JP2015178153A - 電解加工システム及び電解加工方法 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明に係る電解加工システムは、電解液が導入されて、電極を介して該電極と加工対象物との間に通電されることで前記加工対象物に電解加工を行う電解加工装置と、該電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、再度前記電解加工装置に導入する循環流路と、前記電解液を前記電解加工装置に導入する電解液供給部と、前記電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、前記電解液供給部によって導入される前記電解液と同一量だけ外部に排出する電解液排出部とを備えることを特徴とする。
以下、本発明の第一実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本発明の第一実施形態に係る電解加工システムの構成を示す模式的な系統図である。
図1に示すように、電解加工システム1は、電解液供給部2と、電解液タンク(タンク)3と、電解加工装置4と、電解液排出部5と、フィルタ6とを備えている。電解液タンク3と加工機との間、電解加工装置4とフィルタ6との間、及びフィルタ6と電解液タンク3との間は、それぞれ循環流路R1,R2,R3で接続されている。
電解液供給部2は、電解液タンク3に対して新しい電解液を導入する。この電解液供給部2が導入する電解液L1の量(供給量)をv1L/minとする。
電解液タンク3は、電解液供給部2から供給される電解液L1と、循環流路R3から導入される電解液L13とを攪拌して貯留する。電解液タンク3には、循環流路R1が接続されている。電解液タンク3は、図示しないポンプの作動により、攪拌された電解液L11を循環流路R1に導出する。この循環流路R1を流通する電解液L11の量(循環流路R1の流通量)をv2L/minとする。
電解加工装置4は、循環流路R1に接続されている。電解加工装置4は、循環流路R1から導入された電解液L11を用いて、加工対象物100を電解加工する。
図2に示すように、電解加工装置4は、加工対象物100に対して、直線状の加工孔101を形成するための装置である。本実施形態では一例として、加工対象物100はガスタービンのタービン翼であり、加工対象物100の加工孔101は、タービン翼を冷却するための冷却孔となっている。
ガイド部43は、移動機構42と加工対象物100の先端100a(タービン翼のチップシュラウド)との間に配置されており、移動機構42によって進退される電解加工工具41を加工対象物100の先端100aに対して所定の進行方向となるように案内する。
図1に示すように、電解加工装置4には、電解液排出部5が接続されている。電解液排出部5は、電解加工装置4で電解加工に供された電解液のうち一部を、図示しないポンプを作動させて排出する。この電解液排出部5が排出する電解液L2の量(排出量)は、電解液供給部2が供給する電解液L1の量と同じv1L/minである。
フィルタ6は、循環流路R2に接続されている。フィルタ6は、循環流路R2から導入された電解液L12から、電解液中に溶解せずに脱落した金属の塊であるスラッジを除去する。
図3は、電解加工システム1において、電解加工装置4に導入される電解液L11中の金属イオン濃度の推移を表したグラフである。
まず、電解液供給工程を実行する。
電解液供給部2は、新しい電解液L1をv1L/min電解液タンク3に供給する。電解液タンク3は、電解液タンク3内で貯留されていた電解液L13と電解液供給部2から供給された電解液L1とを攪拌する。そして、電解液タンク3は、循環流路R1に攪拌された電解液L11を導出する。循環流路R1を流通した電解液L11は、電解加工装置4に導入される。
電解加工装置4に導入された電解液L11は、加工対象物100の電解加工に供される。これにより、加工対象物100には加工が施されるとともに、電解液中に金属イオンが溶解する。
電解加工に供された電解液のうち、電解液L2がv1L/min電解液排出部5から排出される。一方、残りの電解液L12は、循環流路R2に導出される。
次に、本発明の第二実施形態について、主に図4を参照して説明する。
この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と同一の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。
図4に示すように、第二実施形態に係る電解加工システム200には、電解加工装置4の下流側に圧力透析装置(分離装置)7が設けられている。
次に、本発明の第三実施形態について、主に図5を参照して説明する。
この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と同一の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。
図5に示すように、第三実施形態に係る電解加工システム201には、電解加工装置4の下流側に電気透析装置(分離装置)17が設けられている。
Claims (5)
- 電解液が導入されて、電極を介して該電極と加工対象物との間に通電されることで前記加工対象物に電解加工を行う電解加工装置と、
該電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、再度前記電解加工装置に導入する循環流路と、
前記電解液を前記電解加工装置に導入する電解液供給部と、
前記電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、前記電解液供給部によって導入される前記電解液と同一量だけ外部に排出する電解液排出部とを備えることを特徴とする電解加工システム。 - 前記循環流路を流通する前記電解液を貯留するタンクをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の電解加工システム。
- 前記電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液をろ過するフィルタをさらに備えることを特徴とする請求項1または2に記載の電解加工システム。
- 前記電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、金属イオンと前記電解液とに分離する分離装置をさらに備えることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の電解加工システム。
- 電解液を電解加工装置に導入する電解液供給工程と、
前記電解液を用いて、電極を介して該電極と加工対象物との間に通電されることで前記加工対象物に電解加工を行う電解加工工程と、
前記電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、再度前記電解加工装置に導入する循環工程と、
前記電解加工装置で前記電解加工に供された前記電解液を、前記電解液供給工程によって導入される前記電解液と同一量だけ外部に排出する電解液排出工程とを備えることを特徴とする電解加工方法。
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