to laminate | stack a several layer so that the refractive index difference between adjacent each layer may be 0.020 or more, The accuracy when measuring the thickness of each layer by the spectral interference method can be improved.

本発明の実施形態に係る積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body which concerns on embodiment of this invention. 前記積層体を製造する方法を説明する概略図である。It is the schematic explaining the method to manufacture the said laminated body. 本発明の実施形態に係る厚み測定システムを説明する概略図である。It is the schematic explaining the thickness measurement system which concerns on embodiment of this invention. 本発明の変形例に係る積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body which concerns on the modification of this invention. 屈折率差と厚み測定値のズレ率との関係を表すグラフである。It is a graph showing the relationship between a refractive index difference and the deviation rate of a thickness measurement value.

以下、本発明について実施形態を例に挙げて説明する。本発明は実施形態の内容に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to embodiments. The present invention is not limited to the contents of the embodiment.

・第一実施形態
図１には、本発明の実施形態に係る積層体１の断面図が示されている。
本実施形態では、２種類の粘着層が基材上に積層されている積層体１を例に挙げて説明する。ただし、本発明は、本実施形態で説明する態様に限定されない。
積層体１は、基材１０、第一の粘着層１１、および第二の粘着層１２を有する。基材１０の上に第一の粘着層１１が積層され、第一の粘着層１１の上に第二の粘着層１２が積層されている。
本実施形態において、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差（屈折率差）が、０．０２０以上である。第一の粘着層１１の屈折率が、第二の粘着層１２の屈折率よりも大きくてもよいし、第二の粘着層１２の屈折率が、第一の粘着層１１の屈折率よりも大きくてもよい。すなわち、本実施形態では、隣接する層同士の屈折率差の絶対値が０．０２０以上であればよい。屈折率差は、０．０２５以上であることがより好ましく、０．０３０以上であることがさらに好ましい。屈折率差の上限は、各層を構成する材料に要求される物性や特性等に応じて適宜決定される。隣接する層同士の屈折率差の絶対値が、０．０２０未満であると隣接する層の界面からの照射光による反射光が返ってこない場合があり、隣接する層の界面を認識することが出来ずに２つの層を１つの層と認識してしまうことがある。その場合には、各々の層の厚みを測定することができず、２つの層の厚みを足し合わせた１つの層としての厚みが測定される。 First Embodiment FIG. 1 shows a cross-sectional view of a laminate 1 according to an embodiment of the present invention.
In the present embodiment, a laminate 1 in which two types of adhesive layers are laminated on a base material will be described as an example. However, the present invention is not limited to the mode described in the present embodiment.
The laminate 1 includes a base material 10, a first adhesive layer 11, and a second adhesive layer 12. A first adhesive layer 11 is laminated on the substrate 10, and a second adhesive layer 12 is laminated on the first adhesive layer 11.
In this embodiment, the difference (refractive index difference) between the refractive index of the first adhesive layer 11 and the refractive index of the second adhesive layer 12 is 0.020 or more. The refractive index of the first adhesive layer 11 may be larger than the refractive index of the second adhesive layer 12, and the refractive index of the second adhesive layer 12 is higher than the refractive index of the first adhesive layer 11. It can be large. That is, in this embodiment, the absolute value of the refractive index difference between adjacent layers may be 0.020 or more. The refractive index difference is more preferably 0.025 or more, and further preferably 0.030 or more. The upper limit of the refractive index difference is appropriately determined according to physical properties and characteristics required for the material constituting each layer. When the absolute value of the refractive index difference between adjacent layers is less than 0.020, reflected light from the interface between adjacent layers may not return, and the interface between adjacent layers may be recognized. In some cases, two layers may be recognized as one layer. In that case, the thickness of each layer cannot be measured, and the thickness as one layer obtained by adding the thicknesses of the two layers is measured.

基材１０は、粘着層を支持する。基材１０の材質は、特に限定されることはないが、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレート等）、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂などの合成樹脂フィルムや、上質紙、含浸紙、グラシン紙、コート紙などの紙材や、不織布、木材や金属箔等のシート材料や板状材料を用いることができる。基材１０には必要により剥離処理を施してもよい。剥離処理に用いる剥離剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル樹脂などを例示することができる。これらの剥離剤のうちから１種以上を、適宜選択して用いることができる。基材１０の形状は、特に限定されることはないが、正方形や長方形などの矩形状や三角形、五角形、六角形などの多角形状、円形状、楕円形状、不定形状、長尺のロール形状など最終製品の用途により様々選択されればよい。なお、基材１０は、光源から照射される光が透過する材料であれば、同時に厚みを測定することができる。つまり、基材１０が光の透過しない不透明な材料であれば、厚みを測定することはできない。本実施形態では、長尺状の基材１０に、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２が積層された態様を例に挙げて説明する。
基材の厚さとしては、３μｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、５μｍ以上３ｍｍ以下がさらに好ましく、１０μｍ以上１ｍｍ以下が特に好ましい。基材の厚さが３μｍ未満だと、薄いために耐熱性及び引張強度が劣り、積層加工での熱処理や張力により伸びたり切れたりするおそれがあり、さらに基材のコシが弱いために加工工程でのハンドリングに劣る場合がある。基材の厚さが５ｍｍを超えると、厚みが大きいためにロール状で巻き取る際に加工機の巻取り部のスペースにより巻取り径が制限され、必要な長さが得られなかったり、基材のコシが強く柔軟性に劣るために加工工程でのハンドリング性に支障が出たり、基材の反発によりきれいに巻き取れない場合がある。 The base material 10 supports the adhesive layer. The material of the substrate 10 is not particularly limited. For example, polyvinyl chloride resin, polyester resin (polyethylene terephthalate, etc.), acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylonitrile / butadiene / styrene resin, Use synthetic resin films such as polyimide resin, polyurethane resin, polystyrene resin, paper materials such as high-quality paper, impregnated paper, glassine paper, coated paper, sheet materials such as nonwoven fabric, wood and metal foil, and plate-like materials it can. If necessary, the substrate 10 may be subjected to a peeling treatment. Examples of the release agent used for the release treatment include silicone resins, fluororesins, and long chain alkyl resins. One or more of these release agents can be appropriately selected and used. The shape of the substrate 10 is not particularly limited, but a rectangular shape such as a square or a rectangle, a polygonal shape such as a triangle, pentagon, or hexagon, a circular shape, an elliptical shape, an indefinite shape, a long roll shape, or the like. Various selections may be made depending on the use of the final product. In addition, if the base material 10 is a material which the light irradiated from a light source permeate | transmits, it can measure thickness simultaneously. That is, if the base material 10 is an opaque material that does not transmit light, the thickness cannot be measured. In the present embodiment, an example in which a first adhesive layer 11 and a second adhesive layer 12 are laminated on a long substrate 10 will be described as an example.
The thickness of the substrate is preferably 3 μm or more and 5 mm or less, more preferably 5 μm or more and 3 mm or less, and particularly preferably 10 μm or more and 1 mm or less. If the thickness of the base material is less than 3 μm, the heat resistance and tensile strength are inferior because it is thin, and there is a risk of stretching or breaking due to heat treatment or tension in the lamination process. It may be inferior to handling in When the thickness of the substrate exceeds 5 mm, the winding diameter is limited by the space of the winding portion of the processing machine when winding in a roll shape because the thickness is large, and the required length cannot be obtained, Since the stiffness of the material is strong and the flexibility is poor, the handling property in the processing process may be hindered or the substrate may not be wound up neatly due to the repulsion of the base material.

第一の粘着層１１および第二の粘着層１２は、粘着剤を用いて形成された層である。
第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の材質は、特に限定されず広く適用できる。例えば、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ウレタン系等の粘着剤を用いることができる。なお、粘着剤の種類は、用途や貼着される被着体の種類等を考慮して選択される。第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の材質の組み合せも、用途や貼着される被着体の種類等を考慮して選択される。例えば、被着体に対する粘着力を考慮して第二の粘着層１２の粘着剤を選択したが、第二の粘着層１２の基材１０に対する密着性が不足するような場合に、第二の粘着層１２および基材１０に対する粘着力を有する粘着剤を選択して第一の粘着層１１を形成する例を挙げることができる。
本実施形態において、第一の粘着層１１と第二の粘着層１２は所定の屈折率差を有する。この所定の屈折率差となるように設定するために、いずれかの層の屈折率を上げたり下げたりすることができる。例えば、屈折率調整剤を添加した粘着剤を用いて粘着剤の屈折率を上げたり、粘着剤を構成するポリマーに高屈折モノマーを共重合させて屈折率を上げたりすることもできる。屈折率の調整をする際に共重合させるモノマーは、環構造を有する有機化合物であることが好ましく、芳香族６員環構造を有する有機化合物であることが好ましい。粘着剤を構成するポリマーがアクリル系ポリマーである場合、屈折率の調整をするモノマーとして、フェノキシエチル（メタ）アクリレートやベンジル（メタ）アクリレートのような芳香族環を含有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることができる。また、屈折率の調整には、例えば、フェニル骨格、ナフチル骨格、ビフェニル骨格、ピリジニル骨格、スチレン骨格、ナフタレン骨格、スルホン骨格、フルオレン骨格、ビスフェノールＡ骨格、ウレタン骨格、およびエポキシ骨格の少なくともいずれかの骨格を持つポリマー、酸化チタン、酸化ジルコニア、酸化亜鉛などの金属酸化物などから選択された一種以上の高屈折率材料を添加しても良い。また、フッ素樹脂、中空シリカ、フッ化マグネシウムなどの低屈折率材料を添加してもよい。屈折率調整剤として微粒子を用いる場合には、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の粒子径であることが好ましく、３ｎｍ以上５００ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が特に好ましい。
第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚さ寸法は、特に限定されないが、それぞれ、積層体１における所望の粘着性質に応じて適宜設定される。また、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚さ寸法は、それぞれ、分光干渉方式の測定限界に応じて適宜設定される。 The first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 are layers formed using an adhesive.
The material of the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 is not particularly limited and can be widely applied. For example, as the first pressure-sensitive adhesive layer 11 and the second pressure-sensitive adhesive layer 12, rubber-based, acrylic-based, silicone-based, polyester-based, urethane-based pressure-sensitive adhesives can be used. In addition, the kind of adhesive is selected in consideration of the use, the kind of adherend to be attached, and the like. The combination of the materials of the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 is also selected in consideration of the application, the type of adherend to be attached, and the like. For example, when the adhesive of the second adhesive layer 12 is selected in consideration of the adhesive strength to the adherend, the second adhesive layer 12 is insufficient when the adhesiveness of the second adhesive layer 12 to the substrate 10 is insufficient. The example which selects the adhesive which has the adhesive force with respect to the adhesion layer 12 and the base material 10, and forms the 1st adhesion layer 11 can be given.
In the present embodiment, the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 have a predetermined refractive index difference. In order to set the predetermined refractive index difference, the refractive index of any layer can be increased or decreased. For example, the refractive index of the pressure-sensitive adhesive can be increased by using a pressure-sensitive adhesive to which a refractive index adjusting agent is added, or the refractive index can be increased by copolymerizing a high refractive monomer with a polymer constituting the pressure-sensitive adhesive. The monomer to be copolymerized when adjusting the refractive index is preferably an organic compound having a ring structure, and preferably an organic compound having an aromatic 6-membered ring structure. When the polymer constituting the pressure-sensitive adhesive is an acrylic polymer, an alkyl (meth) acrylate containing an aromatic ring such as phenoxyethyl (meth) acrylate or benzyl (meth) acrylate is used as a monomer for adjusting the refractive index. Can be used. The refractive index may be adjusted by, for example, phenyl skeleton, naphthyl skeleton, biphenyl skeleton, pyridinyl skeleton, styrene skeleton, naphthalene skeleton, sulfone skeleton, fluorene skeleton, bisphenol A skeleton, urethane skeleton, and epoxy skeleton. One or more high refractive index materials selected from polymers having a skeleton, metal oxides such as titanium oxide, zirconia oxide, and zinc oxide may be added. Moreover, you may add low refractive index materials, such as a fluororesin, a hollow silica, and magnesium fluoride. When fine particles are used as the refractive index adjusting agent, the particle diameter is preferably 1 nm to 1000 nm, more preferably 3 nm to 500 nm, and particularly preferably 5 nm to 100 nm.
Although the thickness dimension of the 1st adhesion layer 11 and the 2nd adhesion layer 12 is not specifically limited, Each is set suitably according to the desired adhesion property in the laminated body 1, respectively. Moreover, the thickness dimension of the 1st adhesion layer 11 and the 2nd adhesion layer 12 is each set suitably according to the measurement limit of a spectral interference system.

図２には、積層体１を製造する方法を説明する概略図が示されている。
本実施形態では、製造装置１００を用いて積層体１を製造する。
製造装置１００は、基材１０を繰り出す第一供給手段３０と、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２を塗布する塗工手段４０と、製膜手段５０と、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する厚み測定手段２０と、保護フィルム１５を繰り出す第二供給手段６０と、積層体１に保護フィルム１５を貼合する貼合部７０と、保護フィルム１５付き積層体１を巻き取る巻取手段８０とを備える。 FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a method for manufacturing the laminate 1.
In the present embodiment, the laminate 1 is manufactured using the manufacturing apparatus 100.
The manufacturing apparatus 100 includes a first supply unit 30 for feeding the substrate 10, a coating unit 40 for applying the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12, a film forming unit 50, and a first adhesive layer. 11 and a thickness measuring means 20 for measuring the thickness of the second adhesive layer 12, a second supply means 60 for feeding out the protective film 15, a bonding part 70 for bonding the protective film 15 to the laminate 1, and a protective film And winding means 80 for winding the laminated body 1 with 15.

第一供給手段３０は、駆動機器としての回動モータ３１と、回動モータ３１により回転可能に設けられた支持ローラ３２とを備える。支持ローラ３２は、ロール状に巻回した長尺状の基材１０を支持する。支持ローラ３２から繰り出された基材１０は、途中、ガイドローラによって搬送方向を案内されながら、塗工手段４０へ供給される。 The first supply means 30 includes a rotation motor 31 as a drive device and a support roller 32 provided so as to be rotatable by the rotation motor 31. The support roller 32 supports the long base material 10 wound in a roll shape. The base material 10 fed out from the support roller 32 is supplied to the coating means 40 while being guided in the conveyance direction by a guide roller.

塗工手段４０は、本実施形態では、第一の粘着層１１の構成成分及び溶媒を含んだ第一の塗工液を基材１０に塗布して第一の塗膜を形成し、次いで、その第一の塗膜の上に第二の粘着層１２の構成成分及び溶媒を含んだ第二の塗工液を塗布して第二の塗膜を形成する。塗工手段４０としては、例えば、グラビアコーター、ナイフコーター、ロールコーター、ダイコーターなどを挙げることができ、複数の層を一度に形成できるストレートダイ、クロスヘッドダイ、フラットダイ、スライドビードダイなどのダイコーターを用いることが好ましい。 In the present embodiment, the coating means 40 applies a first coating liquid containing the components of the first adhesive layer 11 and a solvent to the substrate 10 to form a first coating film, On the first coating film, a second coating liquid containing the constituent components and solvent of the second adhesive layer 12 is applied to form a second coating film. Examples of the coating means 40 include a gravure coater, a knife coater, a roll coater, a die coater, and the like, such as a straight die, a cross head die, a flat die, and a slide bead die that can form a plurality of layers at once. It is preferable to use a die coater.

製膜手段５０としては、乾燥炉を例示でき、塗工手段４０にて形成された第一の塗膜および第二の塗膜に含まれる溶媒を乾燥および除去する。溶媒の除去により、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２が基材１０の上に形成された積層体１が得られる。乾燥炉以外の製膜手段５０としては、紫外線照射装置、電子線照射装置、赤外線照射装置などを例示することができ、これらと乾燥炉を併用してもよい。なお、乾燥炉を用いない場合には、塗膜中に溶媒が含まれないことが好ましい。 An example of the film forming means 50 is a drying furnace, and the solvent contained in the first coating film and the second coating film formed by the coating means 40 is dried and removed. By removing the solvent, the laminate 1 in which the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 are formed on the substrate 10 is obtained. Examples of the film forming means 50 other than the drying furnace include an ultraviolet irradiation device, an electron beam irradiation device, an infrared irradiation device, and the like, and these may be used in combination. In addition, when not using a drying furnace, it is preferable that a solvent is not contained in a coating film.

厚み測定手段２０は、複数の層が積層された積層体の各層の厚みを分光干渉方式で測定する装置である。図３に示すように、厚み測定手段２０は、積層体１に光を照射する光源２１と、積層体１から反射された光を分光させる分光器２２と、分光器２２で分光した波形を解析する解析器２３とを備える。
厚み測定手段２０は、例えば、光源２１から照射される光（検出光）を、参照面および測定対象物である積層体１に照射し、これらの反射光からなる干渉反射光を分光器２２で分光させてもよい。この場合、厚み測定手段２０は、検出光を出射するセンサヘッドを備えていることが好ましい。センサヘッドは、参照面を有し、参照面からの反射光と、測定対象物からの反射光とを干渉させて分光器２２に導く構成とすることが好ましい。積層体１の場合、第二の粘着層１２の表面からの反射光、第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との界面からの反射光、並びに第一の粘着層１１と基材１０との界面からの反射光を受光し、分光器２２および解析器２３で解析する。その結果、参照面から第二の粘着層１２の表面までの距離、参照面から第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との界面までの距離、並びに参照面から第一の粘着層１１と基材１０との界面までの距離を測定することができる。
厚み測定手段２０としては、特に限定されないが、従来の干渉膜厚計や光学式変位計等が挙げられ、例えば、株式会社キーエンス製の分光干渉変位タイプ多層膜厚測定器ＳＩシリーズ等が挙げられる。
本実施形態において、図３に示すように厚み測定手段２０および積層体１とで厚み測定システム２００が構成される。 The thickness measuring means 20 is a device that measures the thickness of each layer of a laminated body in which a plurality of layers are laminated by a spectral interference method. As shown in FIG. 3, the thickness measuring means 20 analyzes the light source 21 that irradiates the laminated body 1 with light, the spectroscope 22 that splits the light reflected from the laminated body 1, and the waveform that is split by the spectroscope 22. And an analyzer 23.
The thickness measuring means 20 irradiates, for example, light (detection light) emitted from the light source 21 onto the reference surface and the laminate 1 that is the measurement object, and the spectroscope 22 generates interference reflected light composed of these reflected lights. Spectroscopy may be performed. In this case, it is preferable that the thickness measuring means 20 includes a sensor head that emits detection light. It is preferable that the sensor head has a reference surface, and the reflected light from the reference surface and the reflected light from the measurement object are caused to interfere with each other and guided to the spectrometer 22. In the case of the laminated body 1, the reflected light from the surface of the second adhesive layer 12, the reflected light from the interface between the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12, and the first adhesive layer 11 and the substrate The reflected light from the interface with 10 is received and analyzed by the spectroscope 22 and the analyzer 23. As a result, the distance from the reference surface to the surface of the second adhesive layer 12, the distance from the reference surface to the interface between the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12, and the reference surface to the first adhesive layer The distance to the interface between 11 and the substrate 10 can be measured.
The thickness measuring means 20 is not particularly limited, and includes a conventional interference film thickness meter, an optical displacement meter, and the like, for example, a spectral interference displacement type multilayer film thickness measuring instrument SI series manufactured by Keyence Corporation. .
In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the thickness measuring unit 20 and the laminate 1 constitute a thickness measuring system 200.

第二供給手段６０は、駆動機器としての回動モータ６１と、回動モータ６１により回転可能に設けられた支持ローラ６２とを備える。支持ローラ６２は、ロール状に巻回した長尺状の保護フィルム１５を支持する。支持ローラ６２から繰り出された保護フィルム１５は、貼合部７０へ供給される。 The second supply means 60 includes a rotation motor 61 as a drive device, and a support roller 62 that is rotatably provided by the rotation motor 61. The support roller 62 supports the long protective film 15 wound in a roll shape. The protective film 15 fed out from the support roller 62 is supplied to the bonding unit 70.

貼合部７０は、厚み測定後の積層体１が架け回された第一貼合ロール７１と、保護フィルム１５が架け回された第二貼合ロール７２と、を備える。積層体１と保護フィルム１５とは、第一貼合ロール７１および第二貼合ロール７２の間を通過することで貼り合わされて、保護フィルム１５付きの積層体１となる。保護フィルム１５付きの積層体１は、第一貼合ロール７１および第二貼合ロール７２によって、巻取手段８０が配置された下流側へと案内される。 The bonding part 70 is provided with the 1st bonding roll 71 in which the laminated body 1 after thickness measurement was wound around, and the 2nd bonding roll 72 in which the protective film 15 was wound around. The laminated body 1 and the protective film 15 are pasted together by passing between the first laminating roll 71 and the second laminating roll 72 to form the laminated body 1 with the protective film 15. The laminated body 1 with the protective film 15 is guided by the first bonding roll 71 and the second bonding roll 72 to the downstream side where the winding means 80 is disposed.

巻取手段８０は、駆動機器としての回動モータ８１と、回動モータ８１により回転可能に設けられた支持ローラ８２とを備える。支持ローラ８２は、長尺状の保護フィルム１５付きの積層体１をロール状に巻回して支持する。 The winding means 80 includes a rotation motor 81 as a drive device, and a support roller 82 that is rotatably provided by the rotation motor 81. The support roller 82 supports the laminated body 1 with the long protective film 15 by winding it in a roll shape.

ロール状に巻回された保護フィルム１５付きの積層体１は、所定形状および所定寸法に裁断されて、例えば、保護フィルム１５付きの粘着シートとして利用できる。この粘着シートは、保護フィルム１５を剥がして第二の粘着層１２を露出させて、被着体（第一の被着体）に貼着される。基材１０は、そのまま第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の支持体としておいてもよいし、基材１０を剥がして第一の粘着層１１を露出させ、露出した第一の粘着層１１に別の被着体（第二の被着体）を貼着してもよい。 The laminated body 1 with the protective film 15 wound in a roll shape is cut into a predetermined shape and a predetermined dimension, and can be used, for example, as an adhesive sheet with the protective film 15. This adhesive sheet is attached to an adherend (first adherend) by peeling off the protective film 15 to expose the second adhesive layer 12. The base material 10 may be used as a support for the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 as it is, or the base material 10 is peeled off to expose the first adhesive layer 11, and the exposed first Another adherend (second adherend) may be attached to the adhesive layer 11.

・積層体の製造方法
本実施形態に係る積層体１は、隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させることで製造される。第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との屈折率差が０．０２０以上、好ましくは０．０２５以上、より好ましくは０．０３０以上となるように粘着剤を選択して基材１０に積層させる。
例えば、製造装置１００を用いて積層体１を製造することができる。上述の所定屈折率差となるように第一の粘着層用の塗工液（第一の塗工液）および第二の粘着層用の塗工液（第二の塗工液）を塗工手段４０に供給する。塗工手段４０で第一の塗工液および第二の塗工液を順次塗布し、乾燥させて、積層体１を得ることができる。なお、積層体１を製造するための装置は、製造装置１００に限定されない。 -Manufacturing method of laminated body The laminated body 1 which concerns on this embodiment is manufactured by laminating | stacking a some layer so that the refractive index difference between adjacent layers may be 0.020 or more. The substrate is selected by selecting an adhesive such that the difference in refractive index between the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 is 0.020 or more, preferably 0.025 or more, more preferably 0.030 or more. 10 is laminated.
For example, the laminated body 1 can be manufactured using the manufacturing apparatus 100. Apply the coating solution for the first adhesive layer (first coating solution) and the coating solution for the second adhesive layer (second coating solution) so that the above-mentioned difference in refractive index is obtained. Supply to means 40. The first coating liquid and the second coating liquid are sequentially applied by the coating means 40 and dried to obtain the laminate 1. In addition, the apparatus for manufacturing the laminated body 1 is not limited to the manufacturing apparatus 100.

・厚み測定方法
本実施形態では、積層体１における隣接する各層の厚みを厚み測定システム２００により測定する。積層体１において、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差が、０．０２０以上に設定されている。厚み測定手段２０による分光干渉方式を利用して第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する。図２に示すように、製造装置１００を用いて積層体１を製造するラインの途中に厚み測定手段２０を配置し、インラインで積層体１における第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する。複数台の厚み測定手段２０を用いて、積層体１の幅方向または長尺方向に渡って複数箇所の厚みを測定してもよい。なお、インラインでの測定に限らず、積層体１を製造装置１００で製造した後に、製造装置１００とは別の場所で（オフラインで）、第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定してもよい。 -Thickness measuring method In this embodiment, the thickness of each adjacent layer in the laminate 1 is measured by the thickness measuring system 200. In the laminate 1, the difference between the refractive index of the first adhesive layer 11 and the refractive index of the second adhesive layer 12 is set to 0.020 or more. The thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer 11 and the second pressure-sensitive adhesive layer 12 is measured using a spectral interference method by the thickness measuring means 20. As shown in FIG. 2, the thickness measurement means 20 is arrange | positioned in the middle of the line which manufactures the laminated body 1 using the manufacturing apparatus 100, and the 1st adhesion layer 11 and the 2nd adhesion layer 12 in the laminated body 1 in-line. Measure the thickness. You may measure the thickness of several places over the width direction or elongate direction of the laminated body 1 using the multiple thickness measurement means 20. FIG. In addition, not only in-line measurement, after manufacturing the laminated body 1 with the manufacturing apparatus 100, the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 are separated from the manufacturing apparatus 100 (offline). The thickness may be measured.

本実施形態に係る厚み測定方法、厚み測定システム２００によれば、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差が、０．０２０以上に設定されており、分光干渉方式を利用して第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みを測定する。そのため、積層体１における第一の粘着層１１および第二の粘着層１２の厚みの測定精度が向上するばかりか、一度の測定で各々の層の厚みが分かるので、測定における作業の手間を軽減することができる。 According to the thickness measurement method and the thickness measurement system 200 according to the present embodiment, the difference between the refractive index of the first adhesive layer 11 and the refractive index of the second adhesive layer 12 is set to 0.020 or more. And the thickness of the 1st adhesion layer 11 and the 2nd adhesion layer 12 is measured using a spectrum interference system. Therefore, not only the measurement accuracy of the thickness of the first adhesive layer 11 and the second adhesive layer 12 in the laminated body 1 is improved, but the thickness of each layer can be known by one measurement, thereby reducing the labor of measurement. can do.

また、本実施形態に係る厚み測定方法、および厚み測定システム２００を積層体１の製造ラインに組み込めば、インラインで正確な厚み測定が可能である。そのため、例えば、厚み測定システム２００または製造装置１００に制御手段を設け、厚み測定手段２０で測定された厚みと、予め設定された厚みの閾値とを当該制御手段にて比較させながら製造を行い、閾値を超えた場合に警報手段に警報を発せさせるなどの構成としてもよい。このような構成であれば、閾値を超えた厚みの積層体が製造されることを抑制できる。その結果、粘着層の厚みのばらつきが少ない積層体を製造することができる。 Moreover, if the thickness measurement method according to the present embodiment and the thickness measurement system 200 are incorporated in the production line of the laminate 1, accurate thickness measurement can be performed in-line. Therefore, for example, a control unit is provided in the thickness measurement system 200 or the manufacturing apparatus 100, and manufacturing is performed while the thickness measured by the thickness measurement unit 20 is compared with a preset thickness threshold by the control unit. It is good also as a structure of making a warning means emit a warning, when a threshold value is exceeded. If it is such a structure, it can suppress that the laminated body of the thickness exceeding the threshold value is manufactured. As a result, it is possible to manufacture a laminate with little variation in the thickness of the adhesive layer.

本実施形態に係る積層体の製造方法によれば、第一の粘着層１１と第二の粘着層１２との屈折率差が０．０２０以上となるように基材１０に積層させる。そのため、このようにして製造された積層体１を、分光干渉方式で厚み測定すれば、測定精度が向上するばかりか、各々の層の厚み測定を容易に行うことができる。 According to the manufacturing method of the laminated body which concerns on this embodiment, it laminates | stacks on the base material 10 so that the refractive index difference of the 1st adhesion layer 11 and the 2nd adhesion layer 12 may be 0.020 or more. Therefore, when the thickness of the laminate 1 manufactured in this way is measured by the spectral interference method, not only the measurement accuracy is improved, but also the thickness of each layer can be easily measured.

・第二実施形態
次に、本発明の第二実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明したものと、同一の部材、構成、手段等については、同一符号を付して説明を簡略または省略する。
本実施形態では、積層体１の基材１０の厚さも同時に測定する態様を説明する。
基材１０の屈折率と第一の粘着層１１の屈折率との差が、０．０２０以上であり、第一の粘着層１１の屈折率と、第二の粘着層１２の屈折率との差が、０．０２０以上に設定されていれば、積層体１の基材１０も含めて３つの層の厚さを測定することができる。
これらの屈折率差は、０．０２５以上であることがより好ましく、０．０３０以上であることがさらに好ましい。基材１０の屈折率が、第一の粘着層１１よりも大きくてもよいし、小さくてもよい。
本実施形態においても、分光干渉方式で測定することで、基材１０、第一の粘着層１１、および第二の粘着層１２の厚みの測定精度が向上するばかりか、各々の層の厚み測定を容易に行うことが可能となる。 Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the following description, the same members, configurations, means and the like as those already described are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be simplified or omitted.
In the present embodiment, a mode in which the thickness of the base material 10 of the laminate 1 is also measured will be described.
The difference between the refractive index of the substrate 10 and the refractive index of the first adhesive layer 11 is 0.020 or more, and the refractive index of the first adhesive layer 11 and the refractive index of the second adhesive layer 12 If the difference is set to 0.020 or more, the thicknesses of the three layers including the base material 10 of the laminate 1 can be measured.
The refractive index difference is more preferably 0.025 or more, and further preferably 0.030 or more. The refractive index of the base material 10 may be larger or smaller than that of the first adhesive layer 11.
Also in the present embodiment, measurement by the spectral interference method not only improves the measurement accuracy of the thickness of the base material 10, the first adhesive layer 11, and the second adhesive layer 12, but also measures the thickness of each layer. Can be easily performed.

・第三実施形態
次に、本発明の第三実施形態について説明する。尚、以下の説明では、既に説明したものと、同一の部材、構成、手段等については、同一符号を付して説明を簡略または省略する。
図４には本実施形態に係る積層体１Ａの断面概略図が示されている。
積層体１Ａは、Ｎ層（Ｎは、１以上の整数）の粘着層が積層された積層体である。積層体１Ａは、図４に示すように、基材１０側から順に、第一の粘着層１１、第二の粘着層１２、途中の層は、図示が省略され、第（Ｎ−１）の粘着層１３、および第Ｎの粘着層１４を有する。Ｎは、２以上の整数であり、本実施形態では、４以上の整数である。積層体１Ａにおいても、隣接する層同士の屈折率差が０．０２０以上に設定されている。例えば、第Ｎの粘着層１４の屈折率と、第（Ｎ−１）の粘着層１３の屈折率との差は、０．０２０以上である。途中省略された層も含めて、隣接する層同士の間では、屈折率差は、０．０２０以上である。好ましい屈折率差も前記実施形態で説明したとおりである。
本実施形態に係る積層体１Ａについても、分光干渉方式で測定することで、各層の厚みの測定精度が向上するばかりか、各々の層の厚み測定を容易に行うことが可能となる。 Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the following description, the same members, configurations, means and the like as those already described are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be simplified or omitted.
FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of the laminate 1A according to the present embodiment.
The laminated body 1A is a laminated body in which N layers (N is an integer of 1 or more) of adhesive layers are laminated. As shown in FIG. 4, in the laminated body 1 </ b> A, the first adhesive layer 11, the second adhesive layer 12, and the intermediate layer are omitted in order from the base material 10 side, and the (N−1) th (N-1) th layer is omitted. It has an adhesive layer 13 and an Nth adhesive layer 14. N is an integer greater than or equal to 2, and is an integer greater than or equal to 4 in this embodiment. Also in the laminated body 1A, the refractive index difference between adjacent layers is set to 0.020 or more. For example, the difference between the refractive index of the Nth adhesive layer 14 and the refractive index of the (N-1) th adhesive layer 13 is 0.020 or more. The refractive index difference is equal to or greater than 0.020 between adjacent layers including the layer omitted midway. A preferable refractive index difference is also as described in the embodiment.
Also for the laminated body 1A according to the present embodiment, measurement by the spectral interference method not only improves the measurement accuracy of the thickness of each layer, but also makes it possible to easily measure the thickness of each layer.

なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, etc. within a scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.

前記実施形態では、積層体は、基材に粘着層が積層された態様を例に挙げて説明したが、本発明はこのような態様に何ら限定されない。積層体として、例えば、基材にインク受理層が積層された印字用シートや、粘着層を挟んでフィルムが貼り合わされた多層フィルムや、共押出法で製造された多層フィルムなどが挙げられる。
また、基材に積層される各層の形成は、上記実施形態で説明した塗工手段に限定されず、噴霧手段を用いてもよい。噴霧手段を用いる場合、各層の構成成分および溶媒を含む噴霧液を噴霧し、基材上に塗膜を形成し、次いで、溶媒を乾燥除去して、各層を成膜してもよい。また、上述のように共押出法で複数の樹脂層を積層させてもよい。また、光透過性の基材と１層の塗膜との積層体においても本発明は適用可能である。 In the said embodiment, although the laminated body mentioned and demonstrated the example in which the adhesion layer was laminated | stacked on the base material, this invention is not limited to such an aspect at all. Examples of the laminate include a printing sheet in which an ink receiving layer is laminated on a base material, a multilayer film in which a film is bonded with an adhesive layer interposed therebetween, and a multilayer film manufactured by a coextrusion method.
Moreover, formation of each layer laminated | stacked on a base material is not limited to the coating means demonstrated in the said embodiment, You may use a spraying means. When the spraying means is used, each layer may be formed by spraying a spray solution containing the constituent components of each layer and a solvent to form a coating film on the substrate, and then drying and removing the solvent. Further, as described above, a plurality of resin layers may be laminated by a coextrusion method. The present invention can also be applied to a laminate of a light-transmitting substrate and a single-layer coating film.

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

（実施例１）工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｂ層
・積層体の製造
下記組成物Ａおよび下記組成物Ｂを積層させた積層体を製造した。
組成物Ａは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ１（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ２を得た。
アクリルポリマーＰ１は、ベンジルアクリレートとヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で７２：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ２（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ａを得た。配合比は、固形分換算にて行った。 Example 1 Production of Process Film / Composition A Layer / Composition B Layer / Laminate A laminate obtained by laminating the following composition A and the following composition B was produced.
Composition A was produced as follows. An energy ray curable polymer P2 obtained by reacting methacryloyloxyethyl acrylate (16 parts by mass) with acrylic polymer P1 (100 parts by mass) was obtained.
The acrylic polymer P1 was composed of a composition of 72:28 by mass ratio of benzyl acrylate and hydroxyethyl acrylate, and the mass average molecular weight was 500,000.
To the energy ray curable polymer P2 (100 parts by mass), a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd .: Irgacure 184, (3.5 parts by mass)) and an isocyanate compound (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd .: BHS-8515, (5.35 parts by mass)) was blended to obtain a composition A. The mixing ratio was calculated in terms of solid content.

組成物Ｂは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ３（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ４を得た。
アクリルポリマーＰ３は、ブチルアクリレートとベンジルアクリレートとヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で６２：１０：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ４（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｂを得た。配合比は、固形分換算にて行った。 Composition B was produced as follows. An energy ray-curable polymer P4 obtained by reacting methacryloyloxyethyl acrylate (16 parts by mass) with acrylic polymer P3 (100 parts by mass) was obtained.
The acrylic polymer P3 had a composition of 62:10:28 in terms of mass ratio of butyl acrylate, benzyl acrylate, and hydroxyethyl acrylate, and had a mass average molecular weight of 500,000.
To the energy ray curable polymer P4 (100 parts by mass), a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, Inc .: Irgacure 184, (3.5 parts by mass)) and an isocyanate compound (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.): BHS-8515, (5.35 parts by mass)) was blended to obtain a composition B. The mixing ratio was calculated in terms of solid content.

組成物Ａ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ａを作製した。
組成物Ｂ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｂを作製した。
塗工液Ａを基材１０としての工程フィルム（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１（Ｓ）、厚み３８μｍ）に、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。塗工液Ａの塗布に続けて塗工液Ｂを、乾燥後の組成物Ｂ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。塗布の後、製膜手段にて乾燥させて溶媒を除去し、実施例１の積層体を得た。 Composition A (100 parts by mass), toluene (178 parts by mass), and ethyl acetate (55 parts by mass) were mixed to prepare a coating liquid A.
Composition B (100 parts by mass), toluene (178 parts by mass), and ethyl acetate (55 parts by mass) were mixed to prepare a coating liquid B.
The coating liquid A was applied to a process film as a base material 10 (manufactured by Lintec Corporation: SP-PET3811 (S), thickness 38 μm) so that the thickness of the composition A layer after drying was 20 μm. Subsequent to the application of the coating liquid A, the coating liquid B was applied so that the thickness of the dried composition B layer was 20 μm. After coating, the film was dried by a film forming means to remove the solvent, and the laminate of Example 1 was obtained.

・屈折率の測定
屈折率の測定は、ＪＩＳＫ００６２に準じ、アッベ屈折計（アタゴ株式会社製：多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２、Ｎａ光源、波長：５８９ｎｍ）により測定した。５８９ｎｍの干渉フィルターを使用した。測定環境は、２３℃および６５％ＲＨであった。積層体を構成する各層ごとに屈折率を測定した。測定結果を表１に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。 -Measurement of refractive index The refractive index was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd .: multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2, Na light source, wavelength: 589 nm) according to JIS K0062. A 589 nm interference filter was used. The measurement environment was 23 ° C. and 65% RH. The refractive index was measured for each layer constituting the laminate. The measurement results are shown in Table 1. The same applies to the following examples and comparative examples.

・厚み測定１（断面観察）
実施例１の積層体の断面を光学顕微鏡にて観察し、各層の厚みを測定した。測定結果を表２に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。・ Thickness measurement 1 (cross-section observation)
The cross section of the laminate of Example 1 was observed with an optical microscope, and the thickness of each layer was measured. The measurement results are shown in Table 2. The same applies to the following examples and comparative examples.

・厚み測定２（厚み測定装置）
実施例１の積層体の各層の厚みを、厚み測定装置（株式会社キーエンス製：分光干渉変位タイプ多層膜厚測定器ＳＩ−Ｔシリーズ、センサヘッド：ＳＩ−Ｔ１０、分光ユニット：ＳＩ−Ｔ１０Ｕ）を用いて測定した。測定結果を表２に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。・ Thickness measurement 2 (thickness measurement device)
The thickness of each layer of the laminate of Example 1 was measured using a thickness measuring device (manufactured by Keyence Corporation: spectral interference displacement type multilayer film thickness measuring instrument SI-T series, sensor head: SI-T10, spectral unit: SI-T10U). And measured. The measurement results are shown in Table 2. The same applies to the following examples and comparative examples.

・屈折率差
測定した積層体の隣接する層同士の屈折率差の絶対値を表２に示す。以下の実施例および比較例においても同様である。 -Refractive index difference Table 2 shows the absolute value of the refractive index difference between adjacent layers of the measured laminate. The same applies to the following examples and comparative examples.

・厚み実測値からのズレ率
厚み測定１（断面観察）で測定された厚み実測値Ｄ１［μｍ］と、厚み測定２（厚み測定装置）で測定された厚みＤ２［μｍ］とを用い、下記数式１により、実測値からのズレ率を算出した。結果を表２に示す。
（実測値からのズレ率）＝｛（Ｄ２−Ｄ１）／Ｄ１｝×１００・・・数式１ -Deviation rate from the actual thickness measurement value Using the actual thickness measurement value D1 [μm] measured in the thickness measurement 1 (cross-sectional observation) and the thickness D2 [μm] measured in the thickness measurement 2 (thickness measurement device), The deviation rate from the actual measurement value was calculated by Equation 1. The results are shown in Table 2.
(Deviation rate from actual measurement value) = {(D2-D1) / D1} × 100 Expression 1

＜質量平均分子量（Ｍｗ）＞
ポリマーの質量平均分子量は、次のようにして測定した。サンプルを希釈している溶剤を室温にて乾燥させた後、テトラヒドロフランにて固形濃度１％に希釈した。その希釈液を、ＭｉｌｌｅｘＬＨ０．４５μｍフィルター（メルク株式会社製、品番ＳＬＬＨＨ１３ＮＬ）にてろ過した後、ゲル浸透クロマトグラフ装置（東ソー株式会社製、製品名「ＨＬＣ−８１２１ＧＰＣ／ＨＴ」）を用いて、下記の条件下で測定し、標準ポリスチレン換算にて質量平均分子量を算出した。
（測定条件）
カラム：「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎＨＸＬ−Ｈ」
「ＴＳＫｇｅｌＧＭＨＸＬ（×２）」
「ＴＳＫｇｅｌＧ２０００ＨＸＬ」
（いずれも東ソー株式会社製）
カラム温度：４０℃
展開溶媒：テトラヒドロフラン
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ <Mass average molecular weight (Mw)>
The mass average molecular weight of the polymer was measured as follows. The solvent in which the sample was diluted was dried at room temperature and then diluted to 1% solid concentration with tetrahydrofuran. The diluted solution was filtered with a Millex LH 0.45 μm filter (manufactured by Merck & Co., product number SLLHH13NL), and then a gel permeation chromatograph (product name “HLC-8121GPC / HT” manufactured by Tosoh Corporation) was used. The measurement was performed under the following conditions, and the mass average molecular weight was calculated in terms of standard polystyrene.
(Measurement condition)
Column: “TSK guard column HXL-H”
"TSK gel GMHXL (x2)"
"TSK gel G2000HXL"
(Both manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Developing solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min

（実施例２）工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｂ層
実施例２の積層体は、第一の塗工液Ａを、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが５μｍとなるように塗布し、第二の塗工液Ｂを、乾燥後の組成物Ｂ層の厚みが５μｍとなるように塗布したこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。 (Example 2) Process film / composition A layer / composition B layer The laminate of Example 2 was coated with the first coating liquid A so that the thickness of the composition A layer after drying was 5 μm. And it manufactured like Example 1 except having apply | coated 2nd coating liquid B so that the thickness of the composition B layer after drying might be set to 5 micrometers. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.

（実施例３）工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｂ層
実施例３の積層体は、第一の塗工液Ａを、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが５０μｍとなるように塗布し、第二の塗工液Ｂを、乾燥後の組成物Ｂ層の厚みが５０μｍとなるように塗布したこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。 (Example 3) Process film / composition A layer / composition B layer The laminate of Example 3 was coated with the first coating solution A so that the thickness of the composition A layer after drying was 50 μm. And it manufactured like Example 1 except having apply | coated 2nd coating liquid B so that the thickness of the composition B layer after drying might be set to 50 micrometers. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.

（実施例４）工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｃ層
実施例４の積層体は、実施例１における組成物Ｂを下記組成物Ｃに置き換えたこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
組成物Ｃは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ５（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ６を得た。
アクリルポリマーＰ５は、ブチルアクリレートとベンジルアクリレートとヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で４２：３０：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ６（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｃを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
組成物Ｃ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｃを作製した。実施例１における塗工液Ｂに代えて塗工液Ｃを塗布した。 (Example 4) Process film / composition A layer / composition C layer The laminate of Example 4 was the same as Example 1 except that the composition B in Example 1 was replaced with the following composition C. Manufactured. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
Composition C was produced as follows. An energy ray-curable polymer P6 obtained by reacting methacryloyloxyethyl acrylate (16 parts by mass) with acrylic polymer P5 (100 parts by mass) was obtained.
The acrylic polymer P5 had a composition of 42:30:28 in terms of mass ratio of butyl acrylate, benzyl acrylate, and hydroxyethyl acrylate, and had a mass average molecular weight of 500,000.
To the energy ray curable polymer P6 (100 parts by mass), a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, Inc .: Irgacure 184, (3.5 parts by mass)) and an isocyanate compound (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.): BHS-8515, (5.35 parts by mass)) was added to obtain a composition C. The mixing ratio was calculated in terms of solid content.
Composition C (100 parts by mass), toluene (178 parts by mass), and ethyl acetate (55 parts by mass) were mixed to prepare a coating liquid C. Instead of the coating liquid B in Example 1, a coating liquid C was applied.

（実施例５）工程フィルム／組成物Ａ層／組成物Ｄ層
実施例５の積層体は、実施例１における組成物Ｂを下記組成物Ｄに置き換えたこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
組成物Ｄは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ７（１００質量部）にイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｄを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
アクリルポリマーＰ７は、２−エチルヘキシルアクリレートと、ヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で９５：５の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
組成物Ｄ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｄを作製した。実施例１における塗工液Ｂに代えて塗工液Ｄを塗布した。 (Example 5) Process film / composition A layer / composition D layer The laminate of Example 5 was the same as Example 1 except that composition B in Example 1 was replaced with composition D below. Manufactured. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
Composition D was produced as follows. An isocyanate compound (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd .: BHS-8515, (5.35 parts by mass)) was blended with acrylic polymer P7 (100 parts by mass) to obtain a composition D. The mixing ratio was calculated in terms of solid content.
The acrylic polymer P7 was constituted by a composition of 95: 5 by mass ratio of 2-ethylhexyl acrylate and hydroxyethyl acrylate, and the mass average molecular weight was 500,000.
Composition D (100 parts by mass), toluene (178 parts by mass), and ethyl acetate (55 parts by mass) were mixed to prepare a coating liquid D. Instead of the coating liquid B in Example 1, the coating liquid D was applied.

（実施例６）工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＡ
実施例６の積層体は、次のように製造した。
実施例１の塗工液Ａを、工程フィルム（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１（Ｓ）、厚み３８μｍ）に、乾燥後の組成物Ａ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。その後、製膜手段にて乾燥させて溶媒を除去した。次いで、組成物Ａ層の上に、下記フィルムＡを積層させて、実施例６の積層体を得た。
用いたフィルムＡは、テトラフルオロエチレンおよびヘキサフルオロプロピレンの共重合体を溶融押し出しして得た厚み５０μｍのフィルム（東レフィルム加工株式会社製：トヨフロンＦ＃５０）である。
各測定は実施例１と同様にして行った。 (Example 6) Process film / composition A layer / film A
The laminated body of Example 6 was manufactured as follows.
The coating liquid A of Example 1 was applied to a process film (manufactured by Lintec Corporation: SP-PET 3811 (S), thickness 38 μm) so that the thickness of the composition A layer after drying was 20 μm. Then, it was made to dry with the film forming means and the solvent was removed. Subsequently, the following film A was laminated | stacked on the composition A layer, and the laminated body of Example 6 was obtained.
The film A used is a 50 μm-thick film (Toyoflon F # 50 manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) obtained by melting and extruding a copolymer of tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene.
Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.

（実施例７）工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＢ
実施例７の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＢに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＢは、ポリプロピレンを溶融押し出しして得た厚み５０μｍのフィルム（王子エフテックス株式会社製：アルファンＰＹ−００１＃５０）である。 (Example 7) Process film / composition A layer / film B
The laminate of Example 7 was produced in the same manner as in Example 6 except that the film A in Example 6 was replaced with the following film B. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
The used film B is a 50 μm-thick film (manufactured by Oji F-Tex Co., Ltd .: Alphan PY-001 # 50) obtained by melting and extruding polypropylene.

（実施例８）工程フィルム／組成物Ｄ層／フィルムＣ
実施例８の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＣに置き換え、塗工液Ａを塗工液Ｄに置き換えて塗布したこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＣは、ポリエチレンを溶融押し出しして得た厚み１００μｍのフィルム（株式会社アイセロ製：スズロンＬ−１００）である。 (Example 8) Process film / composition D layer / film C
The laminate of Example 8 was manufactured in the same manner as in Example 6 except that the film A in Example 6 was replaced with the following film C and the coating liquid A was replaced with the coating liquid D. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
The film C used is a film having a thickness of 100 μm obtained by melt extrusion of polyethylene (manufactured by Aicello Co., Ltd .: Tinlon L-100).

（実施例９）工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＤ
実施例９の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＤに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＤは、ポリカーボネートを溶融押し出しして得た厚み７８μｍのフィルム（帝人化成株式会社製：パンライトＤ−７８）である。 (Example 9) Process film / composition A layer / film D
The laminate of Example 9 was produced in the same manner as in Example 6 except that the film A in Example 6 was replaced with the following film D. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
The film D used is a 78 μm-thick film (manufactured by Teijin Chemicals Ltd .: Panlite D-78) obtained by melting and extruding polycarbonate.

（実施例１０）工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＥ
実施例１０の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＥに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＥは、ポリスチレンを溶融押し出しして得た厚み５０μｍのフィルム（旭化成ケミカルズ株式会社製：ＯＰＳフィルムＧＭ＃５０）である。 (Example 10) Process film / composition A layer / film E
The laminate of Example 10 was produced in the same manner as in Example 6 except that the film A in Example 6 was replaced with the following film E. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
The used film E is a film having a thickness of 50 μm obtained by melt-extruding polystyrene (OPS film GM # 50 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation).

（実施例１１）工程フィルム／組成物Ａ層／フィルムＦ
実施例１１の積層体は、実施例６におけるフィルムＡを下記フィルムＦに置き換えたこと以外は、実施例６と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
用いたフィルムＦは、ポリエチレンテレフタレートを溶融押し出しして得た厚み７５μｍのフィルム（三菱樹脂株式会社製：ダイヤホイルＴ６００−７５）である。 (Example 11) Process film / composition A layer / film F
The laminate of Example 11 was produced in the same manner as in Example 6 except that the film A in Example 6 was replaced with the following film F. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
The film F used is a 75 μm-thick film (manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc .: Diafoil T600-75) obtained by melting and extruding polyethylene terephthalate.

（実施例１２）フィルムＦ／組成物Ａ層／組成物Ｄ層
実施例１２の積層体は、実施例５における工程フィルムを、実施例１１のフィルムＦに置き換えたこと以外は、実施例５と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。なお、実施例１２では、３層（フィルムＦ／組成物Ａ層／組成物Ｄ層）の厚みを測定した。組成物Ａと組成物Ｄとの屈折率差は、０．０６６１であり、フィルムＦと組成物Ａとの屈折率差は、０．１０９３であった。 (Example 12) Film F / Composition A layer / Composition D layer The laminated body of Example 12 was the same as Example 5 except that the process film in Example 5 was replaced with the film F of Example 11. Produced in the same manner. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1. In Example 12, the thickness of three layers (film F / composition A layer / composition D layer) was measured. The refractive index difference between the composition A and the composition D was 0.0661, and the refractive index difference between the film F and the composition A was 0.1093.

（比較例１）工程フィルム／組成物Ｄ層／組成物Ｅ層
比較例１の積層体は、実施例１における組成物Ａを組成物Ｄに置き換え、組成物Ｂを下記組成物Ｅに置き換えたこと以外は、実施例１と同様にして製造した。各測定も実施例１と同様にして行った。
組成物Ｅは、次のようにして製造した。アクリルポリマーＰ８（１００質量部）にメタクリロイルオキシエチルアクリレート（１６質量部）を反応させたエネルギー線硬化型ポリマーＰ９を得た。
アクリルポリマーＰ８は、ブチルアクリレートと、メチルメタクリレートと、ヒドロキシエチルアクリレートとの質量比で６２：１０：２８の組成で構成され、質量平均分子量は５０万であった。
上記エネルギー線硬化型ポリマーＰ９（１００質量部）に、光重合開始剤（チバ・スペシャリティケミカルズ株式会社製：イルガキュア１８４、（３．５質量部））およびイソシアナート化合物（東洋インキ製造株式会社製：ＢＨＳ−８５１５、（５．３５質量部））を配合して組成物Ｅを得た。配合比は、固形分換算にて行った。
組成物Ｅ（１００質量部）、トルエン（１７８質量部）、および酢酸エチル（５５質量部）を混合して塗工液Ｅを作製した。
実施例５で用いた塗工液Ｄを工程フィルム（リンテック株式会社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１（Ｓ）、厚み３８μｍ）に、乾燥後の組成物Ｄ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。塗工液Ｄの塗布に続けて塗工液Ｅを、乾燥後の組成物Ｅ層の厚みが２０μｍとなるように塗布した。その後、製膜手段にて乾燥させて溶媒を除去し、比較例１の積層体を得た。 (Comparative example 1) Process film / composition D layer / composition E layer The laminated body of the comparative example 1 replaced the composition A in Example 1 with the composition D, and replaced the composition B with the following composition E. Except for the above, this was prepared in the same manner as in Example 1. Each measurement was performed in the same manner as in Example 1.
Composition E was produced as follows. An energy ray-curable polymer P9 obtained by reacting methacryloyloxyethyl acrylate (16 parts by mass) with acrylic polymer P8 (100 parts by mass) was obtained.
The acrylic polymer P8 had a composition of 62:10:28 in terms of mass ratio of butyl acrylate, methyl methacrylate, and hydroxyethyl acrylate, and had a mass average molecular weight of 500,000.
To the energy ray curable polymer P9 (100 parts by mass), a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd .: Irgacure 184, (3.5 parts by mass)) and an isocyanate compound (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd .: BHS-8515, (5.35 parts by mass)) was blended to obtain a composition E. The mixing ratio was calculated in terms of solid content.
Composition E (100 parts by mass), toluene (178 parts by mass), and ethyl acetate (55 parts by mass) were mixed to prepare a coating liquid E.
The coating liquid D used in Example 5 was applied to a process film (manufactured by Lintec Corporation: SP-PET 3811 (S), thickness 38 μm) so that the thickness of the composition D layer after drying was 20 μm. Subsequent to the application of the coating liquid D, the coating liquid E was applied so that the thickness of the composition E layer after drying was 20 μm. Then, it was made to dry with the film forming means, the solvent was removed, and the laminated body of the comparative example 1 was obtained.

実施例１〜実施例１２の積層体については、隣接する層同士の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式による膜厚測定を行った。その結果、表２に示すとおり、実施例１〜実施例１２では、各層の断面観察によって測定された厚みと、厚み測定装置によって測定された厚みとがほぼ一致していた。一方、比較例１の積層体においては、隣接する層同士の屈折率差が０．０２０未満であった。その結果、各層の断面観察によって測定された厚みと、厚み測定装置によって測定された厚みとが一致しなかった。おそらく、組成物Ｄ層と組成物Ｅ層の厚みの合計値が測定されたものと思われる。
これらの結果から、隣接する層同士の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式による膜厚測定を行えば、積層体における各層の厚みが容易に測定できることがわかった。 About the laminated body of Example 1- Example 12, the refractive index difference of adjacent layers was set to 0.020 or more, and the film thickness measurement by the spectral interference system was performed. As a result, as shown in Table 2, in Examples 1 to 12, the thickness measured by observing the cross section of each layer and the thickness measured by the thickness measuring device were almost the same. On the other hand, in the laminate of Comparative Example 1, the refractive index difference between adjacent layers was less than 0.020. As a result, the thickness measured by cross-sectional observation of each layer did not match the thickness measured by the thickness measuring device. Presumably, the total thickness of the composition D layer and the composition E layer is measured.
From these results, it was found that if the refractive index difference between adjacent layers was set to 0.020 or more and the film thickness was measured by the spectral interference method, the thickness of each layer in the laminate could be easily measured.

図５は、屈折率差と実測値からのズレ率との関係を表すグラフである。図５に示されているように、０．０２０以上の屈折率差があれば、実測値からのズレ率は、０．０２０未満の屈折率差の場合とくらべて、非常に正確に厚み測定が可能である。屈折率差が大きくなるにしたがって、ズレ率も小さくなる傾向にある。 FIG. 5 is a graph showing the relationship between the refractive index difference and the deviation rate from the measured value. As shown in FIG. 5, if there is a refractive index difference of 0.020 or more, the deviation rate from the actual measurement value is very accurate compared to the case of a refractive index difference of less than 0.020. Is possible. As the refractive index difference increases, the deviation rate tends to decrease.

本発明は、厚み測定方法、厚み測定システム、および積層体の製造方法に利用できる。 The present invention can be used for a thickness measurement method, a thickness measurement system, and a method for manufacturing a laminate.

１，１Ａ…積層体、２００…厚み測定システム、２１…光源、２２…分光器、２３…解析器。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A ... Laminated body, 200 ... Thickness measuring system, 21 ... Light source, 22 ... Spectroscope, 23 ... Analyzer.

Claims

複数の層を有する積層体の隣接する各層間の屈折率差を０．０２０以上に設定し、分光干渉方式を利用して前記各層の厚みを測定する厚み測定方法。 A thickness measurement method in which a refractive index difference between adjacent layers of a laminate having a plurality of layers is set to 0.020 or more, and the thickness of each layer is measured using a spectral interference method.

隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上である積層体と、
前記積層体に光を照射する光源と、
前記積層体から反射された光を分光させる分光器と、
前記分光器で分光した波形を解析する解析器と、を有する厚み測定システム。 A laminate having a refractive index difference between adjacent layers of 0.020 or more;
A light source for irradiating the laminate with light;
A spectroscope that splits the light reflected from the laminate;
A thickness measuring system comprising: an analyzer for analyzing a waveform separated by the spectroscope.

隣接する各層間の屈折率差が０．０２０以上となるように複数の層を積層させる積層体の製造方法。 A manufacturing method of a laminate in which a plurality of layers are laminated so that a difference in refractive index between adjacent layers is 0.020 or more.